JPH05136572A - Manufacture of multilayered ceramic board - Google Patents

Manufacture of multilayered ceramic board

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JPH05136572A
JPH05136572A JP30012391A JP30012391A JPH05136572A JP H05136572 A JPH05136572 A JP H05136572A JP 30012391 A JP30012391 A JP 30012391A JP 30012391 A JP30012391 A JP 30012391A JP H05136572 A JPH05136572 A JP H05136572A
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resin
green sheet
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multilayer ceramic
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誠一 中谷
Sei Yuhaku
祐伯  聖
Mikiya Shimada
幹也 嶋田
Yoshifumi Nakamura
嘉文 中村
Kazuhiro Miura
和裕 三浦
Eishin Nishikawa
英信 西川
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Abstract

PURPOSE:To obtain a multilayered board which shrinks only in a thicknesswise direction but not in a planar direction at burning by a method wherein a green sheet formed of inorganic composition is laminated on a green sheet laminate which includes organic binder and plasticizer. CONSTITUTION:A green sheet is formed of glass-ceramic for low temperature sintering, which contains, at least, organic binder and plasticizer. An electrode pattern of conductor paste composition is formed on the green sheet. Another green sheet 3 where an electrode has been formed is laminated on the above green sheet. A green sheet 4 formed of inorganic composition which is not sintered at the sintering temperature of the glass-ceramic is formed on one surface or both surfaces of a green sheet laminated board 1 formed of the glass-ceramic so as to sandwich it between them and sintered. Thereafter, the non-sintered inorganic composition layer 4 is impregnated and filled with resin, and an outermost wiring layer 5 is formed. By this setup, a multilayered ceramic board which is restrained from shrinking in a planar direction and excellent in mechanical strength can be formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体LSI、チップ部
品などを搭載し、かつそれらを相互配線するためのセラ
ミック多層配線基板とその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic multilayer wiring board for mounting semiconductor LSIs, chip parts, etc., and interconnecting them, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、低温焼結ガラス・セラミック多層
基板の開発によって、使用できる導体材料に、金、銀、
銅、パラジウムまたはそれらの混合物が用いられるよう
になった。これらの金属は従来使用されたタングステ
ン、モリブデンなどに比べ導体抵抗が低く、且つ使用で
きる設備も安全で低コストに製造できる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of a low temperature sintered glass / ceramic multilayer substrate, usable conductor materials include gold, silver,
Copper, palladium or mixtures thereof have come into use. These metals have lower conductor resistance than conventionally used tungsten, molybdenum, etc., and the equipment that can be used is safe and can be manufactured at low cost.

【0003】一方これらの金属の内、貴金属である金、
銀、パラジウムは高価でかつ価格変動が大きいことか
ら、安価で価格変動の少ないCu電極材料の使用が望ま
れている。
On the other hand, of these metals, the precious metal gold,
Since silver and palladium are expensive and have large price fluctuations, it is desired to use Cu electrode materials that are inexpensive and have little price fluctuations.

【0004】ここではそれらの低温焼結多層基板の代表
的な製造方法の一例を述べる。低温焼結多層基板の種類
には大きく分けて3種類の方法がある。
Here, an example of a typical manufacturing method of these low temperature sintered multilayer substrates will be described. There are roughly three types of low-temperature sintering multilayer substrates.

【0005】まず第1に多層基板の内層電極に銀を用
い、低温焼結基板のグリーンシートを所望の枚数積層
し、空気中で焼成し、その後最上層に銀、パラジウムペ
ーストを印刷、焼成して得られるものである。これは内
部にインピーダンスの小さい銀を用い、最上層に半田耐
熱を有する銀・パラジウムを使用するものである。
First, silver is used for the inner layer electrodes of the multilayer substrate, a desired number of green sheets of low temperature sintered substrates are stacked and fired in air, and then silver and palladium paste is printed and fired on the uppermost layer. Is obtained. This uses silver with low impedance inside and silver / palladium having solder heat resistance as the uppermost layer.

【0006】第2は、内部の電極に前者と同様に銀を用
い、最上層に銅を用いる方法で、最上層配線に銅を用い
ることで、前者の銀・パラジウムに比べ低いインピーダ
ンス、半田濡れの点で有効なものである。しかし、最上
層に用いる銅は銀との共晶温度が低いため600℃程度
の低温焼成銅ペーストを用いなければならない。その結
果、接着強度、半田濡れの点で課題が多い。
The second method is to use silver for the internal electrodes as in the former case and copper for the uppermost layer. By using copper for the uppermost layer wiring, the impedance and solder wetting are lower than those of the former silver and palladium. It is effective in terms of. However, since the copper used for the uppermost layer has a low eutectic temperature with silver, a low temperature fired copper paste of about 600 ° C. must be used. As a result, there are many problems in terms of adhesive strength and solder wetting.

