JPH05124371A - Metal mask for screen printing and production thereof - Google Patents

Metal mask for screen printing and production thereof

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JPH05124371A
JPH05124371A JP31537291A JP31537291A JPH05124371A JP H05124371 A JPH05124371 A JP H05124371A JP 31537291 A JP31537291 A JP 31537291A JP 31537291 A JP31537291 A JP 31537291A JP H05124371 A JPH05124371 A JP H05124371A
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target mark
resist film
electroforming
metal layer
pattern portion
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博士 嶋津
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Abstract

PURPOSE:To form a target mark by electroforming simultaneously with a printing pattern part and to make the same easy to read by a CCD camera, in the target mark provided to a metal mask for screen printing in order to use the mark in the alignment with matter to be printed, by forming the planar shape of the mask into an annular shape. CONSTITUTION:A resist film 11 having a printing pattern part and a pattern for a target mark is formed to the surface of a matrix 16 and the pattern part 11a for the target mark is made thinner than the printing pattern part and formed into an annular shape to perform electroforming. In this way, the target mark can be formed so that the outer diameter thereof is made as large as possible in order to make the mark easy to read by a CCD camera. Further, the target mark can be formed into a blind hole by overhang using electroforming.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、たとえばICやLSI
用プリント配線、もしくは各種表示用デバイス等に係る
パターン形成などのスクリーン印刷に好適に使用される
スクリーン印刷用メタルマスク、およびその製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to, for example, ICs and LSIs.
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a screen printing metal mask that is preferably used for screen printing such as printed wiring for wiring or pattern formation for various display devices and the like, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種のスクリーン印刷用メタルマスク
として、たとえば、特開平1−214864号公報に開
示されているようにマスク基板にインキ・ぺースト通し
用の開口部のほかに、被印刷物との位置合わせに用いる
ターゲットマークを設けるものがある。そこでは、図6
の(A)に示すようにステンレスなどのマスク基板1の
表裏両面に所望パターンのレジスト膜20を形成したの
ちエッチングすることによりインキ・ぺースト通し用の
開口部2とターゲットマーク4をパターンニング形成し
ている。そのターゲットマーク4としては、同図の
(C)に示すように両面エッチングによりマスク基板1
の表裏両面に貫通させる貫通穴形のものと、同図の
(B)に示すように片面エッチングにより盲穴状に形成
するのものとが開示されている。しかし、このエッチン
グによるものではインキ・ぺースト通し用の開口部2に
サイドエッチ21が発生するため、インキ・ぺーストの
通過性が不十分で、インキ・ぺースト残りが発生するば
かりか、開口部2の幅の一定したものが得難いため、と
くに精密印刷で一定幅のファインラインは出しにくい。
また、母材となるステンレスなどの板厚は規格等により
規定されているため、その範囲内でないとその厚みが決
められない。そのため母材の厚みによってメタルマスク
の厚みが決まってしまい、メタルマスク製品厚の選択の
自由度が制約されるといった難点がある。
2. Description of the Related Art As a metal mask for screen printing of this type, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-214864, in addition to an opening for passing an ink / paste on a mask substrate, an object to be printed is used. There are some which provide a target mark used for the alignment of the. There, FIG.
As shown in (A), a resist film 20 having a desired pattern is formed on both front and back surfaces of a mask substrate 1 made of stainless steel or the like and then etched to form an opening 2 for ink / paste passage and a target mark 4 by patterning. is doing. As the target mark 4, the mask substrate 1 is formed by double-sided etching as shown in FIG.
There are disclosed through-holes that penetrate both the front and back sides, and those that are formed into blind holes by single-sided etching as shown in FIG. However, with this etching, since the side etch 21 is generated in the opening 2 for passing the ink paste, the ink paste is not sufficiently passable, and not only the ink paste remains but also the opening is generated. Since it is difficult to obtain a part 2 having a constant width, it is difficult to produce a fine line having a constant width particularly in precision printing.
Further, the plate thickness of the base material such as stainless steel is defined by standards and the like, so that the thickness cannot be determined unless it is within the range. Therefore, there is a problem that the thickness of the metal mask is determined by the thickness of the base material, and the degree of freedom in selecting the metal mask product thickness is restricted.

