JPH05143980A - 基板の洗浄方法 - Google Patents
基板の洗浄方法Info
- Publication number
- JPH05143980A JPH05143980A JP30905391A JP30905391A JPH05143980A JP H05143980 A JPH05143980 A JP H05143980A JP 30905391 A JP30905391 A JP 30905391A JP 30905391 A JP30905391 A JP 30905391A JP H05143980 A JPH05143980 A JP H05143980A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning
- pure water
- water
- water tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスク、光ディスク、液晶ディスプレ
イなどに用いられる基板の洗浄方法を提供する。 【構成】 基板に研磨によりテクスチャーを形成した
後、この基板を純水で洗浄する。そして、界面活性剤の
水溶液の入った水槽５に基板１を浸漬させ、この状態で
水槽５底部の超音波振動子６により 500〜2000ＫHzの高
周波数で超音波照射を行う。そして、純水で基板表面の
剤を除去し、窒素ガン等による乾燥を行う。
イなどに用いられる基板の洗浄方法を提供する。 【構成】 基板に研磨によりテクスチャーを形成した
後、この基板を純水で洗浄する。そして、界面活性剤の
水溶液の入った水槽５に基板１を浸漬させ、この状態で
水槽５底部の超音波振動子６により 500〜2000ＫHzの高
周波数で超音波照射を行う。そして、純水で基板表面の
剤を除去し、窒素ガン等による乾燥を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク、光ディ
スク、液晶ディスプレイなどに用いられ、その表面が高
度の清浄性を要求される基板の洗浄方法に関する。
スク、液晶ディスプレイなどに用いられ、その表面が高
度の清浄性を要求される基板の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種基板の洗浄方法は、スポン
ジに洗剤液をしみこませ、これを用いて、手作業である
いは機械力により、基板の表面をこすり洗いしていた
（以下、この方法をスクラブ法と呼ぶ）。このスクラブ
法でも、実用に供しうる基板を得ることはできる。
ジに洗剤液をしみこませ、これを用いて、手作業である
いは機械力により、基板の表面をこすり洗いしていた
（以下、この方法をスクラブ法と呼ぶ）。このスクラブ
法でも、実用に供しうる基板を得ることはできる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特に機械力に
よるこすり洗いでは、図１に示すような基板の端面Ｅの
洗浄が不十分となる。また、スポンジの交換に手間がか
かる。さらに、今後は、例えば磁気ディスクや光ディス
クにおいては、より記録密度の高い媒体が要求され、従
来以上に基板の清浄性が必要となり、スクラブ法ではこ
の要求に応じ切れないおそれがある。
よるこすり洗いでは、図１に示すような基板の端面Ｅの
洗浄が不十分となる。また、スポンジの交換に手間がか
かる。さらに、今後は、例えば磁気ディスクや光ディス
クにおいては、より記録密度の高い媒体が要求され、従
来以上に基板の清浄性が必要となり、スクラブ法ではこ
の要求に応じ切れないおそれがある。
【０００４】本発明は、このような実情に鑑み、スクラ
ブ法に代わる新規な基板の洗浄方法を提供することを目
的とする。
ブ法に代わる新規な基板の洗浄方法を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】このため、本発明は、界
面活性剤の溶液中に基板を浸漬させ、この状態で当該基
板に高周波超音波を照射する工程を含むことを特徴とす
る基板の洗浄方法を提供する。本発明に使用できる界面
活性剤は特に制限されず、カチオン系界面活性剤、アニ
オン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面
活性剤を使用でき、具体的には、例えば特開昭５７−１
４５１９９号公報に記載の各種界面活性剤を単独である
いは併用して使用することができる。
面活性剤の溶液中に基板を浸漬させ、この状態で当該基
板に高周波超音波を照射する工程を含むことを特徴とす
る基板の洗浄方法を提供する。本発明に使用できる界面
活性剤は特に制限されず、カチオン系界面活性剤、アニ
オン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤及び両性界面
活性剤を使用でき、具体的には、例えば特開昭５７−１
４５１９９号公報に記載の各種界面活性剤を単独である
いは併用して使用することができる。
【０００６】界面活性剤を溶解させるための溶媒として
は、毒性の問題や剤の溶解しやすさ等を考慮して、水が
最も好ましい。溶液中の界面活性剤の濃度は、通常、0.