【0007】最後に第3の方法として、内層および最上
層に銅電極を用いる方法がある。導体抵抗、半田濡れ
性、コストの点で最も良いがすべて窒素などの中性雰囲
気で焼成しなければ成らずその作製が困難である。一般
に銅電極を使用するには、基板上にCuペーストをスク
リーン印刷にて配線パターンを形成し、乾燥後、Cuの
融点以下の温度(850〜950℃程度)で、かつCu
が酸化されず導体ペースト中の有機成分が十分燃焼する
ように酸素分圧を制御した窒素雰囲気中で焼成を行なう
ものである。多層する場合は、同様の条件で絶縁層を印
刷焼成して得られる。
Finally, as a third method, there is a method of using copper electrodes for the inner layer and the uppermost layer. Although it is the best in terms of conductor resistance, solder wettability, and cost, it must be fired in a neutral atmosphere such as nitrogen, and its manufacture is difficult. Generally, in order to use a copper electrode, a wiring pattern is formed by screen-printing a Cu paste on a substrate, and after drying, at a temperature below the melting point of Cu (about 850 to 950 ° C.) and Cu
Is fired in a nitrogen atmosphere whose oxygen partial pressure is controlled so that the organic components in the conductor paste are sufficiently burned without being oxidized. In the case of multiple layers, the insulating layer is obtained by printing and firing under the same conditions.

【0008】しかし、焼成工程における雰囲気を適度な
酸素分圧下にコントロールすることは困難であり、また
多層化する場合、各ペーストを印刷後その都度焼成を繰
り返し行なう必要があり、リードタイムが長くなり設備
などのコストアップにつながるなどの課題を有してい
る。
However, it is difficult to control the atmosphere in the firing step under an appropriate oxygen partial pressure, and in the case of forming multiple layers, it is necessary to repeat firing each time after printing each paste, resulting in a long lead time. There are issues such as increased costs for equipment.

【0009】そこで特願昭59−147833号公報に
おいて、セラミック多層基板の作製にあたり、酸化第二
銅ペーストを用い、脱バインダ工程、還元工程、焼成工
程の3段階とする方法がすでに開示されている。それは
酸化第二銅を導体の出発原料とし多層体を作製し、脱バ
インダ工程は、炭素に対して充分な酸素雰囲気でかつ内
部の有機バインダを熱分解させるに充分な温度で熱処理
を行なう。次に酸化第二銅を銅に還元する還元工程、基
板の焼結を行なう焼成工程により成立しているものであ
る。これにより、焼成時の雰囲気制御が容易になり緻密
な焼結体が得られるようになった。
Japanese Patent Application No. 59-147833 has already disclosed a method of preparing a ceramic multilayer substrate by using a cupric oxide paste in three steps of a binder removal step, a reduction step and a firing step. .. It uses cupric oxide as a starting material for a conductor to form a multilayer body, and in the binder removal step, heat treatment is performed in a sufficient oxygen atmosphere for carbon and at a temperature sufficient to thermally decompose the organic binder inside. Next, the reduction step of reducing cupric oxide to copper and the firing step of sintering the substrate are established. As a result, the control of the atmosphere during firing becomes easy and a dense sintered body can be obtained.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、セラミ
ック多層基板には以下に示すような課題がある。それ
は、セラミック多層基板が焼成時に焼結に伴う収縮が生
じることである。この焼結に伴う収縮は、使用する基板
材料、グリーンシート組成、粉体ロットなどにより異な
る。これにより多層基板の作製においていくつかの問題
が生じている。
However, the ceramic multi-layer substrate has the following problems. That is, when the ceramic multilayer substrate is fired, shrinkage occurs due to sintering. The shrinkage due to the sintering varies depending on the substrate material used, the green sheet composition, the powder lot, and the like. This has caused some problems in the fabrication of multilayer substrates.

【0011】まず第1に、多層セラミック基板の作製に
おいて前述のごとく内層配線の焼成を行なってから最上
層配線の形成を行なうため、基板材料の収縮誤差が大き
いと、最上層配線パターンと寸法誤差のため内層電極と
の接続が行えない。その結果、収縮誤差を予め許容する
ように最上層電極部に必要以上の大きい面積のランドを
形成しなければならず、高密度の配線を必要とする回路
には使用できない。また収縮誤差にあわせて最上層配線
のためのスクリーン版をいくつか用意しておき、基板の
収縮率に応じて使用する方法が取られている。この方法
ではスクリーン版が数多く用意しなければならず不経済
である。
First, in the production of a multilayer ceramic substrate, the inner layer wiring is fired as described above before the uppermost layer wiring is formed. Therefore, if the shrinkage error of the substrate material is large, the uppermost layer wiring pattern and the dimensional error will occur. Therefore, the connection with the inner layer electrode cannot be performed. As a result, a land having an unnecessarily large area has to be formed in the uppermost electrode portion so as to allow a shrinkage error in advance, and it cannot be used in a circuit that requires high-density wiring. In addition, a method has been adopted in which some screen plates for the uppermost wiring are prepared according to the shrinkage error and used according to the shrinkage rate of the substrate. This method is uneconomical because many screen versions must be prepared.

【0012】一方、最上層配線を内層焼成と同時に行な
えば大きなランドを必要としないが、この同時焼成法に
よっても基板そのものの収縮誤差はそのまま存在するの
で、最後の部品搭載時のクリーム半田印刷において、そ
の誤差のため必要な部分に印刷できない場合が起こる。
また部品実装においても所定の部品位置とズレが生じ
る。
On the other hand, if the uppermost layer wiring is carried out at the same time as the inner layer firing, a large land is not required, but since the shrinkage error of the substrate itself still exists even by this simultaneous firing method, in the cream solder printing at the time of the last component mounting. However, due to the error, there may be a case where it is not possible to print on the necessary part.
Also, when mounting components, a predetermined component position and displacement occur.

