JPH05117136A - 化粧料 - Google Patents
化粧料Info
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- JPH05117136A JPH05117136A JP30226791A JP30226791A JPH05117136A JP H05117136 A JPH05117136 A JP H05117136A JP 30226791 A JP30226791 A JP 30226791A JP 30226791 A JP30226791 A JP 30226791A JP H05117136 A JPH05117136 A JP H05117136A
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- ester
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Abstract
炎症の発生を抑え、しかも皮膚に潤いを与える化粧料を
提供する。 【構成】アミノ酸エステルと紫外線吸収剤を配合。
Description
外線吸収剤を配合することにより、皮膚を紫外線から防
御し、紫外線による皮膚の炎症の発生を抑え、しかも皮
膚に潤いを与える化粧料に関する。
には紫外線吸収剤を配合して紫外線を吸収させたり、紫
外線散乱能のある粉末等が用いられてきた。
皮膚外用剤は戸外において皮膚に過度の紫外線が照射さ
れると、紫外線を完全に遮断できないため紅斑、浮腫、
水疱等の皮膚炎症が起きる欠点を有していた。
点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、驚くべきことに
アミノ酸エステルと紫外線吸収剤を配合することによ
り、皮膚を紫外線から防御し、紫外線による皮膚の炎症
の発生を抑え、しかも皮膚に潤いを与えることを見出し
本発明を完成するに至った。すなわち、本発明はアミノ
酸エステルと紫外線吸収剤を配合することにより、皮膚
を紫外線から防御し、紫外線による皮膚の炎症の発生を
抑え、しかも皮膚に潤いを与える化粧料を提供すること
にある。
発明に用いられるアミノ酸エステルはアミノ酸と低級ア
ルコールとのエステルであり、例えば、グルタミン酸モ
ノメチルエステル,グルタミン酸モノエチルエステル、
グルタミン酸モノプロピルエステル,グルタミン酸ジメ
チルエステル、グルタミン酸ジエチルエステル、グルタ
ミン酸ジプロピルエステル、アスパラギン酸モノメチル
エステル、アスパラギン酸モノエチルエステル、アスパ
ラギン酸モノプロピルエステル、アスパラギン酸ジメチ
ルエステル、アスパラギン酸ジエチルエステル、アスパ
ラギン酸ジプロピルエステル、グリシンメチルエステ
ル、グリシンエチルエステル、グリシンプロピルエステ
ル等である。本発明におけるアミノ酸エステルの含量は
化粧料全量中0.001 〜5.0 重量%、好まくは 0.01 〜2.
0 重量%である。
収剤は従来、化粧料に汎用されている任意の紫外線吸収
剤であり、例えば以下の通りである。 (イ)安息香酸系紫外線吸収剤 パラアミノ安息香酸(以下PABAと略す)、PABA
モノグリセリンエステル、N,N−ジプロポキシPAB
Aエステル、N,N−ジエトキシPABAエチルエステ
ル、N,N−ジメチルPABAエチルエステル、N,N
−ジメチルPABAブチルエステル、N,N−ジメチル
PABAアミルエステル、N,N−ジメチルPABAオ
クチルエステル (ロ)アントラニル酸系紫外線吸収剤 ホモメンチル−N−アセチルアントラニレート (ハ)サリチル酸系紫外線吸収剤 アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメン
チルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサ
リシレート、ベンザルサリシレート、p−イソプロパノ
ールフェニルサリシレート (ニ)桂皮酸系紫外線吸収剤 オクチルシンナメート、エチル−4−イソプロピルシン
ナメート、メチル−2,5−ジイソプロピルシンナメー
ト、エチル2,4−ジイソプロピルシンナメート、メチ
ル−2,4−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−
p−メチキシシンナメート、イソプロピル−p−メチキ
シシンナメート、イソアミル−p−メチキシシンナメー
ト、オクチル−p−メチキシシンナメート(2−エチル
ヘキシル−p−メチキシシンナメート)、2−エトキシ
エチル−p−メチキシシンナメート、シクロヘキシル−
p−メチキシシンナメート、エチル−α−シアノ−β−
フェニルシンナメート、2−エトキシエチル−α−シア
ノ−β−フェニルシンナメート、グリセリルモノ−2−
エチルヘキサノイル−ジパラメトキシシンナメート (ホ)ベンゾフェノン系紫外線吸収剤 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒ
ドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジ
ヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2
−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−
5−スルホン酸塩、4−フェニルベゾフェノン、2−エ
チルヘキシン−4’−フェニル−ベンゾフェノン−2−
カルボキシレート、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキ
シベンゾフェノン、4−ヒドロキシ−3−カルボキシベ
ンゾフェノン (ヘ)シリコーン系桂皮酸誘導体紫外線吸収剤
シロキサン類であって、前記シロキサン類中に存在しう
る他の単位が、
ェニル基、R2 は少なくとも2個の炭素原子を有する二
価の炭価水素基、Xはアルコキシ基、nは0〜3の整
数、aは2または3の整数、R3 は炭素数1〜4のアル
