JPH05128997A - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
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- JPH05128997A JPH05128997A JP31851091A JP31851091A JPH05128997A JP H05128997 A JPH05128997 A JP H05128997A JP 31851091 A JP31851091 A JP 31851091A JP 31851091 A JP31851091 A JP 31851091A JP H05128997 A JPH05128997 A JP H05128997A
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- JP
- Japan
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- shutter
- emission
- beam shutter
- current detector
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子シャワー放出手段を搭載した装置におい
て、電子シャワーの影響を受けることなく、シャッター
電流検出器に流れる電流を用いてビームシャッターの動
作状態を確実に検出することができるようにする。 【構成】 シャッター駆動装置１８にビームシャッター
１６を開閉させる指令信号を与えると共にこの指令信号
とシャッター電流検出器２０からの信号とを用いてビー
ムシャッター１６の動作状態を判定する制御回路２２ａ
に、エミッション電源３４から出力するエミッション電
圧Ｖe を一旦停止させてフィラメント３０からの一次電
子２８の放出ひいてはファラデーカップ１０からの電子
シャワー２６の放出を一旦停止させ、その状態でビーム
シャッター１６の動作状態の判定を行う機能を持たせ
た。
て、電子シャワーの影響を受けることなく、シャッター
電流検出器に流れる電流を用いてビームシャッターの動
作状態を確実に検出することができるようにする。 【構成】 シャッター駆動装置１８にビームシャッター
１６を開閉させる指令信号を与えると共にこの指令信号
とシャッター電流検出器２０からの信号とを用いてビー
ムシャッター１６の動作状態を判定する制御回路２２ａ
に、エミッション電源３４から出力するエミッション電
圧Ｖe を一旦停止させてフィラメント３０からの一次電
子２８の放出ひいてはファラデーカップ１０からの電子
シャワー２６の放出を一旦停止させ、その状態でビーム
シャッター１６の動作状態の判定を行う機能を持たせ
た。
Description
【０００２】
【産業上の利用分野】この発明は、真空容器内で回転お
よび並進させられるウェーハディスクに装着されたウェ
ーハにイオンビームを照射してイオン注入を行う装置で
あって、イオンビームを断続するビームシャッターを有
するイオン注入装置に関する。
よび並進させられるウェーハディスクに装着されたウェ
ーハにイオンビームを照射してイオン注入を行う装置で
あって、イオンビームを断続するビームシャッターを有
するイオン注入装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】この種のイオン注入装置が同一出願人に
よって先に提案されている（実開平１−１５３３５９
号）。
よって先に提案されている（実開平１−１５３３５９
号）。
【０００４】それを図３を参照して説明すると、このイ
オン注入装置は、基本的には、真空容器（図示省略）内
で回転および並進させられるウェーハディスク４に装着
された複数枚のウェーハ６にイオンビーム２を照射して
イオン注入を行うよう構成されている。
オン注入装置は、基本的には、真空容器（図示省略）内
で回転および並進させられるウェーハディスク４に装着
された複数枚のウェーハ６にイオンビーム２を照射して
イオン注入を行うよう構成されている。
【０００５】イオンビーム２の経路上には、ファラデー
系を構成するものとして、イオンビーム２がウェーハデ
ィスク４等に当たった際に放出される二次電子２４を受
けてそれのアースへの逃げを防止するファラデーカップ
１０および上流側への逃げを防止する負電位のサプレッ
サ電極８がウェーハディスク４の上流側に、ウェーハデ
ィスク４が外に並進したときにそれの代わりにイオンビ
ーム２を受けるキャッチプレート１２がウェーハディス
ク４の下流側に、それぞれ設けられている。
系を構成するものとして、イオンビーム２がウェーハデ
