JPH05120624A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPH05120624A
JPH05120624A JP3308477A JP30847791A JPH05120624A JP H05120624 A JPH05120624 A JP H05120624A JP 3308477 A JP3308477 A JP 3308477A JP 30847791 A JP30847791 A JP 30847791A JP H05120624 A JPH05120624 A JP H05120624A
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gap
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soft magnetic
magnetic head
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太起 山田
Mitsuru Horiuchi
満 堀内
Yoshito Kobayashi
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雅行 荒川
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Abstract

PURPOSE:To decrease a pseudo magnetic flux effect by constituting the soft magnetic thin film of the MIG type magnetic head to have the saturation magnetic flux density (Bs) lower on a core side and higher on a gap side. CONSTITUTION:This magnetic head has a pair of the cores 1, 2 constituted of ferrite and has the soft magnetic thin film 4 having the saturation magnetic flux density higher than the saturation magnetic flux density of the core 1 between at least one core 1 and a gap 5. This soft magnetic thin film 4 consists of Fe, Al and Si as its essential components and the saturation magnetic flux density of the soft magnetic thin film 4 is set lower near the cores 1, 2 than near the gap 5. The pseudo gap effect is thereby drastically decreased while the effect of the MIG type magnetic head is maintained. The soft magnetic thin film is formed of a 'SENDUST R' alloy, etc., by which the heat resistance of the soft magnetic thin film is enhanced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、コアよりも飽和磁束密
度の高い軟磁性薄膜をギャップ部に有するメタル・イン
・ギャップ型の磁気ヘッドに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal-in-gap type magnetic head having a soft magnetic thin film having a saturation magnetic flux density higher than that of a core in a gap portion.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報化社会の進展に伴ない、磁気
記録装置にも大容量化の要請が強く、磁気記録技術はよ
り一層の高記録密度化が重要な課題となっている。この
課題に対処するため、媒体においては高保磁力(Hc )
化、低ノイズ化等の技術が開発されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of information-oriented society, there is a strong demand for magnetic recording devices to have a large capacity, and it is an important issue in magnetic recording technology to further increase the recording density. To address this issue, the medium has a high coercivity (Hc)
Technology has been developed.

【0003】一方、磁気ヘッドにおいては、従来、フェ
ライトを磁気コアとしたものが主流であったが、近年、
フェライト磁気ヘッドのギャップにセンダストやCo系
アモルファス材等の金属軟磁性薄膜を形成した、いわゆ
るMIG(メタル・イン・ギャップ)型磁気ヘッドが登
場した。フェライトの飽和磁束密度(Bs )は約500
0G 程度であるため、従来のフェライトヘッドで記録可
能な媒体のHc は、800〜900 Oe 程度が限界とな
っていた。従って、媒体のHc の増加に応じて磁気ヘッ
ドの記録能力も高める必要があり、その手段として、従
来のフェライトヘッドのギャップにセンダスト等の高B
s 金属からなる軟磁性薄膜を形成したMIG型磁気ヘッ
ドが開発され、実用化されたのである。
On the other hand, magnetic heads having a magnetic core of ferrite have been mainly used in the past, but in recent years,
A so-called MIG (metal-in-gap) type magnetic head in which a metal soft magnetic thin film such as sendust or a Co-based amorphous material is formed in a gap of a ferrite magnetic head has appeared. The saturation magnetic flux density (Bs) of ferrite is about 500
Since it is about 0 G, Hc of the medium which can be recorded by the conventional ferrite head is limited to about 800 to 900 Oe. Therefore, it is necessary to enhance the recording ability of the magnetic head as the Hc of the medium increases. As a means for that, a high B such as sendust is added to the gap of the conventional ferrite head.
s A MIG type magnetic head having a soft magnetic thin film made of metal was developed and put into practical use.

【0004】MIG型磁気ヘッドは、ギャップに形成さ
れた軟磁性薄膜から強力な磁束を媒体に印加できるた
め、高Hc 媒体にも記録が可能であり、例えばBs が約
10kGのセンダストを軟磁性薄膜として用いた場合、H
c が約1300 Oe 程度までの媒体に記録ができるよう
になった。また、Bs が約15kGのスーパーセンダスト
や、Fe−Me(Meは、Zr、Mo、Ta等)−N系
薄膜を用いた場合、Hcが約1600Oe 程度までの媒体
に記録可能となった。
Since the MIG type magnetic head can apply a strong magnetic flux to the medium from the soft magnetic thin film formed in the gap, it is possible to record even on a high Hc medium. For example, sendust whose Bs is about 10 kG is recorded on the soft magnetic thin film. When used as
Recording is now possible on media with c up to about 1300 Oe. Further, when Super sendust having a Bs of about 15 kG or a Fe-Me (Me is Zr, Mo, Ta, etc.)-N based thin film was used, it was possible to record on a medium having a Hc of about 1600 Oe.

【0005】しかし、MIG型磁気ヘッドでは、コアと
軟磁性薄膜との境界が擬似ギャップとなり、副パルスと
呼ばれる偽信号を生じることがある。擬似ギャップ効果
の原因としては、例えば、フェライトコアと軟磁性薄膜
の界面が、金属や酸化物の酸化、還元等により劣化する
ためであるとか、軟磁性薄膜中の特性成分(例えばセン
ダスト膜ではAl、Si)が界面に拡散していくことに
より非磁性層が形成されるためであるとか、軟磁性薄膜
成膜時に生じる初期劣化層のためであるとか、様々な議
論がなされている。
However, in the MIG type magnetic head, the boundary between the core and the soft magnetic thin film becomes a pseudo gap, and a false signal called a sub pulse may occur. The cause of the pseudo-gap effect is, for example, that the interface between the ferrite core and the soft magnetic thin film is deteriorated by the oxidation or reduction of metal or oxide, or the characteristic component in the soft magnetic thin film (for example, in the Sendust film, Al , Si) is diffused to the interface to form a non-magnetic layer, or is due to an initial deterioration layer that occurs during the formation of the soft magnetic thin film, and various discussions have been made.

