JPS6293937A - マイクロ波プラズマ処理装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS6293937A JPS6293937A JP23320585A JP23320585A JPS6293937A JP S6293937 A JPS6293937 A JP S6293937A JP 23320585 A JP23320585 A JP 23320585A JP 23320585 A JP23320585 A JP 23320585A JP S6293937 A JPS6293937 A JP S6293937A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- chamber
- microwave
- processing chambers
- chambers
- Prior art date
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- Granted
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の利用分野〕
本発明は、マイクロ波プラズマ処理装■に関するもので
ある。
ある。
マイクロ波プラズマ処理装置としては、例えば、特公昭
５３−３４４６１号公報に記載のような、１つのマイク
ロ波発振器と１つの処理室とマイクロ波発振器から処理
室委二マイクロ波パワーを供給する手段とを具備したも
のが知らｎている。
５３−３４４６１号公報に記載のような、１つのマイク
ロ波発振器と１つの処理室とマイクロ波発振器から処理
室委二マイクロ波パワーを供給する手段とを具備したも
のが知らｎている。
しかし、この装置を用いて試料の処理をシリーズ若しく
はパラレルに実施する場合、処理条件に対応した台数の
装置を設置する必要が１％ ｊ）、このため、装π価格
力（増大するといった問題がある。
はパラレルに実施する場合、処理条件に対応した台数の
装置を設置する必要が１％ ｊ）、このため、装π価格
力（増大するといった問題がある。
ｒ発明の目的〕
本発明の目的は、複数の処理室に対して１つのマイクロ
波発振器で充分な１成とすることで、試料の処理をシリ
ーズ若しくはパラレルに実施する場合の袋層価格の増大
な抑ニー１できるマイクロ波プラズマ処理装置を提供す
ることにるる、。
波発振器で充分な１成とすることで、試料の処理をシリ
ーズ若しくはパラレルに実施する場合の袋層価格の増大
な抑ニー１できるマイクロ波プラズマ処理装置を提供す
ることにるる、。
本発明は、１つのマイクロ波光振器と、複数の処理室と
、前記マイクロｉ７ｉ！発振器から前記彫埋室にマイク
ロ波パワーを供給する手段とを具備したことを特徴とす
るもので、試料の処理がシリーズ若しくはツマ丹しルに
実施さｎる複数の処理室に対して１つのマイクロ波１Ｍ
器で充分な構成としたものである。
、前記マイクロｉ７ｉ！発振器から前記彫埋室にマイク
ロ波パワーを供給する手段とを具備したことを特徴とす
るもので、試料の処理がシリーズ若しくはツマ丹しルに
実施さｎる複数の処理室に対して１つのマイクロ波１Ｍ
器で充分な構成としたものである。
本発明の一実施例を図直により説明する。
図面で、図の処理室４μ或は、公知のものと同様であり
、このような処理室が２つの場合を示している。
、このような処理室が２つの場合を示している。
図面で、マイクロ波発振器１は処理室２ａ、２ｂｔこ対
して１個装ｆＭさｎでいる。マイクロ波発振器１により
放射されたマイクロ波パワーは、導波管３ａ、３ｂを通
過し処理室２ａ、２ｂの中にそｎぞれ導入される。ガス
導入管４ａ、４ｂから処理室２ａ、２ｂにそｎぞれ供給
された加工用ガスは、マイクロ波パワーによりプラズマ
化される。
して１個装ｆＭさｎでいる。マイクロ波発振器１により
放射されたマイクロ波パワーは、導波管３ａ、３ｂを通
過し処理室２ａ、２ｂの中にそｎぞれ導入される。ガス
導入管４ａ、４ｂから処理室２ａ、２ｂにそｎぞれ供給
された加工用ガスは、マイクロ波パワーによりプラズマ
化される。
処理室２ａ、２ｂ内の試料台５ａ、５ｂに被処理面上向
姿勢で配Ｓりさｎた試料６ａ、６ｂの被処理面は、エツ
チング、暇膜といったプラズマ処理される。加工用ガス
の未反応分や試料６ａ、６ｂとの反応により生成したガ
スは、真空排気ロアａ。
姿勢で配Ｓりさｎた試料６ａ、６ｂの被処理面は、エツ
チング、暇膜といったプラズマ処理される。加工用ガス
の未反応分や試料６ａ、６ｂとの反応により生成したガ
スは、真空排気ロアａ。
７ｂを介して処理室２ａ、２ｂ外へ排気さｎる。
処理室２ａ、２ｂなどで反射さｎたマイクロ波パワーは
、マイクロ波パワー吸収手段１例えば、アイソレータ８
により吸収さｎてマイクロ波発振器１の損傷を防１Ｆ、
する。アイソレータ８は、マイクロ波発振器１の両側の
位置で導波管３ａ、３ｂにそｎぞｎ設けらｎている。こ
の場合、マイクロ波パワーは、マイクロ波発振器１を境
に２分割さ１することになるか、条件の異なるプラズマ
処理を行うためと、マイクロ波パワーの相互干渉を排除
するために、一方の導波管、この場合は、導波管３ｂに
角度可変機能を有する反射器９と反射器９で反射さｎな
いマイクロ波パワーを吸収する擬似負荷を有するマイク
ロ波パワー吸収器１０とが装備さｎでいる。反射器９や
マイクロ波パワー吸収器１０により調整さｎたマイクロ
波パワーは１１磁石１１ ａ 。
、マイクロ波パワー吸収手段１例えば、アイソレータ８
により吸収さｎてマイクロ波発振器１の損傷を防１Ｆ、
する。アイソレータ８は、マイクロ波発振器１の両側の
位置で導波管３ａ、３ｂにそｎぞｎ設けらｎている。こ
の場合、マイクロ波パワーは、マイクロ波発振器１を境
に２分割さ１することになるか、条件の異なるプラズマ
処理を行うためと、マイクロ波パワーの相互干渉を排除
するために、一方の導波管、この場合は、導波管３ｂに
角度可変機能を有する反射器９と反射器９で反射さｎな
いマイクロ波パワーを吸収する擬似負荷を有するマイク
ロ波パワー吸収器１０とが装備さｎでいる。反射器９や
マイクロ波パワー吸収器１０により調整さｎたマイクロ
波パワーは１１磁石１１ ａ 。
１１ ｂによる磁界作用を受は電子サイクロトロン共鳴
条件により効率よ＜試料６ａ、６ｂはプラズマ処理され
る。また、この場合、処理室２ａ、２ｂ間に真空開遮断
手段、例えば、ゲートバルブ１３ａ。
条件により効率よ＜試料６ａ、６ｂはプラズマ処理され
る。また、この場合、処理室２ａ、２ｂ間に真空開遮断
手段、例えば、ゲートバルブ１３ａ。
１３ ｂを介して真’２Ｗｉ送室１２を設け、例えば、
