JPH05115970A - 真空アーク処理装置 - Google Patents
真空アーク処理装置Info
- Publication number
- JPH05115970A JPH05115970A JP27974391A JP27974391A JPH05115970A JP H05115970 A JPH05115970 A JP H05115970A JP 27974391 A JP27974391 A JP 27974391A JP 27974391 A JP27974391 A JP 27974391A JP H05115970 A JPH05115970 A JP H05115970A
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- Japan
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- chamber
- vacuum
- processed
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 効率よく被処理物を冷却し、かつ装置の小型
化を図る。 【構成】 連続して移動する被処理物からなる陰極１と
陽極４を有し、陰極１と陽極４の間に直流アーク放電を
生起させて、連続的に真空アークデスケールを行う処理
において、冷却室８を、搬入スリット１１ａ及び搬出ス
リット１１ｂを介して真空アーク処理室２０と結合し
て、冷却により発生する冷媒の蒸気を差動排気よって排
気する。
化を図る。 【構成】 連続して移動する被処理物からなる陰極１と
陽極４を有し、陰極１と陽極４の間に直流アーク放電を
生起させて、連続的に真空アークデスケールを行う処理
において、冷却室８を、搬入スリット１１ａ及び搬出ス
リット１１ｂを介して真空アーク処理室２０と結合し
て、冷却により発生する冷媒の蒸気を差動排気よって排
気する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中で陽極と陰極の
間に直流アーク放電を生起させて、連続的に真空アーク
デスケール等の処理を行う真空アーク処理装置に関す
る。
間に直流アーク放電を生起させて、連続的に真空アーク
デスケール等の処理を行う真空アーク処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来技術】真空アーク技術は、電気回路部品である真
空遮断機に広く用いられている技術である。近年、真空
アークを材料プロセスに応用する試みが行われている。
応用例としては、蒸着，イオンプレーティング，および
酸化被膜の除去（デスケール）などである。
空遮断機に広く用いられている技術である。近年、真空
アークを材料プロセスに応用する試みが行われている。
応用例としては、蒸着，イオンプレーティング，および
酸化被膜の除去（デスケール）などである。
【０００３】材料プロセスでは、生産性の向上のため材
料を連続的に供給し処理することが望まれるため、真空
アークプロセスにおいては、例えば被処理物を陰極とし
て用い、この被処理物を連続して移動させる。
料を連続的に供給し処理することが望まれるため、真空
アークプロセスにおいては、例えば被処理物を陰極とし
て用い、この被処理物を連続して移動させる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】連続式真空アークデス
ケール処理では、被処理物は真空アークデスケール室に
搬送され、真空アークによりデスケールされる。この
時、被処理物は加熱されるため、表面が過度に溶融する
という問題がある。さらには、陰極（被処理物）に電気
を供給するコンダクタロールも加熱され、コンダクタロ
ールの通電性が損なわれる等の問題がある。
ケール処理では、被処理物は真空アークデスケール室に
搬送され、真空アークによりデスケールされる。この
時、被処理物は加熱されるため、表面が過度に溶融する
という問題がある。さらには、陰極（被処理物）に電気
を供給するコンダクタロールも加熱され、コンダクタロ
ールの通電性が損なわれる等の問題がある。
【０００５】したがって、被処理物を冷却する必要があ
る。被処理物の冷却は、通常の状態であれば被処理物の
表面に冷媒を吹き付けることで行われるが、連続式真空
アークデスケール処理では、冷媒蒸気が直接、真空アー
クデスケール室に侵入するとデスケールの安定性を害す
るという問題がある。一方、真空アークデスケール室を
真空度１０Ｐａ以下に保つ必要があるため真空排気系は
大容量となる。
る。被処理物の冷却は、通常の状態であれば被処理物の
表面に冷媒を吹き付けることで行われるが、連続式真空
アークデスケール処理では、冷媒蒸気が直接、真空アー
クデスケール室に侵入するとデスケールの安定性を害す
るという問題がある。一方、真空アークデスケール室を
真空度１０Ｐａ以下に保つ必要があるため真空排気系は
大容量となる。
【０００６】そこで本発明は、上記問題点を解決するた