【0006】ディジタル記録では、副パルスの存在によ
りいわゆるビットシフトが生じて波形に時間軸方向のズ
レが生じるため、記録波長を短くすることができなくな
る。また、アナログ記録では、副パルスの存在により、
周波数特性曲線に周期的なうねりが生じてしまう。
In digital recording, so-called bit shift occurs due to the presence of the sub-pulse, and the waveform shifts in the time axis direction, so that the recording wavelength cannot be shortened. Also, in analog recording, due to the presence of sub-pulses,
Periodic undulation occurs in the frequency characteristic curve.

【0007】このような擬似ギャップ効果を低減するた
めに、センダスト薄膜とフェライトコアとの間にNi−
Fe(パーマロイ)薄膜を下地膜として設ける試みがな
されている。しかし、Ni−Fe薄膜に600℃以上の
熱処理を施すと、Niがセンダスト中に拡散し、透磁率
が著しく低下してしまう(日本応用磁気学会誌13,277-2
80(1989))。このため、Ni−Fe下地膜を用いる場合
は、溶着温度が600℃以上となるガラスを使用できな
い。
In order to reduce such a pseudo-gap effect, Ni-- is formed between the sendust thin film and the ferrite core.
Attempts have been made to provide a Fe (permalloy) thin film as a base film. However, when the Ni-Fe thin film is heat-treated at 600 ° C. or higher, Ni diffuses into the sendust and the magnetic permeability is significantly reduced (Journal of Applied Magnetics, Japan 13,277-2).
80 (1989)). Therefore, when the Ni-Fe base film is used, glass having a welding temperature of 600 ° C or higher cannot be used.

【0008】溶着温度が600℃未満のいわゆる低融点
ガラスとするためには、鉛やアルカリ金属などを多量に
添加する必要があるため、耐湿性等の耐環境性が不十分
となり、また、機械的強度も低くなる。従って、従来、
溶着ガラスとして用いられているガラスは、耐環境性が
低く、機械的強度も劣る。このため、擬似ギャップ効果
低減と信頼性および製造歩留り向上とを共に実現するこ
とはできなかった。
In order to obtain a so-called low melting point glass having a welding temperature of less than 600 ° C., it is necessary to add a large amount of lead, an alkali metal, etc., so that the environment resistance such as humidity resistance becomes insufficient, and the mechanical properties The target strength is also reduced. Therefore, conventionally
Glass used as a fused glass has low environmental resistance and poor mechanical strength. Therefore, it has not been possible to achieve both reduction of the pseudo gap effect and improvement of reliability and manufacturing yield.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、擬似ギャップ効果が少な
く、しかも、信頼性および製造歩留りの高いMIG型磁
気ヘッドを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made under such circumstances, and an object of the present invention is to provide a MIG type magnetic head which has a small pseudo gap effect, and has high reliability and high manufacturing yield. ..

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(7)の本発明により達成される。
These objects are achieved by the present invention described in (1) to (7) below.

【0011】(1)それぞれフェライトから構成される
一対のコアを有し、少なくとも一方のコアとギャップと
の間に、前記コアより飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を
有する磁気ヘッドであって、前記軟磁性薄膜が、Fe、
AlおよびSiを主成分とし、前記軟磁性薄膜の飽和磁
束密度が、前記ギャップ近傍よりも前記コア近傍のほう
が低いことを特徴とする磁気ヘッド。
(1) A magnetic head having a pair of cores each made of ferrite, and a soft magnetic thin film having a saturation magnetic flux density higher than that of the core between at least one of the cores and the gap, The soft magnetic thin film is Fe,
A magnetic head comprising Al and Si as main components, wherein a saturation magnetic flux density of the soft magnetic thin film is lower near the core than near the gap.

【0012】(2) 前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度
が、前記ギャップに接している側から前記コアに接して
いる側にかけて漸減している上記(1)に記載の磁気ヘ
ッド。
(2) The magnetic head according to (1), wherein the saturation magnetic flux density of the soft magnetic thin film gradually decreases from the side in contact with the gap to the side in contact with the core.

【0013】(3) 前記軟磁性薄膜の組成が、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe である上記(2)に記載の磁気ヘッド。(3) The magnetic head according to (2) above, wherein the composition of the soft magnetic thin film is Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, and the balance: Fe.

【0014】(4) 前記軟磁性薄膜が飽和磁束密度の
異なる少なくとも2層の薄膜から構成される上記(1)
に記載の磁気ヘッド。
(4) The soft magnetic thin film is composed of at least two thin films having different saturation magnetic flux densities.
The magnetic head described in 1.

【0015】(5) 前記軟磁性薄膜が、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe の組成を有するコア側薄膜と、 Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe の組成を有するギャップ側薄膜とを有する上記(4)に
記載の磁気ヘッド。
(5) The soft magnetic thin film comprises: a core side thin film having a composition of Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, and balance: Fe; Al: 3 to 7% by weight, Si: The magnetic head according to (4) above, which comprises 3 to 8% by weight, Ni: 1 to 5% by weight, and the balance: a thin film on the gap side having a composition of Fe.

【0016】(6) 前記軟磁性薄膜と前記コアとの間
に、Cr、Mo、Ta、Ti、W、VおよびNbの少な
くとも1種から構成される下地膜を有する上記(1)な
いし(5)のいずれかに記載の磁気ヘッド。
(6) An undercoating film composed of at least one of Cr, Mo, Ta, Ti, W, V and Nb is provided between the soft magnetic thin film and the core, and the above (1) to (5) are provided. ) The magnetic head as described in any one of 1.

【0017】(7) 作業温度Twが300〜850℃
の溶着ガラスにより前記一対のコアが溶着一体化されて
いる上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の磁気ヘ
ッド。
(7) Working temperature Tw is 300 to 850 ° C.
7. The magnetic head according to any one of the above (1) to (6), wherein the pair of cores are fused and integrated by the fused glass of.

【0018】[0018]

【作用】本発明の磁気ヘッドは、コアとギャップとの間
にコアよりもBs の高い軟磁性薄膜を有するMIG型磁
気ヘッドである。本発明では、前記軟磁性薄膜のコア近
傍のBs をギャップ近傍のBs よりも小さく構成する。
このようにフェライトコアと軟磁性薄膜との境界でのB
s の段差を小さくすることにより、擬似ギャップ効果を
著しく低減できる。そして、ギャップ近傍の軟磁性薄膜
は従来と同等のBs を有するため、高い書き込み能力は
変わらない。
The magnetic head of the present invention is a MIG type magnetic head having a soft magnetic thin film having a higher Bs than the core between the core and the gap. In the present invention, Bs near the core of the soft magnetic thin film is smaller than Bs near the gap.
Thus, B at the boundary between the ferrite core and the soft magnetic thin film
By reducing the step difference of s, the pseudo gap effect can be significantly reduced. Further, since the soft magnetic thin film near the gap has the same Bs as that of the conventional one, the high writing ability is unchanged.