処理室２ａから処理室２ｂに試料を真空中で移動させて
連続したプラズマ処理を可能にしている。この場合、公
知の試料搬送手段（図示省略）が真空搬送室りに設けら
れ、真！搬送室】２内は真空排気ロアＣを介して処理室
２ａ、２ｂ内と同程度の圧力まで真空排気可能である。
処理室２ａから処理室２ｂに試料を真空中で移動させて
連続したプラズマ処理を可能にしている。この場合、公
知の試料搬送手段（図示省略）が真空搬送室りに設けら
れ、真！搬送室】２内は真空排気ロアＣを介して処理室
２ａ、２ｂ内と同程度の圧力まで真空排気可能である。
また、試料の搬送経路が、外部二真空搬送室１２二処理
室２ａ、２ｂとなるように構成することも可能である。
室２ａ、２ｂとなるように構成することも可能である。
本実施例では、次のような効果を得ることかできる。
（１）２つの処理室に対して１つのマイクロ波発振器で
充分な構成であり、２つの処理室を用いて試料の処理を
シリーズ若しくはパラレルに実施する場合の装置価格の
増大を抑制できる。
充分な構成であり、２つの処理室を用いて試料の処理を
シリーズ若しくはパラレルに実施する場合の装置価格の
増大を抑制できる。
（２）処理室間での試料の搬送を真空雰囲気下で行うこ
とができ、試料の腐食や汚染を防止できる。
とができ、試料の腐食や汚染を防止できる。
（３）反射器等の機能により条件の異なる処理をシリー
ズ若しくはパラレルに実施することができ、このような
場合での装置価格の増大を抑制できる。
ズ若しくはパラレルに実施することができ、このような
場合での装置価格の増大を抑制できる。
尚、本実施例では、処理室の数を２室として説明したが
、この他に処理室の数が３室以上である場合には、１つ
のマイクロ波発振器より放射されワ たマイクロ波バグ−を各処理室に供給可能に導波管をマ
イクロ波発振器を起点として放射状に設けるようにすｎ
ば良い。
、この他に処理室の数が３室以上である場合には、１つ
のマイクロ波発振器より放射されワ たマイクロ波バグ−を各処理室に供給可能に導波管をマ
イクロ波発振器を起点として放射状に設けるようにすｎ
ば良い。
本発明は、以上説明したように、複数の処理室番二対し
て１つのマイクロ波発振器で充分な構成としたことで、
試料をシリーズ若しくはパラレル処理する場合の装置価
格の増大を抑制できるという効果がある。
て１つのマイクロ波発振器で充分な構成としたことで、
試料をシリーズ若しくはパラレル処理する場合の装置価
格の増大を抑制できるという効果がある。
図面は、本発明によるマイクロ波プラズマ処理装置の一
実施例を縦断面構成図である。
実施例を縦断面構成図である。
Claims (1)
- １、１つのマイクロ波発振器と、複数の処理室と、前記
マイクロ波発振器から前記処理室にマイクロ波パワーを
供給する手段とを具備したことを特徴とするマイクロ波
プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23320585A JPS6293937A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23320585A JPS6293937A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6293937A true JPS6293937A (ja) | 1987-04-30 |
| JPH0513375B2 JPH0513375B2 (ja) | 1993-02-22 |
Family
ID=16951398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23320585A Granted JPS6293937A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6293937A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62298106A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-25 | Nec Corp | マイクロ波プラズマｃｖｄ装置 |
| JPH01239841A (ja) * | 1988-03-19 | 1989-09-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜形成方法 |
| WO2004054705A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-01 | Biotage Ab | Microwave heating system |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189642A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ反応装置 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23320585A patent/JPS6293937A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61189642A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | プラズマ反応装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62298106A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-25 | Nec Corp | マイクロ波プラズマｃｖｄ装置 |
| JPH01239841A (ja) * | 1988-03-19 | 1989-09-25 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜形成方法 |
| WO2004054705A1 (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-01 | Biotage Ab | Microwave heating system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0513375B2 (ja) | 1993-02-22 |
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