JPH05128513A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH05128513A JPH05128513A JP28830991A JP28830991A JPH05128513A JP H05128513 A JPH05128513 A JP H05128513A JP 28830991 A JP28830991 A JP 28830991A JP 28830991 A JP28830991 A JP 28830991A JP H05128513 A JPH05128513 A JP H05128513A
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- Japan
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- magnetic recording
- recording medium
- vapor
- electron beam
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＶＴＲ等のような高密度磁気記録に使用され
る磁気記録媒体の製造方法において、短波長でのＣ／Ｎ
特性と耐久性とがトレードオフの関係にあるという問題
を解決し、耐久性を低下させずにＣ／Ｎを向上させた磁
気記録媒体の製造を可能にする方法を提供することを目
的とする。 【構成】 蒸着材料１０を加熱する電子ビーム１２を照
射角を２水準に偏向した電子ビーム、１３，１４に分け
て蒸気分布を変化させて蒸着するようにしたものであ
る。
る磁気記録媒体の製造方法において、短波長でのＣ／Ｎ
特性と耐久性とがトレードオフの関係にあるという問題
を解決し、耐久性を低下させずにＣ／Ｎを向上させた磁
気記録媒体の製造を可能にする方法を提供することを目
的とする。 【構成】 蒸着材料１０を加熱する電子ビーム１２を照
射角を２水準に偏向した電子ビーム、１３，１４に分け
て蒸気分布を変化させて蒸着するようにしたものであ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高密度磁気記録に適し
た、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の
製造方法に関する。
た、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、高密度磁気記録の進展は目覚し
く、次期のビデオのフォーマットでは、高品位ＴＶ信号
の情報量増大に対処するため１μ2／bitの高記録密度が
目標とされ、議論されている。ここでは蒸着テープがひ
とつの候補として取り上げられ、その性能向上に期待が
かけられている。蒸着テープは、円筒キャンに沿わせて
ポリエチレンテレフタレートフィルム（形状付与したも
のが一般的に利用されている）を移動させながら、連続
的に入射角の変化する斜め蒸着で１層から３層までの構
成の蒸着磁性層を形成することで磁気記録層を得てい
る。この際、酸素ガスを導入し、柱状微粒子の表面を非
磁性酸化物とすることで特性向上を図っている。
く、次期のビデオのフォーマットでは、高品位ＴＶ信号
の情報量増大に対処するため１μ2／bitの高記録密度が
目標とされ、議論されている。ここでは蒸着テープがひ
とつの候補として取り上げられ、その性能向上に期待が
かけられている。蒸着テープは、円筒キャンに沿わせて
ポリエチレンテレフタレートフィルム（形状付与したも
のが一般的に利用されている）を移動させながら、連続
的に入射角の変化する斜め蒸着で１層から３層までの構
成の蒸着磁性層を形成することで磁気記録層を得てい
る。この際、酸素ガスを導入し、柱状微粒子の表面を非
磁性酸化物とすることで特性向上を図っている。
【０００３】以下に、従来の磁気記録媒体の製造方法に
ついて図面に沿って説明する。図２は従来の磁気記録媒
体の製造方法を実施するのに用いる磁気記録媒体の製造
装置の要部構成図である。
ついて図面に沿って説明する。図２は従来の磁気記録媒
体の製造方法を実施するのに用いる磁気記録媒体の製造
装置の要部構成図である。
【０００４】図２で、１はポリエチレンテレフタレート
等の高分子フィルムで、２は巻出し軸、３は巻取り軸、
４は円筒キャン、５は電子ビーム蒸発源、６は電子ビー
ム、７は蒸着に供される蒸気流、８はマスク、９は酸素