【0013】第2にグリーンシート積層法による多層基
板は、グリーンシートの造膜方向によって幅方向と長手
方向によってもその収縮率が異なる。このこともセラミ
ック多層基板の作製の障害となっている。
Secondly, the shrinkage rate of the multi-layer substrate formed by the green sheet laminating method is different depending on the film-forming direction of the green sheet depending on the width direction and the longitudinal direction. This is also an obstacle to the production of the ceramic multilayer substrate.

【0014】これらの収縮誤差をなるべく少なくするた
めには、製造工程において、基板材料およびグリーンシ
ート組成、の管理はもちろん、粉体ロットの違いや積層
条件(プレス圧力、温度)を十分管理する必要がある。
しかし、一般に収縮率の誤差は±0.5%程度存在する
と言われている。
In order to reduce these shrinkage errors as much as possible, it is necessary to control not only the substrate material and the green sheet composition but also the difference in powder lot and the laminating conditions (press pressure, temperature) in the manufacturing process. There is.
However, it is generally said that the error of the shrinkage ratio is about ± 0.5%.

【0015】このことは多層基板にかかわらずセラミッ
ク、およびガラス・セラミックの焼結を伴うものに共通
の課題であり、基板材料の焼結が厚み方向だけ起こり、
平面方向の収縮がゼロの基板が作製できれば上記の様な
課題が解決でき、工業上極めて有効である。
This is a problem common to ceramics and glass-ceramics regardless of the multilayer substrate, and the sintering of the substrate material occurs only in the thickness direction.
If a substrate with zero shrinkage in the plane direction can be produced, the above problems can be solved and it is extremely effective in industry.

【0016】さらに、セラミック基板は高密度実装に適
した多層基板であるが、前記のように寸法安定性に欠け
る以外に、機械加工性および機械強度の点で避けられな
い課題がある。
Further, although the ceramic substrate is a multi-layer substrate suitable for high-density mounting, it has an unavoidable problem in view of machinability and mechanical strength in addition to lack of dimensional stability as described above.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、ガラス・セラミック低温焼結基板材料に少なくとも
有機バインダ、可塑剤を含むグリーンシートを作製し、
導体ペースト組成物で電極パターンを形成し、前記生シ
ートと別の電極パターン形成済みグリーンシートとを所
望枚数積層する。しかる後、前記低温焼結ガラス・セラ
ミックよりなるグリーンシート積層体の両面、もしくは
片面に、前記ガラス・セラミック低温焼結基板材料の焼
成温度では焼結しない無機組成物よりなるグリーンシー
トで挟み込むように積層し、前記積層体を焼成する。し
かる後、焼結しない無機組成物層に樹脂を含浸、充填さ
せ、さらに最上層配線を形成することにより、焼成時の
収縮が平面方向で起こらず、機械強度の良好な多層セラ
ミック基板を作製するものである。
In order to solve the above problems, a green sheet containing at least an organic binder and a plasticizer in a glass / ceramic low temperature sintered substrate material is prepared,
An electrode pattern is formed from the conductor paste composition, and a desired number of the green sheet and another green sheet on which an electrode pattern has been formed are laminated. Then, on both sides or one side of the green sheet laminated body made of the low temperature sintered glass / ceramic, sandwiched by green sheets made of an inorganic composition that does not sinter at the firing temperature of the glass / ceramic low temperature sintered substrate material. Laminate and fire the laminate. After that, the inorganic composition layer that does not sinter is impregnated and filled with resin, and further the uppermost wiring is formed, so that shrinkage during firing does not occur in the planar direction, and a multilayer ceramic substrate with good mechanical strength is produced. It is a thing.

【0018】[0018]

【作用】本発明は前記のような工程を行なうことによっ
て、ガラス・セラミック基板が焼成時において厚み方向
だけ収縮し、平面方向には収縮しない多層基板が得ら
れ、かつ機械強度の良好なものである。以下に本発明の
作用を説明する。
According to the present invention, the glass / ceramic substrate shrinks only in the thickness direction during firing and does not shrink in the planar direction by performing the above-mentioned steps, and it has good mechanical strength. is there. The operation of the present invention will be described below.

【0019】まず本発明の製造法は、ガラス・セラミッ
ク低温焼結基板材料に少なくとも有機バインダ、可塑剤
を含むグリーンシートを作製し、導体ペースト組成物で
電極パターンを形成し、前記生シートと別の電極パター
ン形成済みグリーンシートとを所望枚数積層して多層化
し、前記低温焼結ガラス・セラミックよりなるグリーン
シート積層体の両面、もしくは片面に、前記ガラス・セ
ラミック低温焼結基板材料の焼成温度では焼結しない無
機組成物よりなるバイアホール形成済みのグリーンシー
トを積層する。これにより、前記積層体を焼成しても、
厚み方向以外は収縮が起こらない。これは、両面もしく
は片面に積層した焼結しない材料で挟み込まれているた
め、平面方向の収縮が阻止されるためと考えられる。こ
の後、焼結しない無機物層中に樹脂を含浸、充填させ
る。さらに最上層配線を形成し所望の基板が得られる訳
である。
First, according to the manufacturing method of the present invention, a green sheet containing at least an organic binder and a plasticizer is prepared on a glass / ceramic low temperature sintered substrate material, an electrode pattern is formed by a conductor paste composition, and the green sheet is separated from the green sheet. The desired number of green sheets with the electrode pattern formed thereon are laminated to form a multilayer, and the green sheet laminate made of the low temperature sintered glass / ceramic is laminated on both sides or one side at the firing temperature of the glass / ceramic low temperature sintered substrate material. A green sheet having a via hole formed of an inorganic composition which is not sintered is laminated. Thereby, even if the laminate is fired
No shrinkage occurs except in the thickness direction. It is considered that this is because the material is sandwiched between the non-sintering materials laminated on both sides or one side, and thus the contraction in the plane direction is prevented. After that, a resin is impregnated and filled in the inorganic layer that is not sintered. Further, the uppermost layer wiring is formed to obtain a desired substrate.

