JPH0495038A - ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン - Google Patents

ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン

Info

Publication number
JPH0495038A
JPH0495038A JP2212270A JP21227090A JPH0495038A JP H0495038 A JPH0495038 A JP H0495038A JP 2212270 A JP2212270 A JP 2212270A JP 21227090 A JP21227090 A JP 21227090A JP H0495038 A JPH0495038 A JP H0495038A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phenylhydroquinone
raw material
cyclohexylhydroquinone
hydroxydibenzofuran
distillation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2212270A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuya Watanabe
哲也 渡辺
Takae Ono
孝衛 大野
Naohisa Tokugawa
徳川 直久
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP2212270A priority Critical patent/JPH0495038A/ja
Publication of JPH0495038A publication Critical patent/JPH0495038A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ポリエステル、特に芳香族ポリエステルの原
料として好適なフェニルヒドロキノンを提供するもので
ある。
〈従来の技術〉 フェニルヒドロキノンはポリエステル、特に芳香族ジカ
ルホンと反応させて得られる芳香族ポリエステルの原料
として重要な化合物である。
従来、フェニルヒドロキノンを製造する方法として、0
−フェニルフェノールをピロ硫酸塩で酸化する方法(米
国特許第3.652.597号)、0−フェニルフェノ
ールを亜硝酸でニトロソ化して2−フェニル−4−ニト
ロソフェノールとした後、還元的に加水分解する方法(
米国特許第3.683.034号)、。
フェニルフェノールを過酸化水素と触媒で酸化したり(
Totrahedron  Lett、1987 24
 5249)、ベンゾキノンとフエニルジアゾニウム塩
との反応(J、Am、Chem、Soc、193456
 2478)で得たフェニルベンゾキノンを接触還元し
てフェニルヒドロキノントスる方法(米国特許第2.7
04.772号)などが知られている。
しかしながら、これらの方法では高価な試薬を量論量必
要としたり反応収率が低く、工業的な製法としては十分
てはなかった。
最近、ヒドロキノンにシクロヘキセン、シクロヘキサノ
ールあるいはクロルシクロヘキサンなどを反応させてシ
クロヘキシルヒドロキノンとした後、触媒存在下に脱水
素してフェニルヒドロキノンとする方法が開発された(
特開平1−93552号公報、米国特許第4、847.
429号)。
この方法は反応の収率も高く、高価な試薬を用いること
もなく工業的に有利な方法と考えられる。しかしながら
脱水素反応は比較的過酷な条件で行われ、反応の副生成
物が各程合まれている。
〈発明が解決しようとする課題〉 一般にポリマの原料として用いられる化合物は、単に純
度が高いことだけでなく、ある特定の化合物の存在が忌
み嫌われることがしばしばある。それは、その化合物の
存在が、たとえ少量であってもポリマのある種の物性、
たとえば機械特性、熱安定性、流動性、色調などに悪影
響を与えるからである。
また、一般にある化合物中に含まれる他の化合物、すな
わち不純物はその化合物の製造法と深い関わりがある。
すなわちポリマ原料の製造においては、その製造法と除
去すべき化合物は密接な関係にあり、ある特定の製造法
をとったとき、ある特定の化合物を除去することは重要
な課題の1つである。
フェニルヒドロキノンの製造において、前記シクロヘキ
シルヒドロキノンを触媒存在下に脱水素する方法をとっ
