JP3214716B2 - Magnetic head and method of manufacturing the same - Google Patents

Magnetic head and method of manufacturing the same

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JP3214716B2
JP3214716B2 JP30847791A JP30847791A JP3214716B2 JP 3214716 B2 JP3214716 B2 JP 3214716B2 JP 30847791 A JP30847791 A JP 30847791A JP 30847791 A JP30847791 A JP 30847791A JP 3214716 B2 JP3214716 B2 JP 3214716B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、コアよりも飽和磁束密
度の高い軟磁性薄膜をギャップ部に有するメタル・イン
・ギャップ型の磁気ヘッドおよびその製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal-in-gap type magnetic head having a soft magnetic thin film having a higher saturation magnetic flux density than a core in a gap portion, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報化社会の進展に伴ない、磁気
記録装置にも大容量化の要請が強く、磁気記録技術はよ
り一層の高記録密度化が重要な課題となっている。この
課題に対処するため、媒体においては高保磁力(Hc )
化、低ノイズ化等の技術が開発されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the progress of the information-oriented society, there has been a strong demand for a magnetic recording device having a large capacity, and it has become an important issue for magnetic recording technology to further increase the recording density. To cope with this problem, the medium has a high coercive force (Hc).
Technologies such as noise reduction and noise reduction have been developed.

【0003】一方、磁気ヘッドにおいては、従来、フェ
ライトを磁気コアとしたものが主流であったが、近年、
フェライト磁気ヘッドのギャップにセンダストやCo系
アモルファス材等の金属軟磁性薄膜を形成した、いわゆ
るMIG(メタル・イン・ギャップ)型磁気ヘッドが登
場した。フェライトの飽和磁束密度(Bs )は約500
0G 程度であるため、従来のフェライトヘッドで記録可
能な媒体のHc は、800〜900 Oe 程度が限界とな
っていた。従って、媒体のHc の増加に応じて磁気ヘッ
ドの記録能力も高める必要があり、その手段として、従
来のフェライトヘッドのギャップにセンダスト等の高B
s 金属からなる軟磁性薄膜を形成したMIG型磁気ヘッ
ドが開発され、実用化されたのである。
[0003] On the other hand, in the past, magnetic heads using a ferrite as a magnetic core have been mainly used.
A so-called MIG (metal-in-gap) type magnetic head has appeared, in which a soft magnetic thin film of a metal such as sendust or a Co-based amorphous material is formed in a gap of a ferrite magnetic head. Ferrite has a saturation magnetic flux density (Bs) of about 500
Since it is about 0 G, the limit of Hc of the medium recordable by the conventional ferrite head is about 800 to 900 Oe. Therefore, it is necessary to increase the recording performance of the magnetic head in accordance with the increase of the Hc of the medium.
s A MIG type magnetic head formed with a soft magnetic thin film made of metal was developed and put into practical use.

【0004】MIG型磁気ヘッドは、ギャップに形成さ
れた軟磁性薄膜から強力な磁束を媒体に印加できるた
め、高Hc 媒体にも記録が可能であり、例えばBs が約
10kGのセンダストを軟磁性薄膜として用いた場合、H
c が約1300 Oe 程度までの媒体に記録ができるよう
になった。また、Bs が約15kGのスーパーセンダスト
や、Fe−Me(Meは、Zr、Mo、Ta等)−N系
薄膜を用いた場合、Hcが約1600Oe 程度までの媒体
に記録可能となった。
Since the MIG type magnetic head can apply a strong magnetic flux to the medium from the soft magnetic thin film formed in the gap, it can also record on a high Hc medium. For example, a soft magnetic thin film having a Bs of about 10 kG can be used. When used as
It is now possible to record on a medium whose c is up to about 1300 Oe. When a super sendust having a Bs of about 15 kG or a Fe-Me (Me is Zr, Mo, Ta, etc.)-N thin film was used, recording was possible on a medium having an Hc of about 1600 Oe.

【0005】しかし、MIG型磁気ヘッドでは、コアと
軟磁性薄膜との境界が擬似ギャップとなり、副パルスと
呼ばれる偽信号を生じることがある。擬似ギャップ効果
の原因としては、例えば、フェライトコアと軟磁性薄膜
の界面が、金属や酸化物の酸化、還元等により劣化する
ためであるとか、軟磁性薄膜中の特性成分(例えばセン
ダスト膜ではAl、Si)が界面に拡散していくことに
より非磁性層が形成されるためであるとか、軟磁性薄膜
成膜時に生じる初期劣化層のためであるとか、様々な議
論がなされている。
However, in the MIG type magnetic head, the boundary between the core and the soft magnetic thin film becomes a pseudo gap, and a false signal called a sub-pulse may be generated. The cause of the pseudo gap effect is, for example, that the interface between the ferrite core and the soft magnetic thin film is deteriorated by oxidation or reduction of a metal or an oxide, or that a characteristic component in the soft magnetic thin film (for example, Al in a sendust film). , Si) are diffused to the interface to form a non-magnetic layer, or to an initial deterioration layer generated at the time of forming a soft magnetic thin film.

【0006】ディジタル記録では、副パルスの存在によ
りいわゆるビットシフトが生じて波形に時間軸方向のズ
レが生じるため、記録波長を短くすることができなくな
る。また、アナログ記録では、副パルスの存在により、
周波数特性曲線に周期的なうねりが生じてしまう。
In digital recording, a so-called bit shift occurs due to the presence of a sub-pulse, and a waveform shifts in the time axis direction, so that it is impossible to shorten the recording wavelength. In analog recording, the presence of sub-pulses
A periodic undulation occurs in the frequency characteristic curve.

【0007】このような擬似ギャップ効果を低減するた
めに、センダスト薄膜とフェライトコアとの間にNi−
Fe(パーマロイ)薄膜を下地膜として設ける試みがな
されている。しかし、Ni−Fe薄膜に600℃以上の
熱処理を施すと、Niがセンダスト中に拡散し、透磁率
が著しく低下してしまう(日本応用磁気学会誌13,277-2
80(1989))。このため、Ni−Fe下地膜を用いる場合
は、溶着温度が600℃以上となるガラスを使用できな
い。
[0007] In order to reduce such a pseudo gap effect, a Ni—
Attempts have been made to provide an Fe (permalloy) thin film as a base film. However, when a Ni—Fe thin film is subjected to a heat treatment at 600 ° C. or more, Ni diffuses into sendust and the magnetic permeability is significantly reduced (Journal of the Japan Society of Applied Magnetics 13,277-2).
80 (1989)). For this reason, when using a Ni—Fe underlayer, glass whose welding temperature is 600 ° C. or higher cannot be used.