め、効率よく被処理物を冷却し、かつ装置の小型化を図
ることを目的とする。
め、効率よく被処理物を冷却し、かつ装置の小型化を図
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願の第１発明は、真空
処理室内に連続して移動する被処理材料からなる陰極
（１）と、陽極（４）を設置してなる真空アーク処理装
置（２０）であって、被処理材料搬入スリット（１１
ａ）及び被処理材料搬出スリット（１１ｂ）を介して真
空処理室（２０）と結合された真空アーク処理材料冷却
室（８）を有する。なお、カッコ内の記号は、図面に示
し後述する実施例の対応要素又は対応事項を示す。
処理室内に連続して移動する被処理材料からなる陰極
（１）と、陽極（４）を設置してなる真空アーク処理装
置（２０）であって、被処理材料搬入スリット（１１
ａ）及び被処理材料搬出スリット（１１ｂ）を介して真
空処理室（２０）と結合された真空アーク処理材料冷却
室（８）を有する。なお、カッコ内の記号は、図面に示
し後述する実施例の対応要素又は対応事項を示す。
【０００８】本願の第２発明は、第１発明の装置であっ
て、被処理材料を大気から真空処理室（２０）へ搬入す
るための差圧シール室（２２）および被処理材料を真空
処理室から大気へ搬出するための差圧シール室のうち少
なくとも一方を介して真空処理室（２０）と真空アーク
処理材料冷却室（８）が結合されている。
て、被処理材料を大気から真空処理室（２０）へ搬入す
るための差圧シール室（２２）および被処理材料を真空
処理室から大気へ搬出するための差圧シール室のうち少
なくとも一方を介して真空処理室（２０）と真空アーク
処理材料冷却室（８）が結合されている。
【０００９】
【作用】これによれば、連続して移動する被処理材料か
らなる陰極（１）と、陽極（４）を有し、陰極（１）と
陽極（４）の間に直流アーク放電を生起させて、例えば
連続的に真空アークデスケール等の処理を行う真空アー
ク処理装置において、真空アーク処理材料冷却室（８）
を、被処理材料搬入スリット（１１ａ）及び被処理材料
搬出スリット（１１ｂ）を介して真空処理室（２０）と
結合するので、冷却により発生する冷媒の蒸気は差動排
気よって排気される。
らなる陰極（１）と、陽極（４）を有し、陰極（１）と
陽極（４）の間に直流アーク放電を生起させて、例えば
連続的に真空アークデスケール等の処理を行う真空アー
ク処理装置において、真空アーク処理材料冷却室（８）
を、被処理材料搬入スリット（１１ａ）及び被処理材料
搬出スリット（１１ｂ）を介して真空処理室（２０）と
結合するので、冷却により発生する冷媒の蒸気は差動排
気よって排気される。
【００１０】したがって、冷媒の蒸気は真空アーク処理
室（２０）に侵入することがないのでデスケール等の真
空アーク処理を安定して実施しうる。また、真空排気系
の総容量を縮小することができる。
室（２０）に侵入することがないのでデスケール等の真
空アーク処理を安定して実施しうる。また、真空排気系
の総容量を縮小することができる。
【００１１】本発明の他の目的および特徴は図面を参照
した以下の実施例の説明により明らかになろう。
した以下の実施例の説明により明らかになろう。
【００１２】
（第１実施例）図１に、本発明を実施する連続式真空ア
ークデスケール装置の構成概要を示す。
ークデスケール装置の構成概要を示す。
【００１３】本装置は、帯状の被処理物（材料）１をア
ンコイラー２から巻解き、アーク電極（本実施例では４
ユニット設定）４の下面を通過させるときに真空アーク
でデスケールを行い、その後、コイラー３に巻取る装置
である。図において、コンダクタロール（本実施例では
６ユニット設定）５は陰極とする被処理物１に電気を供
給するために設けられる。また、差圧シール室６は真空
状態を維持するために設けられている。これにより真空
アーク（デスケール）処理室２０の真空度は５Ｐａであ
る。なお、符号７はアーク電源（直流電源）である。
ンコイラー２から巻解き、アーク電極（本実施例では４
ユニット設定）４の下面を通過させるときに真空アーク
でデスケールを行い、その後、コイラー３に巻取る装置
である。図において、コンダクタロール（本実施例では
６ユニット設定）５は陰極とする被処理物１に電気を供
給するために設けられる。また、差圧シール室６は真空
状態を維持するために設けられている。これにより真空
アーク（デスケール）処理室２０の真空度は５Ｐａであ
る。なお、符号７はアーク電源（直流電源）である。
【００１４】アーク電源７を動作し、点火電極（図示し
ない）により真空アークを点火させると、アーク電極４
と陰極である被処理物１の間に真空アークが点弧する。
この真空アークにより被処理物１は加熱され、これにと
もないコンダクタロール５も加熱される。
ない）により真空アークを点火させると、アーク電極４
と陰極である被処理物１の間に真空アークが点弧する。
この真空アークにより被処理物１は加熱され、これにと
もないコンダクタロール５も加熱される。
【００１５】よって、真空アーク処理室２０の中央下部