たとき、特有の副生成物としてヒドロキシジベンゾフラ
ンが含有される。この化合物はヒドロキシ基を1つ有す
る一官能性であり重合時に末端封鎖剤として作用し、ポ
リマの特性、特に機械特性に著しい悪影響を与える。し
たがって、フェニルヒドロキノンを好適なポリエステル
の原料とするためには、その製造法に応じた特定の組成
とする必要がある。
〈課題を解決するための手段〉 本発明は、シクロヘキシルヒドロキノンを触媒存在下、
加熱下に脱水素して得たフェニルヒドロキノンであって
、ヒドロキシジベンゾフランの含有量を0.1 w t
%以下としたポリエステル原料用フェニルヒドロキノン
である。
すなわち、本発明の目的の1つは、ポリエステル原料と
して好適なフェニルヒドロキノンを提供することである
また、本発明の目的の他の1つはこのようなフェニルヒ
ドロキノンを工業的に有利に得る手段を具現化すること
である。
本発明に用いられるシクロへキシルヒドロキノンは、ヒ
ドロキノンにシクロヘキセンまたはシクロヘキサノール
、クロロシクロヘキサンなどの脱離基を有するシクロヘ
キサン誘導体を酸触媒存在下に反応させることによって
容易に得られる。
本発明においては、シクロへキシルヒドロキノンを触媒
存在下に加熱して脱水素し、フェニルヒドロキノンとす
る。
用いられる触媒は一般的には白金族金属であり、白金、
ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスニウム、イリ
ジウムなどを挙げることができる。これらの金属はその
ままの形や、シリカ、アルミナ、ジルコニア、カーボン
などの担体に担持したものが用いられる。
金属は1種に限らず、前記金属の2種以上のものを組合
せたり、さらには、助触媒として他の金属を添加したり
、窒素、硫黄、リンなどを含む化合物を加えたり、それ
らの化合物で処理したりすることができる。
シクロヘキシルヒドロキノンと触媒を加熱して脱水素す
るには大きくわけて2つの方法がある。
1つは、液相にあるシクロへキシルヒドロキノンと触媒
を接触させる液相法であり、他の1つは気相にあるシク
ロヘキシルヒドロキノンを触媒と接触させる気相法であ
る。
液相法では、シクロヘキシルヒドロキノンを溶媒存在下
、または不存在下に溶解、溶融させ触媒存在下に加熱す
る。
溶媒としては脂肪族、芳香族の炭化水素、フェノール類
、エーテルなどが用いられる。
触媒はたとえば有効金属0.1から10wt%を担持し
たものを、シクロヘキシルヒドロキノンに対して1から
20 w t%程度用いる。
加熱温度は150℃位から350℃位か適当であり、数
10分から数10時間反応させる。
用いる溶媒の沸点が加熱温度よりも低い場合には液相に
保持させるために加圧が必要である。
気相法では一般的に流通方式が用いられる。
すなわち、触媒が保持された反応層に気化させたシクロ
ヘキシルヒドロキノンを連続的に供給する。この場合、
シクロヘキシルヒドロキノンの蒸気に、脂肪族や芳香族
炭化水素、アルコール、エーテルなどの蒸気、窒素、へ
リウム、アルゴン、水素などの不活性ガス、水蒸気など
を共存させてもよい。
加熱温度は200℃から400 ’C位が適当であり、
接触時間は、10ミリ秒から数10分の間で選ばれる。
このようにしてシクロへキシルヒドロキノンは脱水素し
てフェニルヒドロキノンとなるが、前記の方法において
は、異なる反応形式の脱水素、すなわち酸素に結合した
水素と、炭素に結合した水素が脱離して新たに酸素、炭
素結合が生じたヒドロキシジベンゾフランが生成する。
その量は用いる触媒の種類、反応条件によって異なるが
、おおむねフェニルヒドロキノンに対して1乃至10w
t%である。
本発明においてはこのヒドロキシジベンゾフランを減少
させることが重要であり、フェニルヒドロキノン中の含
有量として0.1 w t%以下、好ましくは0.05
 w t%以下とする。
ヒドロキシジベンゾフラン0.1 w t%ヲ越えて含
むフェニルヒドロキノンを用いてジカルボン酸、たとえ
ばテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタリンジカルボン
酸、ビフェニルジカルボン酸と重合させてポリエステル
を得ても、他の方法で得たヒドロキシジベンゾフランを
含まないフェニルヒドロキノンを用いて重合したポリエ
ステルに比し十分な機械特性、たとえば伸び、引張強度
が得られない。
シクロヘキシルヒドロキノンを触媒存在下に脱水素して
得たヒドロキシジベンゾフランを含むフェニルヒドロキ
ノンからヒドロキシジベンゾフランを減少させる方法の