ィスク４等に当たった際に放出される二次電子２４を受
けてそれのアースへの逃げを防止するファラデーカップ
１０および上流側への逃げを防止する負電位のサプレッ
サ電極８がウェーハディスク４の上流側に、ウェーハデ
ィスク４が外に並進したときにそれの代わりにイオンビ
ーム２を受けるキャッチプレート１２がウェーハディス
ク４の下流側に、それぞれ設けられている。
【０００６】そして、ウェーハディスク４、キャッチプ
レート１２およびファラデーカップ１０を互いに電気的
に並列接続して例えばカレントインテグレータのような
ビーム電流計測器１４に接続しており、それによってイ
オンビーム２のビーム電流の計測を正確に行えるように
している。
レート１２およびファラデーカップ１０を互いに電気的
に並列接続して例えばカレントインテグレータのような
ビーム電流計測器１４に接続しており、それによってイ
オンビーム２のビーム電流の計測を正確に行えるように
している。
【０００７】一方、何らかの異常時にイオンビーム２の
発生そのものを止めることなくウェーハ６に照射される
イオンビーム２を遮断する等の目的で、ウェーハディス
ク４のすぐ上流側にビームシャッター１６を設け、これ
をシャッター駆動装置１８でイオンビーム２の経路中に
出し入れすることができるようにしている。
発生そのものを止めることなくウェーハ６に照射される
イオンビーム２を遮断する等の目的で、ウェーハディス
ク４のすぐ上流側にビームシャッター１６を設け、これ
をシャッター駆動装置１８でイオンビーム２の経路中に
出し入れすることができるようにしている。
【０００８】このビームシャッター１６の動作異常が起
こると、ウェーハ６に対し誤注入（例えば、ビームシャ
ッター１６が開いた状態なのに閉じたと判定された場
合）あるいは未注入（例えば、ビームシャッター１６が
閉じた状態なのに開いたと判定された場合）が起こるた
め、ビームシャッター１６の動作状態を確実に検出する
必要があり、これにセンサスイッチを用いていたのでは
それの誤動作の心配もあるので、この例ではビームシャ
ッター１６の動作状態の検出をシャッター電流検出器２
０を用いて行うようにしている。
こると、ウェーハ６に対し誤注入（例えば、ビームシャ
ッター１６が開いた状態なのに閉じたと判定された場
合）あるいは未注入（例えば、ビームシャッター１６が
閉じた状態なのに開いたと判定された場合）が起こるた
め、ビームシャッター１６の動作状態を確実に検出する
必要があり、これにセンサスイッチを用いていたのでは
それの誤動作の心配もあるので、この例ではビームシャ
ッター１６の動作状態の検出をシャッター電流検出器２
０を用いて行うようにしている。
【０００９】即ち、ビームシャッター１６をファラデー
カップ１０等のファラデー系から電気的に絶縁してお
き、ビームシャッター１６とファラデーカップ１０等の
ファラデー系との間に、ビームシャッター１６に流れる
電流を検出するシャッター電流検出器２０を接続してい
る。イオンビーム２の発生中、ビームシャッター１６が
閉じている状態ではそれにイオンビーム２が当たるた
め、シャッター電流検出器２０には、図中の矢印Ａの向
きに電流が流れる。ビームシャッター１６が開いている
状態では、それにイオンビーム２が当たらないのでシャ
ッター電流検出器２０に電流が流れないというよりもむ
しろ、イオンビーム２がウェーハディスク４等に当たっ
た際に放出される二次電子２４がビームシャッター１６
に入って上記矢印Ａとは逆向きに電流が流れる。従っ
て、このシャッター電流検出器２０に流れる電流の向き
や大きさにより、ビームシャッター１６の開閉状態を、
更には半開き状態までをも、検出することができる。そ
して、このシャッター電流検出器２０からの信号を制御
回路２２に取り込み、そこで、シャッター駆動装置１８
に与える開閉指令信号とシャッター電流検出器２０から
の信号とを突き合わせて、ビームシャッター１６の動作
状態を判定するようにしている。このような構成によれ
ば、センサスイッチに比べて機械的構成が少ないので誤
動作が少ない。
カップ１０等のファラデー系から電気的に絶縁してお
き、ビームシャッター１６とファラデーカップ１０等の
ファラデー系との間に、ビームシャッター１６に流れる
電流を検出するシャッター電流検出器２０を接続してい
る。イオンビーム２の発生中、ビームシャッター１６が
閉じている状態ではそれにイオンビーム２が当たるた
め、シャッター電流検出器２０には、図中の矢印Ａの向
きに電流が流れる。ビームシャッター１６が開いている
状態では、それにイオンビーム２が当たらないのでシャ
ッター電流検出器２０に電流が流れないというよりもむ
しろ、イオンビーム２がウェーハディスク４等に当たっ
た際に放出される二次電子２４がビームシャッター１６