【0008】溶着温度が600℃未満のいわゆる低融点
ガラスとするためには、鉛やアルカリ金属などを多量に
添加する必要があるため、耐湿性等の耐環境性が不十分
となり、また、機械的強度も低くなる。従って、従来、
溶着ガラスとして用いられているガラスは、耐環境性が
低く、機械的強度も劣る。このため、擬似ギャップ効果
低減と信頼性および製造歩留り向上とを共に実現するこ
とはできなかった。
In order to obtain a so-called low-melting glass having a welding temperature of less than 600 ° C., it is necessary to add a large amount of lead, an alkali metal, etc., so that environmental resistance such as moisture resistance becomes insufficient, and mechanical The target strength also decreases. Therefore, conventionally,
Glass used as a deposition glass has low environmental resistance and poor mechanical strength. For this reason, it has not been possible to realize both the reduction in the pseudo gap effect and the improvement in reliability and manufacturing yield.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、擬似ギャップ効果が少な
く、しかも、信頼性および製造歩留りの高いMIG型磁
気ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a MIG type magnetic head having a low pseudo gap effect, high reliability and a high production yield, and a method of manufacturing the same. With the goal.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(6)の本発明により達成される。 (1) それぞれフェライトから構成される一対のコア
を有し、少なくとも一方のコアとギャップとの間に、前
記コアより飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有する磁気
ヘッドであって、前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度が、前
記ギャップ近傍よりも前記コア近傍のほうが低く、前記
軟磁性薄膜が飽和磁束密度の異なる少なくとも2層の薄
膜から構成され、前記軟磁性薄膜が、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe の組成を有するコア側薄膜と、 Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe の組成を有するギャップ側薄膜とを有する磁気ヘッド。 (2) 前記軟磁性薄膜と前記コアとの間に、Cr、M
o、Ta、Ti、W、VおよびNbの少なくとも1種か
ら構成される下地膜を有する上記(1)に記載の磁気ヘ
ッド。 (3) 作業温度Twが300〜850℃の溶着ガラス
により前記一対のコアが溶着一体化されている上記
(1)または(2)に記載の磁気ヘッド。 (4) それぞれフェライトから構成される一対のコア
を有し、少なくとも一方のコアとギャップとの間に、前
記コアより飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有する磁気
ヘッドの製造方法であって、飽和磁束密度が、前記ギャ
ップ近傍よりも前記コア近傍のほうが低く、飽和磁束密
度の異なる少なくとも2層の薄膜から構成され、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe の組成を有するコア側薄膜と、 Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe の組成を有するギャップ側薄膜とを有する軟磁性薄膜を
形成し、前記軟磁性薄膜に熱処理を施す磁気ヘッドの製
造方法。 (5) 前記軟磁性薄膜と前記コアとの間に、Cr、M
o、Ta、Ti、W、VおよびNbの少なくとも1種か
ら構成される下地膜を形成する請求項4に記載の磁気ヘ
ッドの製造方法。 (6) 作業温度Twが300〜850℃の溶着ガラス
により前記一対のコアを溶着一体化し、このときの加熱
により熱処理を施す上記(4)または(5)に記載の磁
気ヘッドの製造方法。
This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (6). (1) A magnetic head having a pair of cores each made of ferrite, and a soft magnetic thin film having a higher saturation magnetic flux density than the core between at least one of the cores and the gap. Is lower in the vicinity of the core than in the vicinity of the gap, and the soft magnetic thin film is composed of at least two thin films having different saturation magnetic flux densities. A core-side thin film having a composition of Si: 5 to 12% by weight, the balance: Fe; and a composition of Al: 3 to 7% by weight, Si: 3 to 8% by weight, Ni: 1 to 5% by weight, and the balance: Fe. A magnetic head comprising: a gap-side thin film having: (2) Cr, M between the soft magnetic thin film and the core.
The magnetic head according to the above (1), which has a base film composed of at least one of o, Ta, Ti, W, V and Nb. (3) The magnetic head according to the above (1) or (2), wherein the pair of cores is welded and integrated by welding glass having a working temperature Tw of 300 to 850 ° C. (4) A method of manufacturing a magnetic head having a pair of cores each composed of ferrite and having a soft magnetic thin film having a higher saturation magnetic flux density than at least one core and a gap between at least one core and a gap, The magnetic flux density is lower in the vicinity of the core than in the vicinity of the gap, and is composed of at least two layers of thin films having different saturation magnetic flux densities: Al: 3 to 7% by weight; Si: 5 to 12% by weight; Forming a soft magnetic thin film having a core side thin film having a composition and a gap side thin film having a composition of Al: 3 to 7% by weight, Si: 3 to 8% by weight, Ni: 1 to 5% by weight, and balance: Fe And a method for manufacturing a magnetic head, wherein the soft magnetic thin film is subjected to a heat treatment. (5) Cr, M between the soft magnetic thin film and the core.
5. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 4, wherein a base film made of at least one of o, Ta, Ti, W, V and Nb is formed. (6) The method of manufacturing a magnetic head according to (4) or (5), wherein the pair of cores is welded and integrated by welding glass having a working temperature Tw of 300 to 850 ° C., and heat treatment is performed by heating at this time.

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【作用】本発明の磁気ヘッドは、コアとギャップとの間
にコアよりもBs の高い軟磁性薄膜を有するMIG型磁
気ヘッドである。本発明では、前記軟磁性薄膜のコア近
傍のBs をギャップ近傍のBs よりも小さく構成する。
このようにフェライトコアと軟磁性薄膜との境界でのB
s の段差を小さくすることにより、擬似ギャップ効果を
著しく低減できる。そして、ギャップ近傍の軟磁性薄膜
は従来と同等のBs を有するため、高い書き込み能力は
変わらない。
The magnetic head of the present invention is a MIG type magnetic head having a soft magnetic thin film having a higher Bs than the core between the core and the gap. In the present invention, Bs near the core of the soft magnetic thin film is configured to be smaller than Bs near the gap.
Thus, B at the boundary between the ferrite core and the soft magnetic thin film
By reducing the step of s, the pseudo gap effect can be significantly reduced. Since the soft magnetic thin film in the vicinity of the gap has the same Bs as the conventional one, the high write performance does not change.

