JPH05143977A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH05143977A JPH05143977A JP33155591A JP33155591A JPH05143977A JP H05143977 A JPH05143977 A JP H05143977A JP 33155591 A JP33155591 A JP 33155591A JP 33155591 A JP33155591 A JP 33155591A JP H05143977 A JPH05143977 A JP H05143977A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 トラツキングサーボが適正に行える信頼性の
高い磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 非磁性体からなる基体9と、その基体9の上
に形成された磁性層10aを有し、その磁性層10aに
磁気ヘツドトラツキングのための例えばリフアレンスト
ラツクあるいは(ならびに)磁気ヘツドトラツキング用
光学トラツク12どの基準部を設ける磁気記録媒体にお
いて、前記基準部に相当する部分20と、基準部に相当
しない部分21(例えばデータトラツク14)との色
を、例えば感光材料あるいは塗料などを使用して変えて
光反射率または光透過率に差を与えたことを特徴とする
ものである。
高い磁気記録媒体を提供することにある。 【構成】 非磁性体からなる基体9と、その基体9の上
に形成された磁性層10aを有し、その磁性層10aに
磁気ヘツドトラツキングのための例えばリフアレンスト
ラツクあるいは(ならびに)磁気ヘツドトラツキング用
光学トラツク12どの基準部を設ける磁気記録媒体にお
いて、前記基準部に相当する部分20と、基準部に相当
しない部分21(例えばデータトラツク14)との色
を、例えば感光材料あるいは塗料などを使用して変えて
光反射率または光透過率に差を与えたことを特徴とする
ものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばフレキシブル磁
気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に磁性層に磁
気ヘツドトラツキングのための基準部を設けた磁気記録
媒体に関するものである。
気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に磁性層に磁
気ヘツドトラツキングのための基準部を設けた磁気記録
媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】フレキシブル磁気デイスクにおいて、そ
れのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツ
クを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外
側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラ
ツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を
リング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知ら
れている(例えば特開平2−187969号公報参
照)。
れのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツ
クを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外
側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラ
ツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を
リング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知ら
れている(例えば特開平2−187969号公報参
照)。
【0003】図9ないし図13はこの種磁気デイスクを
説明するための図であり、図9は磁気デイスクの平面
図、図10は磁気ヘツドトラツキング用光学凹部の一部
拡大断面図、図11はその磁気デイスクに対する各受光
素子の配置状態を説明するための図、図12はリフアレ
ンストラツクの拡大断面図、図13はリフアレンストラ
ツク上での出力波形図である。
説明するための図であり、図9は磁気デイスクの平面
図、図10は磁気ヘツドトラツキング用光学凹部の一部
拡大断面図、図11はその磁気デイスクに対する各受光
素子の配置状態を説明するための図、図12はリフアレ
ンストラツクの拡大断面図、図13はリフアレンストラ
ツク上での出力波形図である。
【0004】図9に示すように磁気デイスク100の中
央部にはセンターハブ101が固着され、ドーナツ状記
録帯域102の最内周にリフアレンストラツク103を
形成し、そのリフアレンストラツク103から半径方向
外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンスト
ラツク103と同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光
学凹部104を多数形成されている。
央部にはセンターハブ101が固着され、ドーナツ状記
録帯域102の最内周にリフアレンストラツク103を
形成し、そのリフアレンストラツク103から半径方向