に入って上記矢印Ａとは逆向きに電流が流れる。従っ
て、このシャッター電流検出器２０に流れる電流の向き
や大きさにより、ビームシャッター１６の開閉状態を、
更には半開き状態までをも、検出することができる。そ
して、このシャッター電流検出器２０からの信号を制御
回路２２に取り込み、そこで、シャッター駆動装置１８
に与える開閉指令信号とシャッター電流検出器２０から
の信号とを突き合わせて、ビームシャッター１６の動作
状態を判定するようにしている。このような構成によれ
ば、センサスイッチに比べて機械的構成が少ないので誤
動作が少ない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記のようなイオン注
入装置においては、イオンビーム２の照射に伴ってウェ
ーハ６の表面が、特に当該表面が絶縁物の場合、正に帯
電して放電等の不具合が発生するのを防止するために、
ビームシャッター１６よりも更に上流側に電子シャワー
放出手段（図示省略。図１で詳述する）を設け、それか
ら放出させた電子シャワー２６をウェーハディスク４上
のイオンビーム照射領域におけるウェーハ６に供給して
その表面でのイオンビーム２による正電荷を中和させる
ようにする場合がある。
入装置においては、イオンビーム２の照射に伴ってウェ
ーハ６の表面が、特に当該表面が絶縁物の場合、正に帯
電して放電等の不具合が発生するのを防止するために、
ビームシャッター１６よりも更に上流側に電子シャワー
放出手段（図示省略。図１で詳述する）を設け、それか
ら放出させた電子シャワー２６をウェーハディスク４上
のイオンビーム照射領域におけるウェーハ６に供給して
その表面でのイオンビーム２による正電荷を中和させる
ようにする場合がある。
【００１１】そのような電子シャワー放出手段を搭載し
た装置には、上記のようなシャッター電流検出器２０を
用いてビームシャッター１６の動作状態を検出する手段
はそのままでは適用することができない。何故なら、電
子シャワー２６を放出している状態では、当該電子シャ
ワー２６がビームシャッター１６にも入るため、シャッ
ター電流検出器２０に流れる電流の向きは、電子シャワ
ー２６の量によって、正逆いずれにも成り得る。この電
子シャワー２６は、イオンビーム２の電荷を中和させる
ものであるため、基本的にはイオンビーム２の量にほぼ
等しい量だけ放出させるものであり、その影響は非常に
大きい。従って、電子シャワー放出手段を搭載した装置
では、単純にシャッター電流検出器２０に流れる電流の
向きや大きさを判定するだけでは、ビームシャッター１
６の動作状態を確実に検出することはできない。
た装置には、上記のようなシャッター電流検出器２０を
用いてビームシャッター１６の動作状態を検出する手段
はそのままでは適用することができない。何故なら、電
子シャワー２６を放出している状態では、当該電子シャ
ワー２６がビームシャッター１６にも入るため、シャッ
ター電流検出器２０に流れる電流の向きは、電子シャワ
ー２６の量によって、正逆いずれにも成り得る。この電
子シャワー２６は、イオンビーム２の電荷を中和させる
ものであるため、基本的にはイオンビーム２の量にほぼ
等しい量だけ放出させるものであり、その影響は非常に
大きい。従って、電子シャワー放出手段を搭載した装置
では、単純にシャッター電流検出器２０に流れる電流の
向きや大きさを判定するだけでは、ビームシャッター１
６の動作状態を確実に検出することはできない。
【００１２】そこでこの発明は、電子シャワー放出手段
を搭載した装置において、電子シャワーの影響を受ける
ことなく、シャッター電流検出器に流れる電流を用いて
ビームシャッターの動作状態を確実に検出することがで
きるようにすることを主たる目的とする。
を搭載した装置において、電子シャワーの影響を受ける
ことなく、シャッター電流検出器に流れる電流を用いて
ビームシャッターの動作状態を確実に検出することがで
きるようにすることを主たる目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のイオン注入装置は、前記制御回路に、前
記電子シャワー放出手段からの電子シャワーの放出を一
旦停止させ、その状態で、前記シャッター駆動装置に与
える指令信号と前記シャッター電流検出器からの信号と
を用いて前記ビームシャッターの動作状態の判定を行う
機能を持たせたことを特徴とする。
め、この発明のイオン注入装置は、前記制御回路に、前
記電子シャワー放出手段からの電子シャワーの放出を一
旦停止させ、その状態で、前記シャッター駆動装置に与
える指令信号と前記シャッター電流検出器からの信号と
を用いて前記ビームシャッターの動作状態の判定を行う