05wt％〜５wt％とする。0.05wt％未満では、界面活性剤
による洗浄効果が期待できないおそれがあるからであ
る。また、一般には界面活性剤の濃度が高い程洗浄力は
向上するが、被洗浄面に残留している剤のリンスに多く
の時間が費やされるので、濃度は高くても５wt％以下と
した方がよいからである。好ましくは、 0.1wt％〜２wt
％の範囲とする。
は、毒性の問題や剤の溶解しやすさ等を考慮して、水が
最も好ましい。溶液中の界面活性剤の濃度は、通常、0.
05wt％〜５wt％とする。0.05wt％未満では、界面活性剤
による洗浄効果が期待できないおそれがあるからであ
る。また、一般には界面活性剤の濃度が高い程洗浄力は
向上するが、被洗浄面に残留している剤のリンスに多く
の時間が費やされるので、濃度は高くても５wt％以下と
した方がよいからである。好ましくは、 0.1wt％〜２wt
％の範囲とする。
【０００７】本発明でいう高周波超音波洗浄とは、キャ
ビテーション現象を利用した超音波洗浄の周波数帯域で
ある28〜50ＫHzよりもずっと高い周波数である 500〜20
00ＫHzを用いた超音波洗浄を意味する。本発明の洗浄方
法をハードディスク用のアルミニウム基板に適用した例
を以下に工程順に示す。
ビテーション現象を利用した超音波洗浄の周波数帯域で
ある28〜50ＫHzよりもずっと高い周波数である 500〜20
00ＫHzを用いた超音波洗浄を意味する。本発明の洗浄方
法をハードディスク用のアルミニウム基板に適用した例
を以下に工程順に示す。
【０００８】１）アルミニウム基板に研磨によりテクス
チャーを形成する。 ２）この基板を純水で洗浄する。これは表面の研摩クズ
をできるだけ除去するためである。 ３）界面活性剤の水溶液の入った水槽にアルミニウム基
板を浸漬させ、この状態のままでこの基板に高周波超音
波を照射して、洗浄する。
チャーを形成する。 ２）この基板を純水で洗浄する。これは表面の研摩クズ
をできるだけ除去するためである。 ３）界面活性剤の水溶液の入った水槽にアルミニウム基
板を浸漬させ、この状態のままでこの基板に高周波超音
波を照射して、洗浄する。
【０００９】４）純水をジェット噴射させるあるいは超
音波を乗せた純水を適用するなどして基板表面の剤をリ
ンスにより除去する。 ５）窒素ガンからのＮ2 噴射による乾燥、あるいはスピ
ンによる乾燥、又は温水に浸漬して大気にさらす方法や
イソプロピルアルコールを用いての乾燥を行う。
音波を乗せた純水を適用するなどして基板表面の剤をリ
ンスにより除去する。 ５）窒素ガンからのＮ2 噴射による乾燥、あるいはスピ
ンによる乾燥、又は温水に浸漬して大気にさらす方法や
イソプロピルアルコールを用いての乾燥を行う。
【００１０】尚、上記の各工程の時間は、被洗浄物の大
きさにより変わるので、一概に規定するのは困難であ
る。
きさにより変わるので、一概に規定するのは困難であ
る。
【００１１】
【実施例】以下に本発明の実施例をテクスチャー形成、
洗浄、表面清浄性の試験に分けて説明する。 〔テクスチャー形成〕東洋鋼板（株）製の 3.5インチ用
ハードディスク基板（Ｎｉ−Ｐ無電解メッキが施された
アルミニウム基板）を用いて、テクスチャー形成装置
（ＭＩＰＯＸ製）により研磨テープによるテクスチャー
形成を行った。
洗浄、表面清浄性の試験に分けて説明する。 〔テクスチャー形成〕東洋鋼板（株）製の 3.5インチ用
ハードディスク基板（Ｎｉ−Ｐ無電解メッキが施された
アルミニウム基板）を用いて、テクスチャー形成装置
（ＭＩＰＯＸ製）により研磨テープによるテクスチャー
形成を行った。
【００１２】〔洗浄〕先ず、図２に示すように、テクス
チャーが形成された基板１を純水を入れた水槽２に立て
て入れ、下部の入口３から上部の出口４へと、30秒間、
純水を流して、表面を洗った。次に、界面活性剤として
純正化学（株）の品番ＲＢＳ２５を用い、これを水でう
すめて、濃度 0.4wt％の水溶液とし、図３に示すよう
に、この水溶液を満たしたステンレス製の水槽５に上記
基板１を浸漬し、同時に周波数 950ＫHz、投入パワー4.