外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンスト
ラツク103と同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光
学凹部104を多数形成されている。
【0005】1つの磁気ヘツドトラツキング用光学凹部
104と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学光学凹部1
04との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク
105が形成される。
104と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学光学凹部1
04との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク
105が形成される。
【0006】この磁気デイスク100は図10に示すよ
うに、ベースフイルム106の表面に磁性層107が設
けられており、この磁性層107に前記磁気ヘツドトラ
ツキング用光学凹部104が例えばレーザカツトなどの
手段によつて形成されている。
うに、ベースフイルム106の表面に磁性層107が設
けられており、この磁性層107に前記磁気ヘツドトラ
ツキング用光学凹部104が例えばレーザカツトなどの
手段によつて形成されている。
【0007】一方、磁気記録再生装置の方には、前記磁
気デイスクの表面にトラツキングサーボ用の光線108
を出射する発光素子(図示せず)と、磁気デイスク表面
からの反射光109を受光する受光素子110a,11
0b,110c,110d(図11参照)とを備えてい
る。
気デイスクの表面にトラツキングサーボ用の光線108
を出射する発光素子(図示せず)と、磁気デイスク表面
からの反射光109を受光する受光素子110a,11
0b,110c,110d(図11参照)とを備えてい
る。
【0008】そして前記発光素子から出射された光線1
08を磁気デイスク表面に当てて、それからの反射光1
09を受光素子110a,110b,110c,110
dで受光する。
08を磁気デイスク表面に当てて、それからの反射光1
09を受光素子110a,110b,110c,110
dで受光する。
【0009】前述のように磁性層107には磁気ヘツド
トラツキング用光学凹部104が形成されているため、
データトラツク105上で反射する光強度と凹部104
で反射する光強度は異なる。図11に示す例では受光素
子110aと110bの合計出力値と、受光素子110
cと110dの合計出力値とを常に比較して、両者の出
力値が等しくなるように磁気ヘツド(図示せず)のトラ
ツキングサーボが行なわれる。
トラツキング用光学凹部104が形成されているため、
データトラツク105上で反射する光強度と凹部104
で反射する光強度は異なる。図11に示す例では受光素
子110aと110bの合計出力値と、受光素子110
cと110dの合計出力値とを常に比較して、両者の出
力値が等しくなるように磁気ヘツド(図示せず)のトラ
ツキングサーボが行なわれる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来の磁気デ
イスク100の場合、図10に示すように磁気ヘツドト
ラツキング用光学凹部104に相当する部分はレーザカ
ツトによつて磁性層107が完全に切除されて、ベース
フイルム106の部分が露出する。このベースフイルム
106は透明な合成樹脂フイルムで構成され、ベースフ
イルム106の裏面にも磁性層が裏打ちされているか
ら、ベースフイルム106の表面反射率が実質的に高
い。従つて磁気ヘツドトラツキング用光学凹部104と
データトラツク105との光反射率の差がなく、そのた
めに適正なトラツキングサーボが行なわれ難いという問
題がある。
イスク100の場合、図10に示すように磁気ヘツドト
ラツキング用光学凹部104に相当する部分はレーザカ
ツトによつて磁性層107が完全に切除されて、ベース
フイルム106の部分が露出する。このベースフイルム
106は透明な合成樹脂フイルムで構成され、ベースフ
イルム106の裏面にも磁性層が裏打ちされているか
ら、ベースフイルム106の表面反射率が実質的に高
い。従つて磁気ヘツドトラツキング用光学凹部104と
データトラツク105との光反射率の差がなく、そのた
めに適正なトラツキングサーボが行なわれ難いという問
題がある。
【0011】このような欠点を解消するため、リフアレ
ンストラツク103ならびに(あるいは)磁気ヘツドト
ラツキング用光学凹部104に対応した表面形状を有す
るスタンパを準備して、磁性層107表面をこのスタン
パで圧縮することにより凹状のリフアレンストラツク1
03ならびに(あるいは)磁気ヘツドトラツキング用光
学凹部104を形成することが検討されている。
ンストラツク103ならびに(あるいは)磁気ヘツドト
ラツキング用光学凹部104に対応した表面形状を有す
るスタンパを準備して、磁性層107表面をこのスタン
パで圧縮することにより凹状のリフアレンストラツク1
03ならびに(あるいは)磁気ヘツドトラツキング用光
学凹部104を形成することが検討されている。
【0012】ところがこの方法においても難点がない訳
けではない。すなわち、前記リフアレンストラツク10
3ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学凹部104の
幅は通常、1〜10μm程度の非常に微細であるため、
それを形成するスタンパの方の突部も非常に細いものと
なる。しかも磁性層107中には、磁性粉の他に研摩剤
