JPH03267353A - Soft-magnetic material and magnetic head - Google Patents

Soft-magnetic material and magnetic head

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JPH03267353A
JPH03267353A JP2069016A JP6901690A JPH03267353A JP H03267353 A JPH03267353 A JP H03267353A JP 2069016 A JP2069016 A JP 2069016A JP 6901690 A JP6901690 A JP 6901690A JP H03267353 A JPH03267353 A JP H03267353A
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JP
Japan
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magnetic
thin film
soft
magnetic material
gap
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JP2069016A
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Japanese (ja)
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Terunobu Miyazaki
照宣 宮崎
Osamu Kawamoto
修 河本
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Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To produce a soft-magnetic material having low coercive force and high saturation magnetic flux density by preparing a soft-magnetic material having a specific atomic composition consisting of Fe and Be, etc. CONSTITUTION:A soft-magnetic material having an atomic composition represented by a formula Fe1-xZx (where Z means Be, a combination of Be and V, or a combination of Be and/or V and Si and/or Al and 0.05<=x<=0.4) is prepared. This soft-magnetic material has high adhesive strength to ceramics, such as ferrite, and also has high heat resistance, corrosion resistance, and wear resistance, and further, a thin film of this soft-magnetic material is suitable for magnetic head.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、磁気ヘッド等に用いて好適な軟磁性材料と磁
気ヘッドとに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to a magnetic head and a soft magnetic material suitable for use in a magnetic head or the like.

〈従来の技術〉 フェライト製の第1および第2コアの少な(とも一方の
ギャップ部対向面に、コアよりも飽和磁束密度Bsの高
いセンダスト等の軟磁性薄膜を有するメタル・イン・ギ
ャップ(MIG)型磁気ヘッドが知られている。
<Prior art> Metal-in-gap (MIG) with a soft magnetic thin film such as sendust, which has a higher saturation magnetic flux density Bs than the core, on the opposing surface of the gap portion of the first and second cores made of ferrite. ) type magnetic heads are known.

この磁気ヘッドでは、軟磁性薄膜から強力な磁束を磁気
記n媒体に印加できるため、高い保磁力を有する媒体に
有効な記録が行なえる。
In this magnetic head, a strong magnetic flux can be applied to a magnetic recording medium from a soft magnetic thin film, so that effective recording can be performed on a medium having a high coercive force.

しかし、センダストでは、飽和磁束密度Bsが12kG
程度と十分でない。
However, in Sendust, the saturation magnetic flux density Bs is 12kG.
degree and not enough.

またフェライト製のコアとの接着強度が低く、下地層を
設ける必要がある。
Furthermore, the adhesive strength with the ferrite core is low, so it is necessary to provide a base layer.

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の主たる目的は、保磁力Heが低(、飽和磁束密
度Bsが高く、フェライト等のセラミックとの接着強度
が高い軟磁性材料およびその薄膜を用いた磁気ヘッド提
供することにある。
<Problems to be Solved by the Invention> The main object of the present invention is to develop a magnetic material using a soft magnetic material with a low coercive force (He), a high saturation magnetic flux density Bs, and a high adhesive strength with ceramics such as ferrite, and a thin film thereof. The head is to provide.

く課題を解決するための手段〉 このような目的は下記(1)および(2)の本発明によ
って達成される。
Means for Solving the Problems> These objects are achieved by the present invention described in (1) and (2) below.

(1)下記式で表わされる原子比組成を有することを特
徴とする軟磁性材料。
(1) A soft magnetic material characterized by having an atomic composition represented by the following formula.

式  Fe+−Zx (上式においてZは、Be、Beと■との組合わせ、ま
たはBeおよび/もしくは■とSiおよび/もしくはA
ffとの組合わせを表わし、0.05≦X≦0.4であ
る。) (2)上記(1)に記載の軟磁性材料の薄膜を有する磁
気ヘッド。
Formula Fe+-Zx (In the above formula, Z is Be, a combination of Be and ■, or Be and/or ■ and Si and/or A
It represents a combination with ff, and 0.05≦X≦0.4. ) (2) A magnetic head comprising a thin film of the soft magnetic material described in (1) above.

く作用〉 本発明の軟磁性薄膜は、飽和磁束密度Bsが15kG程
度と向上し、保磁力Heが低い。
Effect> The soft magnetic thin film of the present invention has an improved saturation magnetic flux density Bs of about 15 kG and a low coercive force He.

そして、フェライト等のセラミック体との接着力が高い
Furthermore, it has high adhesive strength with ceramic bodies such as ferrite.