【0020】前記ガラス・セラミック積層体の焼成は通
常800℃〜1000℃の範囲で行なわれる。銅電極、
銀電極を使用する場合は900℃で行なう。またガラス
・セラミック低温焼結基板材料の焼成温度では焼結しな
い無機組成物グリーンシートの無機成分には、Al
23,MgO,ZrO2,TiO2,BeO,BN,の内
少なくとも1種以上を含むグリーンシートからなる。9
00℃の焼成温度で行なう低温焼結基板材料には、Al
23が最も有効である。
Firing of the glass-ceramic laminate is usually performed in the range of 800 ° C to 1000 ° C. Copper electrode,
If a silver electrode is used, it is performed at 900 ° C. In addition, the inorganic component of the inorganic composition green sheet that does not sinter at the firing temperature of the glass / ceramic low temperature sintering substrate material is Al
The green sheet includes at least one of 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , BeO, and BN. 9
The low temperature sintering substrate material to be performed at a firing temperature of 00 ° C. is Al
2 O 3 is the most effective.

【0021】また、Al23に若干の焼結助材を添加し
焼結後に多孔質な焼結体を形成し、樹脂含浸を行なうこ
ともまた有効である。
It is also effective to add a small amount of a sintering aid to Al 2 O 3 to form a porous sintered body after sintering and impregnate with a resin.

【0022】前記ガラス・セラミック積層体の焼成時に
前記ガラス・セラミック積層体を加圧して焼成を行なう
と、厚み方向の焼結性が更に促進されち密な焼結体が得
られる。
When the glass / ceramic laminate is pressed and fired at the time of firing the glass / ceramic laminate, sinterability in the thickness direction is further promoted and a dense sintered body is obtained.

【0023】また焼結しない無機物層は多孔質な層であ
り、この開口部分に樹脂を充填させる方法として、樹脂
を加熱して溶融させて含浸する方法、樹脂を溶剤に溶融
させて含浸させる方法、モノマー状態で含浸させ樹脂に
させる方法などがある。
The inorganic layer which is not sintered is a porous layer, and as a method of filling the resin in the opening, a method of heating and melting and impregnating the resin, and a method of melting and impregnating the resin in a solvent , A method of impregnating in a monomer state to make a resin.

【0024】[0024]

【実施例】(実施例1)以下、本発明の一実施例につい
て、図面を参照しながら説明する。図1は本発明の一実
施例のグリーンシート積層体の断面を示す図である。
(Embodiment 1) An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a cross section of a green sheet laminate according to an embodiment of the present invention.

【0025】まず多層セラミック基板作製方法を説明す
る。本発明の製造プロセスは図2に示す方法で行なっ
た。
First, a method for producing a multilayer ceramic substrate will be described. The manufacturing process of the present invention was performed by the method shown in FIG.

【0026】基板材料のガラス・セラミックにはホウ珪
酸鉛ガラス粉末にセラミック材料としてのアルミナ粉末
を重量比で50対50とした組成物(日本電気硝子社製
MLS−19)を用いた。このガラス・セラミック粉
を無機成分とし、有機バインダとしてポリビニルブチラ
ール、可塑剤としてヂ−n−ブチルフタレート、溶剤と
してトルエンとイソプロピルアルコールの混合液(30
対70重量比)を混合しスラリーとした。
As the glass ceramic of the substrate material, a composition (MLS-19 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) was used in which lead borosilicate glass powder and alumina powder as a ceramic material were mixed in a weight ratio of 50:50. This glass / ceramic powder is used as an inorganic component, polyvinyl butyral as an organic binder, di-n-butyl phthalate as a plasticizer, and a mixed liquid of toluene and isopropyl alcohol as a solvent (30
(70 weight ratio) was mixed to form a slurry.

【0027】このスラリーをドクターブレード法で有機
フィルム上にシート成形した。この時、造膜から乾燥、
打ち抜き、さらには必要に応じてバイアホール加工を行
う各工程を連続的に行うシステムを使用した。このグリ
ーンシートに銀ペーストを用いて導体パターンの形成お
よびビアホール埋め印刷をスクリーン印刷法によって行
った。導体ペーストは、Ag粉末(平均粒径1μm)に
接着強度を得るためのガラスフリット(日本電気硝子社
製 GA−9ガラス粉末、平均粒径2.5μm)を5w
t%加えたものを無機成分とし、有機バインダであるエ
チルセルロースをターピネオールに溶かしたビヒクルと
ともに加えて、3段ロールにより適度な粘度になるよう
に混合したものを用いた。なおビア埋め用のAgペース
トは更に無機成分として前記ガラス・セラミック粉末を
15重量%加えたものを使用して行なった。
This slurry was formed into a sheet on an organic film by the doctor blade method. At this time, drying from film formation,
A system was used in which each step of punching and, if necessary, via hole processing was continuously performed. A conductive pattern was formed on the green sheet using silver paste and via hole filling printing was performed by a screen printing method. As the conductor paste, a glass frit (GA-9 glass powder manufactured by Nippon Electric Glass Co., average particle size 2.5 μm) for obtaining adhesive strength to Ag powder (average particle size 1 μm) was used in an amount of 5 w.
What added t% was made into the inorganic component, and ethyl cellulose which is an organic binder was added together with the vehicle which melt | dissolved in terpineol, and it mixed so that it might become suitable viscosity with the 3-step roll. The via-filling Ag paste was prepared by further adding 15% by weight of the glass-ceramic powder as an inorganic component.