1つとして蒸留分離法がある。
フェニルヒドロキノンの沸点は常圧下で約350℃であ
り、ヒト0キシジベンゾフランのそれは約330℃であ
る。両者の気液平衡における比揮発度 HDBF:ヒドロキシジベンソフラン PHQ  :フェニルヒドロキノン) は1.3〜1.5であり、十分な分離機能を有する蒸留
装置を用いる必要かある。
蒸留塔は棚段式のものでもよいが、ラシッヒリング、ガ
ラスピーズ、″ヘリパック”(登録商標)などの不規則
充填物、″メラパック″(登録商標)、゛スルザーパッ
キン″(登録商標)などの規則充填物を充填した充填式
のものの方が好ましい。
蒸留を常圧で行うためには、フェニルヒドロキノンの沸
点からみると400℃あるいはそれ以上の加熱が必要と
なる。フェニルヒドロキノンを高温で長時間加熱すると
、種々の分解物が生じ、その中には、取除くべきヒドロ
キシジベンゾフランも含まれる。特にシクロヘキシルヒ
ドロキノンからフェニルハイドロキノンを生成するため
に用いた触媒が混入しているとその傾向は一層著しくな
る。
したがって、蒸留は減圧下にし、温度を下げて行うのが
好ましい。圧力を100mmHg以下で操作すると約3
00℃の加熱で蒸留が可能となる。すなわち、加熱温度
300℃以下、圧力100mmHg以下、より好ましく
は加熱温度270℃以下、圧力30mmHg以下て蒸留
する。ここでいう加熱温度とは、留出してくるヒドロキ
シジベンゾフランや、フェニルヒドロキノンの温度では
なく、加熱されているフェニルヒドロキノンを含む液相
の温度である。
ヒドロキシジベンゾフランを含むフェニルヒドロキノン
からヒドロキシジベンゾフランを減少させる他の方法は
再結晶精製法である。
ヒドロキシジベンゾフランを含むフェニルヒドロキノン
に特定の溶媒を加え、加熱下に溶解させる。その場合、
不溶物が存在すれば、高温に保持したまま濾過し不溶物
を除去する。
次いで撹拌下あるいは静置したまま冷却し結晶を析出さ
せる。結晶化に際して種晶を添加すると操作がスムーズ
になったり、時には結晶中の不純物が減少したりするこ
ともある。
この再結晶に用いることのできる溶媒としては多種多様
のものがあり、n−ヘキサン、n−オクタン、イソオク
タン、2−エチルヘキサン、シクロペンタン、シクロヘ
キサン、メチルシクロペンタン、エチルシクロヘキサン
、石油エーテル、ケロシンなどの鎖状、環状の脂肪族炭
化水素およびそれらの混合物;ベンゼン、斗ルエン、キ
シレン、エチルベンゼン、プソイドクメン、エチルトル
エン、クメン、テトラメチルベンゼン、ジエチルベンゼ
ン、メチルナフタリンなどの芳香族炭化水素;塩化メチ
レン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルエタン、ト
リクロルエタン、テトラクロルエタン、トリクロルエチ
レン、ジクロルプロパン、クロルシクロヘキサン、クロ
ルベンゼン、クロルトルエン、ジクロルベンゼンなどの
ハロゲン化炭化水素;メタノール、エタノール、プロパ
ツール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、クロルエタノール、メトキシエタノール、
エトキシエタノール、ブトキシェタノール、(エトキシ
エトキシ)エタノール、(ブトキシエトキシ)エタノー
ルなどのアルコール類;ジエチルエーテル、メチルイソ
プロピルエーテル、テトラハイロドフラン、ジオキサン
、ジメトキシエタン、アニソールなどのエーテル類;ア
セトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノンなどのケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、
ピロピオン酸エチル、エチレングリコールモノ酢酸エス
テル、エチレングリコールジ酢酸エステル、エトキシエ
タノール酢酸エステルなどのエステル類;ギ酸、酢酸、
プロピオン酸、クロル酢酸などのカルボン酸類ニアセト
ニトリル、プロピオニトリル、アクリロニトリル、ベン
ゾニトリルなどのニトリル類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N−メ
チルカプロラクタムなどのアミド類−二トロメタン、ニ
トロエタン、ニトロベンゼンなどのニトロ化合物;ジメ
チルスルフオキシド、メチルエチルスルフオキシドなど
のスルフオキシド類;ジメチルスルホン、メチルエチル
スルホン、スルホランなどのスルホン類などを挙げるこ
とができ、これらの単独溶媒あるいは2種以上の混合物
として用いることができる。