さらに、耐熱性や耐食性や耐摩耗性も高い。Furthermore, it has high heat resistance, corrosion resistance, and wear resistance.

〈発明の具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。<Specific structure of the invention> Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の軟磁性材料は、通常、薄膜であり、下記式で示
される原子比組成を有する。
The soft magnetic material of the present invention is usually a thin film and has an atomic composition represented by the following formula.

式  Fe+−ZX 上式においてZは、下記のうちの1種以上である。Formula Fe+-ZX In the above formula, Z is one or more of the following.

1)Be 2)Be+V 3)(Beおよび■の1種または2種)+(Siおよび
A℃の1種または2種)これらのうち、2)の場合には
、■は、全体の0.7以下(原子比)であることが好ま
しい。
1) Be 2) Be+V 3) (One or two types of Be and ■) + (One or two types of Si and A°C) Among these, in the case of 2), ■ is the total 0. It is preferable that it is 7 or less (atomic ratio).

また、3)の場合には、V/Bの原子比は任意であるが
、SiおよびA℃の総計は全体の0.9以下(原子比)
、特に0.8以下であることが好ましい。
In addition, in the case of 3), the atomic ratio of V/B is arbitrary, but the total of Si and A℃ is 0.9 or less (atomic ratio)
, especially preferably 0.8 or less.

なお、上記に1)〜3)のうちでは、2)および3)が
好ましい。
Note that among 1) to 3) above, 2) and 3) are preferable.

また、Xは0,05〜0.4、好ましくは0.05〜0
.3である。
Also, X is 0.05 to 0.4, preferably 0.05 to 0
.. It is 3.

前記範囲未満では、保磁力Hcが増加してしまう。If it is less than the above range, the coercive force Hc will increase.

前記範囲をこえると、飽和磁束密度Bsが低下してしま
う。
If it exceeds the above range, the saturation magnetic flux density Bs will decrease.

このような組成中には、全体の20at%以下、特に1
0at%以下の範囲で、Nb、Zr、W、Ti、Cr、
Ni、Co、Ta、Mn、Mo、C,P、Ge、B等の
1種以上が含有されていてもよい。
In such a composition, less than 20 at% of the total amount, especially 1
Nb, Zr, W, Ti, Cr, within the range of 0 at% or less
One or more of Ni, Co, Ta, Mn, Mo, C, P, Ge, B, etc. may be contained.

このような組成の軟磁性薄膜は、蒸着、スパッタリング
、イオンブレーティング、CVD等の気相法により、一
般に0.05〜10−程度の膜厚に成膜すればよい。
A soft magnetic thin film having such a composition may be formed generally to a thickness of about 0.05 to 10 - by a vapor phase method such as evaporation, sputtering, ion blating, or CVD.

成膜に際しては、一般に基板温度を200〜500℃と
することが好ましい。
During film formation, it is generally preferable to keep the substrate temperature at 200 to 500°C.

得られた軟磁性薄膜の直流〜50Hz程度での保磁力H
cは、50e以下、より好ましくは20e以下であるこ
とが好ましい。
Coercive force H of the obtained soft magnetic thin film at DC ~ 50 Hz
It is preferable that c is 50e or less, more preferably 20e or less.

また、5 MHzでの初透磁率μ、は、1000以上、
特に1500以上のものかえられる。
In addition, the initial magnetic permeability μ at 5 MHz is 1000 or more,
In particular, more than 1,500 items can be exchanged.

保磁力Heが前記範囲をこえると、あるいは初透磁率μ
、が前記範囲未満であると、磁気ヘッドに適用したとき
、記録・再生感度が低下する傾向にある。
If the coercive force He exceeds the above range, or the initial permeability μ
is less than the above range, recording/reproducing sensitivity tends to decrease when applied to a magnetic head.

また、軟磁性薄膜の飽和磁束密度Bsとしては、15k
G以上、特に16kG以上であることが好ましい。
In addition, the saturation magnetic flux density Bs of the soft magnetic thin film is 15k
It is preferably 16 kG or more, particularly 16 kG or more.

前記範囲未満であるとオーバーライド特性が悪化し、特
に高保磁力の磁気記録媒体への記録が困難となる。
If it is less than the above range, the override characteristics will deteriorate, making it particularly difficult to record on a high coercive force magnetic recording medium.

軟磁性薄膜は、成膜後に熱処理を施してもよい。The soft magnetic thin film may be subjected to heat treatment after being formed.

また、軟磁性薄膜は、結晶質であり、その結晶粒径は、
100〜500人程度である。
In addition, the soft magnetic thin film is crystalline, and its crystal grain size is
Approximately 100 to 500 people.