【0003】これに対し、図7の(B)に示すように電
鋳製のものがある(文献不詳)。これは、図7の(A)
に示すように電鋳母型6の表面にインキ・ぺースト通し
用の開口部2のパターン部11bとターゲットマーク用
のパターン部11aとを有するレジスト膜11を形成し
たのち、母型6のレジスト膜11で覆われていない表面
にニッケルなどの電鋳を行って電着金属層12を形成
し、最後に電着金属層12を剥離して同図の(B)に示
すごとくインキ・ぺースト通し用の開口部2とターゲッ
トマーク4とを有するメタルマスクを得るものである。
これによれば、電着金属層12はレジスト膜11の肉厚
(内壁)でその広がりが抑えられるので、その開口部2
に、エッチングによる場合のごときサイドエッチ21が
無くて、開口部2の幅をほぼ一定にすることができ、イ
ンキ・ぺーストの抜け性が良好となり、一定幅のファイ
ンライン印刷が可能となる。また、エッチングの場合は
表裏両面からエッチングするため、その両面にレジスト
膜20を形成しなければならないが、電鋳によれば母型
表面の片面のみにレジスト膜11を形成することで足
り、また所望厚のメタルマスクを自由に得られ、この点
でも有利である。
On the other hand, there is an electroformed product as shown in FIG. 7B (unknown document). This is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, a resist film 11 having a pattern portion 11b of an ink paste passing opening 2 and a target mark pattern portion 11a is formed on the surface of the electroforming mother die 6, and then the resist of the mother die 6 is formed. Electroplating of nickel or the like is performed on the surface not covered with the film 11 to form the electrodeposited metal layer 12, and finally the electrodeposited metal layer 12 is peeled off to form an ink paste as shown in FIG. A metal mask having a through opening 2 and a target mark 4 is obtained.
According to this, since the spread of the electrodeposited metal layer 12 is suppressed by the thickness (inner wall) of the resist film 11, the opening 2 thereof is prevented.
In addition, since there is no side etch 21 as in the case of etching, the width of the opening 2 can be made substantially constant, the ink paste can be easily removed, and fine line printing of a constant width can be performed. Further, in the case of etching, since the etching is performed from both the front and back sides, the resist films 20 must be formed on both sides thereof. However, according to electroforming, it is sufficient to form the resist film 11 on only one surface of the mother die surface. A metal mask having a desired thickness can be freely obtained, which is also advantageous in this respect.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】このように電鋳による
メタルマスクはエッチングによるものに比べて種々の利
点を有するが、上記した電鋳法ではレジスト膜11のイ
ンキ・ぺースト通し用の開口部2のパターン部の厚とタ
ーゲットマークのパターン部の厚とを同じにしたものを
用いて電鋳するため、インキ・ぺースト通し用の開口部
2と同様に、ターゲットマーク4も貫通穴形に形成され
てしまう点で不利である。すなわち、ターゲットマーク
4が貫通穴形である場合は、前掲の特開平1−2148
64号公報にも記載されているようにこのメタルマスク
を使用して被印刷物たるプリント配線基板にスクリーン
印刷を行う場合、CCDカメラでスクリーン印刷用メタ
ルマスクのターゲットマークとプリント配線基板のター
ゲットマークを計測し、その位置合わせまたは位置決め
を行うが、印刷時、メタルマスクのターゲットマークの
貫通穴を通じて無駄なハンダペーストがプリント配線基
板のターゲットマークに印刷され、後工程でブリッジ発
生などの不良原因となる。こうした問題を解消するため
に、まず、図8の(A)に示すように電鋳母型6の表面
にインキ・ぺースト通し用の開口部2のパターンを有す
るレジスト膜11を形成したのち、母型6のレジスト膜
11で覆われていない表面にニッケルなどの電鋳を行っ
て電着金属層12を形成し、しかるのち同図の(B)に
示すようにレジスト膜11を洗浄除去し、電着金属層1
2を母型6から剥離する。次いで同図の(C)に示すよ
うにその電着金属層12の表裏両面にフィルムレジスト
22を密着させてエッチングすることにより、盲穴形の
ターゲットマーク4を形成する方法が考えられる。しか
し、これでは電鋳工程およびエッチング工程の多くの工
程を要し、コスト高となり、またメタルマスクに対しフ
ィルムレジスト22を密着させるときに位置ずれを生じ
やすく、ターゲットマーク4を所定位置に正確に形成し
難い。
As described above, the metal mask formed by electroforming has various advantages over the one formed by etching. However, in the above-described electroforming method, the opening for ink and paste passage of the resist film 11 is formed. Since electroforming is performed using the pattern portion 2 having the same thickness as the pattern portion of the target mark, the target mark 4 also has a through-hole shape like the opening 2 for passing the ink paste. It is disadvantageous in that it is formed. That is, when the target mark 4 has a through-hole shape, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 1-2148
As described in Japanese Patent No. 64, when performing screen printing on a printed wiring board which is an object to be printed using this metal mask, the target mark of the metal mask for screen printing and the target mark of the printed wiring board are set by a CCD camera. Although it is measured and aligned or positioned, useless solder paste is printed on the target mark of the printed wiring board through the through hole of the target mark of the metal mask during printing, which may cause defects such as bridge formation in the subsequent process. .. In order to solve such a problem, first, as shown in FIG. 8 (A), a resist film 11 having a pattern of openings 2 for passing an ink / paste is formed on the surface of an electroforming mother die 6, and then, The surface of the matrix 6 not covered with the resist film 11 is electroformed with nickel or the like to form an electrodeposited metal layer 12, and then the resist film 11 is washed away as shown in FIG. , Electrodeposited metal layer 1
2 is peeled from the matrix 6. Then, as shown in (C) of the same drawing, a method of forming the blind hole-shaped target mark 4 by bringing the film resist 22 into close contact with both the front and back surfaces of the electrodeposited metal layer 12 and etching it is possible. However, this requires many steps such as an electroforming step and an etching step, resulting in a high cost, and when the film resist 22 is brought into close contact with the metal mask, a positional deviation easily occurs, so that the target mark 4 can be accurately positioned at a predetermined position. It is difficult to form.