66Ｗ／cm2 の条件で、水槽５底部の超音波振動子６によ
り、３分間、超音波照射を行った。
チャーが形成された基板１を純水を入れた水槽２に立て
て入れ、下部の入口３から上部の出口４へと、30秒間、
純水を流して、表面を洗った。次に、界面活性剤として
純正化学（株）の品番ＲＢＳ２５を用い、これを水でう
すめて、濃度 0.4wt％の水溶液とし、図３に示すよう
に、この水溶液を満たしたステンレス製の水槽５に上記
基板１を浸漬し、同時に周波数 950ＫHz、投入パワー4.
66Ｗ／cm2 の条件で、水槽５底部の超音波振動子６によ
り、３分間、超音波照射を行った。
【００１３】次に、上記処理をした基板を純水を入れた
水槽に入れ、前記と同様に、30秒間純水を流した。次
に、図４に示すように、ノズル７の先端から超音波振動
子８により 1.5ＭHzの超音波を乗せた純水（水圧は1.0
〜 1.5Kg/cm2）を流出させて、基板表面を洗った。尚、
純水供給量は 0.9リットル／分、ノズル−基板間の距離
は５〜10mm、洗った時間は３分間とした。
水槽に入れ、前記と同様に、30秒間純水を流した。次
に、図４に示すように、ノズル７の先端から超音波振動
子８により 1.5ＭHzの超音波を乗せた純水（水圧は1.0
〜 1.5Kg/cm2）を流出させて、基板表面を洗った。尚、
純水供給量は 0.9リットル／分、ノズル−基板間の距離
は５〜10mm、洗った時間は３分間とした。
【００１４】次に、窒素ガンによりＮ2 を噴射させて基
板の表面乾燥を約１分間行った。この後、後述する接触
角の測定のため、 120℃にて乾燥炉中での加熱による乾
燥を20分間行って、自然冷却した。 〔表面清浄性の試験〕表面清浄性の試験は、目視、呼
気、接触角の測定により行った。
板の表面乾燥を約１分間行った。この後、後述する接触
角の測定のため、 120℃にて乾燥炉中での加熱による乾
燥を20分間行って、自然冷却した。 〔表面清浄性の試験〕表面清浄性の試験は、目視、呼
気、接触角の測定により行った。
【００１５】尚、呼気による試験とは、基板表面に息を
吹きかけると、その表面に水滴が形成されること（ちょ
うどガラスに息をかけるとガラスがくもるのと同じ現
象）を利用し、このとき、表面が汚れていると、水滴む
ら（水滴形成の密度や水滴の大きさのバラツキ）が見ら
れるが、表面がきれいだとむらは見られないことによる
ものである。
吹きかけると、その表面に水滴が形成されること（ちょ
うどガラスに息をかけるとガラスがくもるのと同じ現
象）を利用し、このとき、表面が汚れていると、水滴む
ら（水滴形成の密度や水滴の大きさのバラツキ）が見ら
れるが、表面がきれいだとむらは見られないことによる
ものである。
【００１６】また、接触角は、22℃、60％ＲＨにおける
液滴法によるイオン交換水に対するθ／２値である。そ
の測定点は、基板の内周、中周、外周それぞれ１点ず
つ、合計３点とした。その結果を以下に示す。 目視によるもの → 表面に粒子（研磨クズなど）は見
られなかった。
液滴法によるイオン交換水に対するθ／２値である。そ
の測定点は、基板の内周、中周、外周それぞれ１点ず
つ、合計３点とした。その結果を以下に示す。 目視によるもの → 表面に粒子（研磨クズなど）は見
られなかった。
【００１７】呼気によるもの → 水滴むらは観測され
なかった。 接触角の測定 → 基板の場所にかかわらず23度で一
定であった。 次に比較例について説明する。 〔比較例１〕 スクラブ法によるもの 具体的には、テクスチャー形成→純水槽で30秒間洗浄→
前記実施例で用いた界面活性剤溶液をスポンジにつけて
手で表面を３分間こすって洗浄→純水槽に移し30秒間洗
浄→スポンジと純水で表面を３分間こすり洗い→窒素ガ
ンによる乾燥約１分間→ 120℃にて20分間乾燥→自然冷
却の手順により行った。
なかった。 接触角の測定 → 基板の場所にかかわらず23度で一
定であった。 次に比較例について説明する。 〔比較例１〕 スクラブ法によるもの 具体的には、テクスチャー形成→純水槽で30秒間洗浄→
前記実施例で用いた界面活性剤溶液をスポンジにつけて
手で表面を３分間こすって洗浄→純水槽に移し30秒間洗
浄→スポンジと純水で表面を３分間こすり洗い→窒素ガ
ンによる乾燥約１分間→ 120℃にて20分間乾燥→自然冷
却の手順により行った。
【００１８】表面清浄性の試験結果を以下に示す。 目視によるもの → 粒子が見られ、集中していた（片
面当たり10個位）。 呼気によるもの → 水滴むらが見られた。 接触角の測定 → 29〜31度とバラツキがあった。 〔比較例２〕 38ＫHzによる超音波洗浄によるもの 前記実施例と同じ手順により行い、超音波洗浄の周波数
を高周波の 950ＫHzから低周波の38ＫHzに変えた。
面当たり10個位）。 呼気によるもの → 水滴むらが見られた。 接触角の測定 → 29〜31度とバラツキがあった。 〔比較例２〕 38ＫHzによる超音波洗浄によるもの 前記実施例と同じ手順により行い、超音波洗浄の周波数
を高周波の 950ＫHzから低周波の38ＫHzに変えた。
【００１９】表面清浄性の試験結果を以下に示す。 目視によるもの → 粒子が見られた（片面当たり５〜