（特にこの位置に限らない）には被処理物１を冷却する
冷却室８が設けられている。なお、冷却室８を複数設置
することもできる。
（特にこの位置に限らない）には被処理物１を冷却する
冷却室８が設けられている。なお、冷却室８を複数設置
することもできる。
【００１６】図２に、冷却室８周辺の構成概要を示す。
【００１７】冷却室８は差圧シール室９を介して真空ア
ーク処理室２０とは独立に構成されている。冷却室８と
差圧シール室９との間，および差圧シール室９と真空ア
ーク処理室２０との間はそれぞれ被処理物１を搬入する
搬入スリット１１ａおよび被処理物１を搬出する搬出ス
リット１１ｂにより隔てられている。
ーク処理室２０とは独立に構成されている。冷却室８と
差圧シール室９との間，および差圧シール室９と真空ア
ーク処理室２０との間はそれぞれ被処理物１を搬入する
搬入スリット１１ａおよび被処理物１を搬出する搬出ス
リット１１ｂにより隔てられている。
【００１８】ポンプ１３及び１４により差圧シール室９
の真空度は５０Ｐａに、冷却室８の真空度は４００Ｐａ
にそれぞれ保たれている。なお、ポンプ１３はロータリ
ーポンプであり、ポンプ１４は水封ポンプである。ま
た、ポンプ１３と１４は直列系列に設置されているが、
これに限らず独立系列に構成してもよい。
の真空度は５０Ｐａに、冷却室８の真空度は４００Ｐａ
にそれぞれ保たれている。なお、ポンプ１３はロータリ
ーポンプであり、ポンプ１４は水封ポンプである。ま
た、ポンプ１３と１４は直列系列に設置されているが、
これに限らず独立系列に構成してもよい。
【００１９】被処理物１は、真空アーク処理室２０から
搬入スリット１１ａを通り差圧シール室９に搬送され、
また搬入スリット１１ａを通り冷却室８に搬送され、冷
媒（実施例では水を使用）１２により冷却される。冷却
後は、搬出スリット１１ｂを通り逆に差圧シール室９に
搬送され、また搬出スリット１１ｂを通り真空アーク処
理室２０に搬送される。このため被処理物１の搬送経路
は、図２に示すようにＵ字形となりロール１０により搬
送される。冷媒１２は、絶えず給水，排水を繰り返して
いる。
搬入スリット１１ａを通り差圧シール室９に搬送され、
また搬入スリット１１ａを通り冷却室８に搬送され、冷
媒（実施例では水を使用）１２により冷却される。冷却
後は、搬出スリット１１ｂを通り逆に差圧シール室９に
搬送され、また搬出スリット１１ｂを通り真空アーク処
理室２０に搬送される。このため被処理物１の搬送経路
は、図２に示すようにＵ字形となりロール１０により搬
送される。冷媒１２は、絶えず給水，排水を繰り返して
いる。
【００２０】前述したように、冷却室８の方が、差圧シ
ール室９よりも圧力が高いが、スリット１１ａ，ｂの存
在により冷却で発生する冷媒１２の蒸気は差動排気によ
って排気される。これにより冷媒１２の蒸気は、真空ア
ーク処理室２０に侵入することはない。
ール室９よりも圧力が高いが、スリット１１ａ，ｂの存
在により冷却で発生する冷媒１２の蒸気は差動排気によ
って排気される。これにより冷媒１２の蒸気は、真空ア
ーク処理室２０に侵入することはない。
【００２１】なお、本実施例でいう真空アークとは、陰
極物質が蒸発し空間を満たしながらアークが維持される
アークを指す。すなわち、空間中の残留ガス量が陰極蒸
発量より圧倒的に多い通常のアークではない。なお、陰
極物質のみならず陽極物質も蒸発し空間を満たすアーク
も真空アークである。
極物質が蒸発し空間を満たしながらアークが維持される
アークを指す。すなわち、空間中の残留ガス量が陰極蒸
発量より圧倒的に多い通常のアークではない。なお、陰
極物質のみならず陽極物質も蒸発し空間を満たすアーク
も真空アークである。
【００２２】（第２実施例）第１実施例では、被処理物
１の搬送経路をＵ字形としたが、第２実施例では、図３
に示すように、特に被処理物１の搬送経路を曲げること
なく直線状になるように冷却室１５を設置したものであ
る。
１の搬送経路をＵ字形としたが、第２実施例では、図３
に示すように、特に被処理物１の搬送経路を曲げること
なく直線状になるように冷却室１５を設置したものであ
る。
【００２３】搬送される被処理物１に、冷媒（本実施例
では水）１９を冷媒吹きトーチノズルから吹き付けるこ
とにより被処理物１の冷却を行う。
では水）１９を冷媒吹きトーチノズルから吹き付けるこ
とにより被処理物１の冷却を行う。
【００２４】冷却室１５と真空アーク処理室１６の間は
スリット１７により隔てられているので、冷媒蒸気は冷
却室用の差動排気により排気される。
スリット１７により隔てられているので、冷媒蒸気は冷
却室用の差動排気により排気される。
【００２５】（第３実施例）第１実施例では、冷却室８
と真空アーク処理室２０の間に差圧シール室９を設けた
が、第３実施例では、被処理物１を大気から真空アーク
処理室２０に搬入する際に設けられた差圧シール２２を
利用して、スリット２１を介して冷却室８を設けたもの
である。
と真空アーク処理室２０の間に差圧シール室９を設けた