やフイラーなどの硬質な固形分が混在している。そのた
め、この磁性層107の表面をスタンパでプレスしてリ
フアレンストラツク103ならびに磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部104を繰り返して形成していると、ス
タンパの前記突部が磨耗したり欠損することが多々あ
る。このように突部が磨耗したり欠損するとリフアレン
ストラツク103、磁気ヘツドトラツキング用光学凹部
104の形状が変化して、適正なトラツキングができな
くなる。またリフアレンストラツク103においては、
次のような新たな問題が生じる。すなわち図12ならび
に図13に示すように、リフアレンストラツク103は
磁気ヘツドの走行方向Xに沿つて延びており、リフアレ
ンストラツク103の中心線111上の任意の点112
を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部領域1
13Aとリフアレンス凹部領域113Bが一対になつて
形成されている。
けではない。すなわち、前記リフアレンストラツク10
3ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学凹部104の
幅は通常、1〜10μm程度の非常に微細であるため、
それを形成するスタンパの方の突部も非常に細いものと
なる。しかも磁性層107中には、磁性粉の他に研摩剤
やフイラーなどの硬質な固形分が混在している。そのた
め、この磁性層107の表面をスタンパでプレスしてリ
フアレンストラツク103ならびに磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部104を繰り返して形成していると、ス
タンパの前記突部が磨耗したり欠損することが多々あ
る。このように突部が磨耗したり欠損するとリフアレン
ストラツク103、磁気ヘツドトラツキング用光学凹部
104の形状が変化して、適正なトラツキングができな
くなる。またリフアレンストラツク103においては、
次のような新たな問題が生じる。すなわち図12ならび
に図13に示すように、リフアレンストラツク103は
磁気ヘツドの走行方向Xに沿つて延びており、リフアレ
ンストラツク103の中心線111上の任意の点112
を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部領域1
13Aとリフアレンス凹部領域113Bが一対になつて
形成されている。
【0013】このリフアレンス凹部領域113Aの隣
(リフアレンス凹部領域113Bの前方)ならびにリフ
アレンス凹部領域113Bの隣(リフアレンス凹部領域
113Aの後方)には凹部のない平面部114Aと平面
部114Bとがある。
(リフアレンス凹部領域113Bの前方)ならびにリフ
アレンス凹部領域113Bの隣(リフアレンス凹部領域
113Aの後方)には凹部のない平面部114Aと平面
部114Bとがある。
【0014】これら一組のリフアレンス凹部領域113
A、113B、平面部114A、114Bが、磁気ヘツ
ドの走行方向Xに沿つて間欠的に多数形成されることに
より、リフアレンストラツク103を構成している。
A、113B、平面部114A、114Bが、磁気ヘツ
ドの走行方向Xに沿つて間欠的に多数形成されることに
より、リフアレンストラツク103を構成している。
【0015】このリフアレンストラツク103上に所定
の信号が予め記録されており、磁気ヘツドでこのリフア
レンストラツク103上を走査し、そのときの出力波形
に基づいて磁気ヘツド(磁気ギヤツプ)の中心位置をリ
フアレンストラツク103の中心線111上に導くこと
ができる。
の信号が予め記録されており、磁気ヘツドでこのリフア
レンストラツク103上を走査し、そのときの出力波形
に基づいて磁気ヘツド(磁気ギヤツプ)の中心位置をリ
フアレンストラツク103の中心線111上に導くこと
ができる。
【0016】図13でリフアレンストラツク103上の
矢印、、の位置において磁気ヘツドを走査させた
ときの出力波形を、その下の矩形波形、、で示し
ている。この矩形波形のうちの波形が得られるよう
に、磁気ヘツドのデイスク径方向における位置調整がな
される。
矢印、、の位置において磁気ヘツドを走査させた
ときの出力波形を、その下の矩形波形、、で示し
ている。この矩形波形のうちの波形が得られるよう
に、磁気ヘツドのデイスク径方向における位置調整がな
される。
【0017】一方、磁性層107中には磁性粉の他にバ
インダーや潤滑剤などの有機化合物が含有されており、
ある程度の弾力性を有している。そのため前述のように
スタンパで磁性層107を圧縮してリフアレンストラツ
ク103(リフアレンス凹部領域113A、113B)
を形成しても、図12に示すようにリフアレンス凹部領
域113A、113Bの底部中央115が脹らむ。その
ため、リフアレンストラツク103に信号記録したとき
にこの底部中央115にも信号が記録され、そのため図
13のように綺麗な出力波形が得られず、結局、適正な
トラツキングサーボが行われないなどの欠点を有してい
る。
インダーや潤滑剤などの有機化合物が含有されており、
ある程度の弾力性を有している。そのため前述のように
スタンパで磁性層107を圧縮してリフアレンストラツ
ク103(リフアレンス凹部領域113A、113B)
を形成しても、図12に示すようにリフアレンス凹部領
域113A、113Bの底部中央115が脹らむ。その
ため、リフアレンストラツク103に信号記録したとき
にこの底部中央115にも信号が記録され、そのため図
13のように綺麗な出力波形が得られず、結局、適正な