【0028】次に焼結の起こらないグリーンシートの作
製は無機成分としてアルミナ(住友アルミ社製 AL−
41 平均粒径1.9μm)粉末のみを用い前記ガラス
・セラミック基板用グリーンシートと同様のグリーンシ
ート組成で、同様の方法でグリーンシートを作製した。
前記基板用グリーンシートの厚みは約200μm、アル
ミナグリーンシートは約300μmである。
Next, a green sheet that does not sinter is produced by using alumina (AL- manufactured by Sumitomo Aluminum Co., Ltd.) as an inorganic component.
41 A green sheet was prepared by using the same method as the green sheet for a glass / ceramic substrate with the same method, using only powder having an average particle size of 1.9 μm.
The substrate green sheet has a thickness of about 200 μm, and the alumina green sheet has a thickness of about 300 μm.

【0029】このアルミナグリーンシートに前記と同様
ビアホール形成を行う。さらに前記基板用グリーンシー
トに印刷を行なったものを所定の枚数積み重ね、さらに
その両面に前記アルミナグリーンシートを重ね合わせ
る。この状態で熱圧着して積層体を形成した。熱圧着条
件は、温度が80℃、圧力は200Kg/cm2であっ
た。図1にその構成を示す。1は前記基板材料によるグ
リーンシート層、2はアルミナによるグリーンシート
層、3は内層電極層である。
Via holes are formed in this alumina green sheet as described above. Further, a predetermined number of printed green sheets for the substrate are stacked, and further the alumina green sheets are stacked on both sides thereof. In this state, thermocompression bonding was performed to form a laminate. The thermocompression bonding conditions were a temperature of 80 ° C. and a pressure of 200 Kg / cm 2 . The structure is shown in FIG. Reference numeral 1 is a green sheet layer made of the substrate material, 2 is a green sheet layer made of alumina, and 3 is an inner electrode layer.

【0030】次に前記積層体をアルミナ96%基板上に
乗せ焼成する。条件はベルト炉によって空気中の900
℃で1時間焼成で行なった。(900℃の保持時間は約
12分である。)この時基板の反りと厚み方向の焼結収
縮を助けるためアルミナ焼結基板を乗せて加圧するよう
にして焼成を行なった。
Next, the laminate is placed on a 96% alumina substrate and baked. The condition is 900 in air by a belt furnace.
The firing was performed at 1 ° C. for 1 hour. (The holding time at 900 ° C. is about 12 minutes.) At this time, in order to assist the warp of the substrate and the sintering shrinkage in the thickness direction, an alumina sintered substrate was placed and pressed to perform firing.

【0031】焼成後の積層体を真空中で加熱し、エポキ
シ樹脂を積層表面に滴下した。これにより積層体表面の
未焼結アルミナ層にエポキシ樹脂が充填された。
The fired laminate was heated in a vacuum, and epoxy resin was dropped on the surface of the laminate. As a result, the unsintered alumina layer on the surface of the laminate was filled with the epoxy resin.

【0032】この焼成後の基板の収縮率は、収縮率が
0.05%以下であった。樹脂充填後の基板表面をビア
配線が表面に出るように若干研磨し、さらに無電解メッ
キ法によって全面に約35μm厚のCuメッキを行なっ
た。しかる後、エッチング法によって所望の配線パター
ンを形成した。
The shrinkage of the substrate after firing was less than 0.05%. The surface of the substrate after resin filling was slightly polished so that the via wiring was exposed on the surface, and further Cu plating with a thickness of about 35 μm was performed on the entire surface by electroless plating. After that, a desired wiring pattern was formed by an etching method.

【0033】この結果、平面方向の収縮が起こらず機械
強度が良好な多層基板が作製できた。セラミック部分の
配線収縮が極めて小さい為、最上層配線パターンの形成
ズレがなかった。
As a result, a multilayer substrate having good mechanical strength without shrinkage in the plane direction could be produced. Since the shrinkage of the wiring in the ceramic part was extremely small, there was no deviation in the formation of the uppermost wiring pattern.

【0034】図3はこのようにして作製された多層基板
の断面図である。 (実施例2)以下、本発明の第2の実施例について説明
する。
FIG. 3 is a sectional view of the multi-layer substrate manufactured in this way. (Embodiment 2) Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described.