機能を持たせたことを特徴とする。
【００１４】
【作用】上記構成によれば、ビームシャッターの動作状
態の判定は、電子シャワーの放出を自動的に一旦停止さ
せた状態で行われる。従って、電子シャワー放出手段を
搭載した装置であっても、電子シャワーの影響を受ける
ことなく、シャッター電流検出器に流れる電流を用いて
ビームシャッターの動作状態を確実に検出することがで
きる。
態の判定は、電子シャワーの放出を自動的に一旦停止さ
せた状態で行われる。従って、電子シャワー放出手段を
搭載した装置であっても、電子シャワーの影響を受ける
ことなく、シャッター電流検出器に流れる電流を用いて
ビームシャッターの動作状態を確実に検出することがで
きる。
【００１５】
【実施例】図１は、この発明の一実施例に係るイオン注
入装置を部分的に示す図である。図３の従来例と同一ま
たは相当する部分には同一符号を付し、以下においては
当該従来例との相違点を主に説明する。
入装置を部分的に示す図である。図３の従来例と同一ま
たは相当する部分には同一符号を付し、以下においては
当該従来例との相違点を主に説明する。
【００１６】この実施例においては、次のような構成に
よって前述した電子シャワー放出手段を構成している。
即ち、ファラデーカップ１０のビームシャッター１６よ
りも上流側の側部にフィラメント３０を設け、これから
放出させた一次電子２８をファラデーカップ１０の対向
面に当ててそこから二次電子を放出させ、この二次電子
を前述した電子シャワー２６としてウェーハ６に供給す
るようにしている。３２はフィラメント３０の加熱用の
フィラメント電源、３４は一次電子２８の引出し用のエ
ミッション電源である。
よって前述した電子シャワー放出手段を構成している。
即ち、ファラデーカップ１０のビームシャッター１６よ
りも上流側の側部にフィラメント３０を設け、これから
放出させた一次電子２８をファラデーカップ１０の対向
面に当ててそこから二次電子を放出させ、この二次電子
を前述した電子シャワー２６としてウェーハ６に供給す
るようにしている。３２はフィラメント３０の加熱用の
フィラメント電源、３４は一次電子２８の引出し用のエ
ミッション電源である。
【００１７】また、従来の制御回路２２に相当する制御
回路２２ａに、イオン注入直前に電子シャワー２６の放
出を一旦停止させ、その状態で従来例と同様にしてビー
ムシャッター１６の動作状態の判定を行う機能を持たせ
ている。そのため、この例では、この制御回路２２ａに
よって上記エミッション電源３４から出力するエミッシ
ョン電圧Ｖe をオンオフさせる信号ライン（例えば光伝
送ライン）３６を設けている。
回路２２ａに、イオン注入直前に電子シャワー２６の放
出を一旦停止させ、その状態で従来例と同様にしてビー
ムシャッター１６の動作状態の判定を行う機能を持たせ
ている。そのため、この例では、この制御回路２２ａに
よって上記エミッション電源３４から出力するエミッシ
ョン電圧Ｖe をオンオフさせる信号ライン（例えば光伝
送ライン）３６を設けている。
【００１８】この制御回路２２ａにおける制御動作の一
例を図２を参照しながら説明する。まず、イオン注入直
前にエミッション電圧Ｖe を一旦オフにして、フィラメ
ント３０からの一次電子２８の放出ひいてはファラデー
カップ１０からの電子シャワー２６の放出を一旦停止さ
せる（ステップ５０）。その状態で、勿論イオンビーム
２を発生させた状態で、従来例と同様にして、即ちシャ
ッター駆動装置１８に与える開閉指令信号とシャッター
電流検出器２０からの信号とを突き合わせて、ビームシ
ャッター１６の動作状態（即ち正常、異常）の判定を行
う（ステップ５１）。例えば、シャッター駆動装置１８
に対してビームシャッター１６を開く指令信号を与えて
いるのにシャッター電流検出器２０に流れる電流が図１
中の矢印Ａ方向の場合（これは前述したようにビームシ
ャッター１６が現実には閉じている状態である）、ある
いは逆にシャッター駆動装置１８に対してビームシャッ
ター１６を閉じる指令信号を与えているのにシャッター
電流検出器２０に流れる電流が矢印Ａとは逆方向の場合
（これは前述したようにビームシャッター１６が現実に
は開いている状態である）は、いずれもビームシャッタ
ー１６の動作異常である。
例を図２を参照しながら説明する。まず、イオン注入直
前にエミッション電圧Ｖe を一旦オフにして、フィラメ
ント３０からの一次電子２８の放出ひいてはファラデー
カップ１０からの電子シャワー２６の放出を一旦停止さ
せる（ステップ５０）。その状態で、勿論イオンビーム
２を発生させた状態で、従来例と同様にして、即ちシャ
ッター駆動装置１８に与える開閉指令信号とシャッター
電流検出器２０からの信号とを突き合わせて、ビームシ
