JPH05143977A

JPH05143977A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH05143977A
Application number: JP33155591A
Authority: JP
Inventors: Teruhisa Miyata; 照久宮田; Kunio Mizushima; 邦夫水島; Toshikatsu Manabe; 俊勝真辺
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 1991-11-21
Filing date: 1991-11-21
Publication date: 1993-06-11

Abstract

(57)【要約】【目的】トラツキングサーボが適正に行える信頼性の
高い磁気記録媒体を提供することにある。【構成】非磁性体からなる基体９と、その基体９の上
に形成された磁性層１０ａを有し、その磁性層１０ａに
磁気ヘツドトラツキングのための例えばリフアレンスト
ラツクあるいは（ならびに）磁気ヘツドトラツキング用
光学トラツク１２どの基準部を設ける磁気記録媒体にお
いて、前記基準部に相当する部分２０と、基準部に相当
しない部分２１（例えばデータトラツク１４）との色
を、例えば感光材料あるいは塗料などを使用して変えて
光反射率または光透過率に差を与えたことを特徴とする
ものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばフレキシブル磁
気デイスクなどの磁気記録媒体に係り、特に磁性層に磁
気ヘツドトラツキングのための基準部を設けた磁気記録
媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フレキシブル磁気デイスクにおいて、そ
れのドーナツ状記録帯域の最内周にリフアレンストラツ
クを形成し、そのリフアレンストラツクから半径方向外
側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンストラ
ツクと同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光学凹部を
リング状に多数形成し、各リング状磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部の間をデータトラツクとしたものが知ら
れている（例えば特開平２−１８７９６９号公報参
照）。

【０００３】図９ないし図１３はこの種磁気デイスクを
説明するための図であり、図９は磁気デイスクの平面
図、図１０は磁気ヘツドトラツキング用光学凹部の一部
拡大断面図、図１１はその磁気デイスクに対する各受光
素子の配置状態を説明するための図、図１２はリフアレ
ンストラツクの拡大断面図、図１３はリフアレンストラ
ツク上での出力波形図である。

【０００４】図９に示すように磁気デイスク１００の中
央部にはセンターハブ１０１が固着され、ドーナツ状記
録帯域１０２の最内周にリフアレンストラツク１０３を
形成し、そのリフアレンストラツク１０３から半径方向
外側に向けて所定の間隔離れ、かつ前記リフアレンスト
ラツク１０３と同心円状の磁気ヘツドトラツキング用光
学凹部１０４を多数形成されている。

【０００５】１つの磁気ヘツドトラツキング用光学凹部
１０４と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学光学凹部１
０４との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク
１０５が形成される。

【０００６】この磁気デイスク１００は図１０に示すよ
うに、ベースフイルム１０６の表面に磁性層１０７が設
けられており、この磁性層１０７に前記磁気ヘツドトラ
ツキング用光学凹部１０４が例えばレーザカツトなどの
手段によつて形成されている。

【０００７】一方、磁気記録再生装置の方には、前記磁
気デイスクの表面にトラツキングサーボ用の光線１０８
を出射する発光素子（図示せず）と、磁気デイスク表面
からの反射光１０９を受光する受光素子１１０ａ，１１
０ｂ，１１０ｃ，１１０ｄ（図１１参照）とを備えてい
る。

【０００８】そして前記発光素子から出射された光線１
０８を磁気デイスク表面に当てて、それからの反射光１
０９を受光素子１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃ，１１０
ｄで受光する。

【０００９】前述のように磁性層１０７には磁気ヘツド
トラツキング用光学凹部１０４が形成されているため、
データトラツク１０５上で反射する光強度と凹部１０４
で反射する光強度は異なる。図１１に示す例では受光素
子１１０ａと１１０ｂの合計出力値と、受光素子１１０
ｃと１１０ｄの合計出力値とを常に比較して、両者の出
力値が等しくなるように磁気ヘツド（図示せず）のトラ
ツキングサーボが行なわれる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところで従来の磁気デ
イスク１００の場合、図１０に示すように磁気ヘツドト
ラツキング用光学凹部１０４に相当する部分はレーザカ
ツトによつて磁性層１０７が完全に切除されて、ベース
フイルム１０６の部分が露出する。このベースフイルム
１０６は透明な合成樹脂フイルムで構成され、ベースフ
イルム１０６の裏面にも磁性層が裏打ちされているか
ら、ベースフイルム１０６の表面反射率が実質的に高
い。従つて磁気ヘツドトラツキング用光学凹部１０４と
データトラツク１０５との光反射率の差がなく、そのた
めに適正なトラツキングサーボが行なわれ難いという問
題がある。