【0035】基板材料のガラス・セラミックグリーンシ
ートは(実施例1)と同様の組成の物を用いた。このグ
リーンシートにCuOペーストを用いて導体パターンの形
成およびビアホール埋め印刷をスクリーン印刷法によっ
て行った。導体ペーストは、CuO粉末(平均粒径3μ
m)に接着強度を得るためのガラスフリット(日本電気
硝子社製 LS−0803ガラス粉末、平均粒径2.5
μm)を3wt%加えたものを無機成分とし、有機バイ
ンダであるエチルセルロースをターピネオールに溶かし
たビヒクルとともに加えて、3段ロールにより適度な粘
度になるように混合したものを用いた。なおビア埋め用
のCuOペーストは更に無機成分として前記ガラス・セラ
ミック粉末を15重量%加えたものを使用して行なっ
た。
The glass / ceramic green sheet as the substrate material had the same composition as in (Example 1). A conductor pattern was formed on the green sheet by using CuO paste and via hole filling printing was performed by a screen printing method. The conductor paste is CuO powder (average particle size 3μ
m) glass frit for obtaining adhesive strength (LS-0803 glass powder manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., average particle size 2.5)
was added as an inorganic component together with a vehicle in which terpineol was dissolved as an organic binder, and the mixture was mixed by a three-stage roll so as to have an appropriate viscosity. The CuO paste for filling vias was prepared by further adding 15% by weight of the above glass-ceramic powder as an inorganic component.

【0036】次に焼結の起こらないグリーンシートの作
製は無機成分として酸化ベリリウム(関東化学社製 平
均粒径1μm)粉末のみを用い前記ガラス・セラミック
基板用グリーンシートと同様のグリーンシート組成で、
同様の方法でグリーンシートを作製しビアホール形成し
た。
Next, a green sheet which does not sinter is produced by using only beryllium oxide (an average particle diameter of 1 μm, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) powder as an inorganic component, with the same green sheet composition as the green sheet for glass / ceramic substrates.
A green sheet was prepared by the same method and a via hole was formed.

【0037】前記基板用グリーンシートの厚みは約20
0μm、アルミナグリーンシートは約300μmであ
る。
The thickness of the green sheet for the substrate is about 20.
0 μm, alumina green sheet is about 300 μm.

【0038】前記基板用グリーンシートに印刷を行なっ
たものを所定の枚数積み重ね、さらにその両面に前記ア
ルミナグリーンシートを重ね合わせる。この状態で熱圧
着して積層体を形成した。熱圧着条件は、温度が80
℃、圧力は200Kg/cm2であった。
A predetermined number of the printed green sheets for the substrate are stacked, and the alumina green sheets are stacked on both sides of the stacked green sheets. In this state, thermocompression bonding was performed to form a laminate. The temperature for thermocompression bonding is 80
The temperature was 200 ° C. and the pressure was 200 kg / cm 2 .

【0039】次に、焼成の工程を説明する。まず最初
は、脱バインダ工程である。発明に使用したグリーンシ
ート、CuOペーストの有機バインダは、PVB及びエ
チルセルロースである。したがって空気中での分解温度
は、500℃以上あれば良いので、600℃の温度で行
なった。その後前記積層体を水素ガス100%雰囲気中
で200℃、5時間で還元した。この時のCu層をX線
回折により分析したところ100%Cuであることを確
認した。次に焼成工程は、純窒素中900℃であるメッ
シュベルト炉で焼成した。
Next, the firing process will be described. The first is a binder removal step. The organic binders of the green sheet and CuO paste used in the invention are PVB and ethyl cellulose. Therefore, the decomposition temperature in air should be 500 ° C. or higher, so 600 ° C. was used. Then, the laminated body was reduced in an atmosphere of 100% hydrogen gas at 200 ° C. for 5 hours. When the Cu layer at this time was analyzed by X-ray diffraction, it was confirmed to be 100% Cu. Next, in the firing step, firing was performed in pure nitrogen in a mesh belt furnace at 900 ° C.

【0040】以上の様にして作製した積層体の表面の酸
化ベリリウム未焼結層を(実施例1)と同様樹脂充填を
行なう。その方法はポリイミドのモノマー状態のものを
クロロホルム溶剤で溶融させたものを滴下した。しかる
後、この積層体の表面を研磨し、35μm厚みの銅箔を
張り合わせて、300℃の熱処理によってポリイミド層
を形成する。これにより、銅箔とポリイミド層の接合が
強固なものとなった。さらにこの表面層にエッチングに
よって配線パターンを形成した。このようにして作製さ
れた基板の収縮率を評価したところ0.05%以下の収
縮であった。
The beryllium oxide unsintered layer on the surface of the laminated body produced as described above is filled with resin in the same manner as in (Example 1). In the method, a polyimide monomer state melted with a chloroform solvent was dropped. Thereafter, the surface of this laminate is polished, copper foil having a thickness of 35 μm is laminated, and a polyimide layer is formed by heat treatment at 300 ° C. This strengthened the bond between the copper foil and the polyimide layer. Further, a wiring pattern was formed on this surface layer by etching. When the shrinkage rate of the substrate thus produced was evaluated, it was found to be 0.05% or less.

【0041】なお本実施例において、未焼結材料として
Al23およびBeOを用いたが、その他MgO,Zr
2,TiO2,BNを用いても同様の効果が得られた。
また未焼結グリーンシート層を両面に形成して行なった
が、片面だけ積層しても荷重を重くすれば同様の効果が
得られた。ただし、加圧しない場合は積層しない面だけ
焼結するように働くため基板の反りが発生する。
In this embodiment, Al 2 O 3 and BeO were used as the unsintered materials, but other materials such as MgO and Zr were used.
The same effect was obtained by using O 2 , TiO 2 , and BN.
Although the green sheet layers were formed on both sides, the same effect could be obtained even if only one side was laminated by applying a heavy load. However, when pressure is not applied, the substrate warps because it works so as to sinter only the non-laminated surface.