トラツキングサーボが行われないなどの欠点を有してい
る。
【0018】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、トラツキングサーボが適正に行える信頼性
の高い磁気記録媒体を提供することにある。
点を解消し、トラツキングサーボが適正に行える信頼性
の高い磁気記録媒体を提供することにある。
【0019】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層に磁気ヘツドト
ラツキングのための例えばリフアレンストラツクあるい
は(ならびに)磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
などの基準部を設ける磁気記録媒体において、前記基準
部に相当する部分(例えば磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク)と、基準部に相当しない他の部分(例えば
データトラツク)との色を例えば感光材料あるいは塗
料、インキ、顔料などを使用して変えて光反射率または
光透過率に差を与えたことを特徴とするものである。
に、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層に磁気ヘツドト
ラツキングのための例えばリフアレンストラツクあるい
は(ならびに)磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
などの基準部を設ける磁気記録媒体において、前記基準
部に相当する部分(例えば磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク)と、基準部に相当しない他の部分(例えば
データトラツク)との色を例えば感光材料あるいは塗
料、インキ、顔料などを使用して変えて光反射率または
光透過率に差を与えたことを特徴とするものである。
【0020】
【作用】本発明は前述のように、基準部に相当する部分
と、基準部に相当しない部分との色を変えて光反射率ま
たは光透過率に差を与えて磁気ヘツドのトラツキングを
するものである。そのため従来のように基準部に相当す
る部分のベースフイルムが露出したり、あるいは凹部の
底部中央が膨らんでその部分に信号が記録されたりし
て、磁気ヘツドのトラツキングに悪影響を与えることが
なくなり、適正なトラツキングが行われる磁気記録媒体
を提供することができる。
と、基準部に相当しない部分との色を変えて光反射率ま
たは光透過率に差を与えて磁気ヘツドのトラツキングを
するものである。そのため従来のように基準部に相当す
る部分のベースフイルムが露出したり、あるいは凹部の
底部中央が膨らんでその部分に信号が記録されたりし
て、磁気ヘツドのトラツキングに悪影響を与えることが
なくなり、適正なトラツキングが行われる磁気記録媒体
を提供することができる。
【0021】
【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。
図1は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を
分解した斜視図、図2は磁気シートの拡大断面図、図3
は磁気デイスクの平面図である。
図1は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を
分解した斜視図、図2は磁気シートの拡大断面図、図3
は磁気デイスクの平面図である。
【0022】図1に示すように磁気デイスクカートリツ
ジは、カートリツジケース1と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク2と、カートリツ
ジケース1にスライド可能に取り付けられたシヤツタ3
と、カートリツジケース1の内面に溶着されたクリーニ
ングシート(図示せず)とから主に構成されている。
ジは、カートリツジケース1と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク2と、カートリツ
ジケース1にスライド可能に取り付けられたシヤツタ3
と、カートリツジケース1の内面に溶着されたクリーニ
ングシート(図示せず)とから主に構成されている。
【0023】前記カートリツジケース1は、上ケース1
aと下ケース1bとから構成され、これらは例えばAB
S樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。
aと下ケース1bとから構成され、これらは例えばAB
S樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。
【0024】下ケース1bの略中央部には回転駆動軸挿
入用の開口4が形成され、その近くに長方形のヘツド挿
入口5が形成されている。図示していないが、上ケース
1aにも同様にヘツド挿入口5が形成されている。
入用の開口4が形成され、その近くに長方形のヘツド挿
入口5が形成されている。図示していないが、上ケース
1aにも同様にヘツド挿入口5が形成されている。
【0025】上ケース1aと下ケース1bの前面付近に
は、前記シヤツタ3のスライド範囲を規制するために少
し低くなつた凹部6が形成され、この凹部6の中間位置
に前記ヘツド挿入口5が開口している。
は、前記シヤツタ3のスライド範囲を規制するために少
し低くなつた凹部6が形成され、この凹部6の中間位置
に前記ヘツド挿入口5が開口している。
【0026】前記磁気デイスク2は図3に示すように、
ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート7と、その磁気