【００１１】このような欠点を解消するため、リフアレ
ンストラツク１０３ならびに（あるいは）磁気ヘツドト
ラツキング用光学凹部１０４に対応した表面形状を有す
るスタンパを準備して、磁性層１０７表面をこのスタン
パで圧縮することにより凹状のリフアレンストラツク１
０３ならびに（あるいは）磁気ヘツドトラツキング用光
学凹部１０４を形成することが検討されている。

【００１２】ところがこの方法においても難点がない訳
けではない。すなわち、前記リフアレンストラツク１０
３ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学凹部１０４の
幅は通常、１〜１０μｍ程度の非常に微細であるため、
それを形成するスタンパの方の突部も非常に細いものと
なる。しかも磁性層１０７中には、磁性粉の他に研摩剤
やフイラーなどの硬質な固形分が混在している。そのた
め、この磁性層１０７の表面をスタンパでプレスしてリ
フアレンストラツク１０３ならびに磁気ヘツドトラツキ
ング用光学凹部１０４を繰り返して形成していると、ス
タンパの前記突部が磨耗したり欠損することが多々あ
る。このように突部が磨耗したり欠損するとリフアレン
ストラツク１０３、磁気ヘツドトラツキング用光学凹部
１０４の形状が変化して、適正なトラツキングができな
くなる。またリフアレンストラツク１０３においては、
次のような新たな問題が生じる。すなわち図１２ならび
に図１３に示すように、リフアレンストラツク１０３は
磁気ヘツドの走行方向Ｘに沿つて延びており、リフアレ
ンストラツク１０３の中心線１１１上の任意の点１１２
を中心として点対称に長方形のリフアレンス凹部領域１
１３Ａとリフアレンス凹部領域１１３Ｂが一対になつて
形成されている。

【００１３】このリフアレンス凹部領域１１３Ａの隣
（リフアレンス凹部領域１１３Ｂの前方）ならびにリフ
アレンス凹部領域１１３Ｂの隣（リフアレンス凹部領域
１１３Ａの後方）には凹部のない平面部１１４Ａと平面
部１１４Ｂとがある。

【００１４】これら一組のリフアレンス凹部領域１１３
Ａ、１１３Ｂ、平面部１１４Ａ、１１４Ｂが、磁気ヘツ
ドの走行方向Ｘに沿つて間欠的に多数形成されることに
より、リフアレンストラツク１０３を構成している。

【００１５】このリフアレンストラツク１０３上に所定
の信号が予め記録されており、磁気ヘツドでこのリフア
レンストラツク１０３上を走査し、そのときの出力波形
に基づいて磁気ヘツド（磁気ギヤツプ）の中心位置をリ
フアレンストラツク１０３の中心線１１１上に導くこと
ができる。

【００１６】図１３でリフアレンストラツク１０３上の
矢印、、の位置において磁気ヘツドを走査させた
ときの出力波形を、その下の矩形波形、、で示し
ている。この矩形波形のうちの波形が得られるよう
に、磁気ヘツドのデイスク径方向における位置調整がな
される。

【００１７】一方、磁性層１０７中には磁性粉の他にバ
インダーや潤滑剤などの有機化合物が含有されており、
ある程度の弾力性を有している。そのため前述のように
スタンパで磁性層１０７を圧縮してリフアレンストラツ
ク１０３（リフアレンス凹部領域１１３Ａ、１１３Ｂ）
を形成しても、図１２に示すようにリフアレンス凹部領
域１１３Ａ、１１３Ｂの底部中央１１５が脹らむ。その
ため、リフアレンストラツク１０３に信号記録したとき
にこの底部中央１１５にも信号が記録され、そのため図
１３のように綺麗な出力波形が得られず、結局、適正な
トラツキングサーボが行われないなどの欠点を有してい
る。

