JPH05123544A - 濾過装置 - Google Patents
濾過装置Info
- Publication number
- JPH05123544A JPH05123544A JP31534191A JP31534191A JPH05123544A JP H05123544 A JPH05123544 A JP H05123544A JP 31534191 A JP31534191 A JP 31534191A JP 31534191 A JP31534191 A JP 31534191A JP H05123544 A JPH05123544 A JP H05123544A
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- Japan
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- gas
- permeable membrane
- case
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ディスク型透過膜ユニットを積層した濾過エレ
メントを有する濾過装置において、ガス発生性の原液で
あっても透過膜ユニット間でのガスの溜りを防止して常
に充分な濾過面積を確保できる濾過装置を提供する。 【構成】ディスク型の透過膜ユニットを積層し、内部に
透過液ポ−トを設けた濾過エレメントを、原液入口を有
するケ−ス内に収容し、該ケ−スにガス抜き口を設けて
なる濾過装置本体に、ディスク型透過膜ユニットに溜っ
たガスを押出す透過液逆流装置を付設したことを特徴と
する。
メントを有する濾過装置において、ガス発生性の原液で
あっても透過膜ユニット間でのガスの溜りを防止して常
に充分な濾過面積を確保できる濾過装置を提供する。 【構成】ディスク型の透過膜ユニットを積層し、内部に
透過液ポ−トを設けた濾過エレメントを、原液入口を有
するケ−ス内に収容し、該ケ−スにガス抜き口を設けて
なる濾過装置本体に、ディスク型透過膜ユニットに溜っ
たガスを押出す透過液逆流装置を付設したことを特徴と
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は循環中の薬品から微粒子
を除去する場合に使用する濾過装置に関するものであ
る。
を除去する場合に使用する濾過装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造におけるウェハ−の薬品処理
においては、薬品を循環させ、循環路中の濾過装置で薬
品を濾過して、ウェハ−から除去された微粒子の薬品中
濃度の増大を防止し、薬品側からのウェハ−の所謂、逆
汚染を防止している。
においては、薬品を循環させ、循環路中の濾過装置で薬
品を濾過して、ウェハ−から除去された微粒子の薬品中
濃度の増大を防止し、薬品側からのウェハ−の所謂、逆
汚染を防止している。
【０００３】図３は半導体の製造に使用されている薬品
の循環・濾過システムを示し、薬品槽３’内を仕切り３
０’によって高液面部３１’と低液面部３２’とに分
け、低液面部３２’の薬品をポンプ４’（金属粉の発生
を防止するために、通常ベロ−ズポンプが使用されてい
る）により、濾過装置本体Ａ’に送り、この濾過装置本
体Ａ’で全量濾過を行ない、その透過薬品を薬品槽３’
の高液面部３１’に戻し、半導体の薬品処理を高液面部
３１’で行なっている。
の循環・濾過システムを示し、薬品槽３’内を仕切り３
０’によって高液面部３１’と低液面部３２’とに分
け、低液面部３２’の薬品をポンプ４’（金属粉の発生
を防止するために、通常ベロ−ズポンプが使用されてい
る）により、濾過装置本体Ａ’に送り、この濾過装置本
体Ａ’で全量濾過を行ない、その透過薬品を薬品槽３’
の高液面部３１’に戻し、半導体の薬品処理を高液面部
３１’で行なっている。
【０００４】上記濾過装置本体の透過膜には、耐熱性、
耐薬品性等が要求され、通常、四弗化エチレン樹脂等の
弗素樹脂系多孔質膜が使用されている。
耐薬品性等が要求され、通常、四弗化エチレン樹脂等の
弗素樹脂系多孔質膜が使用されている。