キル基またはフェニル基、mは0〜3の整数を表す。) (ト)その他の紫外線吸収剤 3−(4’メチルベンジリデン)−d,l−カンファ
ー、3−ベンジリデン−d,l−カンファー、ウロカニ
ン酸、ウロカニン酸エチルエステル、2−フェニル−5
−メチルベンゾキサザール、2,2’−ヒドロキシ−5
−メチルフェニルベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−5’−t−オクチルフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾール、ジベンザラジン、ジアニソイ
ルメタン、4−メトキシ−4’−t−ブチルジベンゾイ
ルメタン)5−(3,3−ジメチル−2−ノルボルニリ
デン)−3−ペンタン−2−オン
のものから一種または二種以上が選択される。配合量
は、特に限定されないが、一般には化粧料に対して0.05
〜20重量%、好ましくは 0.1〜10重量%である。本発明
の化粧料には上記した必須成分の他に、本発明の効果を
損なわない範囲で通常化粧品や医薬品等の外用剤に用い
られる他の成分、例えば油分、湿潤剤、酸化防止剤、界
面活性剤、防腐剤、保湿剤、アミノ酸、香料、水、アル
コール、増粘剤、色剤、粉末、薬剤等を必要に応じて適
宜配合することができる。本発明に係る化粧料の剤型は
任意であり、例えば、化粧水などの可溶化系、乳液、ク
リームなどの乳化系、又は軟膏、分散液などの任意の剤
型をとることができる。
外線による皮膚の炎症の発生を抑え、しかも皮膚に潤い
を与える化粧料である。
明するが、本発明はこれにより限定されるものではな
い。配合量は重量%てある。尚、実施例に先立ち、効果
試験方法について説明する。
を塗布した。これを5日間続けた後、ダンシルクロライ
ドのワセリン軟膏を24時間閉塞塗布し、その後ダンシ
ルクロライド蛍光が消失するまでの日数を測定した。
L:SKICON-200)に2mmφの中心電極を持つプローブを装
着し、皮膚表面コンダクタンス値を指標として測定し
た。
外は、実施例1と同様にしてクリームを製造した。
以外は、実施例2と同様にしてクリームを製造した。
ンオーバー速度促進試験結果および角層水分量(コンダ
クタンス値)を表Iに示す。
紫外線による皮膚の炎症ダメージを抑え、しかも皮膚に
潤いを与える効果が得られた。
ら防御し、紫外線による皮膚の炎症の発生を抑え、しか
も皮膚に潤いを与える効果に優れていた。
Claims (1)
- 【請求項1】 アミノ酸エステルの一種又は二種以上と
紫外線吸収剤の一種又は二種以上を配合することを特徴
とする化粧料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30226791A JP3190712B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30226791A JP3190712B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 化粧料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05117136A true JPH05117136A (ja) | 1993-05-14 |
JP3190712B2 JP3190712B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=17906957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30226791A Expired - Fee Related JP3190712B2 (ja) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | 化粧料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3190712B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5849272A (en) * | 1996-02-26 | 1998-12-15 | Shiseido Co., Ltd. | Ultraviolet absorbing composition |
JP2005179342A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-07-07 | Shiseido Co Ltd | 不全角化抑制剤及び毛穴縮小剤 |
US8586638B2 (en) | 2003-11-27 | 2013-11-19 | Shiseido Company, Ltd | Parakeratosis inhibitor and skin preparation for external use |
-
1991
- 1991-10-22 JP JP30226791A patent/JP3190712B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5849272A (en) * | 1996-02-26 | 1998-12-15 | Shiseido Co., Ltd. | Ultraviolet absorbing composition |
JP2005179342A (ja) * | 2003-11-27 | 2005-07-07 | Shiseido Co Ltd | 不全角化抑制剤及び毛穴縮小剤 |
US8586638B2 (en) | 2003-11-27 | 2013-11-19 | Shiseido Company, Ltd | Parakeratosis inhibitor and skin preparation for external use |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3190712B2 (ja) | 2001-07-23 |
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