ガス等を導入するためのガス導入ノズルである。
等の高分子フィルムで、２は巻出し軸、３は巻取り軸、
４は円筒キャン、５は電子ビーム蒸発源、６は電子ビー
ム、７は蒸着に供される蒸気流、８はマスク、９は酸素
ガス等を導入するためのガス導入ノズルである。
【０００５】この装置によって、あらかじめ１０-6（To
rr）台に予備排気した後、電子ビーム加熱により強磁性
金属を加熱蒸発させ、例えば酸素ガスを一定量導入しな
がら０．１〜０．３μｍの膜厚範囲で蒸着を行う。その
際、円筒キャン４は−３０℃〜１０℃の範囲で冷却され
高分子フィルム１の熱ダメージを防止するようにする。
又、電子ビーム６は、集束され、偏向磁界の作用で、多
くの場合、高分子フィルム１の移動方向と直交する方向
に一軸に走査され、幅方向に均一な特性の磁気記録層を
形成するように走査波形が調整される。そして酸素ガス
は、磁気記録層の表面酸化層が耐久性の点から極めて重
要なことから多くの場合、マスク８で最小入射角を決め
る位置の付近から導入することが採用されている。
rr）台に予備排気した後、電子ビーム加熱により強磁性
金属を加熱蒸発させ、例えば酸素ガスを一定量導入しな
がら０．１〜０．３μｍの膜厚範囲で蒸着を行う。その
際、円筒キャン４は−３０℃〜１０℃の範囲で冷却され
高分子フィルム１の熱ダメージを防止するようにする。
又、電子ビーム６は、集束され、偏向磁界の作用で、多
くの場合、高分子フィルム１の移動方向と直交する方向
に一軸に走査され、幅方向に均一な特性の磁気記録層を
形成するように走査波形が調整される。そして酸素ガス
は、磁気記録層の表面酸化層が耐久性の点から極めて重
要なことから多くの場合、マスク８で最小入射角を決め
る位置の付近から導入することが採用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の製造方
法では、出力とＣ／Ｎを共に改善しようとすると、磁性
層を２〜３層と積層構成にする必要があり、生産性の面
で改善が必要であると共に、積層構成の磁気記録層は、
耐久性の面で単層のものより劣る点があり改善が望まれ
ていた。
法では、出力とＣ／Ｎを共に改善しようとすると、磁性
層を２〜３層と積層構成にする必要があり、生産性の面
で改善が必要であると共に、積層構成の磁気記録層は、
耐久性の面で単層のものより劣る点があり改善が望まれ
ていた。
【０００７】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
で、単層構造の耐久性と積層構成の出力、Ｃ／Ｎの良さ
を兼ね備えた磁気記録媒体を製造する方法を提供するも
のである。
で、単層構造の耐久性と積層構成の出力、Ｃ／Ｎの良さ
を兼ね備えた磁気記録媒体を製造する方法を提供するも
のである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記した課題を解決する
ため、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、回転支持体
に沿って移動する高分子フィルム上に、強磁性金属を電
子ビーム蒸着する際、加熱ビームの照射の角度を異なる
２種とし、その間の角度にビームを振動入射させるよう
にしたものである。
ため、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、回転支持体
に沿って移動する高分子フィルム上に、強磁性金属を電
子ビーム蒸着する際、加熱ビームの照射の角度を異なる
２種とし、その間の角度にビームを振動入射させるよう
にしたものである。
【０００９】
【作用】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した
構成により、蒸気流が２ピークの蒸気分布をもつことに
なり、酸素ガス導入と組み合わせることで、単層の膜で
あっても柱状微粒子を個々にみると、間で２層と同じ働
きをするような非磁性層を効率良く形成でき、従来の２
層構成よりもその非磁性層厚みを薄くできるのでより高
出力化に適するものである。このようにして単層であり
ながら出力，Ｃ／Ｎを高めることができ、耐久性のある
高出力，高Ｃ／Ｎテープを得ることができることにな
る。
構成により、蒸気流が２ピークの蒸気分布をもつことに
なり、酸素ガス導入と組み合わせることで、単層の膜で
あっても柱状微粒子を個々にみると、間で２層と同じ働
きをするような非磁性層を効率良く形成でき、従来の２
