JPH0492234A - Magneto-optical recording medium - Google Patents

Magneto-optical recording medium

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JPH0492234A
JPH0492234A JP20752590A JP20752590A JPH0492234A JP H0492234 A JPH0492234 A JP H0492234A JP 20752590 A JP20752590 A JP 20752590A JP 20752590 A JP20752590 A JP 20752590A JP H0492234 A JPH0492234 A JP H0492234A
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JP
Japan
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optical
alloy
film
magnetic recording
control layer
Prior art date
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Application number
JP20752590A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsusuke Shimazaki
勝輔 島崎
Satoru Onuki
悟 大貫
Yukinori Yamada
幸憲 山田
Masashi Yoshihiro
昌史 吉弘
Noriyuki Ogiwara
荻原 典之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the magneto-optical recording medium having high reliability by specifying the thermal conductivity at ordinary temp. of the magneto-optical recording film formed on a transparent substrate and a heat control layer formed on this magneto-optical recording film. CONSTITUTION:This recording medium has the transparent substrate 1, the magneto-optical recording film 4 formed on this transparent substrate 1, the heat control layer 6 which is formed on this recording film 4 and consists of, for example, an Al-Ti alloy or Cu-Ti alloy. The thermal conductivity K at ordinary temp. of this heat control layer is regulated to a 0.1 to 2.0 (W/cm.deg) range. The heat diffusion at the time of irradiation with a laser is adequately executed. There is, therefore, no need for increasing the laser power required for recording and erasing and the magneto-optical recording medium 4 which lessens the fall of the level of reproduced signals by the repetition of recording and erasing is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光−磁気記録媒体に係り、特にそれの光−磁気
記録膜上に形成される熱制御層に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical-magnetic recording medium, and particularly to a thermal control layer formed on an optical-magnetic recording film thereof.

[従来の技術] 希土類を含む光−磁気記録膜は化学的に酸化され易いた
め、その保εを目的として化学的に安定な薄膜を光−磁
気記録膜上に形成することが種々提案されている(例え
ば特開昭58−60441号、特開昭60−ユ3ユ65
9号、特開昭62−137743号)。
[Prior Art] Since optical-magnetic recording films containing rare earth elements are easily oxidized chemically, various proposals have been made to form chemically stable thin films on optical-magnetic recording films for the purpose of preserving ε. (For example, JP-A No. 58-60441, JP-A No. 60-60-3-65)
No. 9, JP-A-62-137743).

[発明が解決しようとする課題] ところがこれらの従来の提案では、入射レーザ光により
与えられる熱の状態が考慮さtておらず、特に金属保護
膜はそこでの熱拡散を制御しないと次のような技術的な
問題を生じる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, these conventional proposals do not take into account the state of heat given by the incident laser beam, and in particular, the following problems occur when the metal protective film does not control the heat diffusion there. This may cause serious technical problems.

■、金属保護膜の熱拡散が早すぎ番場合、または熱容量
が大きすぎる場合、記U、消去に必要なレーザパワーを
高くしなければならない。
(2) If the thermal diffusion of the metal protective film is too fast, or if the heat capacity is too large, the laser power required for erasing must be increased.

1ノ、金属保護膜の熱拡散が遅すぎる場合、レーザスポ
ット中央部の蓄熱が大きくなり、記録膜に構造緩和、結
晶化などの変化を生じる。よって記録、再生を繰り返す
うちに再生信号のレベルが低下することなどを含む記録
媒体の痔命が劣化する。
1. If the thermal diffusion of the metal protective film is too slow, heat accumulation at the center of the laser spot increases, causing changes such as structural relaxation and crystallization in the recording film. Therefore, as recording and reproduction are repeated, the quality of the recording medium deteriorates, including a decrease in the level of the reproduced signal.

■、熱容量が小さすぎてかつ金属保護膜の熱拡散が遅す
ぎZ、場合、前記・■の弊害に加えて、再生出力の変動
や、気温変化によるデータ破壊が起こる心配がある。
(2) If the heat capacity is too small and the heat diffusion of the metal protective film is too slow (Z), in addition to the disadvantages of (2) above, there is a fear that fluctuations in the reproduction output or data destruction due to temperature changes may occur.

