JPH05327220A - Manufacture of multilayer ceramic base - Google Patents

Manufacture of multilayer ceramic base

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JPH05327220A
JPH05327220A JP13214592A JP13214592A JPH05327220A JP H05327220 A JPH05327220 A JP H05327220A JP 13214592 A JP13214592 A JP 13214592A JP 13214592 A JP13214592 A JP 13214592A JP H05327220 A JPH05327220 A JP H05327220A
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JP
Japan
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ceramic substrate
green sheet
multilayer ceramic
paste composition
glass
Prior art date
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Application number
JP13214592A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshifumi Nakamura
嘉文 中村
Seiichi Nakatani
誠一 中谷
Sei Yuhaku
祐伯  聖
Yasuhiko Hakotani
靖彦 箱谷
Kazuhiro Miura
和裕 三浦
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH05327220A publication Critical patent/JPH05327220A/en
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Abstract

PURPOSE:To settle problems of a slippage of a component mounting position and deterioration of connection reliability due to shrinkage of a green sheet laminate at the time of baking and to obtain a multilayer ceramic base which shrinks only in the direction of thickness and does not shrink in the direction of plane, in a method for manufacture of the multilayer ceramic base to be used for an electronic apparatus or the like. CONSTITUTION:A green sheet 1 on which a wiring is patterned by a conductor paste composition and which is constituted of glass-ceramic containing an organic binder and a plasticizer at least is laminated in desired numbers. On a part or the whole of the surface of a green sheet laminate thus prepared, an alumina layer 2 is formed by using a paste composition of which the main constituent is alumina which is not sintered at the baking temperature of a base material constituted of glass-ceramic, and then baking is made. Thereafter the alumina layer 2 is removed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体LSI、チップ部
品などを搭載し、かつそれらを相互配線するための多層
セラミック基板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multi-layer ceramic substrate for mounting semiconductor LSIs, chip parts, etc. and interconnecting them.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、低温焼結ガラス・セラミック多層
基板の開発によって使用できる導体材料に金、銀、銅、
パラジウムまたはそれらの混合物が用いられるようにな
った。これらの金属は従来使用されていたタングステ
ン、モリブデンなどに比べ導体抵抗が低く、かつ使用で
きる設備も安全であるため低コストで製造することがで
きる。
2. Description of the Related Art In recent years, low-temperature sintered glass / ceramic multilayer substrates have been developed, and conductive materials that can be used include gold, silver, copper,
Palladium or mixtures thereof have come to be used. These metals have a lower conductor resistance than the conventionally used tungsten, molybdenum, etc., and since the equipment that can be used is safe, they can be manufactured at low cost.

【0003】一方、これらの金属の内、貴金属である
金、銀、パラジウムは高価でかつ価格変動が大きいこと
から安価で価格変動の少ない銅電極材料の使用が望まれ
ている。
On the other hand, among these metals, noble metals such as gold, silver, and palladium are expensive and have large price fluctuations. Therefore, it is desired to use a copper electrode material which is inexpensive and has little price fluctuations.

【0004】ここではそれらの低温焼結多層セラミック
基板の代表的な製造方法の一例を述べる。低温焼結多層
セラミック基板の製造方法には大きく分けて3種類の方
法がある。まず第1に多層基板の内層電極に銀を用い、
低温焼結基板のグリーンシートを所望の枚数積層し、空
気中で焼成し、その後最上層に銀、パラジウムペースト
を印刷、焼成して得られるものである。これは内部にイ
ンピーダンスの小さい銀を用い、最上層に半田耐熱を有
する銀・パラジウムを使用するものである。第2は内部
の電極に前者と同様に銀を用い、最上層に銅を用いる方
法で、最上層配線に銅を用いることで前者の銀・パラジ
ウムに比べ低いインピーダンス、半田濡れの点で有効な
ものである(例えば、特公平03−78798号公
報)。しかし、最上層に用いる銅は銀との共晶温度が低
いため600℃程度の低温焼成銅ペーストを用いなけれ
ばならない。その結果、接着強度、半田濡れの点で課題
が多い。最後に第3の方法として内層および最上層に銅
電極を用いる方法がある(特開昭55−128899号
公報)。この方法は導体抵抗、半田濡れ性、コストの点
で最も良いがすべて窒素などの中性雰囲気中で焼成しな
ければならず、その作製が困難である。一般に銅電極を
使用するには基板上に銅ペーストをスクリーン印刷にて
配線パターンを形成し、乾燥後、銅の融点以下の温度
(850〜950℃)で、かつ銅が酸化されずに導体ペ
ースト中の有機成分が十分燃焼するように酸素分圧を制
御した窒素雰囲気中で焼成を行なうものである。多層積
層する場合は同様の条件で絶縁層を印刷焼成して得られ
る。しかし焼成工程における雰囲気を適度な酸素分圧下
にコントロールすることは困難であり、また多層化する
場合、各ペーストを印刷後その都度焼成を繰り返し行な
う必要があり、リードタイムが長くなり設備などのコス
トアップにつながるなどの課題を有している。そこで特
公平03−20914号公報において、セラミック多層
基板の作製にあたり、酸化第二銅ペーストを用いて脱バ
インダ工程、還元工程、焼成工程の3段階とする方法が
すでに開示されている。それは酸化第二銅を導体の出発
原料とし多層体を作製し、脱バインダ工程は炭素に対し
て充分な酸素雰囲気で、かつ内部の有機バインダを熱分
解させるに充分な温度で熱処理を行なうものであり、次
に酸化第二銅を銅に還元する還元工程、基板の焼結を行
なう焼成工程により成立しているものである。これによ
り焼成時の雰囲気制御が容易になり緻密な焼結体が得ら
れるようになった。
Here, an example of a typical method for producing such a low temperature sintered multilayer ceramic substrate will be described. There are roughly three types of methods for manufacturing low-temperature sintered multilayer ceramic substrates. First of all, silver is used for the inner layer electrodes of the multilayer substrate,
It is obtained by stacking a desired number of green sheets of low-temperature sintered substrates, firing in air, and then printing and firing silver and palladium paste on the uppermost layer. This uses silver with low impedance inside and silver / palladium having solder heat resistance as the uppermost layer. The second is a method in which silver is used for the internal electrodes as in the former and copper is used for the uppermost layer. By using copper for the uppermost layer wiring, it is effective in terms of lower impedance and solder wetting than the former silver / palladium. (For example, Japanese Patent Publication No. 03-78798). However, since the copper used for the uppermost layer has a low eutectic temperature with silver, a low temperature fired copper paste of about 600 ° C. must be used. As a result, there are many problems in terms of adhesive strength and solder wetting. Finally, as a third method, there is a method of using copper electrodes for the inner layer and the uppermost layer (JP-A-55-128899). This method is the best in terms of conductor resistance, solder wettability, and cost, but it must be fired in a neutral atmosphere such as nitrogen, and its manufacture is difficult. Generally, in order to use a copper electrode, a wiring pattern is formed by screen-printing a copper paste on a substrate, and after drying, the temperature is below the melting point of copper (850 to 950 ° C.) and the conductor paste is not oxidized. Firing is performed in a nitrogen atmosphere in which the oxygen partial pressure is controlled so that the organic components therein are sufficiently burned. When laminated in multiple layers, it is obtained by printing and baking the insulating layer under the same conditions. However, it is difficult to control the atmosphere in the firing process under an appropriate oxygen partial pressure, and when multilayering, it is necessary to repeat firing each time after printing each paste, which leads to a long lead time and cost of equipment. It has issues such as improvement. Therefore, Japanese Patent Publication No. 03-20914 has already disclosed a method of producing a ceramic multilayer substrate by using a cupric oxide paste in three steps of a binder removal step, a reduction step and a firing step. It uses cupric oxide as the starting material of the conductor to make a multilayer body, and in the binder removal step, heat treatment is performed in a sufficient oxygen atmosphere for carbon and at a temperature sufficient to thermally decompose the organic binder inside. Then, it is established by the reduction step of reducing cupric oxide to copper and the firing step of sintering the substrate. This facilitated the control of the atmosphere during firing and made it possible to obtain a dense sintered body.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の多層セラミック基板の製造方法によって作られる製
品には以下に示すような課題がある。
However, the products produced by the conventional method for manufacturing a multilayer ceramic substrate described above have the following problems.