溶媒は、再結晶しようとするフェニルヒドロキノンおよ
びヒドロキシジベンゾフランを含む混合物に対して、0
.5乃至100重量倍用いる。
溶解させる温度は、用いる溶媒によって異なるがおおむ
ね溶媒の沸点以下で行うのが好ましい。場合によっては
加圧下に沸点以上で溶解させることも差支えない。
晶析にあたって、冷却する温度は限定的な値はなく、用
いる溶媒、量によって異なる。
室温付近で晶析が終了する場合が操作としては最も容易
である。
晶析にあたって、冷却とともに用いた溶媒の一定部分を
留去させ晶析効率を向上させることもてきる。
得られた結晶を含む溶液は濾過によって母液と分離させ
、母液は必要に応じてそのままかあるいは何らかの精製
を経て循環再使用させることもできる。
フェニルヒドロキノン中のヒドロキシジベンゾフランを
減少させる方法として前記蒸留と前記再結晶を組合せる
こともできる。
蒸留した後再結晶する方法、再結晶した後蒸留する方法
などのように直列的な組合せ、初めに再結晶によって著
しくヒドロキシジベンゾフランを減少させた小部分と、
ヒドロキシジベンゾフラン含有量が増加した大部分を得
、後者から蒸留によって再結晶を行う前の含有量あるい
はそれ以下の値とし、再結晶工程に循環させる、いわば
並列的な組合せなど多種多様の組合せで実施′すること
ができる。
かくして得られたヒドロキシジベンゾフランの含有量が
0.1重量%以下となったフェニルヒドロキノンはポリ
エステルの原料とじて好適に用いることができる。
〈実施例〉 以下に実施例を示すが、これらは何ら本発明を限定する
ものではない。
参考例1 試薬特級塩化白金酸(H2PtCl4・6H20) 0
.213 gを0.3%塩酸水溶液85゜3gに溶解し
た液に、γ−アルミナペレット(6揮化学社製N612
N径3mm、高さ3mm)32、0 gを加えて90℃
で2時間加熱した。
この触媒をデカンテーションにより取出し、約120℃
で乾燥した後、径22聰のパイレック反応管に充填し、
約30m1/minの窒素気流下、350℃で1時間焼
成、さらに、窒素を約300 ml/minの水素に切
替え同温度で3時間還元処理した。この触媒16.0 
g(20ml)を試薬特級苛性ソーダを溶解した0、6
%水溶液40gに浸し、20時間放置した後、デカンテ
ーションにより取゛出し約120℃で乾燥し径17調の
パイレックス反応管に充填し約30m1/minの窒素
気流下350℃で1時間焼成した。
窒素を約300 ml/minの水素に切替え、同温度
において二硫化炭素4oρを触媒に注入し1時間放置し
た。
次に水素流量を20m1/mirに下げ、反応原料のシ
クロヘキシルヒドロキノンの20wt / v o 1
%のプソイドクメン溶液を定量ポンプから10 rnl
/ h rで供給し反応を開始した。
反応管から留出した生成物は冷却して捕集した。24時
間あたり反応液は204  g  捕集された。
ガスクロマトグラフによる分析で、その中にはフェニル
ヒドロキノン37.0g   シクロヘキシルヒドロキ
ノン1.44gが含まれていた。シクロヘキシルヒドロ
キノンの転化率97%、フェニルヒドロキノンの選択率
82%であった。また反応液中にはヒドロキシジベンゾ
フランが2.76 g含まれていた。
実施例1 参考例によって得られた反応液1.000 gをフラス
コに仕込み、プソイドクメン留分740gを常圧単蒸留
にて留出後、充填塔(ヘリパック階2.30φ×550
■)を装着し、減圧にて蒸留を行った。初留分105g
を留出させた後、主留分を8■Hg、205℃で留出さ
せ、112gを得た。
ガスクロマトグラフで分析するとフェニルヒドロキノン
97.8%、シクロヘキシルヒドロキノン1.9%、ヒ
ドロキシジベンゾフラン0.07%であった(フェニル
ヒドロキノンの蒸留収率は60.4%)。
実施例2 参考例によって得られた反応液を単蒸留によって、溶媒
のプロイドクメンを十分に留去した粗フェニルヒドロキ
ノンを連続蒸留により精留を行った。連続蒸留塔は、ス
ルザーパキッン50φX55mm、30エレメント(3
0段相当)を使用し、最上段より5段目を原料供給段と
し、25段目を製品抜出し段とした。また、最上段から
低沸成分を留去し、最下段の蒸留釜より高沸成分を抜出
した。260 g / h rで粗フェニルヒドロキノ
ンを供給し、190g/hrで製品を抜出した。還流比
は20に設定した。
また、最上段の留出口は3■Hg、200℃、蒸留釜は
20mm1g、 240℃に設定した。得られた製品を
分析するとフェニルヒドロキノン99.2%、シクロヘ
キシルヒドロキノン0゜7%、ヒドロキシジベンゾフラ