本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、
信頼性の高い光−磁気記録媒体を提供するにある。
The purpose of the present invention is to eliminate such drawbacks of the prior art,
The object of the present invention is to provide a highly reliable optical-magnetic recording medium.

[課題を解決するための手段] 前述の目的を達成するため、本発明は、透明基板と、そ
の透明基板の上方に形成された光−磁気記録膜と、その
光−磁気記′Lt、膜の上方に形成された例えばAl−
Ti合金や0u−Ti合金などからなる熱M御暦とを有
し、その熱制御層の常温における熱伝導率にが0.1〜
2.0(W/Cm・deg)の範囲に規制されているこ
とを特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a transparent substrate, an optical-magnetic recording film formed above the transparent substrate, an optical-magnetic recording film, and a transparent substrate. For example, Al-
It has a thermal control layer made of Ti alloy, 0u-Ti alloy, etc., and the thermal conductivity of the thermal control layer at room temperature is 0.1 ~
It is characterized by being regulated within a range of 2.0 (W/Cm·deg).

[作用] 本発明は前述のように、熱制御層の熱伝導TcKを規制
する二とにより、レーザ黙射時における熱拡散が適正に
行われる。そのため記録、消去に必要なレーザパワーを
高める必要がなく、シかも記録、消去の繰り返しによる
再生信号のレベル低下の少ない光−磁気記録媒体を得る
ことができる。
[Function] As described above, in the present invention, by regulating the thermal conduction TcK of the thermal control layer, heat diffusion is properly performed during silent laser irradiation. Therefore, it is not necessary to increase the laser power required for recording and erasing, and it is possible to obtain an optical-magnetic recording medium in which the level of the reproduced signal is less likely to decrease due to repeated recording and erasing.

[実施例コ 次に本発明の実施例を図面とともに説明する。[Example code] Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は、二の実施例に係る光−磁気記録媒体の拡大断
面図である。
FIG. 1 is an enlarged sectional view of an opto-magnetic recording medium according to a second embodiment.

図中の1は透明基板で、例えばガラスなどの透明セラミ
ックスや、ポリカーボネート、ポリメチルメタク?ル−
ト、ポリメチルペンテン、エポキシ樹脂などの透明4!
IN材料が使用される。
1 in the figure is a transparent substrate, for example transparent ceramics such as glass, polycarbonate, polymethylmethac? Lou
Transparent materials such as polymethylpentene, epoxy resin, etc.
IN material is used.

そして二の透明基板1の信号面2には、記録/再生光を
案内するための案内溝や各種プリピット列など所望のプ
リフォーマットパターンが転写されている。
On the signal surface 2 of the second transparent substrate 1, desired preformat patterns such as guide grooves for guiding recording/reproducing light and various pre-pit rows are transferred.

3は第1エンハンス膜で、前記透明基板1および後述す
る光−磁気記録膜4との界面において再生光を繰り返し
て反射させ、見掛は上のカー回転角を増加させるための
ものである、この第1エンハン久膜3としては、例えば
窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ア
ルミニウムなどの無イテ誘電体が用いらh、スパッタリ
ングなどの手段で約700〜1000人の厚さに成膜さ
れる。
3 is a first enhancement film that repeatedly reflects the reproduction light at the interface between the transparent substrate 1 and the optical-magnetic recording film 4 described later, and is apparently used to increase the Kerr rotation angle shown above. As the first enhancing film 3, a non-heating dielectric such as silicon nitride, aluminum nitride, silicon oxide, or aluminum oxide is used, and the film is formed to a thickness of about 700 to 1000 nm by sputtering or other means. Ru.

4は光−磁気記録膜で、非晶質の垂直磁化膜からなり、
その組成の一例を示せば下記の通りである。
4 is an optical-magnetic recording film consisting of an amorphous perpendicular magnetization film;
An example of its composition is as follows.