本発明の軟磁性材料を薄膜として、MIG型磁気ヘッド
に適用したときの実施例を、第1図および第2図に示す
An embodiment in which the soft magnetic material of the present invention is applied as a thin film to an MIG type magnetic head is shown in FIGS. 1 and 2.

第1図に示される磁気ヘッドは、第1コア1と、ギャッ
プ部対向面に、軟磁性薄膜4が形−成されている第2コ
ア2とを有し、両コアがギャップ5を介して接合され、
溶着ガラス3により溶着一体化されている。
The magnetic head shown in FIG. 1 has a first core 1 and a second core 2 having a soft magnetic thin film 4 formed on the surface facing the gap, and both cores are connected to each other through a gap 5. joined,
They are integrated by welding with a welding glass 3.

また、第2図に示される磁気ヘッドは、軟磁性薄膜4を
第1コア1、第2フア2の双方のギャップ部対向面に形
成したタイプのものである。
The magnetic head shown in FIG. 2 is of a type in which a soft magnetic thin film 4 is formed on the surfaces of both the first core 1 and the second core 2 facing the gap portion.

本発明において、コア1.2はフェライトから構成され
ることが好ましい。
In the present invention, the core 1.2 is preferably composed of ferrite.

この場合、用いるフェライトに特に制限はないが、M 
n −Z nフェライトまたはN 1−Znフェライト
を、目的に応じて用いることが好ましい。
In this case, there are no particular restrictions on the ferrite used, but M
It is preferable to use n-Zn ferrite or N1-Zn ferrite depending on the purpose.

Mn−Znフェライトとしては、F e 20 s50
〜60モル%程度、znO8〜 25モル%程度、残部
が実質的にMnOのものが好適である。
As Mn-Zn ferrite, Fe 20 s50
It is preferable to use ZnO in an amount of about 60 mol %, about 8 to 25 mol % of znO, and the remainder being substantially MnO.

また、Ni−Znフェライトは特に高周波領域において
優れた特性を示すものであり、好ましい組成としては、
F e 20 gが30〜60モル%、NiOが15〜
50モル%、ZnOが5〜40モル%程度のものである
In addition, Ni-Zn ferrite exhibits excellent properties especially in the high frequency range, and its preferred composition is as follows:
Fe 20 g is 30-60 mol%, NiO is 15-60 mol%
ZnO is about 50 mol% and ZnO is about 5 to 40 mol%.

本発明の軟磁性薄膜は、これらフェライトに対し高い接
着強度を示す。
The soft magnetic thin film of the present invention exhibits high adhesive strength to these ferrites.

なお、コア1.2のギャップ部対向面は、鏡面研磨等に
より平滑化し、後述する軟磁性薄膜4や下地膜等が形成
され易いようにすることが好ましい。
Note that the surface of the core 1.2 facing the gap portion is preferably smoothed by mirror polishing or the like so that a soft magnetic thin film 4, a base film, etc., which will be described later, can be easily formed thereon.

このような軟磁性薄膜4は、記録時に密度の高い磁束を
発生させ、高い保磁力を有する磁気記録媒体に有効な記
録を行なうために設けられる。
Such a soft magnetic thin film 4 is provided to generate a high-density magnetic flux during recording and to perform effective recording on a magnetic recording medium having a high coercive force.

このような場合の軟磁性薄膜4の膜厚は、好ましくは0
.2〜5−である。
In such a case, the thickness of the soft magnetic thin film 4 is preferably 0.
.. 2 to 5-.

ギャップ5は、非磁性材質から形成される。Gap 5 is formed from a non-magnetic material.

特に、ギャップ5には、接着強度を高めるため接着ガラ
スを用いることが好ましい。
In particular, it is preferable to use adhesive glass for the gap 5 in order to increase adhesive strength.

また、ギャップ5は、接着ガラスのみで形成されていて
もよいが、ギャップ形成速度やギャップ強度を高めるた
め、図示のようにギャップ51とギャップ53との2層
で形成されることが好ましい。
Further, the gap 5 may be formed of only adhesive glass, but in order to increase the gap formation speed and gap strength, it is preferably formed of two layers, a gap 51 and a gap 53, as shown in the figure.

この場合、ギャップ51にはSiO2を用い、ギャップ
53には接着ガラスを用いる。
In this case, SiO2 is used for the gap 51, and adhesive glass is used for the gap 53.