【0005】そこで、本発明はこうした問題をも解消す
るためになされたもので、インキ・ぺースト通し用の開
口部と盲穴形のターゲットマークを有するメタルマスク
を全て電鋳法で製造することにより、少ない工程で低コ
ストで、しかもターゲットマークを所定位置に正確に形
成できるスクリーン印刷用メタルマスク、およびその製
造方法を提供せんとするものである。本発明の他の目的
は、盲穴形のターゲットマークの平面形状を改良するこ
とによりCCDカメラでそのターゲットマークを読み取
り易くする点にある。
Therefore, the present invention has been made in order to solve such a problem, and a metal mask having an opening for passing an ink paste and a blind hole-shaped target mark is manufactured by electroforming. Accordingly, the present invention provides a metal mask for screen printing that can accurately form a target mark at a predetermined position with a small number of steps, and a manufacturing method thereof. Another object of the present invention is to improve the planar shape of the blind hole target mark so that the CCD camera can easily read the target mark.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、図示例のよう
に、電着金属からなるマスク基板1に所望の印刷パター
ンにパターンニング形成されたインキ・ぺースト通し用
の開口部2と、被印刷物との位置合わせに用いる盲穴形
のターゲットマーク4とを有するスクリーン印刷用メタ
ルマスクにおいて、ターゲットマーク4を環状に形成し
たものである。ここに、環状とは、円形輪や楕円形輪の
ようなものに限られず、多角形輪のような形も含む意味
に用いる。
According to the present invention, as shown in the drawings, an ink paste passage opening 2 is formed on a mask substrate 1 made of an electrodeposited metal in a desired printing pattern. In a metal mask for screen printing having a blind hole-shaped target mark 4 used for alignment with an object to be printed, the target mark 4 is formed in an annular shape. Here, the term “ring” is used to mean a shape such as a polygonal ring as well as a circular ring or an elliptical ring.