【0019】しかも、前記軟磁性薄膜は、Fe、Alお
よびSiを主成分とするセンダスト系合金や、Fe、A
l、SiおよびNiを主成分とするスーパーセンダスト
系合金であるため、耐熱性が高く、ガラス溶着の際に6
00℃以上の温度で熱処理した場合でも磁気特性の劣化
がない。このため、耐環境性が良好で強度の高い溶着ガ
ラスが使え、信頼性が高く製造歩留りの高い磁気ヘッド
が実現する。
Moreover, the soft magnetic thin film is composed of a sendust-based alloy containing Fe, Al and Si as main components, and Fe and A.
Since it is a super sendust-based alloy containing 1, 1, Si and Ni as the main components, it has high heat resistance, and 6
There is no deterioration in magnetic properties even when heat-treated at a temperature of 00 ° C. or higher. Therefore, a fused glass having good environment resistance and high strength can be used, and a magnetic head having high reliability and high manufacturing yield can be realized.

【0020】また、前記下地膜を設ければ、前記軟磁性
薄膜と前記コアとの接着性が向上する。特に、下地膜を
Crで構成した場合、擬似ギャップ効果をさらに低減す
ることが可能である。
Further, by providing the base film, the adhesiveness between the soft magnetic thin film and the core is improved. In particular, when the base film is made of Cr, the pseudo gap effect can be further reduced.

【0021】ところで、特開昭61−34707号公報
には、フェライトコアを用いたMIG型磁気ヘッドが記
載されている。この磁気ヘッドのギャップ部は、多結晶
質磁性合金、非晶質磁性合金、フェライトコアの順に連
結して磁気回路を構成しており、多結晶質磁性合金、非
晶質磁性合金、フェライトの順で飽和磁束密度が低くな
っている。しかし、この磁気ヘッドは非晶質磁性合金を
使っているため耐熱性が低く、溶着温度の高いガラスを
使うことができない。
By the way, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-34707 discloses an MIG type magnetic head using a ferrite core. The gap portion of this magnetic head constitutes a magnetic circuit by connecting a polycrystalline magnetic alloy, an amorphous magnetic alloy, and a ferrite core in this order. The polycrystalline magnetic alloy, the amorphous magnetic alloy, and the ferrite are sequentially arranged. The saturation magnetic flux density is low. However, since this magnetic head uses an amorphous magnetic alloy, it has low heat resistance and cannot use glass having a high welding temperature.

【0022】[0022]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成を、添付の図
面に基づいて詳細に説明する。図1および図2にそれぞ
れ示される本発明の磁気ヘッドは、第1コア1および第
2コア2の一対のコアを有し、両コアはギャップ5を介
して溶着ガラス3により一体化されており、第2コア2
とギャップ5との間に、各コアよりBsの大きい軟磁性
薄膜4を有する。なお、通常、第1コア1に巻線が巻回
される。
Specific Structure Hereinafter, a specific structure of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The magnetic head of the present invention shown in FIGS. 1 and 2, respectively, has a pair of cores of a first core 1 and a second core 2, and both cores are integrated by a fused glass 3 via a gap 5. , The second core 2
And the gap 5 have a soft magnetic thin film 4 having a larger Bs than each core. The winding is usually wound around the first core 1.

【0023】軟磁性薄膜4は、Fe、AlおよびSiを
主成分とする組成を有し、ギャップ5近傍よりも第2コ
ア2近傍のほうがBs が小さくなるように構成される。
Bsをこのような分布とするためには、ギャップ5に接
している側から第2コア2に接している側にかけて軟磁
性薄膜4のBs が漸減するように構成してもよく、ある
いはBs の異なる少なくとも2層の薄膜から軟磁性薄膜
4を構成してもよい。
The soft magnetic thin film 4 has a composition containing Fe, Al and Si as main components, and is configured so that Bs is smaller near the second core 2 than near the gap 5.
In order to make Bs have such a distribution, the Bs of the soft magnetic thin film 4 may be gradually reduced from the side in contact with the gap 5 to the side in contact with the second core 2, or the Bs The soft magnetic thin film 4 may be composed of at least two different thin films.

【0024】図1に示される磁気ヘッドは、Bs が漸減
する構成の軟磁性薄膜4を有している。このようなBs
分布を有する軟磁性薄膜4は、構成元素の含有比率を連
続的に変化させることにより形成することができる。こ
の場合、軟磁性薄膜4の全体組成は、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe であることが好ましい。そして、第2コア2側からギャ
ップ5側にかけてSiおよびAlの含有比率が漸減する
ように組成分布を設けることにより、ギャップ5側から
第2コア2側にかけてBs が漸減する構成とすることが
できる。具体的には、第2コア2近傍におけるAlおよ
びSiの含有比率は Al:7〜9重量%、 Si:10〜15重量% 程度とすることが好ましく、ギャップ5近傍におけるA
lおよびSiの含有比率は Al:1〜4重量%、 Si:3〜8重量% 程度とすることが好ましい。
The magnetic head shown in FIG. 1 has a soft magnetic thin film 4 in which Bs is gradually reduced. Bs like this
The soft magnetic thin film 4 having a distribution can be formed by continuously changing the content ratio of constituent elements. In this case, the total composition of the soft magnetic thin film 4 is preferably Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, and the balance: Fe. By providing a composition distribution such that the content ratios of Si and Al gradually decrease from the second core 2 side to the gap 5 side, Bs can be gradually decreased from the gap 5 side to the second core 2 side. .. Specifically, the content ratios of Al and Si in the vicinity of the second core 2 are preferably Al: 7 to 9% by weight and Si: 10 to 15% by weight, and A in the vicinity of the gap 5 is A.
The content ratio of 1 and Si is preferably Al: 1 to 4% by weight and Si: 3 to 8% by weight.

