JPH05129271A - 回転処理方法および装置 - Google Patents
回転処理方法および装置Info
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- JPH05129271A JPH05129271A JP28962691A JP28962691A JPH05129271A JP H05129271 A JPH05129271 A JP H05129271A JP 28962691 A JP28962691 A JP 28962691A JP 28962691 A JP28962691 A JP 28962691A JP H05129271 A JPH05129271 A JP H05129271A
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- Japan
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- rotation processing
- processing
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 回転処理における工程を簡略化して被処理物
の汚染や損傷を回避し、良好な処理結果を得ることが可
能な回転処理技術を提供する。 【構成】 ウェハ１を保持して回転させるスピンチャッ
ク２と、スピンチャック２を回転駆動するスピン用モー
タ５と、スピンチャック２に載置されたウェハ１のオリ
エンテーションフラット１ａを検出するＣＣＤカメラ３
と、データ処理部４とを備えており、データ処理部４
は、回転処理後、ウェハ１のオリエンテーションフラッ
ト１ａが一定の方向を向いて停止するようにスピン用モ
ータ５を制御する。
の汚染や損傷を回避し、良好な処理結果を得ることが可
能な回転処理技術を提供する。 【構成】 ウェハ１を保持して回転させるスピンチャッ
ク２と、スピンチャック２を回転駆動するスピン用モー
タ５と、スピンチャック２に載置されたウェハ１のオリ
エンテーションフラット１ａを検出するＣＣＤカメラ３
と、データ処理部４とを備えており、データ処理部４
は、回転処理後、ウェハ１のオリエンテーションフラッ
ト１ａが一定の方向を向いて停止するようにスピン用モ
ータ５を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回転処理技術に関し、
特に、半導体装置の製造工程における半導体基板の回転
処理などに適用して有効な技術に関する。
特に、半導体装置の製造工程における半導体基板の回転
処理などに適用して有効な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】たとえば、半導体装置の製造プロセスで
は、たとえばレジストの回転塗布や回転乾燥などに代表
されるように、半導体基板（以下ウェハと略記する）を
回転させながら所望の処理を施す工程が多々ある。
は、たとえばレジストの回転塗布や回転乾燥などに代表
されるように、半導体基板（以下ウェハと略記する）を
回転させながら所望の処理を施す工程が多々ある。
【０００３】一方、各工程間におけるウェハの搬送に
は、一般にウェハカセットなどの搬送治具が用いられて
いるが、当該ウェハカセットに対するウェハの装填時に
は、次の工程における取り出しに備えて、ウェハの特定
方位を示す周知のオリエンテーションフラットを所定の
向きに揃えた状態で収納することが必要となる。
は、一般にウェハカセットなどの搬送治具が用いられて
いるが、当該ウェハカセットに対するウェハの装填時に
は、次の工程における取り出しに備えて、ウェハの特定
方位を示す周知のオリエンテーションフラットを所定の
向きに揃えた状態で収納することが必要となる。
【０００４】なお、ウェハの回転処理技術については、
たとえば、株式会社工業調査会、昭和５６年１１月１０
日発行、「電子材料」１９８１年１１月号別刷、Ｐ９５
〜Ｐ１０２、などの文献に記載されている。
たとえば、株式会社工業調査会、昭和５６年１１月１０
日発行、「電子材料」１９８１年１１月号別刷、Ｐ９５
〜Ｐ１０２、などの文献に記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な従来のたとえば回転塗布工程などにおいては、塗布完
了後のウェハの方向が制御されておらず、払い出される
ウェハの方向が不揃いであるため、次工程への搬出に先
立って、ピンセットなどでウェハ向きを揃える作業が必
要となり、工程が必要以上に煩雑になるとともに、ウェ
ハの異物付着による汚染や損傷発生の確率が増大すると
いう問題がある。