【0019】しかも、前記軟磁性薄膜は、Fe、Alお
よびSiを主成分とするセンダスト系合金のコア側薄膜
と、Fe、Al、SiおよびNiを主成分とするスーパ
ーセンダスト系合金のギャップ側薄膜とを有するもので
あるため、耐熱性が高く、ガラス溶着の際に600℃以
上の温度で熱処理した場合でも磁気特性の劣化がない。
このため、耐環境性が良好で強度の高い溶着ガラスが使
え、信頼性が高く製造歩留りの高い磁気ヘッドが実現す
る。
Further, the soft magnetic thin film includes a core-side thin film of a sendust-based alloy containing Fe, Al and Si as main components, and a gap-side thin film of a super sendust-based alloy containing Fe, Al, Si and Ni as main components. Therefore, the heat resistance is high, and the magnetic properties are not deteriorated even when heat treatment is performed at a temperature of 600 ° C. or more during glass welding.
Therefore, a high-strength fused glass having good environmental resistance can be used, and a magnetic head with high reliability and high production yield can be realized.

【0020】また、前記下地膜を設ければ、前記軟磁性
薄膜と前記コアとの接着性が向上する。特に、下地膜を
Crで構成した場合、擬似ギャップ効果をさらに低減す
ることが可能である。
Further, the provision of the underlayer improves the adhesion between the soft magnetic thin film and the core. In particular, when the base film is made of Cr, the pseudo gap effect can be further reduced.

【0021】ところで、特開昭61−34707号公報
には、フェライトコアを用いたMIG型磁気ヘッドが記
載されている。この磁気ヘッドのギャップ部は、多結晶
質磁性合金、非晶質磁性合金、フェライトコアの順に連
結して磁気回路を構成しており、多結晶質磁性合金、非
晶質磁性合金、フェライトの順で飽和磁束密度が低くな
っている。しかし、この磁気ヘッドは非晶質磁性合金を
使っているため耐熱性が低く、溶着温度の高いガラスを
使うことができない。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-34707 describes a MIG type magnetic head using a ferrite core. The gap portion of the magnetic head forms a magnetic circuit by connecting a polycrystalline magnetic alloy, an amorphous magnetic alloy, and a ferrite core in this order. The polycrystalline magnetic alloy, the amorphous magnetic alloy, and the ferrite are arranged in this order. , The saturation magnetic flux density is low. However, since this magnetic head uses an amorphous magnetic alloy, it has low heat resistance and cannot use glass having a high welding temperature.

【0022】[0022]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成を、添付の図
面に基づいて詳細に説明する。図1に示される参考例の
磁気ヘッドおよび図2に示される本発明の磁気ヘッド
は、第1コア1および第2コア2の一対のコアを有し、
両コアはギャップ5を介して溶着ガラス3により一体化
されており、第2コア2とギャップ5との間に、各コア
よりBs の大きい軟磁性薄膜4を有する。なお、通常、
第1コア1に巻線が巻回される。
The specific structure of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. The magnetic head of the reference example shown in FIG. 1 and the magnetic head of the present invention shown in FIG. 2 have a pair of cores of a first core 1 and a second core 2,
The two cores are integrated by a welding glass 3 via a gap 5, and a soft magnetic thin film 4 having a larger Bs than each core is provided between the second core 2 and the gap 5. Usually,
A winding is wound around the first core 1.

【0023】軟磁性薄膜4は、Fe、AlおよびSiを
主成分とする組成を有し、ギャップ5近傍よりも第2コ
ア2近傍のほうがBs が小さくなるように構成される。
Bsをこのような分布とするためには、図1の参考例の
ように、ギャップ5に接している側から第2コア2に接
している側にかけて軟磁性薄膜4のBs が漸減するよう
に構成することも考えられるが、本発明では、図2のよ
うに、Bs の異なる少なくとも2層の薄膜から軟磁性薄
膜4を構成する。
The soft magnetic thin film 4 has a composition mainly composed of Fe, Al and Si, and is configured such that Bs is smaller near the second core 2 than near the gap 5.
In order for Bs to have such a distribution, Bs of the soft magnetic thin film 4 is gradually reduced from the side in contact with the gap 5 to the side in contact with the second core 2 as in the reference example of FIG. Although it is conceivable to form the soft magnetic thin film 4 in the present invention, as shown in FIG. 2, at least two thin films having different Bs are used.

【0024】図1に示される参考例の磁気ヘッドは、B
s が漸減する構成の軟磁性薄膜4を有している。このよ
うなBs 分布を有する軟磁性薄膜4は、構成元素の含有
比率を連続的に変化させることにより形成することがで
きる。この場合、軟磁性薄膜4の全体組成は、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe であることが好ましい。そして、第2コア2側からギャ
ップ5側にかけてSiおよびAlの含有比率が漸減する
ように組成分布を設けることにより、ギャップ5側から
第2コア2側にかけてBs が漸減する構成とすることが
できる。具体的には、第2コア2近傍におけるAlおよ
びSiの含有比率は Al:7〜9重量%、 Si:10〜15重量% 程度とすることが好ましく、ギャップ5近傍におけるA
lおよびSiの含有比率は Al:1〜4重量%、 Si:3〜8重量% 程度とすることが好ましい。
The magnetic head of the reference example shown in FIG.
The soft magnetic thin film 4 has a configuration in which s gradually decreases. The soft magnetic thin film 4 having such a Bs distribution can be formed by continuously changing the content ratio of the constituent elements. In this case, the overall composition of the soft magnetic thin film 4 is preferably 3 to 7% by weight of Al, 5 to 12% by weight of Si, and the balance of Fe. By providing a composition distribution such that the content ratio of Si and Al gradually decreases from the second core 2 side to the gap 5 side, Bs can be gradually reduced from the gap 5 side to the second core 2 side. . Specifically, the content ratio of Al and Si in the vicinity of the second core 2 is preferably about 7 to 9% by weight of Al and about 10 to 15% by weight of Si.
It is preferable that the content ratio of 1 and Si is about 1 to 4% by weight of Al and about 3 to 8% by weight of Si.

【0025】このような範囲から組成を適宜選択するこ
とにより、第2コア2近傍において8000〜1100
0G 程度、ギャップ5近傍において12000〜150
00G 程度のBs を得ることができる。
By appropriately selecting the composition from such a range, 8000 to 1100 in the vicinity of the second core 2
0G, 12000-150 near gap 5
Bs of about 00G can be obtained.