層構成よりもその非磁性層厚みを薄くできるのでより高
出力化に適するものである。このようにして単層であり
ながら出力，Ｃ／Ｎを高めることができ、耐久性のある
高出力，高Ｃ／Ｎテープを得ることができることにな
る。
【００１０】
（実施例１）以下、本発明の一実施例について、図面を
参照しながら説明する。図１は本発明の一実施例の磁気
記録媒体の製造方法の説明図である。図１（ａ）は、電
子ビーム蒸発源の説明図で、１０は蒸着材料でＣｏ，Ｃ
ｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｃｒ等で材料の補給については適宜工
夫すれば良い。１１は蒸着材料を多くの場合溶融状態
（昇華材は別）で収納する蒸発源容器で、１２は１５kV
〜６０kVに加速された集束電子ビームで、１３，１４は
電子ビーム１２を偏向磁界発生器１５の磁界制御により
２種類の軌道に振りわけられた電子ビーム（１３をビー
ムＡ、１４をビームＢと呼ぶ）で、ビームＡ，ビームＢ
の時間振りわけについては、ビームＡをＴ A（sec）ビー
ムＢをＴB（sec）とすると、ＴA＋ＴBは５（msec）から
５０（msec）の範囲でＴA：ＴBは１０〜１／１０の範囲
で調整し、目的の蒸着に適合化すれば良い。又ビームの
照射角については、図１（ｂ）にて説明する。図１
（ｂ）は電子ビームの照射によって生じた蒸気分布を模
式的に示したもので、蒸気流ＡはビームＡの照射によっ
て生じたものを表わし、蒸気流Ｂは、ビームＢの照射に
よって生じたものを表わし、蒸気流Ｃは、移動する高分
子フィルムに蒸着される蒸発原子の等価的な蒸気流の分
布を表わすものである。この分布の制御はビームＡ，ビ
ームＢの制御パラメータである、パワー，集束度，ＴA,
ＴBの設定は勿論、ビームＡ，Ｂの照射角の条件によっ
て行えるもので、図１（ａ）に示した照射角の両者の差
である角αは２０度以上５０度迄の範囲が好ましく、従
来より行われている照射点で１００（Hz）程度の周波数
で振幅２０〜３０mm振動させるものとは異なる効果を発
揮するものである。等価的な蒸気流分布は、単一蒸気流
と異なり、図１（ｂ）に示すように、ハート型のよう
に、中央近くの蒸発量を少なくしたようにもできるし、
中央近くの蒸発量のみを突出させることもでき、目的の
蒸着によって制御できるものである。一例として、ハー
ト型の分布に制御することで、図１（ｃ）の蒸着膜の深
さ方向の元素分布をオージェ電子分光法で測定した結果
を示したように、酸素とＣｏ元素の量の比率が深さ方向
で異なり、図中のＺｏｎｅＩとＺｏｎｅIIにＣｏの酸化
によってできる非磁性部ができることを示したもので、
この分布は、柱状微粒子が内部の深さ方向のある部分で
（中央とは限らないが）非磁性分離層を持つことにな
り、２層蒸着膜と同じように後述する優れたＣ／Ｎをも
った上で耐久性を同時に満足できる構成となっているこ
とを示すものである。
参照しながら説明する。図１は本発明の一実施例の磁気
記録媒体の製造方法の説明図である。図１（ａ）は、電
子ビーム蒸発源の説明図で、１０は蒸着材料でＣｏ，Ｃ
ｏ−Ｎｉ，Ｃｏ−Ｃｒ等で材料の補給については適宜工
夫すれば良い。１１は蒸着材料を多くの場合溶融状態
（昇華材は別）で収納する蒸発源容器で、１２は１５kV
〜６０kVに加速された集束電子ビームで、１３，１４は
電子ビーム１２を偏向磁界発生器１５の磁界制御により
２種類の軌道に振りわけられた電子ビーム（１３をビー
ムＡ、１４をビームＢと呼ぶ）で、ビームＡ，ビームＢ
の時間振りわけについては、ビームＡをＴ A（sec）ビー
ムＢをＴB（sec）とすると、ＴA＋ＴBは５（msec）から
５０（msec）の範囲でＴA：ＴBは１０〜１／１０の範囲
で調整し、目的の蒸着に適合化すれば良い。又ビームの
照射角については、図１（ｂ）にて説明する。図１
（ｂ）は電子ビームの照射によって生じた蒸気分布を模
式的に示したもので、蒸気流ＡはビームＡの照射によっ
て生じたものを表わし、蒸気流Ｂは、ビームＢの照射に
よって生じたものを表わし、蒸気流Ｃは、移動する高分
子フィルムに蒸着される蒸発原子の等価的な蒸気流の分
布を表わすものである。この分布の制御はビームＡ，ビ
ームＢの制御パラメータである、パワー，集束度，ＴA,
ＴBの設定は勿論、ビームＡ，Ｂの照射角の条件によっ
て行えるもので、図１（ａ）に示した照射角の両者の差
である角αは２０度以上５０度迄の範囲が好ましく、従
来より行われている照射点で１００（Hz）程度の周波数