な従来のたとえば回転塗布工程などにおいては、塗布完
了後のウェハの方向が制御されておらず、払い出される
ウェハの方向が不揃いであるため、次工程への搬出に先
立って、ピンセットなどでウェハ向きを揃える作業が必
要となり、工程が必要以上に煩雑になるとともに、ウェ
ハの異物付着による汚染や損傷発生の確率が増大すると
いう問題がある。
【０００６】本発明の目的は、回転処理における工程を
簡略化して、被処理物の汚染や損傷を回避し、良好な処
理結果を得ることが可能な回転処理技術を提供すること
にある。
簡略化して、被処理物の汚染や損傷を回避し、良好な処
理結果を得ることが可能な回転処理技術を提供すること
にある。
【０００７】本発明の上記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本願に於いて開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記の通りである。
【０００９】すなわち、本発明の回転処理方法は、方向
性を有する被処理物を回転させながら所望の処理を施す
回転処理方法において、処理の完了後、払い出しに先立
って、被処理物を所定の方向に向けて停止させるもので
ある。
性を有する被処理物を回転させながら所望の処理を施す
回転処理方法において、処理の完了後、払い出しに先立
って、被処理物を所定の方向に向けて停止させるもので
ある。
【００１０】また、本発明の回転処理方法は、方向性を
有する被処理物を回転させながら所望の処理を施す回転
処理方法であって、処理の完了後、払い出しに先立っ
て、被処理物の向きが、受け入れ時と同一になるように
停止させるものである。
有する被処理物を回転させながら所望の処理を施す回転
処理方法であって、処理の完了後、払い出しに先立っ
て、被処理物の向きが、受け入れ時と同一になるように
停止させるものである。
【００１１】また、本発明の回転処理装置は、少なくと
も、方向性を有する被処理物を保持して回転させる回転
台と、この回転台上における被処理物の向きを検出する
位置検出手段と、この位置検出手段からの検出情報に基
づいて被処理物の向きを制御する方向制御手段とを備
え、少なくとも回転台からの払い出しに先立って被処理
物を所定の方向に向けて停止させるようにしたものであ
る。
も、方向性を有する被処理物を保持して回転させる回転
台と、この回転台上における被処理物の向きを検出する
位置検出手段と、この位置検出手段からの検出情報に基
づいて被処理物の向きを制御する方向制御手段とを備
え、少なくとも回転台からの払い出しに先立って被処理
物を所定の方向に向けて停止させるようにしたものであ
る。
【００１２】また、本発明の回転処理装置は、請求項３
記載の回転処理において、回転台からの払い出しに先立
って被処理物を受け入れ時と同一の方向に向けて停止さ
せるようにしたものである。
記載の回転処理において、回転台からの払い出しに先立
って被処理物を受け入れ時と同一の方向に向けて停止さ
せるようにしたものである。
【００１３】また、本発明の回転処理装置は、請求項３
または４記載の回転処理において、オリエンテーション
フラットが形成された半導体基板を被処理物とするもの
である。
または４記載の回転処理において、オリエンテーション
フラットが形成された半導体基板を被処理物とするもの
である。
【００１４】
【作用】上記した本発明の回転処理方法によれば、処理
完了後に被処理物が一定の姿勢で払い出されるので、た
とえば他工程への搬出などに先立って被処理物の姿勢を
揃える作業を省略することができ、当該作業中における
被処理物の損傷や異物付着などの懸念が解消され、良好
な処理結果を得ることができる。
完了後に被処理物が一定の姿勢で払い出されるので、た
とえば他工程への搬出などに先立って被処理物の姿勢を
揃える作業を省略することができ、当該作業中における
被処理物の損傷や異物付着などの懸念が解消され、良好
な処理結果を得ることができる。
【００１５】また、本発明の回転処理方法によれば、処
理の前後において被処理物の姿勢が変化しないので、た
とえば整列状態で被処理物が供給される場合、当該整列
状態を損なうことなく、次の工程に搬出でき、処理後の
整列作業が不用となり当該作業中における被処理物の損
傷や異物付着などの懸念が解消され、良好な処理結果を
得ることができる。
理の前後において被処理物の姿勢が変化しないので、た
とえば整列状態で被処理物が供給される場合、当該整列
状態を損なうことなく、次の工程に搬出でき、処理後の
整列作業が不用となり当該作業中における被処理物の損
傷や異物付着などの懸念が解消され、良好な処理結果を
得ることができる。