【0007】本発明のスクリーン印刷用メタルマスクの
製造方法は、電鋳母型6の表面にインキ・ぺースト通し
用の開口部2のパターン部11bと環状のターゲットマ
ーク用のパターン部11aとを有するレジスト膜11を
形成する工程と、レジスト膜11のターゲットマーク用
のパターン部分11aをターゲットマーク4の深さに合
わせて所定高さにカットする工程と、母型6のレジスト
膜11で覆われていない表面に電鋳によって電着金属層
12を形成する工程と、電着金属層12を母型6から剥
離する工程とからなる。
In the method for producing a metal mask for screen printing of the present invention, the pattern portion 11b of the opening 2 for passing the ink paste and the pattern portion 11a for the annular target mark are formed on the surface of the electroforming mold 6. The step of forming the resist film 11 having the step, the step of cutting the target mark pattern portion 11a of the resist film 11 to a predetermined height according to the depth of the target mark 4, and the step of covering with the resist film 11 of the master block 6. It comprises a step of forming the electrodeposited metal layer 12 by electroforming on the uncoated surface and a step of peeling the electrodeposited metal layer 12 from the matrix 6.

【0008】また、本発明のスクリーン印刷用メタルマ
スクの製造方法は、電鋳母型6の表面にインキ・ぺース
ト通し用の開口部2のパターン部11bと環状のターゲ
ットマーク用のパターン部11aとを有するレジスト膜
11を形成する工程と、母型6のレジスト膜11で覆わ
れていない表面に電鋳によって電着金属層12をターゲ
ットマーク4の深さにまで形成する工程と、レジスト膜
11のターゲットマーク用のパターン部11aの電着金
属層12の表面から突出する部分をカットする工程と、
前記電着金属層12の上に更に電着してレジスト膜11
の全高の高さにまで電着形成する工程と、電着金属層1
2を母型6から剥離する工程とからなる。
Further, according to the method of manufacturing a metal mask for screen printing of the present invention, the pattern portion 11b of the opening 2 for passing the ink paste and the pattern portion 11a for the annular target mark are formed on the surface of the electroforming mother die 6. A step of forming a resist film 11 having: and a step of forming an electrodeposited metal layer 12 on the surface of the mother die 6 not covered with the resist film 11 to the depth of the target mark 4 by electroforming, the resist film 11, a step of cutting a portion of the target mark pattern portion 11a protruding from the surface of the electrodeposited metal layer 12;
A resist film 11 is formed by further electrodeposition on the electrodeposited metal layer 12.
Of electrodeposition forming to the entire height of the electrodeposited metal layer 1
2 is separated from the mother die 6.

【0009】[0009]

【作用】ターゲットマーク4は盲穴に形成してあるの
で、印刷時、プリント配線基板のターゲットマークに無
駄なハンダペーストが印刷されるようなことがなくな
る。したがって後工程での自動ハンダペースト付け時の
ブリッジ発生などの不良原因を排除できる。
Since the target mark 4 is formed in the blind hole, useless solder paste is not printed on the target mark of the printed wiring board during printing. Therefore, it is possible to eliminate the cause of defects such as a bridge at the time of automatic solder paste application in the subsequent process.

【0010】ターゲットマーク4は環状に形成してある
ので、CCDカメラで読み取り易くするためにその外径
をできる限り大きく形成できるとともに、電鋳のオーバ
ハングにより盲穴に形成できる。これが、ターゲットマ
ーク4を環状でなく、図7の(B)に示すごとく単一円
形でかつその径を大きく形成するとCCDカメラで読み
取り易いが、電鋳時にオーバハングしないため、貫通穴
になってしまい、かと言って単一円形でかつその径を小
さくすれば電鋳のオーバハングにより盲穴に形成できて
もCCDカメラで読み取れにくくなるのである。
Since the target mark 4 is formed in an annular shape, its outer diameter can be formed as large as possible in order to make it easy to read by a CCD camera, and it can be formed in a blind hole by electroforming overhang. If the target mark 4 is formed in a single circle and has a large diameter as shown in FIG. 7B instead of an annular shape, it is easy to read with a CCD camera, but it does not overhang during electroforming, so it becomes a through hole. However, if it is a single circle and its diameter is made small, it will be difficult for the CCD camera to read even if it can be formed in a blind hole due to overhang of electroforming.