【００１８】本発明の目的は、このような従来技術の欠
点を解消し、トラツキングサーボが適正に行える信頼性
の高い磁気記録媒体を提供することにある。

【００１９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層に磁気ヘツドト
ラツキングのための例えばリフアレンストラツクあるい
は（ならびに）磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
などの基準部を設ける磁気記録媒体において、前記基準
部に相当する部分（例えば磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク）と、基準部に相当しない他の部分（例えば
データトラツク）との色を例えば感光材料あるいは塗
料、インキ、顔料などを使用して変えて光反射率または
光透過率に差を与えたことを特徴とするものである。

【００２０】

【作用】本発明は前述のように、基準部に相当する部分
と、基準部に相当しない部分との色を変えて光反射率ま
たは光透過率に差を与えて磁気ヘツドのトラツキングを
するものである。そのため従来のように基準部に相当す
る部分のベースフイルムが露出したり、あるいは凹部の
底部中央が膨らんでその部分に信号が記録されたりし
て、磁気ヘツドのトラツキングに悪影響を与えることが
なくなり、適正なトラツキングが行われる磁気記録媒体
を提供することができる。

【００２１】

【実施例】次に本発明の実施例を図とともに説明する。
図１は実施例に係る磁気デイスクカートリツジの一部を
分解した斜視図、図２は磁気シートの拡大断面図、図３
は磁気デイスクの平面図である。

【００２２】図１に示すように磁気デイスクカートリツ
ジは、カートリツジケース１と、その中に回転自在に収
納されたフレキシブルな磁気デイスク２と、カートリツ
ジケース１にスライド可能に取り付けられたシヤツタ３
と、カートリツジケース１の内面に溶着されたクリーニ
ングシート（図示せず）とから主に構成されている。

【００２３】前記カートリツジケース１は、上ケース１
ａと下ケース１ｂとから構成され、これらは例えばＡＢ
Ｓ樹脂などの硬質合成樹脂から射出成形されている。

【００２４】下ケース１ｂの略中央部には回転駆動軸挿
入用の開口４が形成され、その近くに長方形のヘツド挿
入口５が形成されている。図示していないが、上ケース
１ａにも同様にヘツド挿入口５が形成されている。

【００２５】上ケース１ａと下ケース１ｂの前面付近に
は、前記シヤツタ３のスライド範囲を規制するために少
し低くなつた凹部６が形成され、この凹部６の中間位置
に前記ヘツド挿入口５が開口している。

【００２６】前記磁気デイスク２は図３に示すように、
ドーナツ状のフレキシブルな磁気シート７と、その磁気
シート７の中央孔に挿入されて接着された金属製あるい
は合成樹脂製のセンターハブ８とから構成されている。

【００２７】前記磁気シート７は、ベースフイルム９
と、そのベースフイルム９の両面に塗着、形成された磁
性層１０ａ、１０ｂとから構成されている。

【００２８】前記ベースフイルム９は、例えばポリエチ
レンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレ
ート（ＰＥＮ）あるいはポリイミドなどの合成樹脂フイ
ルムから構成されている。

【００２９】前記磁性層１０ａ、１０ｂは、強磁性粉、
バインダ、研磨粉ならびに潤滑剤などの混合物から構成
されている。

【００３０】前記強磁性粉としては、例えばバリウムフ
エライト、α−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｐ、γ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ₂Ｏ₃、Ｃｏ含
有γ−Ｆｅ₃Ｏ₄、ＣｒＯ₂、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉなどが
使用される。

【００３１】前記バインダとしては、例えば塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、ウレタン樹脂、ポリイソシアネ
ート化合物、放射線硬化性樹脂などが使用される。

【００３２】前記研磨粉としては、例えば酸化アルミニ
ウム、酸化クロム、炭化ケイ素、窒化ケイ素などが用い
られる。この研磨粉の添加率は、磁性粉に対して約０．
１〜２５重量％が適当である。

【００３３】前記潤滑剤としては、例えばステアリン
酸、オレイン酸などの高級脂肪酸、これらの高級脂肪酸
エステル、流動パラフイン、スクアラン、フツ素樹脂、
フツ素オイルなどが使用可能である。この潤滑剤の添加
率は、磁性粉に対して約０．１〜２５重量％が適当であ
る。