【0026】図2に示される本発明の磁気ヘッドは、B
s の異なる2層の薄膜から構成される軟磁性薄膜4を有
する。軟磁性薄膜4は、第2コア2側のコア側薄膜41
と、ギャップ5側のギャップ側薄膜42とから構成され
ており、コア側薄膜41のほうがギャップ側薄膜42よ
りもBs が低い。この構成では、コア側薄膜およびギャ
ップ側薄膜をそれぞれセンダスト系の合金で構成し、各
薄膜の組成を上記した組成連続変化膜のコア近傍組成お
よびギャップ近傍組成とすることも考えられるが、本発
明では、コア側薄膜をセンダスト合金系の組成とし、ギ
ャップ側薄膜をスーパーセンダスト合金系の組成とす
る。具体的には、コア側薄膜の組成は Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe であり、ギャップ側薄膜の組成は Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe である。各薄膜の組成をこのような範囲から適宜選択す
ることにより、コア側薄膜では8000〜11000G
程度、ギャップ側薄膜では12000〜15000G 程
度のBs を得ることができる。
The magnetic head of the present invention shown in FIG.
It has a soft magnetic thin film 4 composed of two thin films having different s. The soft magnetic thin film 4 includes a core-side thin film 41 on the second core 2 side.
And the gap side thin film 42 on the gap 5 side. The core side thin film 41 has a lower Bs than the gap side thin film 42. In this configuration, the core-side thin film and the gap-side thin film may each be made of a sendust-based alloy, and the composition of each thin film may be the composition near the core and the composition near the gap of the above-described composition continuously variable film. In this example, the core-side thin film has a Sendust alloy-based composition, and the gap-side thin film has a Super Sendust alloy-based composition. Specifically, the composition of the core-side thin film is Al: 3 to 7% by weight, Si: 5 to 12% by weight, and the balance: Fe. The composition of the gap-side thin film is: Al: 3 to 7% by weight, Si: 3 -8% by weight, Ni: 1-5% by weight, balance: Fe. By appropriately selecting the composition of each thin film from such a range, the core side thin film has a thickness of 8000 to 11000 G
In the gap side thin film, Bs of about 12000 to 15000 G can be obtained.

【0027】なお、軟磁性薄膜4をBs の異なる複数の
薄膜から構成する場合、最もコアに近い薄膜を上記した
コア側薄膜とし、最もギャップに近い薄膜を上記したギ
ャップ側薄膜とする。そして、両薄膜の間に存在する薄
膜のBsは、コア側薄膜よりも高くギャップ側薄膜より
も低いことが好ましい。
When the soft magnetic thin film 4 is composed of a plurality of thin films having different Bs, the thin film closest to the core is defined as the core-side thin film, and the thin film closest to the gap is defined as the gap-side thin film. It is preferable that Bs of the thin film existing between the two thin films is higher than the core-side thin film and lower than the gap-side thin film.

【0028】なお、フェライト製コアのBs は3000
〜6000G 程度である。
The Bs of the ferrite core is 3000
~ 6000G.

【0029】軟磁性薄膜4は、Fe、Si、Alおよび
Niの他、Cr、Mo、Ti、Ta、W、Zr、Hf、
Ga、Ru、Au、Ag、Co、Zn、Sn等を全体の
1原子%以下含有していてもよく、これらのうちでは、
軟磁気特性が向上することからAuが含有されることが
好ましい。
The soft magnetic thin film 4 is made of Cr, Mo, Ti, Ta, W, Zr, Hf, in addition to Fe, Si, Al and Ni.
Ga, Ru, Au, Ag, Co, Zn, Sn and the like may be contained at 1 atomic% or less of the whole.
It is preferable that Au is contained because the soft magnetic property is improved.

【0030】軟磁性薄膜4の膜厚は、好ましくは0.2
〜10μm 、より好ましくは0.5〜5μm である。膜
厚が前記範囲未満であると、体積が不足して飽和し易く
なり、強力な磁界を印加するという機能が不十分とな
る。また、膜厚が前記範囲を超えると、特に単層膜の場
合、渦電流損失が大きくなり、高周波特性が不十分とな
る。図2に示されるように、軟磁性薄膜4が複数の薄膜
から構成される場合、各薄膜の厚さの比率は特に限定さ
れないが、通常、最も厚い薄膜が最も薄い薄膜の3倍以
下、特に1.5倍以下となるようにすることが好まし
い。
The thickness of the soft magnetic thin film 4 is preferably 0.2
10 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm. If the film thickness is less than the above range, the volume is insufficient and the film is easily saturated, and the function of applying a strong magnetic field becomes insufficient. On the other hand, if the thickness exceeds the above range, particularly in the case of a single-layer film, the eddy current loss increases and the high-frequency characteristics become insufficient. As shown in FIG. 2, when the soft magnetic thin film 4 is composed of a plurality of thin films, the thickness ratio of each thin film is not particularly limited, but usually the thickest thin film is three times or less the thinnest thin film, particularly It is preferable to make it 1.5 times or less.

【0031】本発明では、軟磁性薄膜4と第2コア2と
の間に、下地膜6を設けることが好ましい。下地膜6
は、Cr、Mo、Ta、Ti、W、VおよびNbの少な
くとも1種から構成されることが好ましい。これらのう
ちでは、Crが特に好ましい。下地膜6をCrで構成す
ることにより、擬似ギャップ効果をさらに低減すること
ができる。なお、下地膜6は、上記元素を含む合金、例
えばCr−Si合金等で構成されてもよい。
In the present invention, it is preferable to provide an underlayer 6 between the soft magnetic thin film 4 and the second core 2. Base film 6
Is preferably composed of at least one of Cr, Mo, Ta, Ti, W, V and Nb. Of these, Cr is particularly preferred. By configuring the base film 6 with Cr, the pseudo gap effect can be further reduced. The base film 6 may be made of an alloy containing the above elements, for example, a Cr-Si alloy or the like.

【0032】下地膜6の厚さは、通常、0.001〜
0.1μm 、特に0.002〜0.05μm とすること
が好ましい。厚さが前記範囲未満であると下地膜として
の効果が不十分であり、前記範囲を超えると軟磁性薄膜
の体積を十分に大きくできなくなる。
The thickness of the base film 6 is usually 0.001 to
The thickness is preferably 0.1 μm, particularly preferably 0.002 to 0.05 μm. If the thickness is less than the above range, the effect as a base film is insufficient, and if it exceeds the range, the volume of the soft magnetic thin film cannot be sufficiently increased.

【0033】なお、図示例では、軟磁性薄膜4は第2コ
ア2とギャップ5との間に設けられているが、第1コア
1とギャップ5との間に設けられてもよい。また、必要
に応じて両方のコアに軟磁性薄膜を設けてもよい。その
場合、下地膜も両方のコアに設けることが好ましい。
Although the soft magnetic thin film 4 is provided between the second core 2 and the gap 5 in the illustrated example, it may be provided between the first core 1 and the gap 5. If necessary, both cores may be provided with a soft magnetic thin film. In that case, it is preferable that the base film is also provided on both cores.