なお、溶着ガラス3が、ギャップ両サイドに流れ込むタ
イプの磁気ヘッドの場合は、ギャップ5を酸化ケイ素の
みで形成してもよい。
In addition, in the case of a magnetic head of a type in which the welded glass 3 flows into both sides of the gap, the gap 5 may be formed only of silicon oxide.

ギャップ5の形成には制限はないが、特にスパッタ法を
用いることが好ましい。
Although there are no restrictions on the formation of the gap 5, it is particularly preferable to use a sputtering method.

ギャップ長は、0.2〜2.0層程度である。The gap length is approximately 0.2 to 2.0 layers.

本発明のMIG型磁気ヘッドは、第1図や第2図に示さ
れるように、第1コア1と、第2コア2とがギャップ5
を介して接合一体化されているものである。
In the MIG type magnetic head of the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, the first core 1 and the second core 2 have a gap 5
They are joined and integrated via the .

コアの接合は、ギャップ53の接着ガラスにより熱圧着
すると同時に溶着ガラス3を流し込むことにより行う。
The cores are joined by thermocompression bonding using adhesive glass in the gap 53 and at the same time by pouring the welding glass 3.

本発明では耐熱性の高い前記の軟磁性薄膜を用いるため
、Tw400〜600”Cのガラスを用いて熱圧着して
も、保磁力Hcは劣化しない。
In the present invention, since the above-mentioned soft magnetic thin film having high heat resistance is used, the coercive force Hc does not deteriorate even if glass having a Tw of 400 to 600''C is used for thermocompression bonding.

溶着ガラス3としては、鉛ケイ酸ガラスを用いることが
好ましい。
As the welded glass 3, it is preferable to use lead silicate glass.

本発明の磁気ヘッドは、必要に応じスライダーと一体化
され、組立てられヘッドアセンブリーとされる。
The magnetic head of the present invention is integrated with a slider as necessary and assembled into a head assembly.

そして、いわゆるラミネートタイプやバルクタイプ等の
トンネルイレーズ型あるいはイレーズヘッドを有しない
リードライト型などのオーバーライド記録を行なうフロ
ッピーヘッド、モノリシックタイプやコンポジットタイ
プの浮上型の計算機用ヘッド、回転型のVTR用ヘッド
やR−DAT用ヘッドなどの各種磁気ヘッドとして用い
られる。
In addition, there are floppy heads that perform override recording such as tunnel erase types such as laminate types and bulk types, or read/write types that do not have an erase head, floating type computer heads such as monolithic types and composite types, and rotary type VTR heads. It is used in various magnetic heads such as heads for R-DAT and R-DAT.

このようにして、前記の本発明の磁気ヘッドを用いて、
公知の種々の方式のオーバーライド記録を行なうことが
できる。
In this way, using the above magnetic head of the present invention,
Override recording can be performed using various known methods.

また、本発明においては、第3図に示されるように、第
1コア1にコアより飽和磁束密度Bsの低い低飽和磁束
密度合金薄膜6を形成し、第2コア2に前述した軟磁性
薄膜4を形成したいわゆるエンハンスト・デュアル・ギ
ャップレングス(EDG)型の磁気ヘッドとすることが
できる。
Further, in the present invention, as shown in FIG. 3, a low saturation magnetic flux density alloy thin film 6 having a lower saturation magnetic flux density Bs than the core is formed on the first core 1, and the above-mentioned soft magnetic thin film is formed on the second core 2. 4 can be used as a so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head.

そして、前述したMIG型磁気ヘッドと同様の効果を得
ることができる。
Further, the same effects as those of the above-mentioned MIG type magnetic head can be obtained.

この場合、低飽和磁束密度合金薄膜6には、例えば、特
願昭63−311591号に示される低飽和磁束密度非
晶質薄膜等を用いることができ、優れたオーバーライド
特性や高い感度が得られる。
In this case, the low saturation magnetic flux density alloy thin film 6 can be, for example, a low saturation magnetic flux density amorphous thin film shown in Japanese Patent Application No. 63-311591, and excellent override characteristics and high sensitivity can be obtained. .

本発明の軟磁性材料は薄膜磁気ヘッドにも適用できる。The soft magnetic material of the present invention can also be applied to thin film magnetic heads.

第4図に、本発明の好適実施例である浮上型の薄膜磁気
ヘッドを示す。
FIG. 4 shows a floating type thin film magnetic head which is a preferred embodiment of the present invention.