【0006】すなわち多層セラミック基板を焼成すると
きに焼結に伴う収縮が生じることである。この焼結に伴
う収縮は使用する基板材料、グリーンシート組成、粉体
ロットなどにより異なる。これにより多層セラミック基
板の作製においていくつかの問題が生じてくる。まず第
1に多層セラミック基板の作製において前述のように内
層配線の焼成を行なってから最上層配線の形成を行なう
ため、基板材料の収縮誤差が大きいと最上層配線パター
ンと寸法誤差のため内層電極との接続を行なうことがで
きない。その結果、収縮誤差を予め許容するように最上
層配線部分に必要以上の大きい面積のランドを形成しな
ければならず、高密度の配線を必要とする回路には使用
できない。また収縮誤差にあわせて最上層配線のための
スクリーン版をいくつか用意しておき、基板の収縮率に
応じて使用する方法がとられている。この方法ではスク
リーン版を数多く用意しなければならず不経済である。
That is, shrinkage occurs due to sintering when firing a multilayer ceramic substrate. The shrinkage due to the sintering depends on the substrate material used, the green sheet composition, the powder lot, and the like. This causes some problems in the production of multilayer ceramic substrates. First, in manufacturing a multilayer ceramic substrate, the inner layer wiring is fired as described above and then the uppermost layer wiring is formed. Therefore, if the shrinkage error of the substrate material is large, the inner layer electrode is dimensional error due to the uppermost layer wiring pattern. Cannot connect with. As a result, a land having an unnecessarily large area has to be formed in the uppermost wiring portion so as to allow the shrinkage error in advance, and it cannot be used in a circuit that requires high-density wiring. In addition, a method is used in which several screen plates for the uppermost layer wiring are prepared according to the shrinkage error and are used according to the shrinkage rate of the substrate. This method is uneconomical because many screen versions must be prepared.

【0007】しかしながら、最上層配線を内層焼成と同
時に行なうことができれば大きなランドを必要としない
が、この同時焼成法によっても基板そのものの収縮誤差
はそのまま存在するので最後の部品搭載時のクリーム半
田印刷において、その誤差のため必要な部分に印刷でき
ない場合が起こる。また部品実装においても所定の部品
位置とのずれが起こる。
However, if the uppermost layer wiring can be performed at the same time as the inner layer firing, a large land is not required. However, even with this simultaneous firing method, the shrinkage error of the substrate itself still exists, so the cream solder printing at the time of the last component mounting. In the above, there occurs a case where the necessary portion cannot be printed due to the error. Also, when mounting components, a deviation from a predetermined component position occurs.

【0008】第2にグリーンシート積層法による多層セ
ラミック基板は、グリーンシートの造膜方向によって幅
方向と長手方向の収縮率が異なる。このことも多層セラ
ミック基板の作製の障害となっている。
Secondly, the multilayer ceramic substrate produced by the green sheet laminating method has different shrinkage rates in the width direction and the longitudinal direction depending on the film forming direction of the green sheet. This is also an obstacle to the production of the multilayer ceramic substrate.

【0009】これらの収縮誤差をなるべく少なくするた
めには、製造工程において基板材料およびグリーンシー
ト組成の管理、粉体ロットの違いや積層条件(プレス圧
力、温度)を十分管理しなければならない。しかしなが
ら、一般に収縮率の誤差は±0.5%程度存在すると言
われている。
In order to reduce these shrinkage errors as much as possible, it is necessary to sufficiently control the substrate material and the green sheet composition, the difference in powder lot, and the lamination conditions (pressing pressure, temperature) in the manufacturing process. However, it is generally said that the shrinkage ratio error is about ± 0.5%.

【0010】このことは多層セラミック基板にかかわら
ずセラミック、およびガラス・セラミックの焼結を伴う
ものに共通の課題となっている。
This is a common problem with ceramics and glass-ceramics, regardless of the multilayer ceramic substrate.

【0011】本発明はこのような課題を解決するもので
あり、基板材料の焼結が厚み方向だけ起こり、平面方向
の収縮が起こらない優れた多層セラミック基板の製造方
法を提供することを目的とする。
The present invention is intended to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an excellent method for producing a multilayer ceramic substrate in which sintering of the substrate material occurs only in the thickness direction and shrinkage in the plane direction does not occur. To do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、導体ペースト組成物でパターニングした少な
くとも有機バインダ、可塑剤を含むガラス・セラミック
よりなるグリーンシートを必要枚数積層し、このグリー
ンシート積層体の両面にガラス・セラミック基板材料の
焼結温度では焼結しない無機成分を主成分とするペース
ト組成物でグリーンシート積層体の表面の一部もしくは
全体に無機成分層を形成し、グリーンシート積層体を焼
成した後、焼結しない無機成分層を取り除くものであ
る。
In order to achieve the above object, the present invention laminates a required number of green sheets made of a glass / ceramic containing at least an organic binder and a plasticizer which are patterned with a conductor paste composition. Green sheet A green sheet is formed on both sides of the laminate by using a paste composition whose main component is an inorganic component that does not sinter at the sintering temperature of the glass / ceramic substrate material. After firing the laminate, the non-sintered inorganic component layer is removed.

【0013】[0013]

【作用】したがって本発明によれば、ガラス・セラミッ
クよりなるグリーンシートの積層体を焼成するときに厚
み方向だけ収縮し、平面方向には収縮することがなく、
寸法精度に優れた多層セラミック基板を得ることができ
る。
Therefore, according to the present invention, when the laminated body of the green sheets made of glass / ceramic is fired, it shrinks only in the thickness direction and does not shrink in the plane direction.
It is possible to obtain a multilayer ceramic substrate having excellent dimensional accuracy.

【0014】以下に本発明の作用を説明する。まず本発
明の製造方法は、ガラス・セラミックよりなる低温焼結
基板材料に少なくとも有機バインダ、可塑剤を含むグリ
ーンシートを作製し、導体ペースト組成物で電極パター
ンを形成し、このグリーンシートとは別の電極パターン
形成済みグリーンシートとを所望枚数積層して多層化
し、所定の未焼結多層体を得る。そしてこのガラス・セ
ラミックよりなるグリーンシート積層体の両面にこのガ
ラス・セラミック低温焼結基板材料の焼成温度では焼結
しない無機成分を主成分とするペースト組成物をその積
層体の表面の一部もしくは全体に塗布して無機成分層を
形成する。これにより積層体を焼成しても焼結しない無
機成分層がグリーンシート積層体の平面方向の収縮を抑
制し、厚み方向以外は収縮が起こらない。これは両面に
形成した焼結しない材料で挟み込まれているため、平面
方向の収縮が阻止されるとともにガラス・セラミックよ
りなるグリーンシート積層体中のガラス軟化のため厚み
方向だけ収縮が起こる。この後、不必要な焼結しない無
機成分層を取り除けば、所望の多層セラミック基板が得
られるのである。
The operation of the present invention will be described below. First, in the manufacturing method of the present invention, a green sheet containing at least an organic binder and a plasticizer is prepared on a low temperature sintered substrate material made of glass / ceramic, and an electrode pattern is formed with a conductor paste composition. The desired green multilayer body is obtained by laminating a desired number of the electrode pattern-formed green sheets of (1) to form a multilayer. Then, a paste composition containing an inorganic component as a main component which does not sinter at the firing temperature of the glass / ceramic low-temperature sintering substrate material is formed on a part of the surface of the laminate or on both surfaces of the glass / ceramic green sheet laminate. It is applied over the entire surface to form an inorganic component layer. As a result, the inorganic component layer that does not sinter even if the laminate is fired suppresses shrinkage in the plane direction of the green sheet laminate, and does not shrink except in the thickness direction. Since it is sandwiched by the non-sinterable materials formed on both sides, contraction in the plane direction is prevented, and contraction occurs only in the thickness direction due to softening of the glass in the green sheet laminate made of glass-ceramic. After that, the unnecessary non-sintering inorganic component layer is removed to obtain a desired multilayer ceramic substrate.

【0015】上記のガラス・セラミックよりなるグリー
ンシート積層体の焼成は通常800℃〜1000℃の範
囲で行なわれる。銅電極、銀電極を使用する場合は90
0℃で行なうことが望ましい。またガラス・セラミック
基板材料の焼成温度では焼結しないペースト組成物の無
機成分はAl23、MgO、ZrO2、TiO2、Be
O、BNの内少なくとも1種を含む成分からなる。90
0℃の焼成温度で行なうガラス・セラミック基板材料に
は、Al23が最も有効である。
The firing of the green sheet laminate made of the above glass / ceramic is usually performed in the range of 800 ° C to 1000 ° C. 90 when using copper or silver electrodes
It is desirable to carry out at 0 ° C. The inorganic components of the paste composition that do not sinter at the firing temperature of the glass / ceramic substrate material are Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , and Be.
It is composed of a component containing at least one of O and BN. 90
Al 2 O 3 is most effective for the glass-ceramic substrate material that is performed at a firing temperature of 0 ° C.

【0016】[0016]

【実施例】以下本発明の一実施例について、図面を参照
しながら説明する。図1は本発明の一実施例の多層セラ
ミック基板の製造方法におけるグリーンシート積層体に
焼結しないペースト組成物で塗布膜を形成した場合の断
面図であり、図において1はグリーンシート、2は無機
成分層、3は内部電極である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view when a coating film is formed on a green sheet laminate by a paste composition that does not sinter in a method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to an embodiment of the present invention. The inorganic component layers 3 are internal electrodes.

【0017】(実施例1)つぎに多層セラミック基板の
製造方法の第1の実施例について説明する。
(Embodiment 1) Next, a first embodiment of the method for manufacturing a multilayer ceramic substrate will be described.

【0018】基板材料のガラス・セラミックにはホウ珪
酸鉛ガラス粉末にセラミック材料としてのアルミナ粉末
を重量比で50対50とした組成物(日本電気硝子社製
MLS−19)を用いた。このガラス・セラミック粉
を無機成分とし、有機バインダとしてポリビニルブチラ
ール、可塑剤としてヂ−n−ブチルフタレート、溶剤と
してトルエンとイソプロピルアルコールの混合液(30
対70重量比)を使用し、これらを混合してスラリーと
した。
As the glass / ceramic of the substrate material, a composition (MLS-19 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) was used in which lead borosilicate glass powder and alumina powder as a ceramic material were mixed in a weight ratio of 50:50. This glass / ceramic powder as an inorganic component, polyvinyl butyral as an organic binder, di-n-butyl phthalate as a plasticizer, and a mixed solution of toluene and isopropyl alcohol (30
(70 weight ratio), and these were mixed into a slurry.

【0019】このスラリーをドクターブレード法で有機
フィルム上にシート成形した。このとき、造膜から乾
燥、打ち抜き、さらには必要に応じてバイアホール加工
を行なう各工程を連続的に行なうシステムを使用した。
こうして得られたグリーンシート1に導体ペーストを用
いて内部電極3の形成およびビアホール埋め印刷をスク
リーン印刷法によって行なった。導体ペーストはAg粉
末(平均粒径1μm)に接着強度を得るためのガラスフ
リット(日本電気硝子社製 GA−9ガラス粉末、平均
粒径2.5μm)を5wt%加えたものを無機成分と
し、有機バインダとしてポリビニルブチラールをターピ
ネオールに溶かしたものを用い、この無機成分と有機バ
インダを3段ロールにより適度な粘度になるように混合
した。またビア埋め用のAgペーストは上記の導体ペー
ストに無機成分として前記のガラス・セラミック粉末を
さらに15重量%加えたものを使用して用いた。
This slurry was formed into a sheet on an organic film by the doctor blade method. At this time, a system was used in which the steps of drying, punching, and if necessary, via hole processing were continuously performed from the film formation.
On the green sheet 1 thus obtained, the internal electrodes 3 were formed and the via hole filling printing was performed by a screen printing method using a conductor paste. The conductor paste was made by adding 5 wt% of glass frit (GA-9 glass powder manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., average particle size 2.5 μm) for obtaining adhesive strength to Ag powder (average particle size 1 μm) as an inorganic component, As the organic binder, polyvinyl butyral dissolved in terpineol was used, and the inorganic component and the organic binder were mixed with a three-stage roll so as to have an appropriate viscosity. The Ag paste for filling the via was used by adding 15% by weight of the above-mentioned glass-ceramic powder as an inorganic component to the above-mentioned conductor paste.

【0020】つぎに焼結の起こらないペースト組成物は
無機成分としてアルミナ(住友アルミ社製 ALM−4
1 平均粒径1.9μm)粉末のみを用い、有機バイン
ダとしてエチルセルロースをターピネオールに溶かし、
これをアルミナ粉末に加えて、3段ロールを用いて適度
な粘度になるように混合して作製した。
Next, the paste composition which does not cause sintering does not contain alumina as an inorganic component (ALM-4 manufactured by Sumitomo Aluminum Co., Ltd.).
1 average particle size 1.9 μm) using only powder, and dissolving ethyl cellulose in terpineol as an organic binder,
This was added to alumina powder and mixed using a three-stage roll so as to have an appropriate viscosity.

【0021】まず基板用のグリーンシート1に内部電極
3を印刷したものを所定の枚数積み重ね、この状態で熱
圧着してグリーンシート積層体を形成した。熱圧着条件
は温度が80℃、圧力は200kg/cm2とした。また基
板用のグリーンシート1の厚みは約200μmに設定し
た。つぎにこのグリーンシート積層体の両面にアルミナ
よりなるペースト組成物をメッシュ数200メッシュ、
乳剤厚30μmのスクリーン版を使用し、2回印刷す
る。その結果、ペースト組成物の塗布層の厚みは約10
0μmとなった。このグリーンシート積層体を50℃、
10分で乾燥させ、その後グリーンシート積層体表面が
アルミナペーストで覆われていない部分を除くため前記
積層体を切断する。
First, a predetermined number of printed sheets of the internal electrodes 3 were stacked on the green sheet 1 for a substrate, and thermocompression bonding was performed in this state to form a green sheet laminate. The thermocompression bonding conditions were a temperature of 80 ° C. and a pressure of 200 kg / cm 2 . The thickness of the green sheet 1 for the substrate was set to about 200 μm. Next, a paste composition made of alumina was applied to both surfaces of the green sheet laminate to obtain a mesh number of 200 mesh,
Print twice using a screen plate with an emulsion thickness of 30 μm. As a result, the thickness of the coating layer of the paste composition was about 10
It became 0 μm. This green sheet laminate is
The laminate is dried for 10 minutes, and then the laminate is cut in order to remove the portion where the surface of the green sheet laminate is not covered with the alumina paste.

【0022】つぎにグリーンシート積層体をアルミナ9
6%含有の基板上に乗せ、ベルト炉により空気中におい
て900℃で1時間焼成した(900℃における保持時
間は約12分である。)。
Next, the green sheet laminated body was treated with alumina 9
It was placed on a substrate containing 6% and baked in a belt furnace in air at 900 ° C. for 1 hour (holding time at 900 ° C. is about 12 minutes).

【0023】焼成後の得られた多層セラミック基板の表
面には未焼結のアルミナ層2が存在するため、酢酸ブチ
ル溶剤中で超音波洗浄を行なったところアルミナ層2を
きれいに取り除くことができた。この焼成後の多層セラ
ミック基板の収縮率は0.1%以下であった。
Since the unsintered alumina layer 2 exists on the surface of the obtained multilayer ceramic substrate after firing, the alumina layer 2 could be removed cleanly by ultrasonic cleaning in a butyl acetate solvent. .. The shrinkage rate of the multilayer ceramic substrate after firing was 0.1% or less.

【0024】またアルミナ層2の厚みを10μmから3
00μmまで変えて多層セラミック基板を作製し、それ
ぞれ収縮率を測定した。その結果10μmでは収縮率が
約5%、15μmでは約1%、20μmでは約0.6
%、50μmでは約0.2%、100μmでは約0.0
8%、200μmでは約0.05%、300μmでは約
0.05%、400μmでは約0.05%であった。こ
れらの結果よりアルミナ層2の厚さが15μm以上で収
縮率が1%以下となり、平面方向の収縮がほとんど起こ
らない多層セラミック基板を作製することができた。し
かしコスト的にみるとアルミナ層2の厚さが400μm
のものはあまり有効ではなく、その層厚さが15μmか
ら300μmの範囲のものが望ましい。また印刷用のス
クリーン版の作製コストなどを考慮すると、アルミナ層
2の厚さが50μmから300μmのものが最適であ
る。
The thickness of the alumina layer 2 is 10 μm to 3 μm.
A multilayer ceramic substrate was prepared by changing the thickness to 00 μm, and the shrinkage rate was measured for each. As a result, the shrinkage is about 5% at 10 μm, about 1% at 15 μm, and about 0.6 at 20 μm.
%, About 0.2% at 50 μm, about 0.0 at 100 μm
It was about 0.05% at 8% and 200 μm, about 0.05% at 300 μm, and about 0.05% at 400 μm. From these results, it was possible to produce a multilayer ceramic substrate in which the thickness of the alumina layer 2 was 15 μm or more and the shrinkage rate was 1% or less, and shrinkage in the planar direction hardly occurred. However, in terms of cost, the thickness of the alumina layer 2 is 400 μm.
However, those having a layer thickness in the range of 15 μm to 300 μm are desirable. Further, considering the production cost of the screen plate for printing and the like, the alumina layer 2 having the thickness of 50 μm to 300 μm is optimal.

【0025】このようにして作製した多層セラミック基
板に銀・パラジウムペーストを用いて最上層の配線パタ
ーンをスクリーン印刷し、乾燥、焼成を行なったところ
印刷ずれはほとんど発生しなかった。
When the uppermost wiring pattern was screen-printed on the thus-prepared multilayer ceramic substrate using silver / palladium paste and dried and fired, print misalignment hardly occurred.

【0026】なお本実施例においては無機成分層として
Al23を用いたが、その他MgO、ZrO2、Ti
2、BeO、BNを用いたペースト組成物においても
同様の効果が得られた。
Although Al 2 O 3 is used as the inorganic component layer in this embodiment, other components such as MgO, ZrO 2 and Ti are used.
Similar effects were obtained also in the paste composition using O 2 , BeO, and BN.

【0027】(実施例2)つぎに本発明の第2の実施例
について説明する。図2は本実施例の製造方法の一段階
における多層セラミック基板の断面を示すものであり、
第1の実施例と同一番号を使用して説明する。
(Embodiment 2) Next, a second embodiment of the present invention will be described. FIG. 2 shows a cross section of the multilayer ceramic substrate in one stage of the manufacturing method of this embodiment.
Description will be given using the same numbers as in the first embodiment.

【0028】本実施例が第1の実施例と異なる点は焼結
の起こらないペースト組成物をグリーンシート積層体の
表面に塗布する方法としてスクリーン印刷法に代えて浸
漬塗布を行なった点にあり、その他の工程や使用材料は
第1の実施例の場合に準じた。
This example differs from the first example in that the paste composition which does not sinter is applied to the surface of the green sheet laminate by dip coating instead of screen printing. The other steps and materials used were the same as those in the first embodiment.

【0029】すなわち第1の実施例の場合と同様に作製
したグリーンシート積層体をペースト組成物で満たされ
た槽に浸した後、50℃、10分で乾燥した。図2にデ
ィップ後のグリーンシート積層体を示すが図1と異なる
点は塗布を浸漬法で行なったためアルミナ層2がグリー
ンシート1の側面にも形成されている点である。
That is, the green sheet laminate produced in the same manner as in the first embodiment was dipped in a tank filled with the paste composition and then dried at 50 ° C. for 10 minutes. FIG. 2 shows the green sheet laminated body after the dipping, but the difference from FIG. 1 is that the alumina layer 2 is formed on the side surface of the green sheet 1 because the coating is performed by the dipping method.

【0030】またグリーンシート積層体を焼成する工程
も第1の実施例の場合と同様である。
The step of firing the green sheet laminate is also the same as in the case of the first embodiment.

【0031】この焼成後の多層セラミック基板の収縮率
は第1の実施例の場合と同じく0.1%以下であった。
またこのようにして作製した多層セラミック基板に銀・
パラジウムペーストを用いて最上層の配線パターンをス
クリーン印刷し、乾燥、焼成を行なったところ、印刷ず
れはほとんど発生しなかった。
The shrinkage rate of the multilayer ceramic substrate after firing was 0.1% or less as in the case of the first embodiment.
In addition, silver
When the uppermost wiring pattern was screen-printed using a palladium paste and dried and fired, print misalignment hardly occurred.

【0032】(実施例3)つぎに本発明の第3の実施例
について説明する。本実施例においてもグリーンシート
1の作製は第1の実施例と同様に行ない、導体ペースト
に第1の実施例におけるAgに代えてCuOを使用した
導体ペーストを用いて内部電極3の形成およびビアホー
ル埋め印刷をスクリーン印刷法によって行なった。導体
ペーストはCuO粉末(平均粒径3μm)に接着強度を
得るためのガラスフリット(日本電気硝子社製 LS−
0803ガラス粉末、平均粒径2.5μm)を3wt%
加えたものを無機成分とし、有機バインダとしてエチル
セルロースをターピネオールに溶かしたものを用い、こ
の無機成分と有機バインダを3段ロールにより適度な粘
度になるように混合した。またビア埋め用のCuOペー
ストは上記の導体ペーストに無機成分として前記のガラ
ス・セラミック粉末をさらに15重量%加えたものを使
用して用いた。
(Embodiment 3) Next, a third embodiment of the present invention will be described. Also in this embodiment, the green sheet 1 is manufactured in the same manner as in the first embodiment, and the conductor paste using CuO instead of Ag in the first embodiment is used for the formation of the internal electrode 3 and the via hole. The pad printing was performed by the screen printing method. The conductor paste is a glass frit (LS-made by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) for obtaining adhesive strength to CuO powder (average particle size 3 μm).
0803 glass powder, average particle size 2.5 μm) 3 wt%
The added component was used as an inorganic component, and ethyl cellulose was dissolved in terpineol as an organic binder, and the inorganic component and the organic binder were mixed with a three-stage roll so as to have an appropriate viscosity. The CuO paste for filling the via was used by adding 15% by weight of the above glass-ceramic powder as an inorganic component to the above conductor paste.

【0033】つぎに焼結の起こらないペースト組成物は
無機成分として酸化ベリリウム(関東化学社製 平均粒
径1μm)粉末のみを用い、有機バインダとしてポリビ
ニルブチラール樹脂(PVB)をターピネオールに溶か
し、これを酸化ベリリウム粉末に加えて、3段ロールに
より適度な粘度(150Pa.s)になるように混合し
て作製した。
Next, for the paste composition that does not sinter, only beryllium oxide (average particle size: 1 μm, manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) powder was used as an inorganic component, and polyvinyl butyral resin (PVB) was dissolved in terpineol as an organic binder. In addition to the beryllium oxide powder, it was prepared by mixing with a three-stage roll so as to have an appropriate viscosity (150 Pa.s).

【0034】まず基板用のグリーンシート1に内部電極
3を印刷したものを所定の枚数積み重ね、この状態で熱
圧着してグリーンシート積層体を形成した。熱圧着条件
は温度が80℃、圧力は200kg/cm2とした。また基
板用のグリーンシート1の厚みは約200μmに設定し
た。つぎにこのグリーンシート積層体の両面に酸化ベリ
リウムよりなるペースト組成物をメッシュ数200メッ
シュ、乳剤厚30μmのスクリーン版を使用し、2回印
刷した。その結果、ペースト組成物の塗布層の厚みは約
100μm程度となった。このグリーンシート積層体を
50℃、10分で乾燥させ、その後グリーンシート積層
体表面が酸化ベリリウムペーストで覆われるように前記
積層体を切断した。
First, a predetermined number of sheets of the substrate green sheet 1 on which the internal electrodes 3 were printed were stacked and thermocompression bonded in this state to form a green sheet laminate. The thermocompression bonding conditions were a temperature of 80 ° C. and a pressure of 200 kg / cm 2 . The thickness of the green sheet 1 for the substrate was set to about 200 μm. Next, the paste composition made of beryllium oxide was printed on both sides of the green sheet laminate twice using a screen plate having a mesh number of 200 mesh and an emulsion thickness of 30 μm. As a result, the thickness of the coating layer of the paste composition was about 100 μm. The green sheet laminate was dried at 50 ° C. for 10 minutes, and then the laminate was cut so that the surface of the green sheet laminate was covered with the beryllium oxide paste.

【0035】つぎに焼成の工程について説明する。まず
最初は脱バインダ工程である。発明に使用したグリーン
シート、CuOペースト、酸化ベリリウムペーストの有
機バインダはポリビニルブチラールまたはエチルセルロ
ースであり、したがって空気中での分解温度は500℃
以上あれば良いので600℃の温度で行なった。その後
前記のグリーンシート積層体を水素ガス100%雰囲気
中で200℃−5時間で還元した。この時のCu層をX
線回折により分析したところ100%Cuであることを
確認した。次に焼成工程は純窒素ガス中で900℃にて
メッシュベルト炉で焼成した。
Next, the firing process will be described. The first is a binder removal process. The organic binder of the green sheet, CuO paste, and beryllium oxide paste used in the invention is polyvinyl butyral or ethyl cellulose, so that the decomposition temperature in air is 500 ° C.
Since the above conditions are sufficient, the temperature was set to 600 ° C. Thereafter, the green sheet laminate was reduced at 200 ° C. for 5 hours in a 100% hydrogen gas atmosphere. The Cu layer at this time is X
An analysis by line diffraction confirmed that it was 100% Cu. Next, in the firing step, firing was carried out in a mesh belt furnace at 900 ° C. in pure nitrogen gas.

【0036】以上のようにして作製した多層セラミック
基板の表面の酸化ベリリウム層を実施例1と同様超音波
洗浄にて取り除き収縮率を評価したところ、0.05%
以下の収縮であった。
The beryllium oxide layer on the surface of the multilayer ceramic substrate produced as described above was removed by ultrasonic cleaning in the same manner as in Example 1, and the shrinkage rate was evaluated to be 0.05%.
The shrinkage was as follows.

【0037】本実施例においても多層セラミック基板の
最上層に銅ペーストを用いて印刷、焼成を行なったとこ
ろ、印刷ずれなどは発生しなかった。
Also in this example, when the uppermost layer of the multilayer ceramic substrate was printed and fired using the copper paste, no printing misalignment occurred.

【0038】なお本実施例では無機成分層の材料として
BeOを用いたが、その他Al23、MgO、Zr
2、TiO2、BNを用いたペースト組成物においても
同様の効果が得られた。またペースト組成物を両面に形
成して焼成時に荷重を加えても同様の効果が得られた。
ただし両面に塗布するペースト組成物の表裏面の厚みを
異なるように形成すると基板の反りが発生しやすい。
In this example, BeO was used as the material of the inorganic component layer, but other materials such as Al 2 O 3 , MgO and Zr were used.
Similar effects were obtained with a paste composition using O 2 , TiO 2 , and BN. The same effect was obtained even when the paste composition was formed on both sides and a load was applied during firing.
However, when the paste compositions applied to both surfaces are formed to have different thicknesses on the front and back surfaces, the warp of the substrate is likely to occur.

【0039】また最上層の配線パターンの形成を基板焼
成後に行なったが、最上層配線用の導体ペーストをあら
かじめグリーンシート上に印刷し、同時焼成しても同様
の効果が得られることは云うまでもない。
Further, the wiring pattern of the uppermost layer was formed after firing the substrate, but it is needless to say that the same effect can be obtained by printing the conductor paste for the uppermost layer wiring on the green sheet in advance and simultaneously firing it. Nor.

【0040】以上のように本発明は、多層セラミック基
板の作製工程において焼結の起こらない無機成分からな
る塗布膜の層を設け基板焼成を行なうと、焼結による収
縮が平面方向で全く起こらない多層セラミック基板が得
られる。本方法はセラミック多層配線基板だけでなく積
層セラミックコンデンサや収縮率の安定性が要求される
セラミック構造材料などに応用できることは云うまでも
ない。
As described above, according to the present invention, when a layer of a coating film made of an inorganic component that does not sinter in the manufacturing process of a multilayer ceramic substrate is provided and the substrate is fired, shrinkage due to sintering does not occur in the plane direction at all. A multilayer ceramic substrate is obtained. It goes without saying that this method can be applied not only to a ceramic multilayer wiring board, but also to a laminated ceramic capacitor, a ceramic structural material that requires stability of shrinkage, and the like.

【0041】(実施例4)つぎに本発明の第4の実施例
について説明する。本実施例ではグリーンシート1の作
製は実施例1と同様の材料および工程を用いて実施し、
内部電極3の形成およびビアホール埋め印刷は第3の実
施例の場合と同様にCuOを使用した導体ペーストを用
いて実施した。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, the green sheet 1 is manufactured by using the same materials and processes as those in the first embodiment.
The formation of the internal electrode 3 and the via hole filling printing were carried out by using a conductor paste using CuO as in the case of the third embodiment.

【0042】さらに焼結の起こらないペースト組成物の
作製も第3の実施例に準じて行なった。
Further, the production of a paste composition which does not cause sintering is also carried out according to the third embodiment.

【0043】まず基板用のグリーンシート1に内部電極
3を印刷したものを所定の枚数積み重ね、この状態で熱
圧着してグリーンシート積層体を形成した。熱圧着条件
は温度が80℃、圧力は200kg/cm2とした。また基
板用のグリーンシート1の厚みは約200μmに設定し
た。さらにその表面上にでている電極部分を残すように
グリーンシート積層体の両面に酸化ベリリウムよりなる
ペースト組成物をメッシュ数200メッシュ、乳剤厚3
0μmのスクリーン版を使用し、2回印刷した。その結
果、ペースト組成物の塗布層の厚みは約100μm程度
となった。このグリーンシート積層体を50℃、10分
で乾燥させ、その後グリーンシート積層体表面が酸化ベ
リリウムペーストで覆われるように前記積層体を切断し
た。その後の焼成工程は第3の実施例の場合に準じて実
施した。
First, a predetermined number of printed sheets of the internal electrodes 3 were stacked on the green sheet 1 for the substrate, and thermocompression bonding was performed in this state to form a green sheet laminate. The thermocompression bonding conditions were a temperature of 80 ° C. and a pressure of 200 kg / cm 2 . The thickness of the green sheet 1 for the substrate was set to about 200 μm. Further, a paste composition made of beryllium oxide was applied to both surfaces of the green sheet laminate so as to leave the electrode portions exposed on the surface thereof, the number of meshes was 200 mesh, and the emulsion thickness was 3
Printing was performed twice using a 0 μm screen plate. As a result, the thickness of the coating layer of the paste composition was about 100 μm. The green sheet laminate was dried at 50 ° C. for 10 minutes, and then the laminate was cut so that the surface of the green sheet laminate was covered with the beryllium oxide paste. The subsequent firing step was performed according to the case of the third embodiment.

【0044】以上のようにして作製した多層セラミック
基板の表面の酸化ベリリウム層を実施例1と同様超音波
洗浄にて取り除き収縮率を評価したところ、0.05%
以下の収縮であった。
The beryllium oxide layer on the surface of the multilayer ceramic substrate produced as described above was removed by ultrasonic cleaning in the same manner as in Example 1, and the shrinkage rate was evaluated to be 0.05%.
The shrinkage was as follows.

【0045】さらに多層セラミック基板の最上層に銅ペ
ーストを用いて印刷、焼成を行なった。本実施例では表
面にでている電極部分を残すようにペースト組成物を印
刷したので電極部分にペースト組成物の付着がなかっ
た。そのため最上層に印刷した銅ペーストと電極部分と
の接合が良好な多層セラミック基板を得ることができ
た。
Further, the uppermost layer of the multilayer ceramic substrate was printed and baked using a copper paste. In this example, the paste composition was printed so as to leave the electrode portion exposed on the surface, so that the paste composition did not adhere to the electrode portion. Therefore, it was possible to obtain a multilayer ceramic substrate in which the copper paste printed on the uppermost layer and the electrode portion were joined well.

【0046】また最上層の配線パターンの形成を基板焼
成後に行なったが、最上層配線用の導体ペーストをあら
かじめグリーンシート上に印刷した同時焼成のような場
合においても、部品実装などの面からパターンの一部を
避けて無機組成物を印刷する方法は有効である。
Although the wiring pattern of the uppermost layer is formed after firing the substrate, even in the case of simultaneous firing in which the conductor paste for the uppermost wiring is printed on the green sheet in advance, the pattern can be mounted from the aspect of component mounting. The method of printing the inorganic composition while avoiding a part of the above is effective.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明は上記実施例より明らかなよう
に、焼結しない無機成分を主成分とするペースト組成物
によりグリーンシート積層体の表面に無機成分層を形成
し、焼成した後この無機成分層を取り除くという工程を
経ているためにセラミック基板が焼成するとき厚み方向
だけ収縮し、平面方向には収縮しないことによりセラミ
ック基板に使用する基板材料、グリーンシート組成、粉
体ロットなどに依存せず常に同一寸法のセラミック基板
を得ることができる。同様に多層セラミック基板の作製
においても前述のごとく内層配線の焼成を行なってから
最上層配線の形成を行なうことにより、最上層配線パタ
ーンと内層配線との接続を完全に行なうことができる。
その結果、接続用のランド面積を小さくでき、部品の高
密度実装が可能な多層セラミック基板が得られる。さら
にスクリーン版が少なくて済み、基板設計において収縮
率を考慮して内層パターンを拡大するような作業の必要
がないので経済的である。
As is apparent from the above examples, the present invention forms an inorganic component layer on the surface of a green sheet laminate by using a paste composition containing an inorganic component that is not sintered as a main component, and after firing this inorganic component layer. Since the ceramic substrate shrinks only in the thickness direction and does not shrink in the planar direction when it is fired because it has undergone the process of removing the component layers, it depends on the substrate material, green sheet composition, powder lot, etc. used for the ceramic substrate. It is possible to always obtain a ceramic substrate having the same size. Similarly, also in the production of the multilayer ceramic substrate, the innermost layer wiring is baked and the uppermost layer wiring is formed as described above, whereby the uppermost layer wiring pattern and the inner layer wiring can be completely connected.
As a result, it is possible to obtain a multilayer ceramic substrate in which the land area for connection can be reduced and which enables high-density mounting of components. Further, the number of screen plates is small, and it is economical because there is no need to expand the inner layer pattern in consideration of shrinkage in the board design.

【0048】以上のようにグリーンシート積層法による
多層セラミック基板の製造方法における最大の欠点であ
った収縮誤差の課題を極めて有効に解決することができ
る。
As described above, it is possible to very effectively solve the problem of shrinkage error, which is the greatest drawback in the method for manufacturing a multilayer ceramic substrate by the green sheet laminating method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例におけるグリーンシート
積層体の断面図
FIG. 1 is a sectional view of a green sheet laminate according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施例における浸漬塗布による
無機成分層形成後のグリーンシート積層体の断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a green sheet laminate after formation of an inorganic component layer by dip coating in the second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 グリーンシート 2 アルミナ層(無機成分層) 3 内部電極(配線) 1 Green sheet 2 Alumina layer (inorganic component layer) 3 Internal electrode (wiring)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 箱谷 靖彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 三浦 和裕 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasuhiko Hakotani 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Prefecture Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. (72) Kazuhiro Miura, 1006 Kadoma, Kadoma City, Osaka Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】導体ペースト組成物で配線をパターニング
した少なくとも有機バインダ、可塑剤を含むガラス・セ
ラミックよりなるグリーンシートを必要枚数積層し、こ
のグリーンシート積層体の両面に前記ガラス・セラミッ
ク基板材料の焼結温度では焼結しない無機成分を主成分
とするペースト組成物により前記グリーンシート積層体
の表面の一部もしくは全体に無機成分層を形成し、前記
グリーンシート積層体を焼成した後、焼結しない前記無
機成分層を取り除くことを特徴とする多層セラミック基
板の製造方法。
1. A required number of green sheets made of glass / ceramic containing at least an organic binder and a plasticizer in which wiring is patterned with a conductor paste composition are laminated, and the glass / ceramic substrate material of the glass / ceramic substrate material is provided on both sides of the green sheet laminate. An inorganic component layer is formed on a part or the whole of the surface of the green sheet laminate by using a paste composition containing an inorganic component as a main component which is not sintered at a sintering temperature, and the green sheet laminate is fired and then sintered. A method for manufacturing a multilayer ceramic substrate, characterized in that the inorganic component layer is removed.
【請求項2】ガラス・セラミック基板材料の焼結温度で
は焼結しない無機成分を主成分とするペースト組成物を
スクリーン印刷法によりグリーンシート積層体上に印刷
し、乾燥の後、所定の寸法で前記グリーンシート積層体
を切断することを特徴とする請求項1記載の多層セラミ
ック基板の製造方法。
2. A paste composition containing an inorganic component as a main component, which does not sinter at a sintering temperature of a glass / ceramic substrate material, is printed on a green sheet laminate by a screen printing method, and after drying, a predetermined size is obtained. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the green sheet laminate is cut.
【請求項3】ガラス・セラミック基板材料の焼結温度で
は焼結しない無機成分を主成分とするペースト組成物を
浸漬塗布によりグリーンシート積層体の表面全体に形成
することを特徴とする請求項1記載の多層セラミック基
板の製造方法。
3. A paste composition containing an inorganic component as a main component, which does not sinter at the sintering temperature of the glass / ceramic substrate material, is formed on the entire surface of the green sheet laminate by dip coating. A method for manufacturing the multilayer ceramic substrate described.
【請求項4】グリーンシート積層体表面にガラス・セラ
ミック基板材料の焼結温度では焼結しない無機成分を主
成分とするペースト組成物の塗布膜を厚さ15μm〜3
00μmの範囲で形成することを特徴とする請求項1記
載の多層セラミック基板の製造方法。
4. A coating film of a paste composition whose main component is an inorganic component which does not sinter at the sintering temperature of a glass / ceramic substrate material, is formed on the surface of the green sheet laminate in a thickness of 15 μm to 3 μm.
The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the multilayer ceramic substrate is formed in a range of 00 μm.
【請求項5】グリーンシート積層体表面に形成された電
極部の一部を残して、ガラス・セラミック基板材料の焼
結温度では焼結しない無機成分を主成分とするペースト
組成物の塗布膜を形成することを特徴とする請求項1記
載の多層セラミック基板の製造方法。
5. A coating film of a paste composition whose main component is an inorganic component that does not sinter at the sintering temperature of the glass / ceramic substrate material, leaving a part of the electrode portion formed on the surface of the green sheet laminate. The method of manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the multilayer ceramic substrate is formed.
【請求項6】焼成温度を800℃〜1000℃の範囲で
行なうことを特徴とする請求項1記載の多層セラミック
基板の製造方法。
6. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the firing temperature is 800 ° C. to 1000 ° C.
【請求項7】ペースト組成物が、Al23、MgO、Z
rO2、TiO2、BeO、BNの内少なくとも1種を含
むペースト組成物であることを特徴とする請求項1記載
の多層セラミック基板の製造方法。
7. The paste composition comprises Al 2 O 3 , MgO, Z.
The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the paste composition is a paste composition containing at least one of rO 2 , TiO 2 , BeO, and BN.
【請求項8】無機成分層を超音波洗浄法で取り除くこと
を特徴とする請求項1記載の多層セラミック基板の製造
方法。
8. The method for producing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein the inorganic component layer is removed by an ultrasonic cleaning method.
【請求項9】導体ペースト組成物がAg、Ag/Pd、
Ag/Pt、Cu、CuOのいずれかを主成分とするこ
とを特徴とする請求項1記載の多層セラミック基板の製
造方法。
9. A conductor paste composition comprising Ag, Ag / Pd,
2. The method for manufacturing a multilayer ceramic substrate according to claim 1, wherein any one of Ag / Pt, Cu, and CuO is a main component.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005011843A (en) * 2003-06-16 2005-01-13 Murata Mfg Co Ltd Multilayered ceramic board and its manufacturing method
KR100762006B1 (en) * 2006-06-13 2007-09-28 삼성전기주식회사 Method of manufacturing non-shrinkage ceramic substrate
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