【0025】このような範囲から組成を適宜選択するこ
とにより、第2コア2近傍において8000〜1100
0G 程度、ギャップ5近傍において12000〜150
00G 程度のBs を得ることができる。
By appropriately selecting the composition from such a range, 8000 to 1100 in the vicinity of the second core 2 can be obtained.
0G, 12000 to 150 near the gap 5
Bs of about 00G can be obtained.

【0026】図2に示される磁気ヘッドは、Bs の異な
る2層の薄膜から構成される軟磁性薄膜4を有する。軟
磁性薄膜4は、第2コア2側のコア側薄膜41と、ギャ
ップ5側のギャップ側薄膜42とから構成されており、
コア側薄膜41のほうがギャップ側薄膜42よりもBs
が低い。この構成では、コア側薄膜およびギャップ側薄
膜をそれぞれセンダスト系の合金で構成し、各薄膜の組
成を上記した組成連続変化膜のコア近傍組成およびギャ
ップ近傍組成としてもよいが、好ましくは、コア側薄膜
をセンダスト合金系の組成とし、ギャップ側薄膜をスー
パーセンダスト合金系の組成とすることが好ましい。具
体的には、コア側薄膜の組成は Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe であることが好ましく、ギャップ側薄膜の組成は Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe であることが好ましい。各薄膜の組成をこのような範囲
から適宜選択することにより、コア側薄膜では8000
〜11000G 程度、ギャップ側薄膜では12000〜
15000G 程度のBs を得ることができる。
The magnetic head shown in FIG. 2 has a soft magnetic thin film 4 composed of two thin films having different Bs. The soft magnetic thin film 4 is composed of a core-side thin film 41 on the second core 2 side and a gap-side thin film 42 on the gap 5 side,
The core side thin film 41 is Bs more than the gap side thin film 42.
Is low. In this configuration, the core-side thin film and the gap-side thin film are each composed of a sendust-based alloy, and the composition of each thin film may be the composition in the vicinity of the core and the composition in the vicinity of the gap of the composition continuously changing film described above, but preferably, the core side. It is preferable that the thin film has a Sendust alloy-based composition and the gap-side thin film has a Super Sendust alloy-based composition. Specifically, the composition of the core side thin film is preferably Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, and the balance: Fe, and the composition of the gap side thin film is Al: 3 to 7% by weight. It is preferable that Si: 3 to 8% by weight, Ni: 1 to 5% by weight, and the balance: Fe. By appropriately selecting the composition of each thin film from such a range, the core-side thin film has a composition of 8,000.
~ 11,000G, 12000 for thin film on the gap side
Bs of about 15,000 G can be obtained.

【0027】なお、軟磁性薄膜4をBs の異なる複数の
薄膜から構成する場合、最もコアに近い薄膜を上記した
コア側薄膜とし、最もギャップに近い薄膜を上記したギ
ャップ側薄膜とする。そして、両薄膜の間に存在する薄
膜のBsは、コア側薄膜よりも高くギャップ側薄膜より
も低いことが好ましい。
When the soft magnetic thin film 4 is composed of a plurality of thin films having different Bs, the thin film closest to the core is the core thin film described above, and the thin film closest to the gap is the gap thin film described above. The Bs of the thin film existing between the two thin films is preferably higher than the core-side thin film and lower than the gap-side thin film.

【0028】なお、フェライト製コアのBs は3000
〜6000G 程度である。
The Bs of the ferrite core is 3000
It is about 6000G.

【0029】軟磁性薄膜4は、Fe、Si、Alおよび
Niの他、Cr、Mo、Ti、Ta、W、Zr、Hf、
Ga、Ru、Au、Ag、Co、Zn、Sn等を全体の
1原子%以下含有していてもよく、これらのうちでは、
軟磁気特性が向上することからAuが含有されることが
好ましい。
The soft magnetic thin film 4 includes, in addition to Fe, Si, Al and Ni, Cr, Mo, Ti, Ta, W, Zr, Hf,
Ga, Ru, Au, Ag, Co, Zn, Sn and the like may be contained in an amount of 1 atom% or less based on the whole.
It is preferable to contain Au because the soft magnetic characteristics are improved.

【0030】軟磁性薄膜4の膜厚は、好ましくは0.2
〜10μm 、より好ましくは0.5〜5μm である。膜
厚が前記範囲未満であると、体積が不足して飽和し易く
なり、強力な磁界を印加するという機能が不十分とな
る。また、膜厚が前記範囲を超えると、特に単層膜の場
合、渦電流損失が大きくなり、高周波特性が不十分とな
る。図2に示されるように、軟磁性薄膜4が複数の薄膜
から構成される場合、各薄膜の厚さの比率は特に限定さ
れないが、通常、最も厚い薄膜が最も薄い薄膜の3倍以
下、特に1.5倍以下となるようにすることが好まし
い。
The thickness of the soft magnetic thin film 4 is preferably 0.2.
10 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm. When the film thickness is less than the above range, the volume is insufficient and the film is easily saturated, and the function of applying a strong magnetic field becomes insufficient. Further, if the film thickness exceeds the above range, especially in the case of a single-layer film, the eddy current loss increases and the high frequency characteristics become insufficient. As shown in FIG. 2, when the soft magnetic thin film 4 is composed of a plurality of thin films, the ratio of the thickness of each thin film is not particularly limited, but normally the thickest thin film is 3 times or less than the thinnest thin film, It is preferably set to be 1.5 times or less.

【0031】本発明では、軟磁性薄膜4と第2コア2と
の間に、下地膜6を設けることが好ましい。下地膜6
は、Cr、Mo、Ta、Ti、W、VおよびNbの少な
くとも1種から構成されることが好ましい。これらのう
ちでは、Crが特に好ましい。下地膜6をCrで構成す
ることにより、擬似ギャップ効果をさらに低減すること
ができる。なお、下地膜6は、上記元素を含む合金、例
えばCr−Si合金等で構成されてもよい。
In the present invention, it is preferable to provide a base film 6 between the soft magnetic thin film 4 and the second core 2. Base film 6
Is preferably composed of at least one of Cr, Mo, Ta, Ti, W, V and Nb. Of these, Cr is particularly preferable. By forming the base film 6 of Cr, the pseudo gap effect can be further reduced. The base film 6 may be made of an alloy containing the above elements, for example, a Cr—Si alloy.