シート7の中央孔に挿入されて接着された金属製あるい
は合成樹脂製のセンターハブ8とから構成されている。
ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート7と、その磁気
シート7の中央孔に挿入されて接着された金属製あるい
は合成樹脂製のセンターハブ8とから構成されている。
【0027】前記磁気シート7は、ベースフイルム9
と、そのベースフイルム9の両面に塗着、形成された磁
性層10a、10bとから構成されている。
と、そのベースフイルム9の両面に塗着、形成された磁
性層10a、10bとから構成されている。
【0028】前記ベースフイルム9は、例えばポリエチ
レンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレ
ート(PEN)あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイ
ルムから構成されている。
レンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレ
ート(PEN)あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイ
ルムから構成されている。
【0029】前記磁性層10a、10bは、強磁性粉、
バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成
されている。
バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成
されている。
【0030】前記強磁性粉としては、例えばバリウムフ
エライト、α−Fe、Co−Ni、Co−P、γ−Fe
2 O3 、Fe3 O4 、Co含有γ−Fe2 O3 、Co含
有γ−Fe3 O4 、CrO2 、Co、Fe−Niなどが
使用される。
エライト、α−Fe、Co−Ni、Co−P、γ−Fe
2 O3 、Fe3 O4 、Co含有γ−Fe2 O3 、Co含
有γ−Fe3 O4 、CrO2 、Co、Fe−Niなどが
使用される。
【0031】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。
【0032】前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約0.
1〜25重量%が適当である。
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約0.
1〜25重量%が適当である。
【0033】前記潤滑剤としては、例えばステアリン
酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸
エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、
フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加
率は、磁性粉に対して約0.1〜25重量%が適当であ
る。
酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸
エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、
フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加
率は、磁性粉に対して約0.1〜25重量%が適当であ
る。
【0034】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通
りである。
りである。
【0035】 磁性塗料組成例 バリウムフエライト 100重量部 (Hc:530〔Oe〕,飽和磁化量:57〔emu/g〕, 平均粒径:0.04〔μm〕) 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 11.0重量部 ウレタン樹脂 6.6重量部 三官能性イソシアネート化合物 4.4重量部 酸化アルミニウム粉末(平均粒径0.43〔μm〕) 15重量部 カーボンブラツク 2重量部 オレイン酸オレイル 7重量部 シクロヘキサノン 150重量部 トルエン 150重量部 前述の磁性塗料組成例の組成物をボールミル中でよく混
合分散して磁性塗料を調整し、これを62μmのポリエ
チレンテレフタレート(PET)のベースフイルムの両
面に、乾燥厚みが0.87μmとなるように塗布し、乾
燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層10a、10
bをそれぞれ形成する。
合分散して磁性塗料を調整し、これを62μmのポリエ
チレンテレフタレート(PET)のベースフイルムの両
面に、乾燥厚みが0.87μmとなるように塗布し、乾
燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層10a、10
bをそれぞれ形成する。
【0036】このようにして構成された磁気デイスク2
の磁性層10aの表面に、図3に示すようにリフアレン
ストラツク11と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク12が形成される。これらリフアレンストラ
ツク11ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク12は、磁気デイスク2の回転中心13を中心にして
同心円状に設けられている。