【0034】本発明において、各コアはフェライトから
構成される。用いるフェライトに特に制限はないが、M
n−ZnフェライトまたはNi−Znフェライトを目的
に応じて選択することが好ましい。Mn−Znフェライ
トとしては、Fe23 50〜60モル%程度、ZnO
8〜25モル%程度、残部が実質的にMnOのものが
好ましい。また、Ni−Znフェライトは特に高周波領
域において優れた特性を示すものであり、好ましい組成
としては、Fe23 が30〜60モル%、NiOが1
5〜50モル%、ZnOが5〜40モル%程度のもので
ある。
In the present invention, each core is made of ferrite. The ferrite used is not particularly limited.
It is preferable to select n-Zn ferrite or Ni-Zn ferrite according to the purpose. The Mn-Zn ferrite, Fe 2 O 3 50 to 60 mol%, ZnO
About 8 to 25 mol%, the balance being substantially MnO is preferred. Further, Ni-Zn ferrite is exhibits excellent characteristics particularly in a high frequency region, as the preferred composition, Fe 2 O 3 is 30 to 60 mol%, NiO is 1
It is about 5 to 50 mol% and ZnO is about 5 to 40 mol%.

【0035】各コアの直流でのBs は、好ましくは30
00〜6000G とする。Bs が前記範囲未満である
と、オーバーライト特性が低下する他、このようなBs
の組成では、キュリー温度が低くなるため熱的安定性が
低下してしまう。前記範囲を超えると、磁歪が増加して
磁気ヘッドとしての特性が悪化したり、着磁し易くな
る。
Bs at the direct current of each core is preferably 30
00 to 6000G. When Bs is less than the above range, overwrite characteristics are deteriorated, and such Bs
In the case of the composition described above, the Curie temperature is lowered, so that the thermal stability is lowered. If the ratio exceeds the above range, the magnetostriction increases and the characteristics as a magnetic head deteriorate, or the magnetic head is easily magnetized.

【0036】各コアの直流での初透磁率μi は1,00
0以上、Hc は0.3 Oe 以下であることが好ましい。
The initial magnetic permeability μ i of each core at DC is 1,00
It is preferable that Hc is 0 or more and 0.3 Oe or less.

【0037】また、各コアのギャップ対向面は、鏡面研
磨等により平滑化し、軟磁性薄膜4や下地膜6等が形成
され易いようにすることが好ましい。
It is preferable that the gap opposing surface of each core be smoothed by mirror polishing or the like so that the soft magnetic thin film 4 and the base film 6 can be easily formed.

【0038】ギャップ5は、非磁性材質から構成され
る。ギャップ5には、接着強度を高めるため接着ガラス
を用いることが好ましく、例えば、特願平1−7150
6号等に示されるガラスが好適である。また、ギャップ
5は接着ガラスのみで構成されていてもよいが、ギャッ
プ形成速度やギャップ強度を高めるため、図示のように
ギャップ51とギャップ53との2層で構成されること
が好ましい。この場合、ギャップ51にはSiO2 を用
い、ギャップ53には接着ガラスを用いることが好まし
い。なお、溶着ガラス3がギャップ両サイドに流れ込む
タイプの磁気ヘッドの場合は、ギャップ5を酸化ケイ素
のみで構成してもよい。ギャップ5の形成方法には特に
制限はないが、スパッタ法を用いることが好ましい。ギ
ャップ長は、通常0.2〜2.0μm 程度である。
The gap 5 is made of a non-magnetic material. Adhesive glass is preferably used for the gap 5 in order to increase the adhesive strength.
Glass shown in No. 6 or the like is preferable. Further, the gap 5 may be composed of only the adhesive glass, but is preferably composed of two layers of the gap 51 and the gap 53 as shown in the figure in order to increase the gap formation speed and the gap strength. In this case, it is preferable to use SiO 2 for the gap 51 and use an adhesive glass for the gap 53. In the case of a magnetic head of a type in which the welding glass 3 flows into both sides of the gap, the gap 5 may be made of only silicon oxide. The method of forming the gap 5 is not particularly limited, but it is preferable to use a sputtering method. The gap length is usually about 0.2 to 2.0 μm.

【0039】本発明の磁気ヘッドは、通常、以下のよう
にして製造される。軟磁性薄膜4および下地膜6は、ス
パッタや蒸着等の気相成膜法により形成することが好ま
しいが、液相めっきにより形成してもよい。コア側から
ギャップ側にかけて組成が連続的に変化する参考例の構
成とする場合には、蒸着法を用いることが好ましい。こ
の場合、蒸気圧の違いにより、当初はAlおよびSiが
蒸発しやすくこれらの比率の高い低Bs 膜が形成され
る。そして、次第にAlおよびSiの蒸発量が少なくな
り、Feの比率の高い高Bs 膜に変化していく。Alお
よびSiの量と加熱パワーとを適当に選択することによ
り、任意のBs とその変化パターンとを実現することが
できる。
The magnetic head of the present invention is usually manufactured as follows. The soft magnetic thin film 4 and the base film 6 are preferably formed by a vapor phase film forming method such as sputtering or vapor deposition, but may be formed by liquid phase plating. In the case of the configuration of the reference example in which the composition continuously changes from the core side to the gap side, it is preferable to use an evaporation method. In this case, due to the difference in vapor pressure, Al and Si are likely to evaporate at first, and a low Bs film having a high ratio of these is formed. Then, the evaporation amounts of Al and Si gradually decrease, and the film changes to a high Bs film having a high ratio of Fe. By appropriately selecting the amounts of Al and Si and the heating power, an arbitrary Bs and its change pattern can be realized.

【0040】コアの接合は、通常、ギャップ53の接着
ガラスにより熱圧着すると同時に溶着ガラス3を流し込
むことにより行なう。用いる溶着ガラス3の作業温度T
wは300〜850℃、特に600〜700℃程度であ
ることが好ましく、この場合、ガラス溶着時の保持温度
は300〜850℃、特に600〜700℃程度とな
る。なお、作業温度Twとは、周知のようにガラスの粘
度が104 poise となる温度である。
The bonding of the cores is usually carried out by thermocompression bonding with the adhesive glass in the gap 53 and at the same time pouring in the welding glass 3. Working temperature T of welding glass 3 to be used
It is preferable that w is 300 to 850 ° C., particularly about 600 to 700 ° C. In this case, the holding temperature at the time of glass welding is 300 to 850 ° C., particularly about 600 to 700 ° C. The working temperature Tw is a temperature at which the viscosity of the glass becomes 10 4 poise, as is well known.