ャッター１６の動作状態（即ち正常、異常）の判定を行
う（ステップ５１）。例えば、シャッター駆動装置１８
に対してビームシャッター１６を開く指令信号を与えて
いるのにシャッター電流検出器２０に流れる電流が図１
中の矢印Ａ方向の場合（これは前述したようにビームシ
ャッター１６が現実には閉じている状態である）、ある
いは逆にシャッター駆動装置１８に対してビームシャッ
ター１６を閉じる指令信号を与えているのにシャッター
電流検出器２０に流れる電流が矢印Ａとは逆方向の場合
（これは前述したようにビームシャッター１６が現実に
は開いている状態である）は、いずれもビームシャッタ
ー１６の動作異常である。
【００１９】ビームシャッター１６の動作状態が正常な
らば、エミッション電圧Ｖe をオンにして、一次電子２
８ひいては電子シャワー２６を放出させてウェーハ６の
帯電防止を行える状態にして（ステップ５２）、イオン
注入を開始する（ステップ５３）。ビームシャッター１
６の動作状態が異常ならば、イオン注入を中止する（ス
テップ５４）。
らば、エミッション電圧Ｖe をオンにして、一次電子２
８ひいては電子シャワー２６を放出させてウェーハ６の
帯電防止を行える状態にして（ステップ５２）、イオン
注入を開始する（ステップ５３）。ビームシャッター１
６の動作状態が異常ならば、イオン注入を中止する（ス
テップ５４）。
【００２０】上記のようにすれば、ビームシャッター１
６の動作状態の判定は、電子シャワー２６の放出を自動
的に一旦停止させた状態で行われるので、電子シャワー
放出手段を搭載した装置であっても、電子シャワー２６
の影響を受けることなく、シャッター電流検出器２０に
流れる電流を用いてビームシャッター１６の動作状態を
確実に検出することができる。
６の動作状態の判定は、電子シャワー２６の放出を自動
的に一旦停止させた状態で行われるので、電子シャワー
放出手段を搭載した装置であっても、電子シャワー２６
の影響を受けることなく、シャッター電流検出器２０に
流れる電流を用いてビームシャッター１６の動作状態を
確実に検出することができる。
【００２１】また、上記のような動作を例えば各バッチ
注入直前に自動的に行わせれば、ウェーハ６に対する未
注入等は生じない。
注入直前に自動的に行わせれば、ウェーハ６に対する未
注入等は生じない。
【００２２】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、電子シ
ャワー放出手段を搭載した装置であっても、電子シャワ
ーの影響を受けることなく、シャッター電流検出器に流
れる電流を用いてビームシャッターの動作状態を確実に
検出することができる。その結果、ビームシャッターの
動作異常によって未注入等が起こるのを未然に防止する
ことができる。
ャワー放出手段を搭載した装置であっても、電子シャワ
ーの影響を受けることなく、シャッター電流検出器に流
れる電流を用いてビームシャッターの動作状態を確実に
検出することができる。その結果、ビームシャッターの
動作異常によって未注入等が起こるのを未然に防止する
ことができる。
【図１】 この発明の一実施例に係るイオン注入装置を
部分的に示す図である。
部分的に示す図である。
【図２】 図１中の制御回路における制御動作の一例を
示すフローチャートである。
示すフローチャートである。
【図３】 従来のイオン注入装置の一例を部分的に示す
図である。
図である。
２ イオンビーム ４ ウェーハディスク ６ ウェーハ １０ ファラデーカップ １６ ビームシャッター １８ シャッター駆動装置 ２０ シャッター電流検出器 ２２ａ 制御回路 ２６ 電子シャワー ３０ フィラメント ３４ エミッション電源
Claims (1)
- 【請求項１】 真空容器内で回転および並進させられる
ウェーハディスクに装着されたウェーハにイオンビーム
を照射してイオン注入を行う装置であって、ウェーハデ
ィスクの上流側に設けられていてイオンビームを断続す
るビームシャッターと、このビームシャッターを駆動す
るシャッター駆動装置と、前記ビームシャッターに接続
されていてそれに流れる電流を検出するシャッター電流
検出器と、前記シャッター駆動装置にビームシャッター
を開閉させる指令信号を与えると共にこの指令信号と前
記シャッター電流検出器からの信号とを用いてビームシ
ャッターの動作状態を判定する制御回路と、前記ビーム
シャッターよりも更に上流側に設けられていてウェーハ
ディスク上のウェーハに電子シャワーを供給する電子シ
ャワー放出手段とを備えるものにおいて、前記制御回路
に、前記電子シャワー放出手段からの電子シャワーの放
出を一旦停止させ、その状態で、前記シャッター駆動装