第4図に示される薄膜磁気ヘッドは、スライダ7上に、
絶縁層81、下部磁極層91、ギャップ層10、絶縁層
83、コイル層11、絶縁層85、上部磁極層95およ
び保護層12を順次有する。
The thin film magnetic head shown in FIG.
It has an insulating layer 81, a lower magnetic pole layer 91, a gap layer 10, an insulating layer 83, a coil layer 11, an insulating layer 85, an upper magnetic pole layer 95, and a protective layer 12 in this order.

本発明においてスライダ7は、材料として従来公知の種
々のものを用いればよく、例えばセラミックス、フェラ
イト等により構成される。
In the present invention, the slider 7 may be made of various conventionally known materials, such as ceramics, ferrite, etc.

この場合、セラミックス、特にAρ203TiCを主成
分とするセラミックス、Zr O2を主成分とするセラ
ミックス、SiCを主成分とするセラミックスまたはA
l2Nを主成分とするセラミックスが好適である。 な
お、これらには、添加物としてMg、Y、ZrO□、T
ie、等が含有されていてもよい。
In this case, ceramics, especially ceramics mainly composed of Aρ203TiC, ceramics mainly composed of ZrO2, ceramics mainly composed of SiC, or ceramics mainly composed of Aρ203TiC,
Ceramics containing 12N as a main component are suitable. In addition, these contain Mg, Y, ZrO□, T as additives.
ie, etc. may be contained.

スライダ7の形状やサイズ等の諸条件は公知の何れのも
のであってもよく、用途に応じ適宜選択される。
Conditions such as the shape and size of the slider 7 may be any known ones and are appropriately selected depending on the application.

スライダ7上には、絶縁1181が形成される。An insulator 1181 is formed on the slider 7.

絶縁層81の材料としては従来公知のものは何れも使用
可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法により行な
うときには、SiO□、ガラス、A℃203等を用いる
ことができる。
As the material for the insulating layer 81, any conventionally known material can be used. For example, when a thin film is formed by sputtering, SiO□, glass, A.degree. C. 203, etc. can be used.

絶縁層81の膜厚やパターンは公知の何れのものであっ
てもよ(、例えば膜厚は、5〜4゜癖程度とする。
The thickness and pattern of the insulating layer 81 may be any known ones (for example, the thickness is about 5 to 4 degrees).

磁極は、通常図示のように、下部磁極層91と、上部磁
極層95として設けられる。
The magnetic poles are usually provided as a lower magnetic pole layer 91 and an upper magnetic pole layer 95 as shown.

本発明では、下部磁極層91および上部磁極層95には
、前述のMIG型磁気ヘッドやEDG型磁気ヘッドの場
合と同様に、前記式で表わされる原子比組成の軟磁性薄
膜を用いる。
In the present invention, a soft magnetic thin film having an atomic ratio represented by the above formula is used for the lower magnetic pole layer 91 and the upper magnetic pole layer 95, as in the case of the above-mentioned MIG type magnetic head and EDG type magnetic head.

このため、オーバーライド特性に優れ、記録・再生感度
が高い磁気ヘッドが得られる。
Therefore, a magnetic head with excellent override characteristics and high recording/reproducing sensitivity can be obtained.

また、高い接着強度を得ることができる。Moreover, high adhesive strength can be obtained.

下部および上部磁極層91.95のパターン、膜厚等は
公知のいずれのものであってもよい。 例えば下部磁極
層91の膜厚は1〜5p程度、上部磁極層95の膜厚は
1〜5−程度とすればよい。
The patterns, film thicknesses, etc. of the lower and upper magnetic pole layers 91 and 95 may be any known ones. For example, the thickness of the lower magnetic pole layer 91 may be approximately 1 to 5p, and the thickness of the upper magnetic pole layer 95 may be approximately 1 to 5p.

下部磁極層91および上部磁極層95の間にはギャップ
層10が形成される。
A gap layer 10 is formed between the lower magnetic pole layer 91 and the upper magnetic pole layer 95.

ギャップ層10には、Al220s 、 S L 02
等公知の種々の材料を用いればよい。
The gap layer 10 includes Al220s, S L 02
Various known materials may be used.

また、ギャップ層10のパターン、膜厚等は公知の何れ
のものであってもよい。 例えば、ギャップ10の膜厚
は0.2〜1.0叩程度とすればよい。
Further, the pattern, film thickness, etc. of the gap layer 10 may be any known ones. For example, the film thickness of the gap 10 may be about 0.2 to 1.0 thick.

コイル層11の材質には特に制限はな(、通常用いられ
るA℃、Cu等の金属を用いればよい。
There is no particular restriction on the material of the coil layer 11 (usually used metals such as A.degree. C. and Cu may be used).