【0032】下地膜6の厚さは、通常、0.001〜
0.1μm 、特に0.002〜0.05μm とすること
が好ましい。厚さが前記範囲未満であると下地膜として
の効果が不十分であり、前記範囲を超えると軟磁性薄膜
の体積を十分に大きくできなくなる。
The thickness of the base film 6 is usually 0.001 to
The thickness is preferably 0.1 μm, and more preferably 0.002 to 0.05 μm. If the thickness is less than the above range, the effect as a base film is insufficient, and if the thickness exceeds the above range, the volume of the soft magnetic thin film cannot be sufficiently increased.

【0033】なお、図示例では、軟磁性薄膜4は第2コ
ア2とギャップ5との間に設けられているが、第1コア
1とギャップ5との間に設けられてもよい。また、必要
に応じて両方のコアに軟磁性薄膜を設けてもよい。その
場合、下地膜も両方のコアに設けることが好ましい。
In the illustrated example, the soft magnetic thin film 4 is provided between the second core 2 and the gap 5, but it may be provided between the first core 1 and the gap 5. Moreover, you may provide a soft magnetic thin film to both cores as needed. In that case, it is preferable to provide a base film on both cores.

【0034】本発明において、各コアはフェライトから
構成される。用いるフェライトに特に制限はないが、M
n−ZnフェライトまたはNi−Znフェライトを目的
に応じて選択することが好ましい。Mn−Znフェライ
トとしては、Fe23 50〜60モル%程度、ZnO
8〜25モル%程度、残部が実質的にMnOのものが
好ましい。また、Ni−Znフェライトは特に高周波領
域において優れた特性を示すものであり、好ましい組成
としては、Fe23 が30〜60モル%、NiOが1
5〜50モル%、ZnOが5〜40モル%程度のもので
ある。
In the present invention, each core is made of ferrite. There is no particular limitation on the ferrite used, but M
It is preferable to select n-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite according to the purpose. As Mn—Zn ferrite, Fe 2 O 3 of about 50 to 60 mol%, ZnO
It is preferably about 8 to 25 mol% and the balance substantially MnO. Further, Ni-Zn ferrite is exhibits excellent characteristics particularly in a high frequency region, as the preferred composition, Fe 2 O 3 is 30 to 60 mol%, NiO is 1
It is about 5 to 50 mol% and ZnO is about 5 to 40 mol%.

【0035】各コアの直流でのBs は、好ましくは30
00〜6000G とする。Bs が前記範囲未満である
と、オーバーライト特性が低下する他、このようなBs
の組成では、キュリー温度が低くなるため熱的安定性が
低下してしまう。前記範囲を超えると、磁歪が増加して
磁気ヘッドとしての特性が悪化したり、着磁し易くな
る。
The direct current Bs of each core is preferably 30
It is set to 00-6000G. If the Bs is less than the above range, the overwrite characteristic is deteriorated and the Bs
With the above composition, the Curie temperature becomes low, so that the thermal stability deteriorates. If the amount exceeds the above range, magnetostriction increases to deteriorate the characteristics of the magnetic head, and it becomes easy to magnetize.

【0036】各コアの直流での初透磁率μi は1,00
0以上、Hc は0.3 Oe 以下であることが好ましい。
The initial magnetic permeability μ i of each core is 100
It is preferable that 0 or more and Hc be 0.3 Oe or less.

【0037】また、各コアのギャップ対向面は、鏡面研
磨等により平滑化し、軟磁性薄膜4や下地膜6等が形成
され易いようにすることが好ましい。
Further, it is preferable that the gap facing surface of each core is smoothed by mirror polishing or the like so that the soft magnetic thin film 4 and the base film 6 are easily formed.

【0038】ギャップ5は、非磁性材質から構成され
る。ギャップ5には、接着強度を高めるため接着ガラス
を用いることが好ましく、例えば、特願平1−7150
6号等に示されるガラスが好適である。また、ギャップ
5は接着ガラスのみで構成されていてもよいが、ギャッ
プ形成速度やギャップ強度を高めるため、図示のように
ギャップ51とギャップ53との2層で構成されること
が好ましい。この場合、ギャップ51にはSiO2 を用
い、ギャップ53には接着ガラスを用いることが好まし
い。なお、溶着ガラス3がギャップ両サイドに流れ込む
タイプの磁気ヘッドの場合は、ギャップ5を酸化ケイ素
のみで構成してもよい。ギャップ5の形成方法には特に
制限はないが、スパッタ法を用いることが好ましい。ギ
ャップ長は、通常0.2〜2.0μm 程度である。
The gap 5 is made of a non-magnetic material. Adhesive glass is preferably used for the gap 5 in order to increase the adhesive strength. For example, Japanese Patent Application No. 1-7150
The glass shown in No. 6 or the like is suitable. Further, the gap 5 may be composed of only the adhesive glass, but it is preferably composed of two layers of the gap 51 and the gap 53 as shown in the figure in order to increase the gap forming speed and the gap strength. In this case, it is preferable to use SiO 2 for the gap 51 and adhesive glass for the gap 53. In the case of a magnetic head in which the fused glass 3 flows into both sides of the gap, the gap 5 may be made of silicon oxide only. The method for forming the gap 5 is not particularly limited, but it is preferable to use the sputtering method. The gap length is usually about 0.2 to 2.0 μm.

【0039】本発明の磁気ヘッドは、通常、以下のよう
にして製造される。軟磁性薄膜4および下地膜6は、ス
パッタや蒸着等の気相成膜法により形成することが好ま
しいが、液相めっきにより形成してもよい。コア側から
ギャップ側にかけて組成が連続的に変化する構成とする
場合には、蒸着法を用いることが好ましい。この場合、
蒸気圧の違いにより、当初はAlおよびSiが蒸発しや
すくこれらの比率の高い低Bs 膜が形成される。そし
て、次第にAlおよびSiの蒸発量が少なくなり、Fe
の比率の高い高Bs 膜に変化していく。AlおよびSi
の量と加熱パワーとを適当に選択することにより、任意
のBs とその変化パターンとを実現することができる。
The magnetic head of the present invention is usually manufactured as follows. The soft magnetic thin film 4 and the base film 6 are preferably formed by a vapor phase film forming method such as sputtering or vapor deposition, but may be formed by liquid phase plating. When the composition is such that the composition continuously changes from the core side to the gap side, the vapor deposition method is preferably used. in this case,
Due to the difference in vapor pressure, Al and Si are likely to evaporate initially, and a low Bs film having a high ratio of these is formed. Then, the evaporation amounts of Al and Si gradually decrease, and
It changes to a high Bs film with a high ratio of. Al and Si
By properly selecting the amount of Bs and the heating power, it is possible to realize an arbitrary Bs and its change pattern.