【0042】以上のように本実施例では、多層セラミッ
ク基板の作製工程において焼結の起こらない無機成分か
らなるグリーンシート層を設け基板焼成を行なうと、焼
結による収縮が平面方向で全く起こらない多層基板が得
られ、かつ寸法安定性の良好なものであり半導体などを
直接実装することも可能である。
As described above, in this embodiment, when a green sheet layer made of an inorganic component that does not sinter is provided in the process for producing a multilayer ceramic substrate and the substrate is fired, shrinkage due to sintering does not occur in the plane direction at all. A multi-layered substrate can be obtained and has good dimensional stability, and it is possible to directly mount a semiconductor or the like.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明は前記のような工程を行なうこと
によって、ガラス・セラミック基板が焼成時において厚
み方向だけ収縮し、平面方向には収縮しない多層基板が
得られ、かつ機械強度が良好で、熱膨張係数も半導体に
近いものがえられる。これにより多層基板に使用する基
板材料、グリーンシート組成、粉体ロットなどに依存せ
ず常に同一寸法の基板が得られる。同様に多層セラミッ
ク基板の作製において前述のごとく内層配線の焼成を行
なってから最上層配線の形成を行なっても、最上層配線
パターンと内層の接続が完全に行える。その結果、接続
用のランド面積が小さくでき、高密度な多層配線基板が
得られる。さらにスクリーン版が少なくて済み、基板設
計において収縮率を逆算し内層パターンを拡大する必要
がないので経済的である。
According to the present invention, by carrying out the steps as described above, it is possible to obtain a multilayer substrate in which the glass-ceramic substrate shrinks only in the thickness direction during firing and does not shrink in the planar direction, and the mechanical strength is good. The thermal expansion coefficient is close to that of semiconductors. This makes it possible to always obtain a substrate having the same size regardless of the substrate material used for the multilayer substrate, the green sheet composition, the powder lot, and the like. Similarly, in the production of the multilayer ceramic substrate, even if the innermost layer wiring is fired and then the uppermost layer wiring is formed as described above, the uppermost layer wiring pattern and the inner layer can be completely connected. As a result, the land area for connection can be reduced, and a high-density multilayer wiring board can be obtained. Furthermore, the number of screen plates is small, and it is economical because there is no need to back-calculate the shrinkage factor and expand the inner layer pattern in the board design.

【0044】以上のように、グリーンシート積層法の最
大の欠点であった、収縮誤差の課題を解決し、機械強度
も良好なものが得られる点で極めて有効な発明でありま
す。
As described above, this is an extremely effective invention in that it solves the problem of shrinkage error, which is the biggest drawback of the green sheet laminating method, and that it has good mechanical strength.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例のグリーンシート積層体の断
面図
FIG. 1 is a sectional view of a green sheet laminate according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の製造方法を示すフローチャートFIG. 2 is a flowchart showing a manufacturing method of the present invention.

【図3】本発明の一実施例の完成基板の断面図FIG. 3 is a sectional view of a completed substrate according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス・セラミックグリーンシート層 2 アルミナグリーンシート層 3 内部電極層 4 樹脂充填層 5 最上層配線層 1 Glass / Ceramic Green Sheet Layer 2 Alumina Green Sheet Layer 3 Internal Electrode Layer 4 Resin Filling Layer 5 Top Wiring Layer