の磁性層10aの表面に、図3に示すようにリフアレン
ストラツク11と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク12が形成される。これらリフアレンストラ
ツク11ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク12は、磁気デイスク2の回転中心13を中心にして
同心円状に設けられている。
【0037】1つの磁気ヘツドトラツキング用光学トラ
ツク12と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
12との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク
14が形成される。
ツク12と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
12との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク
14が形成される。
【0038】図3に示すように磁気デイスク2上に設け
られる記録帯域15の最内周部に相当する表面に前記リ
フアレンストラツク11が形成され、それより径方向外
側、すなわち磁気ヘツドの走行方向と直交する方向の外
側に磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク12とデー
タトラツク14が交互に多数形成される。
られる記録帯域15の最内周部に相当する表面に前記リ
フアレンストラツク11が形成され、それより径方向外
側、すなわち磁気ヘツドの走行方向と直交する方向の外
側に磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク12とデー
タトラツク14が交互に多数形成される。
【0039】図4は、磁気ヘツドトラツキング用光学ト
ラツク12の形成工程を説明するための図である。
ラツク12の形成工程を説明するための図である。
【0040】同図の(a)に示すように、ベースフイル
ム9の両面に所定の厚みを有する磁性層10a、10b
をそれぞれ形成する。
ム9の両面に所定の厚みを有する磁性層10a、10b
をそれぞれ形成する。
【0041】次に同図の(b)に示すように、磁気ヘツ
ドトラツキング用光学トラツク12を形成する側の磁性
層10aの表面に感光性塗料を薄く塗布して、未感光の
塗膜16を一様に形成する。
ドトラツキング用光学トラツク12を形成する側の磁性
層10aの表面に感光性塗料を薄く塗布して、未感光の
塗膜16を一様に形成する。
【0042】そして同図の(c)に示すように、所定の
間隔をおいて多数の開口17を形成したマスク18を塗
膜16の上に載置し、その上から所定の波長を有する例
えばレーザ光あるいは紫外線などで露光19する。この
露光操作により塗膜16のマスク18の開口17と対向
した部分のみが感光され、感光された部分(感光部分)
20と非感光部分21とが形成される。この感光部分2
0と非感光部分21とでは、光の反射率が異なるように
なつている。この感光部分20が磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク12に相当し、非感光部分21がデー
タトラツク14に相当する。
間隔をおいて多数の開口17を形成したマスク18を塗
膜16の上に載置し、その上から所定の波長を有する例
えばレーザ光あるいは紫外線などで露光19する。この
露光操作により塗膜16のマスク18の開口17と対向
した部分のみが感光され、感光された部分(感光部分)
20と非感光部分21とが形成される。この感光部分2
0と非感光部分21とでは、光の反射率が異なるように
なつている。この感光部分20が磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク12に相当し、非感光部分21がデー
タトラツク14に相当する。
【0043】感光性材料を大別すると感光基がポリマー
の主鎖または側鎖に組み込まれているものと、非感光性
ポリマーに低分子量の感光剤をブレンドしたものとがあ
る。
の主鎖または側鎖に組み込まれているものと、非感光性
ポリマーに低分子量の感光剤をブレンドしたものとがあ
る。
【0044】また必要に応じて塗料中に増感剤を添加す
ることもできる。感光性材料としては、例えばポリメチ
レン、シアニン、フタロシアニン、ナフタロシアニン、
スクアリリウム、ナフトキノンなどの有機色素がある。
ることもできる。感光性材料としては、例えばポリメチ
レン、シアニン、フタロシアニン、ナフタロシアニン、
スクアリリウム、ナフトキノンなどの有機色素がある。
【0045】図5は、この磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク12のパターン図である。同図に示されてい
るように、前述の感光部分20と非感光部分21とが磁
気デイスクの径方向に沿って交互に多数形成されてお
り、それぞれの感光部分20は磁気デイスクの回転中心
13を中心として間欠的な円状をなしている。
学トラツク12のパターン図である。同図に示されてい
るように、前述の感光部分20と非感光部分21とが磁
気デイスクの径方向に沿って交互に多数形成されてお
り、それぞれの感光部分20は磁気デイスクの回転中心
13を中心として間欠的な円状をなしている。
【0046】図6ならびに図7は、磁気デイスク2のト
ラツキングサーボを説明するための図である。記録再生
時にはこれらの図に示すように磁気デイスク2は磁気ヘ
ツド30a、30bの間で挟持された状態で、紙面に向
けて垂直な方向に回転する。