【0011】レジスト膜11のターゲットマーク用のパ
ターン部11aの厚をインキ・ぺースト通し用の開口部
2のパターン部11bの厚よりも薄くするレジスト膜1
1を用いて電鋳するので、インキ・ぺースト通し用の開
口部2と同時に、盲穴形のターゲットマーク4を環状に
電鋳形成することができる。
The resist film 1 in which the thickness of the target mark pattern portion 11a of the resist film 11 is made thinner than the thickness of the pattern portion 11b of the ink paste passage opening 2 is formed.
Since electroforming is performed using No. 1, the blind hole-shaped target mark 4 can be electroformed at the same time as the opening 2 for passing the ink paste.

【0012】[0012]

【発明の効果】本発明によれば、インキ・ぺースト通し
用の開口部2と盲穴形のターゲットマーク4を有するメ
タルマスクを全て電鋳法で製造するので、少ない工程で
低コストで、しかもターゲットマーク4を所定位置に正
確に形成できるとともに、無駄な印刷およびブリッジ発
生を防止できる。しかも、そのターゲットマーク4は環
状に形成するので、盲穴に形成できながら外径をできる
限り大きく形成できてCCDカメラで読み取り易くなる
といった効果が得られる。
According to the present invention, the metal mask having the opening 2 for passing the ink and the paste and the target mark 4 in the form of a blind hole is manufactured by electroforming, so that the number of steps is low and the cost is low. Moreover, the target mark 4 can be accurately formed at a predetermined position, and useless printing and bridging can be prevented. Moreover, since the target mark 4 is formed in an annular shape, the outer diameter can be formed as large as possible while being formed as a blind hole, and it is easy to read with a CCD camera.

【0013】[0013]

【実施例】図1および図2において、このスクリーン印
刷用メタルマスクは、マスク基板1に所望の印刷パター
ンにパターンニング形成されたインキ・ぺースト通し用
の開口部2群を有する印刷用パターン部3と、被印刷物
との位置合わせに用いるターゲットマーク4を設けてい
る。ターゲットマーク4は盲穴に、かつ平面形状を円形
の環状に形成している。マスク基板1の厚tを200μ
とした場合、円形の環状のターゲットマーク4は、内径
dを800〜900μ程度に、外径Dを1000μ程度
に、深さhを20〜50μ程度に設定する。なお、円形
の環状に代えて、楕円形あるいは多角形の環状に形成す
ることもできる。CCDカメラでターゲットマーク4を
より識別しやすくするために、ターゲットマーク4の凹
みにはマスク基板1の表面の反射率とは異なる反射率の
樹脂などを充填させることができる。ただし、ターゲッ
トマーク4の凹みにより生じる陰影でマスク基板1の表
面の反射率と異なることになる場合は必ずしもそれを充
填させる必要はない。
1 and 2, this metal mask for screen printing has a pattern portion for printing having a group of openings 2 for passing an ink and a paste formed on a mask substrate 1 by patterning into a desired printing pattern. 3 and a target mark 4 used for aligning the printed material. The target mark 4 is formed in a blind hole and has a circular annular shape in plan view. The thickness t of the mask substrate 1 is 200 μ
In this case, the circular annular target mark 4 has an inner diameter d of about 800 to 900 μ, an outer diameter D of about 1000 μ, and a depth h of about 20 to 50 μ. Instead of the circular ring, it may be formed into an elliptical or polygonal ring. In order to make it easier to identify the target mark 4 with the CCD camera, the recess of the target mark 4 can be filled with a resin having a reflectance different from the reflectance of the surface of the mask substrate 1. However, when the shadow generated by the depression of the target mark 4 is different from the reflectance of the surface of the mask substrate 1, it is not always necessary to fill it.