【0041】また、コンポジット型の浮上型磁気ヘッド
とする場合には、図1(参考例)や図2(本発明例)に
示される構成の磁気ヘッドを、2次溶着工程においてガ
ラスによりスライダと接着する。
In the case of a composite floating magnetic head, the magnetic head having the structure shown in FIG. 1 (reference example) or FIG. 2 (example of the present invention) is formed by a glass with a slider in a secondary welding step. Glue.

【0042】本発明の磁気ヘッドでは、軟磁性薄膜4の
耐熱性が良好であるため、このようなTwのガラスを用
いて溶着しても軟磁性薄膜4のHc が上昇せず、良好な
軟磁性が保持される。このため、鉛やアルカリ金属など
の含有量が少ない溶着ガラスを用いることができるの
で、耐環境性が良好で機械的強度も高い磁気ヘッドが実
現する。
In the magnetic head of the present invention, since the soft magnetic thin film 4 has good heat resistance, Hc of the soft magnetic thin film 4 does not increase even when welding is performed using such a glass of Tw, and the soft magnetic thin film 4 has good softness. Magnetism is maintained. For this reason, it is possible to use a deposition glass having a low content of lead, an alkali metal, or the like, thereby realizing a magnetic head having good environmental resistance and high mechanical strength.

【0043】軟磁性薄膜には軟磁気特性向上のために熱
処理が施されることが好ましいが、上記した溶着時の加
熱を熱処理として利用できるので、工数の減少が可能で
ある。
The soft magnetic thin film is preferably subjected to a heat treatment in order to improve the soft magnetic characteristics. However, since the above-mentioned heating at the time of welding can be used as the heat treatment, the number of steps can be reduced.

【0044】本発明の磁気ヘッドは、いわゆるラミネー
トタイプやバルクタイプ等のトンネルイレーズ型、ある
いはイレーズヘッドを有しないリードライト型などのオ
ーバーライト記録を行なうフロッピーヘッド、モノリシ
ックタイプやコンポジットタイプの浮上型の計算機用ヘ
ッド、回転型のVTR用ヘッドやR−DAT用ヘッドな
どの各種磁気ヘッドとして用いられる。
The magnetic head of the present invention may be of a tunnel erase type such as a so-called laminate type or a bulk type, a floppy head for performing overwrite recording such as a read / write type having no erase head, a floating type of a monolithic type or a composite type. It is used as various magnetic heads such as a computer head, a rotary VTR head and an R-DAT head.

【0045】なお、本発明は、MIG型磁気ヘッドの1
種である、いわゆるエンハンスト・デュアル・ギャップ
・レングス(EDG)型の磁気ヘッドに適用することが
できる。その場合、ギャップを挟んで前記軟磁性薄膜と
対向するコアに、コアよりもBs の低い軟磁性薄膜を設
ける。すなわち、図1に示される参考例の構成では、第
1コア1とギャップ5との間に、コアを構成するフェラ
イトよりもBs の低い軟磁性薄膜を設ける。
It should be noted that the present invention relates to a MIG type magnetic head 1
It is applicable to a so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head. In this case, a soft magnetic thin film having a lower Bs than the core is provided on the core facing the soft magnetic thin film with a gap therebetween. That is, in the configuration of the reference example shown in FIG. 1, a soft magnetic thin film having a lower Bs than the ferrite constituting the core is provided between the first core 1 and the gap 5.

【0046】[0046]

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明
をさらに詳細に説明する。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

【0047】図1に示される構成の磁気ヘッドサンプル
を作製した。各磁気ヘッドサンプルの軟磁性薄膜の組成
を下記表1に示す。
A magnetic head sample having the structure shown in FIG. 1 was manufactured. The composition of the soft magnetic thin film of each magnetic head sample is shown in Table 1 below.

【0048】軟磁性薄膜4はスパッタ法により形成し、
厚さは2μm とした。ただし、サンプルNo. 5(参考
例)では蒸着法により形成し、蒸着する元素の蒸気圧の
違いを利用して組成が連続的に変化する構成の膜とし
た。
The soft magnetic thin film 4 is formed by a sputtering method.
The thickness was 2 μm. However, in Sample No. 5 (Reference Example), a film was formed by a vapor deposition method, and a composition in which the composition was continuously changed utilizing the difference in vapor pressure of the element to be vapor deposited was used.

【0049】下地膜6は厚さ0.01μm のCr膜であ
り、スパッタ法により形成した。
The underlayer 6 is a Cr film having a thickness of 0.01 μm and is formed by a sputtering method.

【0050】各コアの材質はMn−Znフェライト(B
s =5kG、μi =3000、Hc =8A/m )とした。
The material of each core is Mn-Zn ferrite (B
s = 5 kG, μ i = 3000, Hc = 8 A / m).

【0051】ギャップ51にはSiO2 を用い、スパッ
タ法により形成し、その膜厚は0.3μm とした。ギャ
ップ53には、作業温度Twが800℃の接着ガラスを
用いた。なお、ギャップ53はスパッタ法により形成
し、その膜厚は0.1μm とした。
The gap 51 is formed by sputtering using SiO 2 and has a thickness of 0.3 μm. Adhesive glass with a working temperature Tw of 800 ° C. was used for the gap 53. The gap 53 was formed by a sputtering method, and the thickness was set to 0.1 μm.

【0052】溶着ガラス3の組成は、重量比で SiO2 :27.0、 B23 :2.0、 PbO:59.0、 Al23 :2.0、 ZnO:4.0、 Na2 O:6.0 であり、作業温度Twは690℃であった。そして、7
00℃にて1時間溶着を行なった。そして、各磁気ヘッ
ドサンプルをスライダと一体化し、コンポジットタイプ
の浮上型磁気ヘッドとした。
The composition of the welding glass 3 is as follows: SiO 2 : 27.0, B 2 O 3 : 2.0, PbO: 59.0, Al 2 O 3 : 2.0, ZnO: 4.0, by weight ratio. Na 2 O: 6.0, and the working temperature Tw was 690 ° C. And 7
Welding was performed at 00 ° C. for 1 hour. Then, each magnetic head sample was integrated with the slider to obtain a composite type floating magnetic head.

【0053】溶着後の各軟磁性薄膜のBs を表1に示
す。Bs はVSMで測定した。
Table 1 shows Bs of each soft magnetic thin film after welding. Bs was measured by VSM.