ン0.08%であった(フェニルヒドロキノンの蒸留収
率は95%)。
実施例3 参考例によって得られた反応液500gをフラスコにと
り、70℃にて加熱溶解した。
60℃に冷却し種晶を添加した後、ゆっくりと20℃ま
で冷却し晶析を行った。析出した結晶(ウェットケーク
1)を炉別した。
ウェットケーク1に、プソイドクメン250 m!、1
,4−ジオキサン25m1を加え70℃に加熱し結晶を
再溶解した。55℃に冷却し種晶を添加した後、ゆっく
りと20℃まで冷却し再度晶析を行った。析出した結晶
を炉別し、60℃にて10時間減圧乾燥した。この2回
の晶析操作により白色粉状結晶79.9gを得た。
ガスクロマトグラフで分析するとフェニルヒドロキノン
99.0%、シクロヘキシルヒドロキノン0.6%、ヒ
ドロキシジベンゾフラン0.06%であった(フェニル
ヒドロキノンの晶析収率は87%)。
実施例4 各種晶析溶媒について検討した結果を表1に示した。晶
析に使用した粗原料は、実施例3の方法によって得られ
たウェットケーク1を使用した。
参考例2 実施例2で得た純度99.2%(ヒドロキシジベンゾフ
ラン0.08%、シクロヘキシルヒドロキノン0.7%
を含む)のフェニルヒドロキノンを、無水酢酸を用いて
フェニルヒドロキノンジアセテートとした。
酢酸エステル化物の組成は、エステル化前と実質的に変
化はなかった。
撹拌機、窒素導入部、減圧蒸留装置をつけた21重合反
応器に、上で得たフェニルヒドロキノンジアセテート1
,080 g (4,0モル)とテレフタル酸632g
(3,8モル)を仕込み、窒素気流中、撹拌しながら1
50分間で340℃に昇温し、340℃で30分間反応
させた。窒素の流入を中止し徐々に減圧し、圧力lmm
Hgで30分間反応させた。反応終了後窒素を導入して
常圧とし溶融したポリマを取出した。
得られたポリマを射出成形機を用いて、1母型ダンベル
試験片をつくった。
射出成形機のシリンダー温度は350℃、金型温度は9
0℃に設定した。試験片の厚みは3.2 mmとした。
JIS−に7113に基づいて引張試験を行ったところ
、引張強度1.500kgf/cnf、破断伸度1.6
%であった。
比較例 参考例2において、ヒドロキシジベンゾフラン0.8%
、シクロヘキシルヒドロキノン0゜9%ヲ含む純度98
.2%のフェニルヒドロキノンを用いた以外全く同じ試
験を行った。
その結果、得られたポリマの引張強度は1゜200kg
f/al、破断伸度は1.0%であった。
〈発明の効果〉 本発明によれば、安価に入手可能なシクロへキシルヒド
ロキノンを原料とし、工業的に容易にフェニルヒドロキ
ノンが得られ、かつその方法で得られたフェニルヒドロ
キノンをポリエステルの原料として好適に用いることが
できる。
すなわち、ポリエステル原料として好適なフェニルヒド
ロキノンを工業的に有利に製造することができる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)シクロヘキシルヒドロキノンを触媒存在下、加熱
    下に脱水素して得たフェニルヒドロキノンであって、ヒ
    ドロキシジベンゾフランの含有量を0.1wt%以下と
    したポリエステル原料用フェニルヒドロキノン。
  2. (2)脱水素後蒸留分離によってヒドロキシジベンゾフ
    ランの含有量を0.1wt%以下とする請求項1記載の
    ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン。
  3. (3)蒸留分離を温度300℃以下、圧力100mmH
    g以下で実施する請求項2記載のポリエステル原料用フ
    ェニルヒドロキノン。
  4. (4)脱水素後再結晶精製によってヒドロキシジベンゾ
    フランの含有量を0.1wt%以下とする請求項1記載
    のポリエステル原料用フェニルヒドロキノン。
  5. (5)再結晶溶媒として、脂肪族または芳香族炭化水素
    、ハロゲン化炭化水素、アルコール、エーテル、ケトン
    、エステル、カルボン酸、ニトリル、アミド、ニトロ化
    合物、スルフォキシド、スルホンから選ばれる化合物ま
    たはそれらの2種以上の混合物を用いて再結晶精製する
    ことを特徴とする請求項4記載のポリエステル原料用フ
    ェニルヒドロキノン。
  6. (6)脱水素後蒸留分離と再結晶精製を組合せることに
    よってヒドロキシジベンゾフランの含有量を0.1wt
    %以下とする請求項1記載のポリエステル原料用フェニ
    ルヒドロキノン。