【００１６】また、本発明の回転処理装置によれば、処
理完了後に被処理物が一定の姿勢で払い出されるので、
たとえば他工程への搬出などに先立って被処理物の姿勢
を揃える作業を省略することができ、当該作業中におけ
る被処理物の損傷や異物付着などの懸念が解消され、良
好な処理結果を得ることができる。
理完了後に被処理物が一定の姿勢で払い出されるので、
たとえば他工程への搬出などに先立って被処理物の姿勢
を揃える作業を省略することができ、当該作業中におけ
る被処理物の損傷や異物付着などの懸念が解消され、良
好な処理結果を得ることができる。
【００１７】また、本発明の回転処理装置によれば、処
理の前後において被処理物の姿勢が変化しないので、た
とえば整列状態で被処理物が供給される場合、当該整列
状態を損なうことなく、次の工程に搬出でき、処理後の
整列作業が不用となり当該作業中における被処理物の損
傷や異物付着などの懸念が解消され、良好な処理結果を
得ることができる。
理の前後において被処理物の姿勢が変化しないので、た
とえば整列状態で被処理物が供給される場合、当該整列
状態を損なうことなく、次の工程に搬出でき、処理後の
整列作業が不用となり当該作業中における被処理物の損
傷や異物付着などの懸念が解消され、良好な処理結果を
得ることができる。
【００１８】
【実施例１】以下、図面を参照しながら本発明の一実施
例である回転処理方法および装置について詳細に説明す
る。
例である回転処理方法および装置について詳細に説明す
る。
【００１９】図１は、本発明の一実施例である回転処理
装置の構成の一例を示す略斜視図である。
装置の構成の一例を示す略斜視図である。
【００２０】本実施例の回転処理装置Ａは、ウェハ１が
載置されるスピンチャック２を備えており、このスピン
チャック２は、スピン用モータ５によって回転駆動され
る構造となっている。スピンチャック２は、たとえば真
空吸着などの方法によって載置されたウェハ１を着脱自
在に保持する。
載置されるスピンチャック２を備えており、このスピン
チャック２は、スピン用モータ５によって回転駆動され
る構造となっている。スピンチャック２は、たとえば真
空吸着などの方法によって載置されたウェハ１を着脱自
在に保持する。
【００２１】スピン用モータ５は、たとえば、周知のサ
ーボモータなどで構成されており、回転速度の制御はも
とより、スピンチャック２の任意の回転位置での精密な
停止動作などを行うことが可能になっている。
ーボモータなどで構成されており、回転速度の制御はも
とより、スピンチャック２の任意の回転位置での精密な
停止動作などを行うことが可能になっている。
【００２２】ウェハ１の一部には、周知のオリエンテー
ションフラット１ａが形成されており、たとえば半導体
単結晶などからなるウェハ１の特定（結晶）方位を視認
できるようになっている。
ションフラット１ａが形成されており、たとえば半導体
単結晶などからなるウェハ１の特定（結晶）方位を視認
できるようになっている。
【００２３】この場合、スピンチャック２の上方には、
当該スピンチャック２に載置されたウェハ１の画像を検
出するＣＣＤカメラ３が配置されており、検出画像は、
ケーブル６ａを介してデータ処理部４に入力されてい
る。
当該スピンチャック２に載置されたウェハ１の画像を検
出するＣＣＤカメラ３が配置されており、検出画像は、
ケーブル６ａを介してデータ処理部４に入力されてい
る。
【００２４】さらに、このデータ処理部４は、ケーブル
６ｂを介して前述のスピン用モータ５に接続されてお
り、当該スピン用モータ５の動作を制御している。
６ｂを介して前述のスピン用モータ５に接続されてお
り、当該スピン用モータ５の動作を制御している。
【００２５】すなわち、本実施例の場合、このデータ処
理部４は、ＣＣＤカメラ３から得られる、スピンチャッ
ク２上のウェハ１の画像から、当該ウェハ１におけるオ
リエンテーションフラット１ａの位置を検出し、たとえ
ば、当該オリエンテーションフラット１ａの位置が所定
の方向を向くように、スピンチャック２の停止位置を制
御する、などの制御動作を行うようにプログラムされて
いる。
理部４は、ＣＣＤカメラ３から得られる、スピンチャッ
ク２上のウェハ１の画像から、当該ウェハ１におけるオ
リエンテーションフラット１ａの位置を検出し、たとえ
ば、当該オリエンテーションフラット１ａの位置が所定
の方向を向くように、スピンチャック２の停止位置を制
御する、などの制御動作を行うようにプログラムされて
いる。
【００２６】特に図示しないが、スピンチャック２の上
方近傍には、必要に応じて、たとえば、レジストの回転
塗布処理を行う場合には、当該レジストをスピンチャッ
ク２に載置されたウェハ１に滴下供給するノズルなどが