【００３４】磁性塗料の具体的な組成例を示せば次の通
りである。

【００３５】磁性塗料組成例バリウムフエライト１００重量部（Ｈｃ：５３０〔Ｏｅ〕，飽和磁化量：５７〔ｅｍｕ／ｇ〕，平均粒径：０．０４〔μｍ〕）塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体１１．０重量部ウレタン樹脂６．６重量部三官能性イソシアネート化合物４．４重量部酸化アルミニウム粉末（平均粒径０．４３〔μｍ〕）１５重量部カーボンブラツク２重量部オレイン酸オレイル７重量部シクロヘキサノン１５０重量部トルエン１５０重量部前述の磁性塗料組成例の組成物をボールミル中でよく混
合分散して磁性塗料を調整し、これを６２μｍのポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）のベースフイルムの両
面に、乾燥厚みが０．８７μｍとなるように塗布し、乾
燥したのち、カレンダ処理を施して磁性層１０ａ、１０
ｂをそれぞれ形成する。

【００３６】このようにして構成された磁気デイスク２
の磁性層１０ａの表面に、図３に示すようにリフアレン
ストラツク１１と、多数の磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク１２が形成される。これらリフアレンストラ
ツク１１ならびに磁気ヘツドトラツキング用光学トラツ
ク１２は、磁気デイスク２の回転中心１３を中心にして
同心円状に設けられている。

【００３７】１つの磁気ヘツドトラツキング用光学トラ
ツク１２と隣の磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク
１２との間に、所望の情報が記録できるデータトラツク
１４が形成される。

【００３８】図３に示すように磁気デイスク２上に設け
られる記録帯域１５の最内周部に相当する表面に前記リ
フアレンストラツク１１が形成され、それより径方向外
側、すなわち磁気ヘツドの走行方向と直交する方向の外
側に磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２とデー
タトラツク１４が交互に多数形成される。

【００３９】図４は、磁気ヘツドトラツキング用光学ト
ラツク１２の形成工程を説明するための図である。

【００４０】同図の（ａ）に示すように、ベースフイル
ム９の両面に所定の厚みを有する磁性層１０ａ、１０ｂ
をそれぞれ形成する。

【００４１】次に同図の（ｂ）に示すように、磁気ヘツ
ドトラツキング用光学トラツク１２を形成する側の磁性
層１０ａの表面に感光性塗料を薄く塗布して、未感光の
塗膜１６を一様に形成する。

【００４２】そして同図の（ｃ）に示すように、所定の
間隔をおいて多数の開口１７を形成したマスク１８を塗
膜１６の上に載置し、その上から所定の波長を有する例
えばレーザ光あるいは紫外線などで露光１９する。この
露光操作により塗膜１６のマスク１８の開口１７と対向
した部分のみが感光され、感光された部分（感光部分）
２０と非感光部分２１とが形成される。この感光部分２
０と非感光部分２１とでは、光の反射率が異なるように
なつている。この感光部分２０が磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク１２に相当し、非感光部分２１がデー
タトラツク１４に相当する。

【００４３】感光性材料を大別すると感光基がポリマー
の主鎖または側鎖に組み込まれているものと、非感光性
ポリマーに低分子量の感光剤をブレンドしたものとがあ
る。

【００４４】また必要に応じて塗料中に増感剤を添加す
ることもできる。感光性材料としては、例えばポリメチ
レン、シアニン、フタロシアニン、ナフタロシアニン、
スクアリリウム、ナフトキノンなどの有機色素がある。

【００４５】図５は、この磁気ヘツドトラツキング用光
学トラツク１２のパターン図である。同図に示されてい
るように、前述の感光部分２０と非感光部分２１とが磁
気デイスクの径方向に沿って交互に多数形成されてお
り、それぞれの感光部分２０は磁気デイスクの回転中心
１３を中心として間欠的な円状をなしている。

【００４６】図６ならびに図７は、磁気デイスク２のト
ラツキングサーボを説明するための図である。記録再生
時にはこれらの図に示すように磁気デイスク２は磁気ヘ
ツド３０ａ、３０ｂの間で挟持された状態で、紙面に向
けて垂直な方向に回転する。

【００４７】前記磁気ヘツド３０ａの方には、トラツキ
ングサーボ用の光線を出力する例えばＬＥＤなどからな
る発光素子３１と、磁性層１０ａからの反射光を受光す
る受光素子群３２とが一体に取り付けられている。そし
てこの磁気ヘツド３０ａの発光素子３１ならびに受光素
子群３２が取り付けられている部分は、磁気デイスク２
側に向けて開口している。