が、第３実施例では、被処理物１を大気から真空アーク
処理室２０に搬入する際に設けられた差圧シール２２を
利用して、スリット２１を介して冷却室８を設けたもの
である。
【００２６】なお、被処理物１を真空アーク処理室２０
から大気に搬出するために設けられた差圧シール室（図
示しない）を利用してもよい。
から大気に搬出するために設けられた差圧シール室（図
示しない）を利用してもよい。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、冷媒の蒸気は真空アー
ク処理室（２０）に侵入することがないのでデスケール
等の真空アーク処理を安定して実施しうる。また、真空
排気系の総容量を縮小することができる。
ク処理室（２０）に侵入することがないのでデスケール
等の真空アーク処理を安定して実施しうる。また、真空
排気系の総容量を縮小することができる。
【図１】 本発明を実施する連続式真空アークデスケー
ル装置の構成概要を示す側面図である。
ル装置の構成概要を示す側面図である。
【図２】 図１に示した冷却室８周辺の構成概要を示す
断面図である。
断面図である。
【図３】 第２実施例の、冷却室１５周辺の構成概要を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図４】 第３実施例の、連続式真空アークデスケール
装置の構成概要を示す側面図である。
装置の構成概要を示す側面図である。
１：被処理物（陰極） ２：アンコイラー ３：コイラー ４：アーク電極
（陽極） ５：コンダクタロール ６：差圧シール室 ７：アーク電源 ８：冷却室（真空
アーク処理材料冷却室） ９：差圧シール室 １０：ロール １１ａ：搬入スリット（被処理材料搬入スリット） １１ｂ：搬出スリット（被処理材料搬出スリット） １２：冷媒 １３：ロータリーポンプ １４：水封ポンプ １５：冷却室 １６：真空アーク
処理室 １７：スリット １８：冷媒吹きト
ーチノズル １９：冷媒 ２０：真空アーク処理室（真空アーク処理室） ２１：スリット ２２：差圧シール室（差圧シール室）
（陽極） ５：コンダクタロール ６：差圧シール室 ７：アーク電源 ８：冷却室（真空
アーク処理材料冷却室） ９：差圧シール室 １０：ロール １１ａ：搬入スリット（被処理材料搬入スリット） １１ｂ：搬出スリット（被処理材料搬出スリット） １２：冷媒 １３：ロータリーポンプ １４：水封ポンプ １５：冷却室 １６：真空アーク
処理室 １７：スリット １８：冷媒吹きト
ーチノズル １９：冷媒 ２０：真空アーク処理室（真空アーク処理室） ２１：スリット ２２：差圧シール室（差圧シール室）
Claims (2)
- 【請求項１】真空処理室内に連続して移動する被処理材
料からなる陰極と、陽極を設置してなる真空アーク処理
装置であって、被処理材料搬入スリット及び被処理材料
搬出スリットを介して前記真空処理室と結合された真空
アーク処理材料冷却室を有することを特徴とする真空ア
ーク処理装置。 - 【請求項２】請求項１の装置であって、被処理材料を大
気から真空処理室へ搬入するための差圧シール室および
被処理材料を真空処理室から大気へ搬出するための差圧
シール室のうち少なくとも一方を介して真空処理室と真
空アーク処理材料冷却室が結合されていることを特徴と
する真空アーク処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27974391A JPH05115970A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 真空アーク処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27974391A JPH05115970A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 真空アーク処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05115970A true JPH05115970A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17615281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27974391A Withdrawn JPH05115970A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 真空アーク処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05115970A (ja) |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP27974391A patent/JPH05115970A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990107 |