で振幅２０〜３０mm振動させるものとは異なる効果を発
揮するものである。等価的な蒸気流分布は、単一蒸気流
と異なり、図１（ｂ）に示すように、ハート型のよう
に、中央近くの蒸発量を少なくしたようにもできるし、
中央近くの蒸発量のみを突出させることもでき、目的の
蒸着によって制御できるものである。一例として、ハー
ト型の分布に制御することで、図１（ｃ）の蒸着膜の深
さ方向の元素分布をオージェ電子分光法で測定した結果
を示したように、酸素とＣｏ元素の量の比率が深さ方向
で異なり、図中のＺｏｎｅＩとＺｏｎｅIIにＣｏの酸化
によってできる非磁性部ができることを示したもので、
この分布は、柱状微粒子が内部の深さ方向のある部分で
（中央とは限らないが）非磁性分離層を持つことにな
り、２層蒸着膜と同じように後述する優れたＣ／Ｎをも
った上で耐久性を同時に満足できる構成となっているこ
とを示すものである。
【００１１】厚み１０μｍの粗さ１６nmの微粒子塗布層
をもったポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、
直径１．５ｍの円筒キャンに沿わせて、入射角９０度か
ら３０度迄の範囲でＣｏ−Ｎｉ（Ｎｉ：２０wt％）を電
子ビーム蒸着した。酸素ガスを入射角が２０度となる線
上で、マスクの内側に配し、酸素を導入できるようにし
た。電子ビーム蒸発源は、蒸発源容器をＭｇＯのボート
型とし、実施例Ａは４０（kV）の電子線を２種類の照射
角のなす角αを２８°とし、ＴA＝５（msec），ＴB＝８
（msec）とし、酸素は０．６（ｌ／min）導入し、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏ膜を０．１４μｍ形成した。実施例Ｂは、４
０（kV）の電子線を２種類の照射角のなす角を４０度と
し、ＴA＝１０（msec），ＴB＝５（msec）とし酸素は
０．７（ｌ／min）導入し、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ膜を０．１
４μｍ形成した。実施例Ｃは３０（kV）の電子線を２種
類の照射角２２度とし、ＴA＝３０（msec），ＴB＝３０
（msec）とし、酸素は０．５（ｌ／min）導入し、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏ膜を０．１２μｍ形成した。従来例は４０
（kV）の電子線をほぼ垂直入射させて蒸着した。酸素導
入は０．９（ｌ／min）とし、１層目と２層目は同一条
件で２層として０．１６μｍとなるように形成した。夫
々、パーフルオロアラキン酸を約５０Å塗布し、８ミリ
テープとしハイバンド８ミリでの輝度信号のＣ／Ｎを相
対比較し、耐久性は、３℃１０％ＲＨのスチル特性で比
較した。
をもったポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、
直径１．５ｍの円筒キャンに沿わせて、入射角９０度か
ら３０度迄の範囲でＣｏ−Ｎｉ（Ｎｉ：２０wt％）を電
子ビーム蒸着した。酸素ガスを入射角が２０度となる線
上で、マスクの内側に配し、酸素を導入できるようにし
た。電子ビーム蒸発源は、蒸発源容器をＭｇＯのボート
型とし、実施例Ａは４０（kV）の電子線を２種類の照射
角のなす角αを２８°とし、ＴA＝５（msec），ＴB＝８
（msec）とし、酸素は０．６（ｌ／min）導入し、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏ膜を０．１４μｍ形成した。実施例Ｂは、４
０（kV）の電子線を２種類の照射角のなす角を４０度と
し、ＴA＝１０（msec），ＴB＝５（msec）とし酸素は
０．７（ｌ／min）導入し、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｏ膜を０．１
４μｍ形成した。実施例Ｃは３０（kV）の電子線を２種
類の照射角２２度とし、ＴA＝３０（msec），ＴB＝３０
（msec）とし、酸素は０．５（ｌ／min）導入し、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｏ膜を０．１２μｍ形成した。従来例は４０
（kV）の電子線をほぼ垂直入射させて蒸着した。酸素導
入は０．９（ｌ／min）とし、１層目と２層目は同一条
件で２層として０．１６μｍとなるように形成した。夫