【０００５】しかし、この弗素樹脂系多孔質膜において
は、疎水性であり、使用前にエタノ−ル等で濡らした
後、水で洗浄し、而る後に、被処理液を濾過する必要が
ある。而して、一度液端で濡らされた膜においては、膜
のバルブポイント（孔径、０．１μｍの膜の場合で、
１．５kgf/cm2以上)以上の圧力を加えなければ、気体を
通過させ得ず、被処理薬品がガス発生性の薬品である場
合、例えば、硫酸・過酸化水素混合液の場合、透過膜の
一次側(原液側)で発生するガスが濾過装置本体のケ-ス
内に溜り、このガス溜りの成長によりケ−ス内の原液面
の低下が進行し、透過膜の一部がガス空間に曝されるに
至り、濾過面積の減少が招来され、透過流量の低下が避
けられない。
は、疎水性であり、使用前にエタノ−ル等で濡らした
後、水で洗浄し、而る後に、被処理液を濾過する必要が
ある。而して、一度液端で濡らされた膜においては、膜
のバルブポイント（孔径、０．１μｍの膜の場合で、
１．５kgf/cm2以上)以上の圧力を加えなければ、気体を
通過させ得ず、被処理薬品がガス発生性の薬品である場
合、例えば、硫酸・過酸化水素混合液の場合、透過膜の
一次側(原液側)で発生するガスが濾過装置本体のケ-ス
内に溜り、このガス溜りの成長によりケ−ス内の原液面
の低下が進行し、透過膜の一部がガス空間に曝されるに
至り、濾過面積の減少が招来され、透過流量の低下が避
けられない。
【０００６】このため、従来においては、図３に示すよ
うに、濾過装置本体Ａ’のケ−ス２’上部にガス抜き口
２２’を設け、ガス抜きバルブ２２１’の操作により、
適時、ガス抜きを行なっている。
うに、濾過装置本体Ａ’のケ−ス２’上部にガス抜き口
２２’を設け、ガス抜きバルブ２２１’の操作により、
適時、ガス抜きを行なっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記濾過装置には種々
の形式が知られているが、ディスク型の透過膜ユニット
を積層し、内部に透過液ポ−トを設けた濾過エレメント
をケ−ス内に収容した、所謂積層ディスク型構造が、ベ
ロ−ズポンプの脈動に対する透過膜の動揺をよく防止し
得、しかも、単位容積あたりの膜面積を大きくし得、透
過流量を増大できるので、有利である。
の形式が知られているが、ディスク型の透過膜ユニット
を積層し、内部に透過液ポ−トを設けた濾過エレメント
をケ−ス内に収容した、所謂積層ディスク型構造が、ベ
ロ−ズポンプの脈動に対する透過膜の動揺をよく防止し
得、しかも、単位容積あたりの膜面積を大きくし得、透
過流量を増大できるので、有利である。
【０００８】このディスク型濾過装置においては、ディ
スク型透過膜ユニットの積層間隙を狭くするほど、ケ−
ス内単位容積あたりの膜面積を大きくでき、上記透過流
量の増大に資する。しかし、ディスク型透過膜ユニット
間の間隙を狭くすると、この間隙内に存在する薬品から
発生するガスがこの間隙内にトラップされてガス溜りが
発生し、このガスを上記ケ−スのガス抜き口から抜くこ
とが困難であるので、同上間隙に面する膜面がガスに曝
されて濾過面積の減少が招来される。
スク型透過膜ユニットの積層間隙を狭くするほど、ケ−
ス内単位容積あたりの膜面積を大きくでき、上記透過流
量の増大に資する。しかし、ディスク型透過膜ユニット
間の間隙を狭くすると、この間隙内に存在する薬品から
発生するガスがこの間隙内にトラップされてガス溜りが
発生し、このガスを上記ケ−スのガス抜き口から抜くこ
とが困難であるので、同上間隙に面する膜面がガスに曝
されて濾過面積の減少が招来される。
【０００９】本発明の目的は、ディスク型透過膜ユニッ
トを積層した濾過エレメントを有する濾過装置におい
て、ガス発生性の原液であっても透過膜ユニット間での
ガスの溜りを防止して常に充分な濾過面積を確保できる
濾過装置を提供することにある。
トを積層した濾過エレメントを有する濾過装置におい
て、ガス発生性の原液であっても透過膜ユニット間での
ガスの溜りを防止して常に充分な濾過面積を確保できる
濾過装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の濾過装置は、デ