ラツキングサーボを説明するための図である。記録再生
時にはこれらの図に示すように磁気デイスク2は磁気ヘ
ツド30a、30bの間で挟持された状態で、紙面に向
けて垂直な方向に回転する。
【0047】前記磁気ヘツド30aの方には、トラツキ
ングサーボ用の光線を出力する例えばLEDなどからな
る発光素子31と、磁性層10aからの反射光を受光す
る受光素子群32とが一体に取り付けられている。そし
てこの磁気ヘツド30aの発光素子31ならびに受光素
子群32が取り付けられている部分は、磁気デイスク2
側に向けて開口している。
ングサーボ用の光線を出力する例えばLEDなどからな
る発光素子31と、磁性層10aからの反射光を受光す
る受光素子群32とが一体に取り付けられている。そし
てこの磁気ヘツド30aの発光素子31ならびに受光素
子群32が取り付けられている部分は、磁気デイスク2
側に向けて開口している。
【0048】受光素子群32は図11と同じように4つ
の受光素子から構成されており、磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク12ならびにデータトラツク14上で
反射する光をこの受光素子群で受光して、各受光素子の
出力は図7に示すようにサーボ信号演算部33に入力さ
れる。そしてこのサーボ信号演算部33で求められた位
置修正信号がヘツド駆動制御部34に入力され、それか
らの制御信号に基づいて磁気ヘツド30のトラツキング
制御が成される。
の受光素子から構成されており、磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク12ならびにデータトラツク14上で
反射する光をこの受光素子群で受光して、各受光素子の
出力は図7に示すようにサーボ信号演算部33に入力さ
れる。そしてこのサーボ信号演算部33で求められた位
置修正信号がヘツド駆動制御部34に入力され、それか
らの制御信号に基づいて磁気ヘツド30のトラツキング
制御が成される。
【0049】図8は本発明の他の実施例を示すもので、
この実施例の場合は磁性層10a中に感光性材料を混在
させ、所定の開口パターンを有するマスクで磁性層10
aの表面を覆つて露光させ、磁性層10a自体に色の異
なる、磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク12に相
当する感光部分20と、データトラツク14に相当する
非感光部分21とを形成する。
この実施例の場合は磁性層10a中に感光性材料を混在
させ、所定の開口パターンを有するマスクで磁性層10
aの表面を覆つて露光させ、磁性層10a自体に色の異
なる、磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク12に相
当する感光部分20と、データトラツク14に相当する
非感光部分21とを形成する。
【0050】前記実施例では磁気ヘツドトラツキング用
光学トラツク12について説明したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、リフアレンストラツク11に
適応することもできる。この場合、リフアレンストラツ
ク11に対応する磁気ヘツドの位置検出は磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク12と同様に光学的手段によ
つてなされる。
光学トラツク12について説明したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、リフアレンストラツク11に
適応することもできる。この場合、リフアレンストラツ
ク11に対応する磁気ヘツドの位置検出は磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク12と同様に光学的手段によ
つてなされる。
【0051】また前記実施例では感光性材料を使用して
色の異なる部分を形成したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えばスクリーン印刷などによつてイ
ンキを塗布して色の異なる部分を形成してもよい。
色の異なる部分を形成したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えばスクリーン印刷などによつてイ
ンキを塗布して色の異なる部分を形成してもよい。
【0052】さらにまた前記実施例では、光の反射を利
用して磁気ヘツドのトラツキングを行ったが、磁性層の
厚みを薄くした場合に磁性層が透光性を有するため、基
準部とそうでない所の色を変えることにより、光透過率
に差を与え、それを利用して磁気ヘツドのトラツキング
サーボを行うこともできる。
用して磁気ヘツドのトラツキングを行ったが、磁性層の
厚みを薄くした場合に磁性層が透光性を有するため、基
準部とそうでない所の色を変えることにより、光透過率
に差を与え、それを利用して磁気ヘツドのトラツキング
サーボを行うこともできる。
【0053】
【発明の効果】本発明は前述のように、基準部に相当す
る部分と、基準部に相当しない部分との色を変えて光反
射率または光透過率に差を与えて磁気ヘツドのトラツキ
ングをするものである。そのため従来のように基準部に
相当する部分のベースフイルムが露出したり、あるいは
凹部の中央底部が膨らんでその部分に信号が記録された
りして、磁気ヘツドのトラツキングに悪影響を与えるこ
とがなくなり、適正なトラツキングが行われる磁気記録
媒体を提供することができる。
る部分と、基準部に相当しない部分との色を変えて光反
射率または光透過率に差を与えて磁気ヘツドのトラツキ