置に与える指令信号と前記シャッター電流検出器からの
信号とを用いて前記ビームシャッターの動作状態の判定
を行う機能を持たせたことを特徴とするイオン注入装
置。 【０００１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31851091A JPH05128997A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31851091A JPH05128997A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | イオン注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128997A true JPH05128997A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=18099923
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31851091A Pending JPH05128997A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05128997A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1170775A1 (en) * | 1999-04-09 | 2002-01-09 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for ion implantation |
| WO2002084713A3 (en) * | 2001-04-11 | 2003-03-13 | Varian Semiconductor Equipment | Occluding beamline ion implanter |
| US6610987B2 (en) | 2001-05-23 | 2003-08-26 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method of ion beam processing |
| US6777695B2 (en) | 2002-07-12 | 2004-08-17 | Varian Semiconductors Equipment Associates, Inc. | Rotating beam ion implanter |
| CN104979152A (zh) * | 2015-07-28 | 2015-10-14 | 中国科学技术大学 | 一种离子注入设备 |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP31851091A patent/JPH05128997A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1170775A1 (en) * | 1999-04-09 | 2002-01-09 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for ion implantation |
| EP1170775A4 (en) * | 1999-04-09 | 2002-10-23 | Applied Materials Inc | ION IMPLANTATION METHOD AND DEVICE |
| WO2002084713A3 (en) * | 2001-04-11 | 2003-03-13 | Varian Semiconductor Equipment | Occluding beamline ion implanter |
| US6610987B2 (en) | 2001-05-23 | 2003-08-26 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method of ion beam processing |
| US6777695B2 (en) | 2002-07-12 | 2004-08-17 | Varian Semiconductors Equipment Associates, Inc. | Rotating beam ion implanter |
| CN104979152A (zh) * | 2015-07-28 | 2015-10-14 | 中国科学技术大学 | 一种离子注入设备 |
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