々、パーフルオロアラキン酸を約５０Å塗布し、８ミリ
テープとしハイバンド８ミリでの輝度信号のＣ／Ｎを相
対比較し、耐久性は、３℃１０％ＲＨのスチル特性で比
較した。
【００１２】本実施例によって製造された磁気記録媒体
の特性と従来の方法によって製造された磁気記録媒体の
特性を（表１）に比較して示している。
の特性と従来の方法によって製造された磁気記録媒体の
特性を（表１）に比較して示している。
【００１３】
【表１】
【００１４】この（表１）から明らかなように、本実施
例によって製造された磁気記録媒体は、従来の２層構成
と同じ程度の優れたＣ／Ｎと、単層品のスチル耐久性を
兼ね備えた優れた実用性を有するものである。
例によって製造された磁気記録媒体は、従来の２層構成
と同じ程度の優れたＣ／Ｎと、単層品のスチル耐久性を
兼ね備えた優れた実用性を有するものである。
【００１５】以上のように、本実施例によれば、電子ビ
ーム蒸発源の加熱蒸発を照射角の異なる２水準に振動さ
せて行うことで、単層構造の柱状微粒子でありながら、
２層構造の柱状微粒子と磁気的に近づいた磁性層を製造
でき、耐久性とＣ／Ｎの優れた磁気記録媒体を量産する
ことができる。
ーム蒸発源の加熱蒸発を照射角の異なる２水準に振動さ
せて行うことで、単層構造の柱状微粒子でありながら、
２層構造の柱状微粒子と磁気的に近づいた磁性層を製造
でき、耐久性とＣ／Ｎの優れた磁気記録媒体を量産する
ことができる。
【００１６】なお、前述の実施例において、酸素を導入
した例をのべたが、酸素を導入せずに蒸着し、高入射角
側の蒸気成分を増大させて結晶磁気異方性を大きくし、
角型性の良い強磁性金属薄膜を形成する上でも効果があ
るし、磁気テープはもとより磁気ディスクの製造におい
ても有用であることは言うまでもない。
した例をのべたが、酸素を導入せずに蒸着し、高入射角
側の蒸気成分を増大させて結晶磁気異方性を大きくし、
角型性の良い強磁性金属薄膜を形成する上でも効果があ
るし、磁気テープはもとより磁気ディスクの製造におい
ても有用であることは言うまでもない。
【００１７】
【発明の効果】以上のように本発明は、電子ビーム加熱
の入射ビームの照射角を２水準振動させることにより、
Ｃ／Ｎとスチル耐久性の優れた磁気記録媒体を製造する
方法を実現できるものである。
の入射ビームの照射角を２水準振動させることにより、
Ｃ／Ｎとスチル耐久性の優れた磁気記録媒体を製造する
方法を実現できるものである。
【図１】（ａ）は本発明の一実施例における電子ビーム
加熱の照射方向説明図 （ｂ）は蒸気分布説明図 （ｃ）は蒸着膜のオージェ電子分光による深さ方向の元
素分布図
加熱の照射方向説明図 （ｂ）は蒸気分布説明図 （ｃ）は蒸着膜のオージェ電子分光による深さ方向の元
素分布図
【図２】従来の蒸着装置の要部構成図
１０ 蒸着材料 １２ 電子ビーム １３ 電子ビーム １４ 電子ビーム
Claims (1)
- 【請求項１】回転支持体に沿って移動する高分子フィル
ムに強磁性金属を電子ビーム蒸着する際、電子ビーム加
熱の入射ビームの照射角を異なる２種類の角度に振動さ
せることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28830991A JPH05128513A (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28830991A JPH05128513A (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128513A true JPH05128513A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=17728510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28830991A Pending JPH05128513A (ja) | 1991-11-05 | 1991-11-05 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05128513A (ja) |
-
1991
- 1991-11-05 JP JP28830991A patent/JPH05128513A/ja active Pending
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