ングをするものである。そのため従来のように基準部に
相当する部分のベースフイルムが露出したり、あるいは
凹部の中央底部が膨らんでその部分に信号が記録された
りして、磁気ヘツドのトラツキングに悪影響を与えるこ
とがなくなり、適正なトラツキングが行われる磁気記録
媒体を提供することができる。
【図1】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツ
ジの一部を分解した斜視図である。
ジの一部を分解した斜視図である。
【図2】磁気シートの拡大断面図である。
【図3】磁気デイスクの平面図である。
【図4】磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを形成
する工程を説明するための図である。
する工程を説明するための図である。
【図5】磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクのパタ
ーン図である。
ーン図である。
【図6】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するた
めの断面図である。
めの断面図である。
【図7】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するた
めのブロツク図である。
めのブロツク図である。
【図8】他の実施例に係る磁気シートの拡大断面図であ
る。
る。
【図9】従来の磁気デイスクの平面図である。
【図10】従来の磁気デイスクのトラツキングサーボを
説明するための拡大断面図である。
説明するための拡大断面図である。
【図11】受光素子の配列状態を説明するための図であ
る。
る。
【図12】従来のリフアレンストラツクの拡大断面図で
ある。
ある。
【図13】従来のリフアレンストラツク上での出力波形
図である。
図である。
2 磁気デイスク 7 磁気シート 9 ベースフイルム 10a、10b 磁性層 11 リフアレンストラツク 12 磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク 14 データトラツク 15 記録帯域 16 塗膜 17 開口 18 マスク 19 露光 20 感光部分 21 非感光部分
Claims (3)
- 【請求項1】 非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層に磁気ヘツドト
ラツキングのための基準部を設ける磁気記録媒体におい
て、 前記基準部に相当する部分と、基準部に相当しない他の
部分との色を変えて光反射率または光透過率に差を与え
たことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 請求項1記載において、前記磁性層上に
感光材料を含む被膜を形成し、その被膜の所要部分を露
光させることにより、当該被膜の基準部に相当する部分
と、基準部に相当しない他の部分との色を変えたことを
特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項3】 請求項1記載において、前記磁性層中に
感光材料を混在させ、その磁性層の所要部分を露光させ
ることにより、当該磁性層の前記基準部に相当する部分
と、基準部に相当しない他の部分との色を変えたことを
特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33155591A JPH05143977A (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33155591A JPH05143977A (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05143977A true JPH05143977A (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=18244976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33155591A Withdrawn JPH05143977A (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05143977A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6728194B1 (en) | 1998-11-25 | 2004-04-27 | Minolta Co., Ltd. | Optical recording medium, method of making the same and optical memory device using the optical memory medium |
-
1991
- 1991-11-21 JP JP33155591A patent/JPH05143977A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6728194B1 (en) | 1998-11-25 | 2004-04-27 | Minolta Co., Ltd. | Optical recording medium, method of making the same and optical memory device using the optical memory medium |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |