JPH0513375B2 - - Google Patents
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- JPH0513375B2 JPH0513375B2 JP60233205A JP23320585A JPH0513375B2 JP H0513375 B2 JPH0513375 B2 JP H0513375B2 JP 60233205 A JP60233205 A JP 60233205A JP 23320585 A JP23320585 A JP 23320585A JP H0513375 B2 JPH0513375 B2 JP H0513375B2
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- JP
- Japan
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- microwave
- processing
- processing chambers
- plasma
- chambers
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- Expired - Lifetime
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23320585A JPS6293937A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23320585A JPS6293937A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6293937A JPS6293937A (ja) | 1987-04-30 |
JPH0513375B2 true JPH0513375B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1993-02-22 |
Family
ID=16951398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23320585A Granted JPS6293937A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6293937A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0666268B2 (ja) * | 1986-06-18 | 1994-08-24 | 日本電気株式会社 | マイクロ波プラズマcvd装置 |
JP2597876B2 (ja) * | 1988-03-19 | 1997-04-09 | 三洋電機株式会社 | 薄膜形成方法 |
CA2510332A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-01 | Biotage Ab | Microwave heating system |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61189642A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ反応装置 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23320585A patent/JPS6293937A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6293937A (ja) | 1987-04-30 |
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