ィスク型の透過膜ユニットを積層し、内部に透過液ポ−
トを設けた濾過エレメントを、原液入口を有するケ−ス
内に収容し、該ケ−スにガス抜き口を設けてなる濾過装
置本体に、ディスク型透過膜ユニットに溜ったガスを押
出す透過液逆流装置を付設したことを特徴とする構成で
ある。
ィスク型の透過膜ユニットを積層し、内部に透過液ポ−
トを設けた濾過エレメントを、原液入口を有するケ−ス
内に収容し、該ケ−スにガス抜き口を設けてなる濾過装
置本体に、ディスク型透過膜ユニットに溜ったガスを押
出す透過液逆流装置を付設したことを特徴とする構成で
ある。
【００１１】
【作用】透過膜ユニット間にガスが溜れば、透過液逆流
装置により透過液を逆流させて、その溜ったガスを透過
膜ユニット間から押し出して本体ケ−ス内の上部に逃が
し、ガス抜き弁からケ−ス外に放出できる。従って、透
過膜ユニット間の間隔を狭くして単位容積あたりの膜面
積を大にでき、透過流量を増大できる。
装置により透過液を逆流させて、その溜ったガスを透過
膜ユニット間から押し出して本体ケ−ス内の上部に逃が
し、ガス抜き弁からケ−ス外に放出できる。従って、透
過膜ユニット間の間隔を狭くして単位容積あたりの膜面
積を大にでき、透過流量を増大できる。
【００１２】
【実施例】以下、図面により本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明の実施例を示す説明図である。図１に
おいて、Ａは濾過装置本体であり、積層ディスク型の濾
過エレメント１を備えている。
る。図１は本発明の実施例を示す説明図である。図１に
おいて、Ａは濾過装置本体であり、積層ディスク型の濾
過エレメント１を備えている。
【００１３】この濾過装置本体には、例えば、図２に示
すように、膜支持板１１の両面に透過膜（例えば、四弗
化エチレン樹脂等の弗素樹脂系多孔質膜）１２を添付
し、各膜１２の内外周縁を膜支持板１１に融着等により
シ−ルしてなるディスク型透過膜ユニット１０の膜支持
板１１を中央ボス部１３の融着等により連結し（１４は
透過液ポ−ト１４を示している）、膜支持板１１と各膜
１２との間の透過液通路を連通孔１５により透過液ポ−
ト１４開通した濾過エレメント１をケ−ス２内に収容
し、濾過エレメント１４の透過液ポ−ト端部１４１をケ
−スから引出し、ケ−ス他端に原液入口２１を設けたも
のを使用できる。２２はケ−ス２に設けたガス抜き口で
ある。
すように、膜支持板１１の両面に透過膜（例えば、四弗
化エチレン樹脂等の弗素樹脂系多孔質膜）１２を添付
し、各膜１２の内外周縁を膜支持板１１に融着等により
シ−ルしてなるディスク型透過膜ユニット１０の膜支持
板１１を中央ボス部１３の融着等により連結し（１４は
透過液ポ−ト１４を示している）、膜支持板１１と各膜
１２との間の透過液通路を連通孔１５により透過液ポ−
ト１４開通した濾過エレメント１をケ−ス２内に収容
し、濾過エレメント１４の透過液ポ−ト端部１４１をケ
−スから引出し、ケ−ス他端に原液入口２１を設けたも
のを使用できる。２２はケ−ス２に設けたガス抜き口で
ある。
【００１４】図１において、３は薬品槽であり、仕切り
３０により高液面部３１と低液面部３２とに分けてあ
る。４は循環ポンプであり、通常、ベロ−ズポンプが使
用される。２１は上記濾過装置本体Ａの原液入口であ
り、この入口２１に上記薬品槽３の低液面部３２を上記
循環ポンプ４を介して原液側配管５１により連通してあ
る。５２は濾過装置本体Ａの透過液逆流装置出口１４１
と薬品槽３の高液面部３１とを連通する透過液側配管、
５２１はバルブである。
３０により高液面部３１と低液面部３２とに分けてあ
る。４は循環ポンプであり、通常、ベロ−ズポンプが使
用される。２１は上記濾過装置本体Ａの原液入口であ
り、この入口２１に上記薬品槽３の低液面部３２を上記
循環ポンプ４を介して原液側配管５１により連通してあ
る。５２は濾過装置本体Ａの透過液逆流装置出口１４１
と薬品槽３の高液面部３１とを連通する透過液側配管、
５２１はバルブである。
【００１５】２２１は濾過装置本体Ａのガス抜き口２２
