JPH0513079U - 短共振器型半導体レーザ - Google Patents

短共振器型半導体レーザ

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JPH0513079U
JPH0513079U JP6637291U JP6637291U JPH0513079U JP H0513079 U JPH0513079 U JP H0513079U JP 6637291 U JP6637291 U JP 6637291U JP 6637291 U JP6637291 U JP 6637291U JP H0513079 U JPH0513079 U JP H0513079U
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JP
Japan
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laser
fabry
short
semiconductor laser
perot type
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Pending
Application number
JP6637291U
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English (en)
Inventor
利貞 関口
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
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Publication of JPH0513079U publication Critical patent/JPH0513079U/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本考案は、ファブリペロ型レーザの増幅部に
より大きな出力を得ると共に、短共振器により狭い発振
波長帯を得るようにした半導体レーザを提供することを
目的とする。 【構成】 本考案は、ファブリペロ型レーザの両端に反
射防止膜50,50を設けて増幅部10とすると共に、
前記ファブリペロ型レーザの片端に単一モードで発振す
る短共振器20を設け、当該短共振器20により発振し
たレーザ光をファブリペロ型レーザの前記増幅部10で
増幅する短共振器型半導体レーザからなり、光通信、光
計測、光ファイバセンサなどの発光源として用いられ
る。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、単一モードで発振する短共振器からのレーザ光を増幅して使用する 短共振器型半導体レーザに係り、光通信、光計測、光ファイバセンサなどの発光 源として用いられるものに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、レーザとしては種々のものが提案されている。例えばファブリペロ型レ ーザ、DFBレーザ、DBRレーザ、面発光型レーザなどがある。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
上記各レーザにおいて、ファブリペロ型レーザは、光出力が大きい(強い)が 、発振波長帯が広くなるという問題がある。一方、DFBレーザ、DBRレーザ および面発光型レーザでは、発振波長帯は狭いものの、出力光が小さい(弱い) という欠点がある。
【0004】 本考案は、このような実情に鑑みてなされたもので、ファブリペロ型レーザの 増幅部により大きな出力を得ると共に、短共振器により狭い発振波長帯を得るよ うにした半導体レーザを提供せんとするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
かゝる本考案の特徴とする点は、ファブリペロ型レーザの両端に反射防止膜を 設けて増幅部とすると共に、前記ファブリペロ型レーザの片端に単一モードで発 振する短共振器を設け、当該短共振器により発振したレーザ光をファブリペロ型 レーザの前記増幅部で増幅する短共振器型半導体レーザにある。
【0006】
【作用】
この短共振器型半導体レーザでは、短共振器により狭い発振波長帯が得られ、 かつ、このレーザ光がファブリペロ型レーザの増幅部により増幅され、大きな出 力が得られる。
【0007】
【実施例】
図1〜図2は本考案に係る短共振器型半導体レーザの一実施例を示したもので ある。同図において、10はファブリペロ型レーザからなる増幅部、20はこの 片端に設けた短共振器である。
【0008】 これらの増幅部10と短共振器20とは共にn−InPのベース基板30上に 形成されたレーザ成長層40により構成される。 このレーザ成長層40は、ベース基板30上に形成されたn−InP層41と 、このn−InP層41の中央長手方向に形成された活性層42と、この活性層 42から上側に溝型として形成されたp−InP層43と、この溝型のp−In P層43の表面に形成されたp−InGaAsP層44と、活性層42からp− InGaAsP層44にかけての左右に形成されたp−InP層45およびn− InP層46とからなる。
【0009】 そして、さらに、上記ファブリペロ型レーザの増幅部10の両端には、レーザ 成長層40の導波路の屈折率nが例えば約3.3程度のとき、誘電体材料として 、TiO2 (屈折率n=2.2)やSiO2 (屈折率n=1.42)など真空蒸 着またはスパッタ蒸着させるなどして形成した反射防止膜50,50が設けてあ って、この増幅部10ではレーザ発振が起こらないように構成してある。
【0010】 しかして、本考案の短共振器型半導体レーザの場合、短共振器20で発振され た単一モードのレーザ光r1 は、増幅部10により増幅され、大きな出力光(増 幅光)r2 として出力される。
【0011】 この短共振器20における縦モードは、次式により表される。 Δλ=+(λ2 /2nL) ・・・・(1) ただし、λは発振波長、nはその波長における導波路の屈折率、Lは短共振器 長さである。 この式から、短共振器長さLを短くするに従って縦モード間隔が広がることが 判り、また、高速変調時などにおいて単一モード発振が得られる縦モード間隔は 、Δλ≧0.24ΔλG (ここで、ΔλG は実効利得幅)として求められる。 そして、このInGaAsP/InP半導体からなるレーザの場合、ΔλG = 0.1μm程度であるから、Δλ≧0.024μmの縦モードが必要となるため 、短共振器長さLは15μm以下の長さとするとよい。
【0012】 また、波長λと短共振器長さLとの関係については、次式で表される。 L=mλ/2n ・・・・(2) ただし、mは自然数である。
【0013】 これらの関係より、波長λが1.55μmの場合、導波路の屈折率nは約3. 3であるから、短共振器長さLが4.7μm、9.4μm、14.1μm、28 .2μmの時、縦モード間隔はそれぞれ、77.5nm、38.8nm、25. 8nm、12.9nmとなる。ここで、波長λが1.55μmの場合、縦モード 間隔は約10nmで光出力が20〜30dB低下するので、ほぼ単一モード発振 が得られることが判る。
【0014】 なお、上記ファブリペロ型レーザの増幅部10の長さとしては、数百(300 〜600)μm程度の長さとするとよい。 また、上記短共振器20において、外側(図2中の左側)の片端に反射膜を被 覆して、端面の反射率を高くすれば、さらに本素子の光出力性能を向上させるこ とができる。
【0015】
【考案の効果】
このように本考案は、ファブリペロ型レーザの両端に反射防止膜を設けて増幅 部とすると共に、前記ファブリペロ型レーザの片端に単一モードで発振する短共 振器を設け、当該短共振器により発振したレーザ光をファブリペロ型レーザの前 記増幅部で増幅する短共振器型半導体レーザであるため、光出力がファブリペロ 型レーザなみに大きく(強く)、かつ、短共振器により、その発振波長帯が面発 光型レーザなどと同等に狭くした優れた発光源を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係る短共振器型半導体レーザの一実施
例を示した斜視図である。
【図2】図1の短共振器型半導体レーザの縦断面図であ
る。
【符号の説明】
10 短共振器、 20 ファブリペロ型レーザの増幅部、 30 ベース基板、 40 レーザ成長層、 50 反射防止膜、 r1 レーザ光、 r2 出力光、

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ファブリペロ型レーザの両端に反射防止
    膜を設けて増幅部とすると共に、前記ファブリペロ型レ
    ーザの片端に単一モードで発振する短共振器を設け、当
    該短共振器により発振したレーザ光をファブリペロ型レ
    ーザの前記増幅部で増幅することを特徴とする短共振器
    型半導体レーザ。
JP6637291U 1991-07-26 1991-07-26 短共振器型半導体レーザ Pending JPH0513079U (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54123245U (ja) * 1978-02-09 1979-08-29
JPH0766501A (ja) * 1993-08-31 1995-03-10 Nec Corp 半導体レーザ
JPH10303493A (ja) * 1997-04-24 1998-11-13 Nichia Chem Ind Ltd 窒化物半導体レーザ素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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