フロントページの続き (72)発明者 中村 嘉文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 三浦 和裕 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 西川 英信 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内Front page continued (72) Inventor Yoshifumi Nakamura 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Inventor, Kazuhiro Miura 1006 Kadoma, Kadoma City Osaka Prefecture (72) Invention Person Nishinobu Hidenobu 1006, Kadoma, Kadoma-shi, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導体ペースト組成物で電極パターンを形
成した少なくとも有機バインダ、可塑剤を含むガラス・
セラミックよりなるグリーンシートを所望枚数積層し、
このグリーンシート積層体の両面、もしくは片面に、前
記電極材料でバイアホール充填させた焼成温度では焼結
しない無機組成物よりなるグリーンシートを積層した
後、焼成処理を行い、その後前記焼結しない無機組成物
層に樹脂を充填させ、さらに両面または片面に導体配線
を形成することを特徴とする多層セラミック基板の製造
方法。
1. A glass containing at least an organic binder having an electrode pattern formed of a conductor paste composition and a plasticizer.
Stack the desired number of ceramic green sheets,
A green sheet made of an inorganic composition that does not sinter at the firing temperature and is filled with via holes with the electrode material is laminated on both sides or one side of the green sheet laminate, and then the firing treatment is performed, and then the non-sintering inorganic A method for producing a multilayer ceramic substrate, characterized in that the composition layer is filled with a resin, and conductor wiring is formed on both sides or one side.
【請求項2】 焼成温度を800℃〜1000℃の範囲
で行なうことを特徴とする請求項1記載の多層セラミッ
ク基板の製造方法。
2. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the firing temperature is 800 ° C. to 1000 ° C.
【請求項3】 焼成処理で焼結しない無機組成物よりな
るグリーンシートが、Al23,MgO,ZrO2,T
iO2,BeO,BN,の内少なくとも1種以上を含む
グリーンシートからなることを特徴とする請求項1記載
の多層セラミック基板の製造方法。
3. A green sheet made of an inorganic composition that does not sinter in the firing treatment is Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , T.
2. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, comprising a green sheet containing at least one of iO 2 , BeO and BN.
【請求項4】 焼成処理で焼結しない無機組成物層に充
填する樹脂にエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコン
樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂か
ら選択される樹脂を使用することを特徴とする請求項1
記載の多層セラミック基板の製造方法。
4. A resin selected from an epoxy resin, a polyimide resin, a silicon resin, an acrylic resin, a phenol resin, and a urethane resin is used as a resin to be filled in the inorganic composition layer that is not sintered by the firing treatment. Claim 1
A method for manufacturing the multilayer ceramic substrate described.
【請求項5】 導体ペーストがAg,Ag/Pd,Ag
/Pt,Cuのいずれかを主成分とすることを特徴とす
る請求項1記載の多層セラミック基板の製造方法。
5. The conductive paste is Ag, Ag / Pd, Ag
2. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein any one of / Pt and Cu is contained as a main component.
【請求項6】 焼成処理時にグリーンシート積層体を加
圧して焼成を行なうことを特徴とする請求項1記載の多
層セラミック基板の製造方法。
6. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the green sheet laminate is pressed during the baking process to be baked.
【請求項7】 樹脂含浸後に銅箔を張り合わせエッチン
グ法によって配線を形成することを特徴とする請求項1
記載の多層セラミック基板の製造方法。
7. The wiring is formed by laminating and etching copper foil after resin impregnation.
A method for manufacturing the multilayer ceramic substrate described.
【請求項8】 樹脂含浸後に表層部に全面銅メッキを行
い、さらにエッチング法によって配線を形成することを
特徴とする請求項1記載の多層セラミック基板の製造方
法。
8. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein after impregnating the resin, the entire surface layer is plated with copper and wiring is formed by an etching method.
【請求項9】 酸化第2銅を主成分とする導体ペースト
組成物で電極パターンを形成した少なくとも有機バイン
ダ、可塑剤を含むガラス・セラミックよりなるグリーン
シートを所望枚数積層し、このグリーンシート積層体の
両面、もしくは片面に、前記電極材料でバイアホール充
填させた焼成温度では焼結しない無機組成物よりなるグ
リーンシートを積層した後、これらを空気中で多層体内
部の有機バインダが分解・飛散する温度で熱処理し、し
かる後、水素もしくは水素と窒素の混合ガス雰囲気中で
還元熱処理を行い、さらに、前記還元熱処理済み多層体
を窒素雰囲気中で焼結させ、しかる後、焼結しない無機
組成物層に樹脂を充填させ、さらに両面または片面に導
体配線を形成することを特徴とする多層セラミック基板
の製造方法。
9. A desired number of green sheets made of glass / ceramic containing at least an organic binder and a plasticizer, in which an electrode pattern is formed of a conductor paste composition containing cupric oxide as a main component, are laminated in a desired number, and the green sheet laminate is formed. After laminating a green sheet made of an inorganic composition which is filled with a via hole with the electrode material and does not sinter at the firing temperature, the organic binder inside the multilayer body decomposes and scatters in the air. An inorganic composition which is heat-treated at a temperature and then subjected to a reduction heat treatment in an atmosphere of hydrogen or a mixed gas of hydrogen and nitrogen, and further, the reduction heat-treated multilayer body is sintered in a nitrogen atmosphere, and then not sintered. A method for manufacturing a multilayer ceramic substrate, characterized in that a layer is filled with a resin, and conductor wiring is formed on both sides or one side.
【請求項10】 焼成処理を800℃〜1000℃の範
囲で行なうことを特徴とする請求項9記載の多層セラミ
ック基板の製造方法。
10. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 9, wherein the firing treatment is performed in the range of 800 ° C. to 1000 ° C.
【請求項11】 焼成処理では焼結しない無機組成物グ
リーンシートが、Al 23,MgO,ZrO2,Ti
2,BeO,BN,の内少なくとも1種以上を含むグ
リーンシートからなることを特徴とする請求項9記載の
多層セラミック基板の製造方法。
11. An inorganic composition group that does not sinter in a firing process.
The lean sheet is made of Al 2O3, MgO, ZrO2, Ti
O2, BeO, BN, containing at least one or more of
The lean sheet as claimed in claim 9.
Manufacturing method of multilayer ceramic substrate.
【請求項12】 焼成処理で焼結しない無機組成物層に
充填する樹脂にエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シリコ
ン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂
から選択される樹脂を使用することを特徴とする請求項
9記載の多層セラミック基板の製造方法。
12. A resin selected from an epoxy resin, a polyimide resin, a silicon resin, an acrylic resin, a phenol resin, and a urethane resin is used as a resin to be filled in the inorganic composition layer that is not sintered in the firing treatment. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 9.
【請求項13】 焼成処理時にグリーンシート積層体を
加圧して焼成を行なうことを特徴とする請求項9記載の
多層セラミック基板の製造方法。
13. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 9, wherein the green sheet laminate is pressed during the firing process to perform firing.
【請求項14】 樹脂含浸後に銅箔を張り合わせエッチ
ング法によって配線を形成することを特徴とする請求項
9記載の多層セラミック基板の製造方法。
14. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 9, wherein the wiring is formed by laminating and etching copper foil after impregnating the resin.
【請求項15】 樹脂含浸後に表層部に全面銅メッキを
行い、さらにエッチング法によって配線を形成すること
を特徴とする請求項9記載の多層セラミック基板の製造
方法。
15. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 9, wherein after impregnating with the resin, the entire surface layer is plated with copper and wiring is formed by an etching method.
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