配置されている。
方近傍には、必要に応じて、たとえば、レジストの回転
塗布処理を行う場合には、当該レジストをスピンチャッ
ク２に載置されたウェハ１に滴下供給するノズルなどが
配置されている。
【００２７】以下、本実施例の回転処理方法およびそれ
を実施する回転処理装置Ａの作用の一例について説明す
る。
を実施する回転処理装置Ａの作用の一例について説明す
る。
【００２８】まず、静止したスピンチャック２の上に未
処理のウェハ１を任意の向きに載置して保持させる。
処理のウェハ１を任意の向きに載置して保持させる。
【００２９】その後、処理の一例として、たとえば、ウ
ェハ１の中央部に所定量の図示しないレジストを滴下供
給した後、スピン用モータ５を起動してウェハ１を回転
させ、遠心力によってレジストをウェハ１の全面に分散
塗布する。
ェハ１の中央部に所定量の図示しないレジストを滴下供
給した後、スピン用モータ５を起動してウェハ１を回転
させ、遠心力によってレジストをウェハ１の全面に分散
塗布する。
【００３０】このような所望の処理が完了した後、スピ
ンチャック２の回転を停止する。
ンチャック２の回転を停止する。
【００３１】この時、本実施例の場合には、データ処理
部４は、ＣＣＤカメラ３によってスピンチャック２上に
おけるウェハ１のオリエンテーションフラット１ａの位
置を検出し、当該オリエンテーションフラット１ａが、
所定の方向を向いて停止するように、スピン用モータ５
に指令を出す。
部４は、ＣＣＤカメラ３によってスピンチャック２上に
おけるウェハ１のオリエンテーションフラット１ａの位
置を検出し、当該オリエンテーションフラット１ａが、
所定の方向を向いて停止するように、スピン用モータ５
に指令を出す。
【００３２】こうして、所定の姿勢でウェハ１の回転を
停止させた後、当該ウェハ１の固定状態を解除して外部
に払い出す。
停止させた後、当該ウェハ１の固定状態を解除して外部
に払い出す。
【００３３】このように、本実施例の場合には、所望の
処理が施されたウェハ１がオリエンテーションフラット
１ａを一定の方向に向けた姿勢で払い出されるので、処
理済みのウェハ１を次工程へ搬出する場合などに、当該
ウェハ１の姿勢を揃えるなどの特別な作業が不用とな
り、処理工程が簡略化される。
処理が施されたウェハ１がオリエンテーションフラット
１ａを一定の方向に向けた姿勢で払い出されるので、処
理済みのウェハ１を次工程へ搬出する場合などに、当該
ウェハ１の姿勢を揃えるなどの特別な作業が不用とな
り、処理工程が簡略化される。
【００３４】また、ウェハ１の姿勢を揃える目的で、た
とえばピンセットなどの治工具によってウェハ１に触れ
る必要がなくなり、ウェハ１の損傷や異物などによる汚
染の懸念が解消され、良好な処理結果を得ることができ
る。
とえばピンセットなどの治工具によってウェハ１に触れ
る必要がなくなり、ウェハ１の損傷や異物などによる汚
染の懸念が解消され、良好な処理結果を得ることができ
る。
【００３５】
【実施例２】図２は、本発明の他の実施例である回転処
理装置Ｂの構成の一例を示す外観斜視図である。
理装置Ｂの構成の一例を示す外観斜視図である。
【００３６】この実施例２の場合には、スピン用モータ
５に、ケーブル６ｃを介してモータ位置検出器７が接続
されている。このモータ位置検出器７は、たとえば、ス
ピン用モータ５の任意の停止位置を記憶し、当該スピン
用モータ５の停止に際して、起動前と同一の回転位置で
停止させる動作を行うように構成されている。
５に、ケーブル６ｃを介してモータ位置検出器７が接続
されている。このモータ位置検出器７は、たとえば、ス
ピン用モータ５の任意の停止位置を記憶し、当該スピン
用モータ５の停止に際して、起動前と同一の回転位置で
停止させる動作を行うように構成されている。
【００３７】すなわち、本実施例の場合には、スピンチ
ャック２には、予め、オリエンテーションフラット１ａ
の向きを一定の方向に向けた状態でウェハ１が供給さ
れ、モータ位置検出器７は、所望の回転処理後の停止に
際して、処理前の受け入れ時と同じ向きでウェハ１を停
止させる動作を行う。
ャック２には、予め、オリエンテーションフラット１ａ
の向きを一定の方向に向けた状態でウェハ１が供給さ
れ、モータ位置検出器７は、所望の回転処理後の停止に
際して、処理前の受け入れ時と同じ向きでウェハ１を停
止させる動作を行う。
【００３８】これにより、スピンチャック２における所
望の回転処理の前後で、ウェハ１の向きが一定となり、
所定の姿勢でスピンチャック２に供給されたウェハ１の
姿勢を、処理後に修正する作業が不用となる。
望の回転処理の前後で、ウェハ１の向きが一定となり、