【0054】組成およびBs は、結晶化ガラス基板上に
磁気ヘッド作製の際と同条件で軟磁性薄膜を形成し、ガ
ラス溶着の際の熱処理と同条件の熱処理を施したものに
ついて測定されたものである。なお、組成はSIMSで
測定した。組成が連続的に変化するサンプルNo. 5(参
考例)では、コア側表面の組成とギャップ側表面の組成
とを示した。また、サンプルNo. 5(参考例)における
コア側Bs およびギャップ側Bs は、コア側組成を有す
る単層膜およびギャップ側組成を有する単層膜を形成し
てそれぞれ測定した。
The composition and Bs were measured on a crystallized glass substrate on which a soft magnetic thin film was formed under the same conditions as in the production of the magnetic head and subjected to heat treatment under the same conditions as the heat treatment during the glass welding. It is. The composition was measured by SIMS. Sample No. 5 (Reference Example) in which the composition changes continuously shows the composition on the core side surface and the composition on the gap side surface. The core-side Bs and gap-side Bs in Sample No. 5 (Reference Example) were measured by forming a single-layer film having a core-side composition and a single-layer film having a gap-side composition.

【0055】これらの磁気ヘッドにより、3.5インチ
のハードディスク(Hc 1500 Oe 、3600rpm )
に記録を行なった。サンプルNo. 2および6の周波数特
性曲線を、それぞれ図3および図4に示す。また、各サ
ンプルの周波数特性曲線のうねりの幅を、表1に示す。
なお、この場合のうねりの幅とは、2MHz 付近における
出力の山部と谷部の差である。
With these magnetic heads, a 3.5-inch hard disk (Hc 1500 Oe, 3600 rpm)
Was recorded. The frequency characteristic curves of Sample Nos. 2 and 6 are shown in FIGS. 3 and 4, respectively. Table 1 shows the undulation width of the frequency characteristic curve of each sample.
The undulation width in this case is the difference between the peak and the valley of the output near 2 MHz.

【0056】また、No. 1〜3の比較サンプルおよびN
o. 5〜6の参考例と本発明のサンプルについて、オー
バーライト特性と飽和特性とを測定した。オーバーライ
ト特性(O/W特性)については、サンプルNo. 1〜3
(比較例)のものを図5の(a)に、サンプルNo. 5
(参考例)および6(実施例)のものを図5の(b)に
示し、飽和特性については、サンプルNo. 1〜3(比較
例)のものを図6の(a)に、サンプルNo. 5(参考
例)および6(実施例)のものを図6の(b)に示す。
なお、オーバーライト特性とは、1.25MHz の1f信
号を記録し、次いでこの上から2.5MHz の2f信号を
重ね書きしたときの、2f信号の出力に対する1f信号
の出力である。
The comparative samples Nos. 1 to 3 and N
o. Overwrite characteristics and saturation characteristics of the reference examples 5 to 6 and the sample of the present invention were measured. Regarding overwrite characteristics (O / W characteristics), sample Nos. 1-3
FIG. 5 (a) shows the result of Comparative Example and FIG.
FIG. 5 (b) shows the results of the reference examples and 6 (example), and FIG. 6 (a) shows the saturation characteristics of the samples Nos. 1-3 (comparative example). FIGS. 5 (reference example) and 6 (example) are shown in FIG.
The overwrite characteristic refers to the output of the 1f signal with respect to the output of the 2f signal when a 1.25 MHz 1f signal is recorded and then a 2.5 MHz 2f signal is overwritten thereon.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】以上の結果から、本発明の効果が明らかで
ある。すなわち、図3、図4および表1から明らかなよ
うに、本発明のサンプルでは、擬似ギャップ効果に起因
する周波数特性曲線のうねりが著しく小さい。また、図
5および図6から明らかなように、本発明のサンプル
は、比較サンプルNo. 2および3の良好なオーバーライ
ト特性および飽和特性を損なわずに、擬似ギャップ効果
が抑えられていることがわかる。
From the above results, the effect of the present invention is clear. That is, as is clear from FIGS. 3 and 4 and Table 1, in the sample of the present invention, the undulation of the frequency characteristic curve caused by the pseudo gap effect is extremely small. As is clear from FIGS. 5 and 6, the sample of the present invention shows that the pseudo gap effect is suppressed without impairing the favorable overwrite characteristics and saturation characteristics of Comparative Samples Nos. 2 and 3. Understand.

【0059】また、本発明サンプルは、作業温度Twが
550℃以下である従来の溶着ガラスを用いた磁気ヘッ
ドに比べ、歩留りが10%以上向上した。
The yield of the sample of the present invention was improved by 10% or more as compared with the magnetic head using the conventional welding glass whose working temperature Tw was 550 ° C. or less.

【0060】なお、サンプルNo. 4では、コア側のFe
−Ni(パーマロイ)膜のHc が熱処理により5 Oe ま
で増加し、軟磁性膜としての使用に耐えなかった。
In the sample No. 4, the core side Fe
The Hc of the -Ni (permalloy) film increased to 5 Oe by the heat treatment, and the film could not be used as a soft magnetic film.

【0061】下地膜としてMo、Ta、Ti、W、Vお
よびNbを用いた場合でも、ほぼ同等の結果が得られた
が、周波数特性のうねりはCr下地膜の場合が最も小さ
かった。
When Mo, Ta, Ti, W, V and Nb were used as the underlayer, almost the same results were obtained, but the waviness of the frequency characteristics was the smallest in the case of the Cr underlayer.

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明では、MIG型磁気ヘッドにおい
て、軟磁性薄膜のBsをコア側で低くギャップ側で高く
構成するため、MIG型磁気ヘッドの効果を保持しなが
ら擬似ギャップ効果を著しく低減できる。
According to the present invention, in the MIG type magnetic head, since the soft magnetic thin film has a lower Bs on the core side and a higher Bs on the gap side, the pseudo gap effect can be significantly reduced while maintaining the effect of the MIG type magnetic head. .

【0063】また、本発明では、軟磁性薄膜をセンダス
ト系合金とスーパーセンダスト系合金とで構成するた
め、軟磁性薄膜の耐熱性が高く、磁気ヘッド製造の際の
ガラス溶着時の保持温度を600℃以上と高くできる。
このため、耐環境性が良好で機械的強度の高い溶着ガラ
スが使え、信頼性が高く製造歩留りの高い磁気ヘッドが
実現する。
Further, in the present invention, since the soft magnetic thin film is composed of a sendust-based alloy and a super sendust-based alloy, the soft magnetic thin film has a high heat resistance, and the holding temperature at the time of glass welding at the time of manufacturing a magnetic head is 600. ℃ or higher.
Therefore, a deposited glass having good environmental resistance and high mechanical strength can be used, and a magnetic head with high reliability and high production yield can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】参考例の磁気ヘッドの1例を示す部分断面図で
ある。
FIG. 1 is a partial sectional view showing an example of a magnetic head of a reference example.