【００４８】受光素子群３２は図１１と同じように４つ
の受光素子から構成されており、磁気ヘツドトラツキン
グ用光学トラツク１２ならびにデータトラツク１４上で
反射する光をこの受光素子群で受光して、各受光素子の
出力は図７に示すようにサーボ信号演算部３３に入力さ
れる。そしてこのサーボ信号演算部３３で求められた位
置修正信号がヘツド駆動制御部３４に入力され、それか
らの制御信号に基づいて磁気ヘツド３０のトラツキング
制御が成される。

【００４９】図８は本発明の他の実施例を示すもので、
この実施例の場合は磁性層１０ａ中に感光性材料を混在
させ、所定の開口パターンを有するマスクで磁性層１０
ａの表面を覆つて露光させ、磁性層１０ａ自体に色の異
なる、磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１２に相
当する感光部分２０と、データトラツク１４に相当する
非感光部分２１とを形成する。

【００５０】前記実施例では磁気ヘツドトラツキング用
光学トラツク１２について説明したが、本発明はこれに
限定されるものではなく、リフアレンストラツク１１に
適応することもできる。この場合、リフアレンストラツ
ク１１に対応する磁気ヘツドの位置検出は磁気ヘツドト
ラツキング用光学トラツク１２と同様に光学的手段によ
つてなされる。

【００５１】また前記実施例では感光性材料を使用して
色の異なる部分を形成したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、例えばスクリーン印刷などによつてイ
ンキを塗布して色の異なる部分を形成してもよい。

【００５２】さらにまた前記実施例では、光の反射を利
用して磁気ヘツドのトラツキングを行ったが、磁性層の
厚みを薄くした場合に磁性層が透光性を有するため、基
準部とそうでない所の色を変えることにより、光透過率
に差を与え、それを利用して磁気ヘツドのトラツキング
サーボを行うこともできる。

【００５３】

【発明の効果】本発明は前述のように、基準部に相当す
る部分と、基準部に相当しない部分との色を変えて光反
射率または光透過率に差を与えて磁気ヘツドのトラツキ
ングをするものである。そのため従来のように基準部に
相当する部分のベースフイルムが露出したり、あるいは
凹部の中央底部が膨らんでその部分に信号が記録された
りして、磁気ヘツドのトラツキングに悪影響を与えるこ
とがなくなり、適正なトラツキングが行われる磁気記録
媒体を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る磁気デイスクカートリツ
ジの一部を分解した斜視図である。

【図２】磁気シートの拡大断面図である。

【図３】磁気デイスクの平面図である。

【図４】磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクを形成
する工程を説明するための図である。

【図５】磁気ヘツドトラツキング用光学トラツクのパタ
ーン図である。

【図６】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するた
めの断面図である。

【図７】磁気ヘツドのトラツキングサーボを説明するた
めのブロツク図である。

【図８】他の実施例に係る磁気シートの拡大断面図であ
る。

【図９】従来の磁気デイスクの平面図である。

【図１０】従来の磁気デイスクのトラツキングサーボを
説明するための拡大断面図である。

【図１１】受光素子の配列状態を説明するための図であ
る。

【図１２】従来のリフアレンストラツクの拡大断面図で
ある。

【図１３】従来のリフアレンストラツク上での出力波形
図である。

【符号の説明】

２磁気デイスク７磁気シート９ベースフイルム１０ａ、１０ｂ磁性層１１リフアレンストラツク１２磁気ヘツドトラツキング用光学トラツク１４データトラツク１５記録帯域１６塗膜１７開口１８マスク１９露光２０感光部分２１非感光部分

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性体からなる基体と、その基体の上
に形成された磁性層を有し、その磁性層に磁気ヘツドト
ラツキングのための基準部を設ける磁気記録媒体におい
て、前記基準部に相当する部分と、基準部に相当しない他の
部分との色を変えて光反射率または光透過率に差を与え
たことを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】請求項１記載において、前記磁性層上に
感光材料を含む被膜を形成し、その被膜の所要部分を露
光させることにより、当該被膜の基準部に相当する部分
と、基準部に相当しない他の部分との色を変えたことを
特徴とする磁気記録媒体。
【請求項３】請求項１記載において、前記磁性層中に
感光材料を混在させ、その磁性層の所要部分を露光させ
ることにより、当該磁性層の前記基準部に相当する部分
と、基準部に相当しない他の部分との色を変えたことを
特徴とする磁気記録媒体。