所定の姿勢でスピンチャック２に供給されたウェハ１の
姿勢を、処理後に修正する作業が不用となる。
【００３９】この結果、ウェハ１の姿勢を揃える目的
で、たとえばピンセットなどの治工具によってウェハ１
に触れる必要がなくなり、ウェハ１の損傷や異物などに
よる汚染の懸念が解消され、良好な処理結果を得ること
ができる。
で、たとえばピンセットなどの治工具によってウェハ１
に触れる必要がなくなり、ウェハ１の損傷や異物などに
よる汚染の懸念が解消され、良好な処理結果を得ること
ができる。
【００４０】さらに、本実施例の場合には、ウェハ１の
画像を検出するための構成は不用であり、制御系が簡略
化される。
画像を検出するための構成は不用であり、制御系が簡略
化される。
【００４１】
【実施例３】図３は、本発明のさらに他の実施例である
回転処理装置Ｃの構成の一例を示す略斜視図である。
回転処理装置Ｃの構成の一例を示す略斜視図である。
【００４２】この実施例３の場合には、ウェハ１のオリ
エンテーションフラット１ａを検出する発光素子８およ
び受光素子９を、スピンチャック２の近傍に、ウェハ１
の載置高さを挟んで上下方向に対向するように配置した
ものである。また、受光素子９は、ケーブル６ｄを介し
て、スピン用モータ５の動作を制御するデータ処理部１
０に接続されている。
エンテーションフラット１ａを検出する発光素子８およ
び受光素子９を、スピンチャック２の近傍に、ウェハ１
の載置高さを挟んで上下方向に対向するように配置した
ものである。また、受光素子９は、ケーブル６ｄを介し
て、スピン用モータ５の動作を制御するデータ処理部１
０に接続されている。
【００４３】発光素子８および受光素子９は、ウェハ１
の輪郭の一部を切欠くように形成されたオリエンテーシ
ョンフラット１ａが、発光素子８から受光素子９に到る
検査光８ａの光路上にきた時には、当該検査光８ａは受
光素子９に入射し、それ以外の場合には、検査光８ａが
ウェハ１の外周部によって遮断される位置に配置されて
いる。
の輪郭の一部を切欠くように形成されたオリエンテーシ
ョンフラット１ａが、発光素子８から受光素子９に到る
検査光８ａの光路上にきた時には、当該検査光８ａは受
光素子９に入射し、それ以外の場合には、検査光８ａが
ウェハ１の外周部によって遮断される位置に配置されて
いる。
【００４４】そして、データ処理部１０は、受光素子９
における検査光８ａの検出の有無によってオリエンテー
ションフラット１ａの位置を把握し、スピン用モータ５
の停止位置を制御して、ウェハ１のオリエンテーション
フラット１ａの向きを一定にして停止させる動作を行う
ものである。
における検査光８ａの検出の有無によってオリエンテー
ションフラット１ａの位置を把握し、スピン用モータ５
の停止位置を制御して、ウェハ１のオリエンテーション
フラット１ａの向きを一定にして停止させる動作を行う
ものである。
【００４５】この実施例の場合には、発光素子８および
受光素子９の組み合わせという簡単な構成であり、カメ
ラなどによる画像処理などに比較してシステム構成が簡
単かつ安価になるという利点がある。
受光素子９の組み合わせという簡単な構成であり、カメ
ラなどによる画像処理などに比較してシステム構成が簡
単かつ安価になるという利点がある。
【００４６】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
【００４７】たとえば、上記の各実施例における説明で
は、回転処理の一例として、レジストの回転塗布の場合
について説明したが、方向性を有するウェハなどの被処
理物を処理中に回転させる必要のある一般の回転処理に
広く適用できる。
は、回転処理の一例として、レジストの回転塗布の場合
について説明したが、方向性を有するウェハなどの被処
理物を処理中に回転させる必要のある一般の回転処理に
広く適用できる。
【００４８】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【００４９】すなわち、本発明の回転処理方法によれ
ば、回転処理における工程を簡略化して被処理物の汚染
や損傷を回避し、良好な処理結果を得ることが出来ると
いう効果が得られる。
ば、回転処理における工程を簡略化して被処理物の汚染
や損傷を回避し、良好な処理結果を得ることが出来ると
いう効果が得られる。
【００５０】また、本発明の回転処理装置によれば、回
転処理における工程を簡略化して被処理物の汚染や損傷
を回避し、良好な処理結果を得ることが出来るという効
果が得られる。
転処理における工程を簡略化して被処理物の汚染や損傷
を回避し、良好な処理結果を得ることが出来るという効
果が得られる。
【図１】本発明の一実施例である回転処理装置の構成の