【0014】このスクリーン印刷用メタルマスクは電
鋳、たとえばニッケル電鋳によって製造する。図3の
(A)ないし(E)はその製造工程を示しており、ま
ず、同図の(A)に示すように電鋳母型6の表面にレジ
スト7を塗布またはラミネートする。次いで、同図の
(B)に示すようにレジスト7の上に、インキ・ぺース
ト通し用の開口部2のパターンと環状のターゲットマー
ク用のパターンとを有するパターンフィルム10を密着
させ、紫外線ランプにより焼き付け、現像、乾燥の各処
理を行って、同図の(C)に示すように環状のターゲッ
トマーク用のパターン部11aとインキ・ぺースト通し
用の開口部2のパターン部11bとを有するレジスト膜
11を形成する。次いで、同図の(D)に示すようにレ
ジスト膜11のターゲットマーク用のパターン部分11
aをターゲットマーク4の要求深さhに合わせてカッタ
ナイフなどで所定高さにカットする。次いで、同図の
(E)に示すように母型6のレジスト膜11で覆われて
いない表面に電鋳によって電着金属層12を形成する。
このとき、その電着の成長過程の中間段階において、図
4に示すごとくレジスト膜11の環状のターゲットマー
ク用のパターン部分11aの厚さが薄いため電着がレジ
スト膜11の環状のターゲットマーク用のパターン部分
11aの高さを越えて突出するように成長してオーバハ
ングするためターゲットマーク4を盲穴に形成すること
ができる。最後に、電着金属層12の表面側を研磨した
後レジスト膜11を洗浄除去し、電着金属層12を母型
6から剥離する。このときターゲットマーク4の盲穴内
のレジスト膜11aは除去しても、残したままにしてお
いてもよい。ターゲットマーク4の盲穴内にレジスト膜
11aを残しておいた場合は、電着金属層12の表面の
反射率と異ならせることができ、CCDカメラでターゲ
ットマーク4をより識別し易くなる。または、ターゲッ
トマーク4の盲穴内には、レジスト膜11aの除去後、
別途電着金属層12の表面と反射率が異なる合成樹脂や
塗料などを充填してもよい。これにより図1に示すよう
に電着金属からなるマスク基板1にインキ・ぺースト通
し用の開口部2と盲穴形で環状のターゲットマーク4を
有するスクリーン印刷用メタルマスクを得ることができ
た。因に、印刷に際しては上記電着金属層12の母型側
をスキージ面とする。
This screen printing metal mask is manufactured by electroforming, for example, nickel electroforming. FIGS. 3A to 3E show the manufacturing process, and first, as shown in FIG. 3A, a resist 7 is applied or laminated on the surface of the electroformed mold 6. Then, as shown in FIG. 3B, a pattern film 10 having a pattern of openings 2 for passing ink and paste and a pattern for an annular target mark is adhered on the resist 7, and an ultraviolet lamp is used. After printing, development, and drying are performed by the method described above, and as shown in (C) of the figure, an annular target mark pattern portion 11a and an ink paste passing opening portion 2 pattern portion 11b are provided. The resist film 11 is formed. Then, as shown in FIG. 3D, the target mark pattern portion 11 of the resist film 11 is formed.
According to the required depth h of the target mark 4, a is cut to a predetermined height with a cutter knife or the like. Then, as shown in (E) of the same figure, an electrodeposited metal layer 12 is formed by electroforming on the surface of the mother die 6 which is not covered with the resist film 11.
At this time, in the intermediate stage of the growth process of the electrodeposition, since the pattern portion 11a for the annular target mark of the resist film 11 is thin as shown in FIG. 4, the electrodeposition is for the annular target mark of the resist film 11. The target mark 4 can be formed in a blind hole because it grows so as to protrude beyond the height of the pattern portion 11a and overhangs. Finally, after polishing the surface side of the electrodeposited metal layer 12, the resist film 11 is washed and removed, and the electrodeposited metal layer 12 is peeled from the matrix 6. At this time, the resist film 11a in the blind hole of the target mark 4 may be removed or left as it is. When the resist film 11a is left in the blind hole of the target mark 4, the reflectance can be different from the reflectance of the surface of the electrodeposited metal layer 12, and the target mark 4 can be more easily identified by the CCD camera. Alternatively, after removing the resist film 11a in the blind hole of the target mark 4,
Separately, a synthetic resin or paint having a reflectance different from that of the surface of the electrodeposited metal layer 12 may be filled. As a result, as shown in FIG. 1, it was possible to obtain a screen printing metal mask having an opening 2 for passing an ink paste and a blind target-shaped annular target mark 4 on a mask substrate 1 made of an electrodeposited metal. .. Incidentally, in printing, the master mold side of the electrodeposited metal layer 12 is used as the squeegee surface.