コイルの巻回パターンや巻回密度についても制限はなく
、公知のものを適宜選択使用すればよい。 例えば巻回
パターンについては、図示のスパイラル型の他、積層型
、ジグザグ型等何れであってもよい。
There are no restrictions on the winding pattern or winding density of the coil, and known patterns may be appropriately selected and used. For example, the winding pattern may be a spiral type as shown in the figure, a laminated type, a zigzag type, or the like.

また、コイル層11の形成にはスパッタ法、めっき法等
の各種気相被着法を用いればよい。
Further, the coil layer 11 may be formed using various vapor deposition methods such as sputtering and plating.

図示例ではコイル層11は、いわゆるスパイラル型とし
てスパイラル状に上部および下部磁極層91.95間に
配設されており、コイル層11と上部および下部磁極層
91.95間には絶縁層83.85が設層されている。
In the illustrated example, the coil layer 11 is a so-called spiral type, and is spirally arranged between the upper and lower magnetic pole layers 91.95, and the insulating layer 83. 85 are installed.

絶縁層83.85の材料としては従来公知のものは何れ
も使用可能であり、例えば、薄膜作製をスパッタ法によ
り行なうときには、SiO2、ガラス、A(2tO−等
を用いることができる。
Any conventionally known material can be used for the insulating layers 83, 85. For example, when a thin film is formed by sputtering, SiO2, glass, A(2tO-), etc. can be used.

また、上部磁極層95上には保護層12が設層される。Furthermore, a protective layer 12 is provided on the top pole layer 95 .

 保護層12の材料としては従来公知のものは何れも使
用可能であり、例えばAl2O2等を用いることができ
る。
As the material for the protective layer 12, any conventionally known material can be used, such as Al2O2.

この場合、保護層12のパターンや膜厚等は従来公知の
ものはいずれも使用可能であり、例えば膜厚は10〜5
0押程度とすればよい。
In this case, any conventionally known pattern and film thickness of the protective layer 12 can be used; for example, the film thickness is 10 to 5.
It may be about 0 presses.

なお、本発明ではさらに各種樹脂コート層等を積層して
もよい。
In addition, in the present invention, various resin coat layers and the like may be further laminated.

このような薄膜磁気ヘッドの製造工程は、通常、薄膜作
製とパターン形成とによって行なわれる。
The manufacturing process of such a thin film magnetic head is usually performed by thin film fabrication and pattern formation.

各層の薄膜作製には、上記したように、従来公知の技術
である気相被着法、例えば真空蒸着法、スパッタ法、あ
るいはめっき法等を用いればよい。
As described above, the thin film of each layer may be formed using a conventionally known technique such as a vapor deposition method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or a plating method.

薄膜磁気ヘッドの各層のパターン形成は、従来公知の技
術である選択エツチングあるいは選択デポジションによ
り行なうことができる。 エツチングとしてはウェット
エツチングやドライエツチングにより行なうことができ
る。
Pattern formation of each layer of the thin film magnetic head can be performed by selective etching or selective deposition, which are conventionally known techniques. Etching can be performed by wet etching or dry etching.

本発明の薄膜磁気ヘッドは、アーム等の従来公知のアセ
ンブリーと組み合わせて使用される。
The thin film magnetic head of the present invention is used in combination with a conventionally known assembly such as an arm.

また、前記の本発明の薄膜磁気ヘッドを用いて、種々の
方式のオーバーライド記録を行うことができる。
Furthermore, various types of override recording can be performed using the thin film magnetic head of the present invention.

5 MHzでの初透磁率μ、は表1に示されるとおりで
ある。
The initial magnetic permeability μ at 5 MHz is as shown in Table 1.

なお、組成分析にはEPMA、Bs測定にはVSM、H
e測定にはB−Hトレーサー、μ測定には8の字コイル
透磁率測定器(印加磁界5  m0e)を用いて行った
In addition, EPMA was used for composition analysis, and VSM and H were used for Bs measurement.
The e measurement was performed using a B-H tracer, and the μ measurement was performed using a figure-8 coil permeability meter (applied magnetic field: 5 m0e).

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving specific examples of the present invention.

実施例1 蒸着により表1に示される原子比組成を有し、膜厚1−
の軟磁性薄膜を磁場中で、ガラス基板上に成膜した。
Example 1 By vapor deposition, the atomic ratio composition shown in Table 1 was obtained, and the film thickness was 1-
A soft magnetic thin film was formed on a glass substrate in a magnetic field.

蒸着に際し、基板温度、300℃、真空度、10−’T
orrとし、2000eの磁界を面内方向に印加した。
During vapor deposition, substrate temperature: 300°C, degree of vacuum: 10-'T
orr, and a magnetic field of 2000e was applied in the in-plane direction.