【0040】コアの接合は、通常、ギャップ53の接着
ガラスにより熱圧着すると同時に溶着ガラス3を流し込
むことにより行なう。用いる溶着ガラス3の作業温度T
wは300〜850℃、特に600〜700℃程度であ
ることが好ましく、この場合、ガラス溶着時の保持温度
は300〜850℃、特に600〜700℃程度とな
る。なお、作業温度Twとは、周知のようにガラスの粘
度が104 poise となる温度である。
The cores are usually joined by thermocompression bonding with the adhesive glass in the gap 53 and at the same time pouring the fused glass 3 into the core. Working temperature T of fused glass 3 used
It is preferable that w is 300 to 850 ° C., especially about 600 to 700 ° C. In this case, the holding temperature at the time of glass welding is 300 to 850 ° C., especially about 600 to 700 ° C. The working temperature Tw is a temperature at which the viscosity of glass becomes 10 4 poise, as is well known.

【0041】また、コンポジット型の浮上型磁気ヘッド
とする場合には、図1や図2に示される構成の磁気ヘッ
ドを、2次溶着工程においてガラスによりスライダと接
着する。
In the case of a composite type flying magnetic head, the magnetic head having the structure shown in FIGS. 1 and 2 is bonded to the slider by glass in the secondary welding process.

【0042】本発明の磁気ヘッドでは、軟磁性薄膜4の
耐熱性が良好であるため、このようなTwのガラスを用
いて溶着しても軟磁性薄膜4のHc が上昇せず、良好な
軟磁性が保持される。このため、鉛やアルカリ金属など
の含有量が少ない溶着ガラスを用いることができるの
で、耐環境性が良好で機械的強度も高い磁気ヘッドが実
現する。
In the magnetic head of the present invention, since the soft magnetic thin film 4 has good heat resistance, Hc of the soft magnetic thin film 4 does not rise even if it is welded using such Tw glass, and a good softness is obtained. The magnetism is retained. For this reason, since a fused glass containing a small amount of lead, alkali metal, etc. can be used, a magnetic head having good environmental resistance and high mechanical strength can be realized.

【0043】軟磁性薄膜には軟磁気特性向上のために熱
処理が施されることが好ましいが、上記した溶着時の加
熱を熱処理として利用できるので、工数の減少が可能で
ある。
The soft magnetic thin film is preferably subjected to a heat treatment in order to improve the soft magnetic characteristics. However, since the heating at the time of welding can be used as the heat treatment, the number of steps can be reduced.

【0044】本発明の磁気ヘッドは、いわゆるラミネー
トタイプやバルクタイプ等のトンネルイレーズ型、ある
いはイレーズヘッドを有しないリードライト型などのオ
ーバーライト記録を行なうフロッピーヘッド、モノリシ
ックタイプやコンポジットタイプの浮上型の計算機用ヘ
ッド、回転型のVTR用ヘッドやR−DAT用ヘッドな
どの各種磁気ヘッドとして用いられる。
The magnetic head of the present invention is of a tunnel erase type such as a so-called laminate type or a bulk type, or a floppy head for overwriting recording such as a read / write type without an erase head, a flying type of a monolithic type or a composite type. It is used as various magnetic heads such as computer heads, rotary VTR heads and R-DAT heads.

【0045】なお、本発明は、MIG型磁気ヘッドの1
種である、いわゆるエンハンスト・デュアル・ギャップ
・レングス(EDG)型の磁気ヘッドに適用することが
できる。その場合、ギャップを挟んで前記軟磁性薄膜と
対向するコアに、コアよりもBs の低い軟磁性薄膜を設
ける。すなわち、図1に示される構成では、第1コア1
とギャップ5との間に、コアを構成するフェライトより
もBs の低い軟磁性薄膜を設ける。
The present invention relates to a MIG type magnetic head.
It can be applied to a so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head. In that case, a soft magnetic thin film having a lower Bs than that of the core is provided on the core facing the soft magnetic thin film with a gap in between. That is, in the configuration shown in FIG. 1, the first core 1
A soft magnetic thin film having Bs lower than that of the ferrite forming the core is provided between the gap and the gap 5.

【0046】[0046]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【0047】図1に示される構成の磁気ヘッドサンプル
を作製した。各磁気ヘッドサンプルの軟磁性薄膜の組成
を下記表1に示す。
A magnetic head sample having the structure shown in FIG. 1 was produced. The composition of the soft magnetic thin film of each magnetic head sample is shown in Table 1 below.

【0048】軟磁性薄膜4はスパッタ法により形成し、
厚さは2μm とした。ただし、サンプルNo. 5では蒸着
法により形成し、蒸着する元素の蒸気圧の違いを利用し
て組成が連続的に変化する構成の膜とした。
The soft magnetic thin film 4 is formed by the sputtering method,
The thickness was 2 μm. However, in Sample No. 5, the film was formed by the vapor deposition method and the composition was changed continuously by utilizing the difference in vapor pressure of the vapor deposited elements.

【0049】下地膜6は厚さ0.01μm のCr膜であ
り、スパッタ法により形成した。
The base film 6 is a 0.01 μm thick Cr film, and was formed by the sputtering method.

【0050】各コアの材質はMn−Znフェライト(B
s =5kG、μi =3000、Hc =8A/m )とした。
The material of each core is Mn-Zn ferrite (B
s = 5 kG, µ i = 3000, and Hc = 8 A / m).