TbxFe+xoa−x−y−z+coyMz式中の%
g Y+ 2は原子%で、15≦、≦30.5≦、≦1
5.0ご2 ≦10 M=Nbz  Cr、Ptc 5は第2工〉゛ハンス吸で、前記光−磁気=2録膜4か
らの透過光にエンハンスメント効果を与えてカー回転角
をいっそう増大するために形成されるものである。二の
第2ニンハンス膜5は、前記第1エンハンス膜3と同様
の無機誘導体から構成されている。
% in the formula TbxFe+xoa-x-y-z+coyMz
g Y+ 2 is atomic %, 15≦, ≦30.5≦, ≦1
5.0 2 ≦10 M=Nbz Cr, Ptc 5 is the second process〉〉Hance absorption, which gives an enhancement effect to the transmitted light from the optical-magnetic=2 recording film 4 to further increase the Kerr rotation angle. It is formed for the purpose of The second enhancement film 5 is made of the same inorganic derivative as the first enhancement film 3.

6は反射膜ならびに保護膜も兼ねた熱制御層で。6 is a heat control layer that also serves as a reflective film and a protective film.

AJ Ag、Au、Cu、Beのグループから選択され
た1種以上の金属元素と、Cr、Ti。
AJ One or more metal elements selected from the group of Ag, Au, Cu, and Be, and Cr and Ti.

Tar Sn、Si、Rh、Pe、Nb、Mo。Tar Sn, Si, Rh, Pe, Nb, Mo.

Li、:\iH,W、Zrのグループから選択された1
種以上の金ス元素との合金で構成されている。
Li,: 1 selected from the group of \iH, W, Zr
It is composed of an alloy with more than one gold element.

特にTiを6〜10原子%含有した。b、Q−Ti合金
からなり、膜厚が500〜1000人の範囲に規制され
たものは好適である。
In particular, it contained 6 to 10 at% of Ti. b. It is preferable to use a Q-Ti alloy with a film thickness regulated within the range of 500 to 1000.

光−磁気記録膜4の材料としてTb−Fe−Co合金を
用いて記録ピットを作る場合、前記組成の合金のキュリ
ー点が約200℃であることから、レーザ光照射領域に
おける膜内温度を200℃以上に昇温させる必要がある
、記録レーザ光により光−磁気記録膜4がその熱的状態
に到達した際、レーザ光照射の中心部は膜内で最高の温
度となる。すなわち1例えば第2図に示すように一定サ
イズ(例えば直径が0.8μm)の記録ピットを形成し
ようとする場合、その径の内部を200°C以上に昇温
させる必要がある。すなわち、直径0.8μmの円周の
線が200℃の等混線となり、それより内側は必然的に
200℃以上になる、二のとき、熱制御Wj6の熱伝導
性によってレーザ光照射の中央部の温度に差が生じる。
When forming recording pits using a Tb-Fe-Co alloy as the material for the optical-magnetic recording film 4, the Curie point of the alloy with the above composition is about 200°C, so the temperature inside the film in the laser beam irradiation area is set to 200°C. When the optical-magnetic recording film 4 reaches that thermal state due to the recording laser beam, which requires raising the temperature to a temperature above .degree. C., the temperature at the center of the laser beam irradiation becomes the highest within the film. That is, 1. For example, in the case of forming a recording pit of a certain size (for example, 0.8 μm in diameter) as shown in FIG. 2, it is necessary to raise the temperature inside the diameter to 200° C. or higher. In other words, a circumferential line with a diameter of 0.8 μm becomes a 200°C equimixture line, and the temperature inside the line is inevitably higher than 200°C. There will be a difference in temperature.

同図の曲線は温度分布を模式的に示す曲線で1点線の曲
線Bは熱伝導性が比較的良い熱制御層6を使用した場合
、実線の曲線Aは熱伝導性が比較的悪い熱制御層6を使
用した場合の特性曲線である。二の図から明らかなよう
に、熱制御層6の熱伝導性の違いにより、レーザ光照射
部分における中央部の温度に差が生じる。換言すれば記
録膜4の最高温度は、熱制御N6の熱伝導性(熱伝導率
、膜厚など)によってコントコールする二とができる。
The curves in the figure schematically show temperature distribution, and the one-dot curve B is for thermal control layer 6 with relatively good thermal conductivity, and the solid curve A is for thermal control layer 6 with relatively poor thermal conductivity. This is a characteristic curve when layer 6 is used. As is clear from the second figure, the difference in thermal conductivity of the thermal control layer 6 causes a difference in temperature at the center of the laser beam irradiated area. In other words, the maximum temperature of the recording film 4 can be controlled by the thermal conductivity (thermal conductivity, film thickness, etc.) of the thermal control N6.