軟磁性薄膜の組成、直流での飽和磁束密度Bs、周波数
50Hzでの保磁力Hc、周波数なお、スパッタリング
によってガラス基板上に前記軟磁性薄膜を形成したとこ
ろci +r同等の結果が得られた。
The composition of the soft magnetic thin film, the saturation magnetic flux density Bs at direct current, the coercive force Hc at a frequency of 50 Hz, and the frequency. When the soft magnetic thin film was formed on a glass substrate by sputtering, results equivalent to ci + r were obtained.

次いで、前記の軟磁性材料を用し1て、第1図に示され
るように、第1コア1と、ギヤツブ部対向面に軟磁性薄
膜4が形成されてしする第2コア2とをギャップ5を介
して接合一体化し、MIG型磁気ヘッドを製造した。
Next, using the above-mentioned soft magnetic material, as shown in FIG. 5, and a MIG type magnetic head was manufactured.

コア1.2の材質はM n −Z nフェライトとし、
直流での飽和磁束密度Bsは5000G、初透磁率μm
は3000、保磁力Hcはo、  ioeであった。
The material of the core 1.2 is M n -Z n ferrite,
Saturation magnetic flux density Bs at DC is 5000G, initial permeability μm
was 3000, and the coercive force Hc was o, ioe.

軟磁性薄膜4は、RFマグネトロンスノ(・ツタにより
形成し、膜厚は1戸とした。
The soft magnetic thin film 4 was formed from RF magnetron sand and had a film thickness of one layer.

この場合、スパッタリングは、Ar中、動作圧力は、0
.4Paとし、2000eの静磁界を印加して行なった
In this case, the sputtering was performed in Ar at an operating pressure of 0.
.. The test was carried out by applying a static magnetic field of 4 Pa and 2000 e.

ギャップ51にはS i O2を用い、スパッタにより
形成し、その膜厚は0.4−とした。
The gap 51 was formed using SiO2 by sputtering, and its film thickness was set to 0.4-.

ギャップ53には、作業温度Twが550℃の接着ガラ
スを用いた。
For the gap 53, adhesive glass having a working temperature Tw of 550° C. was used.

なお、ギャップ53はスパッタにより形成し、その膜厚
は0.2uとした。
Note that the gap 53 was formed by sputtering, and its film thickness was 0.2 μ.

溶着ガラス3には、作業温度Twが、500℃の77、
50PbO−6,05BaOx−10,57SiO□−
0,55Aj、0a−2,75ZnO−0,05Bi2
0!−2,5ON8.0−0.30Sb2C1s (重
量%)を用い、500℃で溶着を行った。
The welding glass 3 has a working temperature Tw of 500°C, 77,
50PbO-6,05BaOx-10,57SiO□-
0,55Aj, 0a-2,75ZnO-0,05Bi2
0! Welding was performed at 500°C using -2,5ON8.0-0.30Sb2C1s (wt%).

また、コイルターン数は20×2ターンとした。Further, the number of coil turns was 20×2 turns.

そして、チタン酸カルシウムスライダーに固定・封着し
て、コンポジットタイプの浮上型磁気ヘッドを得た。
Then, it was fixed and sealed on a calcium titanate slider to obtain a composite type floating magnetic head.

これらの各ヘッドサンプルと、保磁力が15000eの
ハードディスクとを用いて、トラック幅14−にて下記
の特性を測定した。
Using each of these head samples and a hard disk with a coercive force of 15,000e, the following characteristics were measured at a track width of 14-.

なお、測定に際しては、第1コア1を、ハードディスク
リーディング側とした。
Note that during the measurement, the first core 1 was placed on the hard disk reading side.

(オーバーライド特性) 1.25MHzの1f信号を記録し、次いでこの上から
2.5MHzの2f信号を重ね書きした。
(Override characteristics) A 1.25 MHz 1f signal was recorded, and then a 2.5 MHz 2f signal was overwritten thereon.

2f信号の出力に対する1f信号の出力を算出し、オー
バーライド特性を評価した。
The output of the 1f signal relative to the output of the 2f signal was calculated, and the override characteristics were evaluated.

(記録・再生感度測定) 5 MHzの信号を記録し、次いで記録した信号を再生
し、その時の再生出力電圧値V’p−p(ピーク・ツー
・ピーク)を測定する。
(Measurement of Recording/Reproduction Sensitivity) A 5 MHz signal is recorded, then the recorded signal is reproduced, and the reproduction output voltage value V'p-p (peak-to-peak) at that time is measured.