10個）。 呼気によるもの → 水滴むらが見られた。 接触角の測定 → 26〜27度であり、少しバラツキが
あった。 以上より、本発明方法による表面清浄性の向上は明らか
である。
10個）。 呼気によるもの → 水滴むらが見られた。 接触角の測定 → 26〜27度であり、少しバラツキが
あった。 以上より、本発明方法による表面清浄性の向上は明らか
である。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板の表面清浄性を大幅に向上でき、高周波超音波である
からキャビテーションによる基板のダメージ（荒れ）が
抑制でき、しかも、従来のスクラブ法に較べ、基板の端
面の洗浄も同時に可能であり、またスポンジ交換といっ
た手間もかからず、さらに作業者の熟練も不要であると
いう多くの利点を有する。
板の表面清浄性を大幅に向上でき、高周波超音波である
からキャビテーションによる基板のダメージ（荒れ）が
抑制でき、しかも、従来のスクラブ法に較べ、基板の端
面の洗浄も同時に可能であり、またスポンジ交換といっ
た手間もかからず、さらに作業者の熟練も不要であると
いう多くの利点を有する。
【図１】 基板の洗浄が不十分となる部分を示す図
【図２】 基板を純水槽により洗浄する工程を示す図
【図３】 基板を超音波洗浄する工程を示す図
【図４】 基板を純水ノズルにより洗浄する工程を示す
図
図
１ アルミニウム基板 ５ 界面活性剤の水溶液の入った水槽 ６ 超音波振動子
Claims (1)
- 【請求項１】界面活性剤の溶液中に基板を浸漬させ、こ
の状態で当該基板に高周波超音波を照射する工程を含む
ことを特徴とする基板の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30905391A JPH05143980A (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 基板の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30905391A JPH05143980A (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 基板の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05143980A true JPH05143980A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=17988310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30905391A Pending JPH05143980A (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 基板の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05143980A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009087521A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Kao Corp | 垂直磁気記録方式ハードディスク用基板用水系洗浄剤組成物 |
| WO2012002468A1 (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 安瀚視特股▲分▼有限公司 | 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法 |
-
1991
- 1991-11-25 JP JP30905391A patent/JPH05143980A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009087521A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Kao Corp | 垂直磁気記録方式ハードディスク用基板用水系洗浄剤組成物 |
| WO2012002468A1 (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-05 | 安瀚視特股▲分▼有限公司 | 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法 |
| CN102971269A (zh) * | 2010-06-29 | 2013-03-13 | 安瀚视特股份有限公司 | 液晶显示装置用玻璃基板的制造方法 |
| JP5183811B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2013-04-17 | 安瀚視特股▲ふん▼有限公司 | 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法 |
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