【0015】上記実施例ではレジスト膜11のターゲッ
トマーク用のパターン部分11aを電鋳前に予め所定高
さにカットするが、これに代えて電鋳途中でそのカット
を行うこともできる。すなわち、図5の(A)ないし
(F)にその製造工程を示すように、電鋳母型6の表面
にインキ・ぺースト通し用の開口部2のパターンと環状
のターゲットマーク用のパターンとを有するレジスト膜
11を形成する工程(同図の(A)ないし(C)まで
は、上記実施例の場合と同様である。以後の工程におい
て、本実施例では、同図の(D)に示すように母型6の
レジスト膜11で覆われていない表面に電鋳によって電
着金属層12をターゲットマーク4の要求深さhにまで
形成する。次いで、同図の(E)に示すようにレジスト
膜11のターゲットマーク用のパターン部分11aの電
着金属層12の表面から突出する部分をカッタナイフな
どでカットする。次いで、同図(F)に示すように前記
電着金属層12の上に更に電着してレジスト膜11の全
高の高さにまで電着金属層12を形成することにより、
上記実施例の場合と同様にオーバハングにより環状のタ
ーゲットマーク4が盲穴形に形成される。最後に、電着
金属層12を母型6から剥離する。
In the above embodiment, the target mark pattern portion 11a of the resist film 11 is cut to a predetermined height before electroforming, but it may be cut during electroforming instead of this. That is, as shown in FIGS. 5 (A) to 5 (F), the pattern of the openings 2 for passing the ink / paste and the pattern for the annular target mark are formed on the surface of the electroforming mold 6. The process of forming the resist film 11 having the above (up to (A) to (C) of the same figure is the same as the case of the above embodiment. As shown in the figure, an electrodeposited metal layer 12 is formed on the surface of the matrix 6 not covered with the resist film 11 by electroforming to a required depth h of the target mark 4. Then, as shown in FIG. Then, the portion of the pattern portion 11a for the target mark of the resist film 11 protruding from the surface of the electrodeposited metal layer 12 is cut with a cutter knife or the like, and then, as shown in FIG. Electrodeposit on top and resist By forming up electrodeposited metal layer 12 to the total height of the height of 11,
As in the case of the above embodiment, the annular target mark 4 is formed in a blind hole shape by the overhang. Finally, the electrodeposited metal layer 12 is peeled off from the matrix 6.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図2におけるA−A線拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view taken along the line AA in FIG.

【図2】スクリーン印刷用メタルマスク全体の斜視図で
ある。
FIG. 2 is a perspective view of the entire screen printing metal mask.

【図3】スクリーン印刷用メタルマスクの電鋳工程図で
ある。
FIG. 3 is an electroforming process diagram of a metal mask for screen printing.

【図4】ターゲットマーク部分の電鋳成長過程の組織を
示す断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a structure of a target mark portion in an electroforming growth process.

【図5】他の実施例を示す電鋳工程図である。FIG. 5 is an electroforming process chart showing another embodiment.

【図6】従来例のスクリーン印刷用メタルマスクのエッ
チング工程図である。
FIG. 6 is an etching process diagram of a conventional screen printing metal mask.

【図7】他の従来例のスクリーン印刷用メタルマスクの
電鋳工程図である。
FIG. 7 is an electroforming process drawing of another conventional screen printing metal mask.