この結果本発明のサンプルのオーバーライド特性は−4
0(dB)以下であり再生出力電圧値は1.1 (μ■
/−/ターン)以上であった。
As a result, the override characteristic of the sample of the present invention is -4
0 (dB) or less, and the reproduced output voltage value is 1.1 (μ■
/-/turn).

また本発明のヘッドサンプルに対し抗折試験を行なった
ところ、軟磁性薄膜フェライトの界面での剥離はなかっ
た。
Further, when a bending test was performed on the head sample of the present invention, no peeling occurred at the interface of the soft magnetic thin film ferrite.

これに対し比較サンプルは、センダスト薄膜とフェライ
トとの界面での剥離がみられた。
On the other hand, in the comparative sample, peeling was observed at the interface between the Sendust thin film and the ferrite.

これらの結果により本発明の効果が明らかである。These results clearly demonstrate the effects of the present invention.

〈発明の効果〉 本発明の軟磁性材料は、薄膜化した場合、飽和磁束密度
Bsが高く、保磁力Hcが低く、透磁率μが高い軟磁気
特性を有する。 加えて、接着強度が高い。
<Effects of the Invention> When the soft magnetic material of the present invention is made into a thin film, it has soft magnetic properties such as a high saturation magnetic flux density Bs, a low coercive force Hc, and a high magnetic permeability μ. In addition, it has high adhesive strength.

このため、本発明の軟磁性材料を用いた磁気ヘッドは、
オーバーライド特性や記録・再生感度等が高く、優れた
電磁変換特性を有する。
Therefore, the magnetic head using the soft magnetic material of the present invention has
It has high override characteristics, recording/playback sensitivity, etc., and excellent electromagnetic conversion characteristics.

そして、使用する軟磁性材料は接着強度が高いため信頼
性の高い磁気ヘッドが実現する。
Furthermore, since the soft magnetic material used has high adhesive strength, a highly reliable magnetic head can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図および第2図は、それぞれ、本発明のMIG型磁
気ヘッドの1例を示す部分断面図である。 第3図は、本発明のEDG型磁気ヘッドの1例を示す部
分断面図である。 第4図は、本発明の薄膜磁気ヘッドをの1例を示す部分
断面図である。 符号の説明 1・・・第1コア 2・・・第2コア 3・・・溶着ガラス 4・・・軟磁性薄膜 5.51.53・・・ギャップ 6・・・低飽和磁束密度合金薄膜 7・・・スライダ 81.83.85・・・絶縁層 91・・・下部磁極層 95・・・上部磁極層 10・・・ギャップ層 11・・・コイル層 12・・・保護層 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社代  理  人
  弁理士   石  井  隔間     弁理士 
  増  1) 達  哉F I G。 ら FIG、3 FIG、2 FIG、4
FIGS. 1 and 2 are partial cross-sectional views showing one example of the MIG type magnetic head of the present invention. FIG. 3 is a partial sectional view showing an example of the EDG type magnetic head of the present invention. FIG. 4 is a partial sectional view showing one example of the thin film magnetic head of the present invention. Explanation of symbols 1...First core 2...Second core 3...Welded glass 4...Soft magnetic thin film 5.51.53...Gap 6...Low saturation magnetic flux density alloy thin film 7 ...Slider 81, 83, 85...Insulating layer 91...Bottom pole layer 95...Top pole layer 10...Gap layer 11...Coil layer 12...Protective layer Applicant T.D. −K Co., Ltd. Agent Patent Attorney Ishii Hikaru Patent Attorney
Increase 1) Tatsuya F I G. FIG, 3 FIG, 2 FIG, 4

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)下記式で表わされる原子比組成を有することを特
徴とする軟磁性材料。 式Fe_1_−_xZ_x (上式においてZは、Be,BeとVとの組合わせ、ま
たはBeおよび/もしくはVとSiおよび/もしくはA
lとの組合わせを表わし、0.05≦x≦0.4である
。)
(1) A soft magnetic material characterized by having an atomic composition represented by the following formula. Formula Fe_1_-_xZ_x (In the above formula, Z is Be, a combination of Be and V, or Be and/or V and Si and/or A
It represents a combination with l, and 0.05≦x≦0.4. )
(2)請求項1に記載の軟磁性材料の薄膜を有する磁気
ヘッド。
(2) A magnetic head comprising a thin film of the soft magnetic material according to claim 1.
JP2069016A 1990-03-19 1990-03-19 Soft-magnetic material and magnetic head Pending JPH03267353A (en)

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