一例を示す略斜視図である。
一例を示す略斜視図である。
【図２】本発明の他の実施例である回転処理装置の構成
の一例を示す略斜視図である。
の一例を示す略斜視図である。
【図３】本発明のさらに他の実施例である回転処理装置
の構成の一例を示す略斜視図である。
の構成の一例を示す略斜視図である。
１ ウェハ １ａ オリエンテーションフラット ２ スピンチャック ３ ＣＣＤカメラ ４ データ処理部 ５ スピン用モータ ６ａ ケーブル ６ｂ ケーブル ６ｃ ケーブル ６ｄ ケーブル ７ モータ位置検出器 ８ 発光素子 ８ａ 検査光 ９ 受光素子 １０ データ処理部 Ａ 回転処理装置 Ｂ 回転処理装置 Ｃ 回転処理装置
Claims (5)
- 【請求項１】 方向性を有する被処理物を回転させなが
ら所望の処理を施す回転処理方法であって、前記処理の
完了後、払い出しに先立って、前記被処理物を所定の方
向に向けて停止させることを特徴とする回転処理方法。 - 【請求項２】 方向性を有する被処理物を回転させなが
ら所望の処理を施す回転処理方法であって、前記処理の
完了後、払い出しに先立って、前記被処理物の向きを受
け入れ時と同一にして停止させることを特徴とする回転
処理方法。 - 【請求項３】 少なくとも、方向性を有する被処理物を
保持して回転させる回転台と、この回転台上における前
記被処理物の向きを検出する位置検出手段と、この位置
検出手段からの検出情報に基づいて前記被処理物の向き
を制御する方向制御手段とを備え、前記回転台からの払
い出しに先立って前記被処理物を所定の方向に向けて停
止させることを特徴とする回転処理装置。 - 【請求項４】 前記回転台からの払い出しに先立って前
記被処理物を受け入れ時と同一の方向に向けて停止させ
ることを特徴とする請求項３記載の回転処理装置。 - 【請求項５】 前記被処理物が、オリエンテーションフ
ラットが形成された半導体基板であることを特徴とする
請求項３または請求項４記載の回転処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28962691A JPH05129271A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | 回転処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28962691A JPH05129271A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | 回転処理方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05129271A true JPH05129271A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=17745675
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28962691A Pending JPH05129271A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | 回転処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05129271A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009152649A (ja) * | 2009-04-07 | 2009-07-09 | Hitachi Kokusai Electric Inc | ウェーハの搬送方法 |
| CN106622878A (zh) * | 2016-09-27 | 2017-05-10 | 中国科学院大学 | 一种可实时图像拍摄的旋涂仪转子 |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP28962691A patent/JPH05129271A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009152649A (ja) * | 2009-04-07 | 2009-07-09 | Hitachi Kokusai Electric Inc | ウェーハの搬送方法 |
| CN106622878A (zh) * | 2016-09-27 | 2017-05-10 | 中国科学院大学 | 一种可实时图像拍摄的旋涂仪转子 |
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