に設けたガス抜きバルブ、２２２はガス抜き配管であ
り、薬品槽３の低液面部３２に導入してある。
に設けたガス抜きバルブ、２２２はガス抜き配管であ
り、薬品槽３の低液面部３２に導入してある。
【００１６】６１は透過側配管５２に対して設けたバイ
バス通路、６はこのバイパス通路６１に挿入したフィル
タ−、６１１はフィルタ−６の透過側においてバイパス
通路６１に設けたバルブ、６２はフィルタ−ケ−ス６３
の透過側に連通した不活性ガス加圧配管、６２１は不活
性ガス供給バルブである。Ｂはこれらのバイパス通路６
１、フィルタ−６、不活性ガス加圧配管６２等により構
成された透過液逆流装置を示している。
バス通路、６はこのバイパス通路６１に挿入したフィル
タ−、６１１はフィルタ−６の透過側においてバイパス
通路６１に設けたバルブ、６２はフィルタ−ケ−ス６３
の透過側に連通した不活性ガス加圧配管、６２１は不活
性ガス供給バルブである。Ｂはこれらのバイパス通路６
１、フィルタ−６、不活性ガス加圧配管６２等により構
成された透過液逆流装置を示している。
【００１７】上記の濾過装置本体Ａにおいては、本体ケ
−ス２内の単位容積あたりの膜面積を大きくするため
に、濾過エレメント１のディスク型透過膜ユニット１
０，１０間の間隙を充分に狭くしてある。而して、循環
薬品がガス発生性である場合、濾過装置本体Ａのディス
ク型透過膜ユニット１０，１０間にガスがトラップされ
てガス溜りが発生しようとする。
−ス２内の単位容積あたりの膜面積を大きくするため
に、濾過エレメント１のディスク型透過膜ユニット１
０，１０間の間隙を充分に狭くしてある。而して、循環
薬品がガス発生性である場合、濾過装置本体Ａのディス
ク型透過膜ユニット１０，１０間にガスがトラップされ
てガス溜りが発生しようとする。
【００１８】しかし、上記の濾過装置においては、ポン
プ４を停止し、バルブ５２１並びにバルブ６１１を閉鎖
し、ガス供給バルブ６２１を開路し、ガス加圧配管６２
よりフィルタ−６の透過側にＮ2ガス等の不活性ガスを
圧入することにより、フィルタ−６内の透過液をフィル
タ−６の膜６０を通して濾過装置本体Ａの濾過エレメン
ト１の透過液ポ−ト１４に向け一定流量で流し得、フィ
ルタ−６の透過側空間６０１が不活性ガスで満たされる
まで、この液流を継続できる（フィルタ−６の膜６０、
例えば四弗化エチレン樹脂等の弗素樹脂系多孔質膜のバ
ルブポイントによりも不活性ガス供給圧力を低く設定す
ることにより、フィルタ−６の膜６０に透過側液体のみ
を通過させ得、フィルタ−６の透過側空間６０１が不活
性ガスで満されると液流が停止する）。
プ４を停止し、バルブ５２１並びにバルブ６１１を閉鎖
し、ガス供給バルブ６２１を開路し、ガス加圧配管６２
よりフィルタ−６の透過側にＮ2ガス等の不活性ガスを
圧入することにより、フィルタ−６内の透過液をフィル
タ−６の膜６０を通して濾過装置本体Ａの濾過エレメン
ト１の透過液ポ−ト１４に向け一定流量で流し得、フィ
ルタ−６の透過側空間６０１が不活性ガスで満たされる
まで、この液流を継続できる（フィルタ−６の膜６０、
例えば四弗化エチレン樹脂等の弗素樹脂系多孔質膜のバ
ルブポイントによりも不活性ガス供給圧力を低く設定す
ることにより、フィルタ−６の膜６０に透過側液体のみ
を通過させ得、フィルタ−６の透過側空間６０１が不活
性ガスで満されると液流が停止する）。
【００１９】したがって、ディスク型透過膜ユニット１
０の透過膜１２に膜の内側（透過液ポ−ト側）から外側
（原液側）に向けて液流を発生させることができ、ディ
スク型透過膜ユニット１０，１０間のガスを押出し得
る。この押出されたガスは濾過装置本体Ａのケ−ス２内
上部に逃げてトラップされるから、ガス抜きバルブ２２
１を開くことによって外部に放出できる。
０の透過膜１２に膜の内側（透過液ポ−ト側）から外側
（原液側）に向けて液流を発生させることができ、ディ
スク型透過膜ユニット１０，１０間のガスを押出し得
る。この押出されたガスは濾過装置本体Ａのケ−ス２内
上部に逃げてトラップされるから、ガス抜きバルブ２２
１を開くことによって外部に放出できる。
【００２０】
【発明の効果】本発明の濾過装置は上述した通りの構成