【0051】ギャップ51にはSiO2 を用い、スパッ
タ法により形成し、その膜厚は0.3μm とした。ギャ
ップ53には、作業温度Twが800℃の接着ガラスを
用いた。なお、ギャップ53はスパッタ法により形成
し、その膜厚は0.1μm とした。
SiO 2 was used for the gap 51 and was formed by the sputtering method, and the thickness thereof was 0.3 μm. For the gap 53, an adhesive glass having a working temperature Tw of 800 ° C. was used. The gap 53 was formed by the sputtering method, and the thickness thereof was 0.1 μm.

【0052】溶着ガラス3の組成は、重量比で SiO2 :27.0、 B23 :2.0、 PbO:59.0、 Al23 :2.0、 ZnO:4.0、 Na2 O:6.0 であり、作業温度Twは690℃であった。そして、7
00℃にて1時間溶着を行なった。そして、各磁気ヘッ
ドサンプルをスライダと一体化し、コンポジットタイプ
の浮上型磁気ヘッドとした。
The composition of the fused glass 3 is as follows: SiO 2 : 27.0, B 2 O 3 : 2.0, PbO: 59.0, Al 2 O 3 : 2.0, ZnO: 4.0, by weight. It was Na 2 O: 6.0 and the working temperature Tw was 690 ° C. And 7
Welding was performed at 00 ° C. for 1 hour. Then, each magnetic head sample was integrated with a slider to form a composite type flying magnetic head.

【0053】溶着後の各軟磁性薄膜のBs を表1に示
す。Bs はVSMで測定した。
Table 1 shows the Bs of each soft magnetic thin film after welding. Bs was measured by VSM.

【0054】組成およびBs は、結晶化ガラス基板上に
磁気ヘッド作製の際と同条件で軟磁性薄膜を形成し、ガ
ラス溶着の際の熱処理と同条件の熱処理を施したものに
ついて測定されたものである。なお、組成はSIMSで
測定した。組成が連続的に変化するサンプルNo. 5で
は、コア側表面の組成とギャップ側表面の組成とを示し
た。また、サンプルNo. 5におけるコア側Bs およびギ
ャップ側Bs は、コア側組成を有する単層膜およびギャ
ップ側組成を有する単層膜を形成してそれぞれ測定し
た。
The composition and Bs were measured on a crystallized glass substrate on which a soft magnetic thin film was formed under the same conditions as in the production of a magnetic head and subjected to a heat treatment under the same conditions as those for glass welding. Is. The composition was measured by SIMS. Sample No. 5 in which the composition changed continuously showed the composition of the core side surface and the composition of the gap side surface. The core side Bs and the gap side Bs in sample No. 5 were measured by forming a single layer film having a core side composition and a single layer film having a gap side composition, respectively.

【0055】これらの磁気ヘッドにより、3.5インチ
のハードディスク(Hc 1500 Oe 、3600rpm )
に記録を行なった。サンプルNo. 2および6の周波数特
性曲線を、それぞれ図3および図4に示す。また、各サ
ンプルの周波数特性曲線のうねりの幅を、表1に示す。
なお、この場合のうねりの幅とは、2MHz 付近における
出力の山部と谷部の差である。
With these magnetic heads, a 3.5-inch hard disk (Hc 1500 Oe, 3600 rpm)
Was recorded. The frequency characteristic curves of Sample Nos. 2 and 6 are shown in FIGS. 3 and 4, respectively. Table 1 shows the undulation width of the frequency characteristic curve of each sample.
The waviness width in this case is the difference between the peaks and troughs of the output near 2 MHz.

【0056】また、No. 1〜3の比較サンプルおよびN
o. 5〜6の本発明サンプルについて、オーバーライト
特性と飽和特性とを測定した。オーバーライト特性(O
/W特性)については、サンプルNo. 1〜3(比較例)
のものを図5の(a)に、サンプルNo. 5および6(実
施例)のものを図5の(b)に示し、飽和特性について
は、サンプルNo. 1〜3(比較例)のものを図6の
(a)に、サンプルNo. 5および6(実施例)のものを
図6の(b)に示す。なお、オーバーライト特性とは、
1.25MHz の1f信号を記録し、次いでこの上から
2.5MHz の2f信号を重ね書きしたときの、2f信号
の出力に対する1f信号の出力である。
Further, comparative samples Nos. 1 to 3 and N
o. The overwrite characteristics and the saturation characteristics of the samples of the present invention of 5 to 6 were measured. Overwrite characteristics (O
/ W characteristics), sample No. 1-3 (comparative example)
Fig. 5 (a) shows that of Sample Nos. 5 and 6 (Example), and Fig. 5 (b) shows that of Saturation characteristics of Sample Nos. 1-3 (Comparative Example). 6A is shown in FIG. 6A, and those of Sample Nos. 5 and 6 (Examples) are shown in FIG. 6B. The overwrite characteristics are
This is the output of the 1f signal with respect to the output of the 2f signal when the 1f signal of 1.25 MHz is recorded and then the 2f signal of 2.5 MHz is overwritten from above.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】以上の結果から、本発明の効果が明らかで
ある。すなわち、図3、図4および表1から明らかなよ
うに、本発明のサンプルでは、擬似ギャップ効果に起因
する周波数特性曲線のうねりが著しく小さい。また、図
5および図6から明らかなように、本発明のサンプル
は、比較サンプルNo. 2および3の良好なオーバーライ
ト特性および飽和特性を損なわずに、擬似ギャップ効果
が抑えられていることがわかる。
From the above results, the effect of the present invention is clear. That is, as is clear from FIGS. 3 and 4 and Table 1, in the sample of the present invention, the waviness of the frequency characteristic curve due to the pseudo gap effect is extremely small. Further, as is clear from FIGS. 5 and 6, the samples of the present invention have suppressed the pseudo-gap effect without impairing the good overwrite characteristics and saturation characteristics of Comparative Sample Nos. 2 and 3. Recognize.

【0059】また、本発明サンプルは、作業温度Twが
550℃以下である従来の溶着ガラスを用いた磁気ヘッ
ドに比べ、歩留りが10%以上向上した。
Further, the sample of the present invention has a yield improved by 10% or more as compared with the magnetic head using the conventional fused glass having a working temperature Tw of 550 ° C. or less.

【0060】なお、サンプルNo. 4では、コア側のFe
−Ni(パーマロイ)膜のHc が熱処理により5 Oe ま
で増加し、軟磁性膜としての使用に耐えなかった。
In sample No. 4, Fe on the core side
The Hc of the -Ni (permalloy) film was increased to 5 Oe by the heat treatment, and it could not be used as a soft magnetic film.