【図8】比較例のスクリーン印刷用メタルマスクの製造
工程図である。
FIG. 8 is a manufacturing process diagram of a screen printing metal mask of a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 マスク基板 2 インキ・ぺースト通し用の開口部 4 ターゲットマーク 6 電鋳母型 11 レジスト膜 12 電着金属層 1 Mask Substrate 2 Opening for Passing Ink and Paste 4 Target Mark 6 Electroforming Mold 11 Resist Film 12 Electrodeposited Metal Layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電着金属からなるマスク基板1に所望の
印刷パターンにパターンニング形成されたインキ・ぺー
スト通し用の開口部2と、被印刷物との位置合わせに用
いる盲穴形のターゲットマーク4とを有するスクリーン
印刷用メタルマスクにおいて、 ターゲットマーク4が環状に形成されていることを特徴
とするスクリーン印刷用メタルマスク。
1. A blind hole-shaped target mark used for aligning an opening 2 for passing an ink paste, which is patterned and formed into a desired printing pattern on a mask substrate 1 made of an electrodeposited metal, and used for aligning with an object to be printed. 4. A metal mask for screen printing, wherein the target mark 4 is formed in an annular shape.
【請求項2】 電鋳母型6の表面にインキ・ぺースト通
し用の開口部2のパターン部11bと環状のターゲット
マーク用のパターン部11aとを有するレジスト膜11
を形成する工程と、 レジスト膜11の環状のターゲットマーク用のパターン
部11aをターゲットマーク4の深さに合わせて所定高
さにカットする工程と、 母型6のレジスト膜11で覆われていない表面に電鋳に
よって電着金属層12を形成する工程と、 電着金属層12を母型6から剥離する工程とからなるス
クリーン印刷用メタルマスクの製造方法。
2. A resist film 11 having a pattern portion 11b of an ink paste passage opening 2 and an annular target mark pattern portion 11a on the surface of an electroforming mother die 6.
And a step of cutting the ring-shaped target mark pattern portion 11a of the resist film 11 to a predetermined height according to the depth of the target mark 4, and a step of not being covered with the resist film 11 of the master block 6. A method for producing a metal mask for screen printing, which comprises a step of forming an electrodeposited metal layer 12 on the surface by electroforming, and a step of peeling the electrodeposited metal layer 12 from the matrix 6.
【請求項3】 電鋳母型6の表面にインキ・ぺースト通
し用の開口部2のパターン部11bと環状のターゲット
マーク用のパターン部11aとを有するレジスト膜11
を形成する工程と、 母型6のレジスト膜11で覆われていない表面に電鋳に
よって電着金属層12をターゲットマーク4の深さにま
で形成する工程と、 レジスト膜11の環状のターゲットマーク用のパターン
部分11aの電着金属層12の表面から突出する部分を
カットする工程と、 前記電着金属層12の上に更に電着してレジスト膜11
の全高の高さにまで電着形成する工程と、 電着金属層12を母型6から剥離する工程とからなるス
クリーン印刷用メタルマスクの製造方法。
3. A resist film 11 having a pattern portion 11b of an opening 2 for passing an ink paste and a pattern portion 11a for an annular target mark on the surface of an electroforming mother die 6.
And a step of forming an electrodeposited metal layer 12 on the surface of the mother die 6 which is not covered with the resist film 11 by electroforming to a depth of the target mark 4, and an annular target mark of the resist film 11. A step of cutting the portion of the pattern portion 11a for use in projection that protrudes from the surface of the electrodeposited metal layer 12, and further electrodeposition on the electrodeposited metal layer 12 to form the resist film 11
And a step of peeling the electrodeposited metal layer 12 from the matrix 6 to form a metal mask for screen printing.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010155344A (en) * 2008-12-26 2010-07-15 Sonocom Co Ltd Metal mask equipped with recognition mark and method for manufacturing the same
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CN110962439A (en) * 2018-09-30 2020-04-07 张娜娜 Wire mesh cloth, weaving method of wire mesh cloth and screen printing screen

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