JP2212270A 1990-08-10 1990-08-10 ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン Pending JPH0495038A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2212270A JPH0495038A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2212270A JPH0495038A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0495038A true JPH0495038A (ja) 1992-03-27

Family

ID=16619812

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2212270A Pending JPH0495038A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0495038A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6153790A (en) Method to produce aromatic dicarboxylic acids using cobalt and zirconium catalysts
JPH0451539B2 (ja)
JPH08502247A (ja) アジピン酸及びその他の脂肪族二塩基酸の調製方法
KR20010033086A (ko) 방향족 카복실산의 제조방법
TW460452B (en) Process for the crystallization of carboxylic acid and process for manufacturing crystalline carboxylic acid
JPH0257528B2 (ja)
US4380663A (en) Process for the preparation of practically formic acid-free acetic acid
JPH0495038A (ja) ポリエステル原料用フェニルヒドロキノン
US4024196A (en) Process for the manufacture of hydroquinone
EP4289808A1 (en) 1,4-cyclohexanedimethanol composition and purification method therefor
US20230391705A1 (en) Method for producing fluorenone
JPH03500412A (ja) スチルベンジカルボン酸エステル誘導体の製造方法
US4827026A (en) Method for producing 5-t-butylisophthalic acid
JPH04108752A (ja) ポリエステル原料用フェニルヒドロキノンおよびその製造法
KR20220111955A (ko) 1,4-사이클로헥산디메탄올 조성물의 정제 방법
US3855275A (en) Treatment of terephthalic acid reaction
US3362982A (en) Purification of polycyanobenzenes
US4014755A (en) Method of refining pyromellitic acid dianhydride
RU2254324C2 (ru) Непрерывный способ получения высокочистой терефталевой кислоты
US3803212A (en) Mono-(beta-acetoxyethyl) terephthalate and process
JP4104228B2 (ja) テレフタル酸ジメチルとイソフタル酸ジメチルとの混合物の製造方法
US3155717A (en) Process for the preparation of trimesic acid
US3734950A (en) Production of 3-acetoxy-2-methylene propionic acid alkyl esters
JPS623139B2 (ja)
RU2458042C2 (ru) Способ получения и очистки изофталевой кислоты