【図2】本発明の磁気ヘッドの1例を示す部分断面図で
ある。
FIG. 2 is a partial sectional view showing an example of a magnetic head according to the present invention.

【図3】従来の磁気ヘッドの周波数特性を表わすグラフ
である。
FIG. 3 is a graph showing frequency characteristics of a conventional magnetic head.

【図4】本発明の磁気ヘッドの周波数特性を表わすグラ
フである。
FIG. 4 is a graph showing frequency characteristics of the magnetic head of the present invention.

【図5】(a)および(b)は、それぞれ従来の磁気ヘ
ッドおよび参考例と本発明の磁気ヘッドのオーバーライ
ト特性を表わすグラフである
5A and 5B are graphs showing overwrite characteristics of a conventional magnetic head, a reference example, and a magnetic head of the present invention, respectively.

【図6】(a)および(b)は、それぞれ従来の磁気ヘ
ッドおよび参考例と本発明の磁気ヘッドの飽和特性を表
わすグラフである。
FIGS. 6A and 6B are graphs showing saturation characteristics of a conventional magnetic head, a reference example, and a magnetic head of the present invention, respectively.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 第1コア 2 第2コア 3 溶着ガラス 4 軟磁性薄膜 41 コア側薄膜 42 ギャップ側薄膜 5,51,53 ギャップ 6 下地膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 1st core 2 2nd core 3 Deposition glass 4 Soft magnetic thin film 41 Core side thin film 42 Gap side thin film 5, 51, 53 Gap 6 Base film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒川 雅行 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−185212(JP,A) 特開 昭64−1110(JP,A) 特開 昭63−275005(JP,A) 特開 昭61−240412(JP,A) 特開 昭61−34707(JP,A) 特開 昭63−58607(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/127 - 5/255 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Masayuki Arakawa 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (56) References JP-A-62-185212 (JP, A) JP-A-64 -1110 (JP, A) JP-A-63-275005 (JP, A) JP-A-61-240412 (JP, A) JP-A-61-34707 (JP, A) JP-A-63-58607 (JP, A) (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G11B 5/127-5/255

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 それぞれフェライトから構成される一対
のコアを有し、少なくとも一方のコアとギャップとの間
に、前記コアより飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有す
る磁気ヘッドであって、 前記軟磁性薄膜の飽和磁束密度が、前記ギャップ近傍よ
りも前記コア近傍のほうが低く、 前記軟磁性薄膜が飽和磁束密度の異なる少なくとも2層
の薄膜から構成され、前記軟磁性薄膜が、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe の組成を有するコア側薄膜と、 Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe の組成を有するギャップ側薄膜とを有する磁気ヘッド。
1. A magnetic head having a pair of cores each made of ferrite, and a soft magnetic thin film having a higher saturation magnetic flux density than the core between at least one of the cores and a gap. The saturation magnetic flux density of the magnetic thin film is lower in the vicinity of the core than in the vicinity of the gap, and the soft magnetic thin film is composed of at least two thin films having different saturation magnetic flux densities. Core side thin film having a composition of 5% by weight, Si: 5 to 12% by weight, balance: Fe, Al: 3 to 7% by weight, Si: 3 to 8% by weight, Ni: 1 to 5% by weight, balance: Fe And a gap-side thin film having the following composition.
【請求項2】 前記軟磁性薄膜と前記コアとの間に、C
r、Mo、Ta、Ti、W、VおよびNbの少なくとも
1種から構成される下地膜を有する請求項1に記載の磁
気ヘッド。
2. The method according to claim 1, wherein C is provided between the soft magnetic thin film and the core.
The magnetic head according to claim 1, further comprising a base film made of at least one of r, Mo, Ta, Ti, W, V, and Nb.
【請求項3】 作業温度Twが300〜850℃の溶着
ガラスにより前記一対のコアが溶着一体化されている請
求項1または2に記載の磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 1, wherein the pair of cores is welded and integrated by welding glass having a working temperature Tw of 300 to 850 ° C.
【請求項4】 それぞれフェライトから構成される一対
のコアを有し、少なくとも一方のコアとギャップとの間
に、前記コアより飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有す
る磁気ヘッドの製造方法であって、 飽和磁束密度が、前記ギャップ近傍よりも前記コア近傍
のほうが低く、 飽和磁束密度の異なる少なくとも2層の薄膜から構成さ
れ、 Al:3〜7重量%、 Si:5〜12重量%、 残部:Fe の組成を有するコア側薄膜と、 Al:3〜7重量%、 Si:3〜8重量%、 Ni:1〜5重量%、 残部:Fe の組成を有するギャップ側薄膜とを有する軟磁性薄膜を
形成し、 前記軟磁性薄膜に熱処理を施す磁気ヘッドの製造方法。
4. A method for manufacturing a magnetic head, comprising: a pair of cores each made of ferrite; and a soft magnetic thin film having a higher saturation magnetic flux density than at least one of the cores and the gap. The core is lower in the vicinity of the core than in the vicinity of the gap, and is composed of at least two thin films having different saturation magnetic flux densities; Al: 3 to 7% by weight; Si: 5 to 12% by weight; Soft magnetic thin film having a core-side thin film having a composition of Fe, and a gap-side thin film having a composition of Al: 3 to 7% by weight, Si: 3 to 8% by weight, Ni: 1 to 5% by weight, and the balance: Fe Forming a soft magnetic thin film and performing a heat treatment on the soft magnetic thin film.
【請求項5】 前記軟磁性薄膜と前記コアとの間に、C
r、Mo、Ta、Ti、W、VおよびNbの少なくとも
1種から構成される下地膜を形成する請求項4に記載の
磁気ヘッドの製造方法。
5. A method according to claim 1, wherein C is provided between said soft magnetic thin film and said core.
5. The method of manufacturing a magnetic head according to claim 4, wherein a base film made of at least one of r, Mo, Ta, Ti, W, V and Nb is formed.
【請求項6】 作業温度Twが300〜850℃の溶着
ガラスにより前記一対のコアを溶着一体化し、このとき
の加熱により熱処理を施す請求項4または5に記載の磁
気ヘッドの製造方法。
6. The method for manufacturing a magnetic head according to claim 4, wherein the pair of cores is welded and integrated by welding glass having a working temperature Tw of 300 to 850 ° C., and heat treatment is performed by heating at this time.
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