であり、ディスク型透過膜ユニット間にガスが溜れば、
透過液逆流装置によりこのガスを押し出して濾過面積の
低下を回避でき（現に、通常寸法のディスク型透過膜ユ
ニットのを使用した濾過装置において、ガストラップに
より透過流量が初期透過流量の６４％に低下したので、
Ｎ2ガス圧力０．５kgf/cm2で２００mlの透過液を逆流さ
せたところ、透過流量を９６％にまで回復させ得た）、
ディスク型透過膜ユニット間の間隔を狭くし集積密度を
高くして、膜面積を増大できる。
であり、ディスク型透過膜ユニット間にガスが溜れば、
透過液逆流装置によりこのガスを押し出して濾過面積の
低下を回避でき（現に、通常寸法のディスク型透過膜ユ
ニットのを使用した濾過装置において、ガストラップに
より透過流量が初期透過流量の６４％に低下したので、
Ｎ2ガス圧力０．５kgf/cm2で２００mlの透過液を逆流さ
せたところ、透過流量を９６％にまで回復させ得た）、
ディスク型透過膜ユニット間の間隔を狭くし集積密度を
高くして、膜面積を増大できる。
【図１】本発明の実施例を示す説明図である。
【図２】本発明において使用する濾過装置本体を示す説
明図である。
明図である。
【図３】従来例を示す説明図である。
Ａ 濾過装置本体 １０ ディスク型透過膜ユニット ２ ケ−ス ２１ 原液入口 ２２ ガス抜き口 Ｂ 透過液逆流装置 ６ フィルタ− ６１ バイパス通路 ６２ 不活性ガス加圧配管
Claims (2)
- 【請求項１】ディスク型透過膜ユニットを積層し、内部
に透過液ポ−トを設けた濾過エレメントを、原液入口を
有するケ−ス内に収容し、該ケ−スにガス抜き口を設け
てなる濾過装置本体に、ディスク型透過膜ユニットの積
層間隙に溜ったガスを押出す透過液逆流装置を付設した
ことを特徴とする濾過装置。 - 【請求項２】透過液逆流装置が、透過液側配管にバイパ
ス通路が設けられ、該バイパス通路にフィルタ−が挿入
され、該フィルタ−の透過側に不活性ガス加圧配管が設
けられてなる請求項１記載の濾過装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31534191A JPH05123544A (ja) | 1991-11-02 | 1991-11-02 | 濾過装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31534191A JPH05123544A (ja) | 1991-11-02 | 1991-11-02 | 濾過装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05123544A true JPH05123544A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=18064247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31534191A Pending JPH05123544A (ja) | 1991-11-02 | 1991-11-02 | 濾過装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05123544A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021132540A1 (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-01 | 東レ株式会社 | ろ過装置及びろ過方法 |
-
1991
- 1991-11-02 JP JP31534191A patent/JPH05123544A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021132540A1 (ja) * | 2019-12-26 | 2021-07-01 | 東レ株式会社 | ろ過装置及びろ過方法 |
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