【0061】下地膜としてMo、Ta、Ti、W、Vお
よびNbを用いた場合でも、ほぼ同等の結果が得られた
が、周波数特性のうねりはCr下地膜の場合が最も小さ
かった。
Even when Mo, Ta, Ti, W, V and Nb were used as the underlayer, almost the same results were obtained, but the waviness of the frequency characteristics was the smallest in the Cr underlayer.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明では、MIG型磁気ヘッドにおい
て、軟磁性薄膜のBsをコア側で低くギャップ側で高く
構成するため、MIG型磁気ヘッドの効果を保持しなが
ら擬似ギャップ効果を著しく低減できる。
According to the present invention, in the MIG type magnetic head, since Bs of the soft magnetic thin film is configured to be low on the core side and high on the gap side, the pseudo gap effect can be significantly reduced while maintaining the effect of the MIG type magnetic head. ..

【0063】また、本発明では、軟磁性薄膜をセンダス
ト系合金やスーパーセンダスト系合金で構成するため、
軟磁性薄膜の耐熱性が高く、磁気ヘッド製造の際のガラ
ス溶着時の保持温度を600℃以上と高くできる。この
ため、耐環境性が良好で機械的強度の高い溶着ガラスが
使え、信頼性が高く製造歩留りの高い磁気ヘッドが実現
する。
Further, in the present invention, since the soft magnetic thin film is composed of the sendust type alloy or the super sendust type alloy,
The soft magnetic thin film has high heat resistance, and the holding temperature at the time of glass welding in manufacturing a magnetic head can be increased to 600 ° C. or higher. Therefore, a fused glass having good environment resistance and high mechanical strength can be used, and a magnetic head with high reliability and high manufacturing yield can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気ヘッドの1例を示す部分断面図で
ある。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic head of the present invention.

【図2】本発明の磁気ヘッドの1例を示す部分断面図で
ある。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing an example of a magnetic head of the present invention.

【図3】従来の磁気ヘッドの周波数特性を表わすグラフ
である。
FIG. 3 is a graph showing frequency characteristics of a conventional magnetic head.

【図4】本発明の磁気ヘッドの周波数特性を表わすグラ
フである。
FIG. 4 is a graph showing frequency characteristics of the magnetic head of the present invention.

【図5】(a)および(b)は、それぞれ従来の磁気ヘ
ッドおよび本発明の磁気ヘッドのオーバーライト特性を
表わすグラフである
5A and 5B are graphs showing overwrite characteristics of a conventional magnetic head and a magnetic head of the present invention, respectively.

【図6】(a)および(b)は、それぞれ従来の磁気ヘ
ッドおよび本発明の磁気ヘッドの飽和特性を表わすグラ
フである。
6A and 6B are graphs showing saturation characteristics of a conventional magnetic head and a magnetic head of the present invention, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1コア 2 第2コア 3 溶着ガラス 4 軟磁性薄膜 41 コア側薄膜 42 ギャップ側薄膜 5,51,53 ギャップ 6 下地膜 1 1st core 2 2nd core 3 Welding glass 4 Soft magnetic thin film 41 Core side thin film 42 Gap side thin film 5,51,53 Gap 6 Underlayer film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒川 雅行 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テイ ーデイーケイ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued Front Page (72) Inventor Masayuki Arakawa 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれフェライトから構成される一対
のコアを有し、少なくとも一方のコアとギャップとの間
に、前記コアより飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有す
る磁気ヘッドであって、 前記軟磁性薄膜が、Fe、AlおよびSiを主成分と
し、 前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度が、前記ギャップ近傍よ
りも前記コア近傍のほうが低いことを特徴とする磁気ヘ
ッド。
1. A magnetic head comprising a pair of cores each made of ferrite, and a soft magnetic thin film having a saturation magnetic flux density higher than that of the core between at least one core and the gap, A magnetic head, wherein the magnetic thin film contains Fe, Al and Si as main components, and the saturation magnetic flux density of the soft magnetic thin film is lower near the core than near the gap.
【請求項2】 前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度が、前記
ギャップに接している側から前記コアに接している側に
かけて漸減している請求項1に記載の磁気ヘッド。
2. The magnetic head according to claim 1, wherein the saturation magnetic flux density of the soft magnetic thin film gradually decreases from the side in contact with the gap to the side in contact with the core.
【請求項3】 前記軟磁性薄膜の組成が、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe である請求項2に記載の磁気ヘッド。3. The magnetic head according to claim 2, wherein the composition of the soft magnetic thin film is Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, and the balance: Fe. 【請求項4】 前記軟磁性薄膜が飽和磁束密度の異なる
少なくとも2層の薄膜から構成される請求項1に記載の
磁気ヘッド。
4. The magnetic head according to claim 1, wherein the soft magnetic thin film is composed of at least two layers of thin films having different saturation magnetic flux densities.
【請求項5】 前記軟磁性薄膜が、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe の組成を有するコア側薄膜と、 Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe の組成を有するギャップ側薄膜とを有する請求項4に記
載の磁気ヘッド。
5. The soft magnetic thin film comprises: a core side thin film having a composition of Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, balance: Fe; Al: 3 to 7% by weight, Si: 3 The magnetic head according to claim 4, further comprising: a thin film on the gap side having a composition of -8% by weight, Ni: 1-5% by weight, and the balance: Fe.
【請求項6】 前記軟磁性薄膜と前記コアとの間に、C
r、Mo、Ta、Ti、W、VおよびNbの少なくとも
1種から構成される下地膜を有する請求項1ないし5の
いずれかに記載の磁気ヘッド。
6. C is provided between the soft magnetic thin film and the core.
6. The magnetic head according to claim 1, further comprising a base film made of at least one of r, Mo, Ta, Ti, W, V and Nb.
【請求項7】 作業温度Twが300〜850℃の溶着
ガラスにより前記一対のコアが溶着一体化されている請
求項1ないし6のいずれかに記載の磁気ヘッド。
7. The magnetic head according to claim 1, wherein the pair of cores are fused and integrated by a fused glass having a working temperature Tw of 300 to 850 ° C.
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