前述の光−磁気記塚原4は、300″C以正に昇温する
と、構造緩1r:i、結品化が起二(じ、そのために記
録、再生特性が劣下してしまうから、そのような二とが
起こらないようにコントロールする必要がある。
When the temperature of the above-mentioned optical-magnetic recording mound 4 is raised above 300''C, the structure becomes loose (1r:i) and crystallization occurs, which deteriorates the recording and reproducing characteristics. It is necessary to control so that such a situation does not occur.

前述のように光−磁気記録膜としてTb−Fe−Co合
金を用い、金に保護膜としてA、fl−Ti合金を使用
して、光−磁気記録膜の最高温度に対する熱制御層中の
Ti含有率の依存性について検討した結果を第3図に示
す。
As mentioned above, a Tb-Fe-Co alloy is used as the optical-magnetic recording film, and an A, fl-Ti alloy is used as the protective film on gold, so that the Ti in the thermal control layer with respect to the maximum temperature of the optical-magnetic recording film is Figure 3 shows the results of examining the dependence on content.

図中の横軸にへ〇−Ti合金中におけるTユ含有空を、
桜軸にレーザ光照射部分における中央部温度を、それぞ
れ示している。なお、この中央部温度は、膜面温度が2
00’C以上の領域を直径1μmとった時の中央部温度
である。
The horizontal axis in the figure represents the T-containing space in the 〇-Ti alloy.
The central temperature of the laser beam irradiation area is shown on the cherry blossom axis. Note that this center temperature is equal to the film surface temperature of 2.
This is the temperature at the center when the area above 00'C is 1 μm in diameter.

前述のようにTlg;F e+xoa−x−y−z+c
OyMz系の光−磁気記録膜においては、レーザ光照射
部分が300℃以上になると結晶化が進行して記録、再
生特性に悪影響を及ぼすことから、300℃以上になら
ないように温度コントロールする必要がある。そのため
には第3図から明らかなように。
As mentioned above, Tlg;F e+xoa-x-y-z+c
In OyMz-based opto-magnetic recording films, if the temperature of the laser beam irradiated area exceeds 300°C, crystallization will proceed and adversely affect the recording and reproduction characteristics, so it is necessary to control the temperature so that the temperature does not exceed 300°C. be. For this purpose, as is clear from Figure 3.

8・λQ−Ti合金中におけるTi含有率を二〇、7子
%以下に規制する必要がある。
It is necessary to control the Ti content in the 8.λQ-Ti alloy to 20.7% or less.

第4図は、Al−Ti合金中のTi含有率とその合金の
常温における熱伝導率にとの関係を示す図である。この
図から明らかなように、Ti含有率によってへΩ−r=
合金の熱伝導率にが変化し、Ti含有率が10yK子%
以下ということは、熱伝導率にが0.13 [W/cm
−degコ以上となる。
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the Ti content in an Al-Ti alloy and the thermal conductivity of that alloy at room temperature. As is clear from this figure, depending on the Ti content, Ω−r=
The thermal conductivity of the alloy changes, and the Ti content increases to 10yK%.
The following means that the thermal conductivity is 0.13 [W/cm
-deg or more.

本発明者らの諸種の実験結果から、二の熱制御層の?、
こにおけシ・熱伝導率にが、2.0≧に≧0゜1[W/
cm・degEの範囲に規制する必要があることを解明
した。熱制御層の熱伝導史にが2゜Q [W/cm−d
 e gコを越えると、熱拡散が早すぎて、記録、消去
に際して高いレーザパワーが必要となり、不経済である
。一方、熱制御層の熱伝導率にが0.1 [W/cm−
degコ未満になると1反対に熱拡散が遅すぎて、記録
、再生を繰り返しているうちに記録膜の非晶質構造の緩
和が生じ、結晶化してしまう、したがって熱制御層の常
温における熱伝導率には、2.0≧に≧0.1rW/c
m−d eg]の範囲に規制する必要があり、特に0.
25≧に≧0.14 [W/cm−deg]の範囲に規
制されたものは好適である。
From the results of various experiments conducted by the present inventors, we found that the temperature of the second thermal control layer? ,
In this case, the thermal conductivity is 2.0≧≧0゜1[W/
It has been clarified that it is necessary to regulate it within the cm/degE range. The thermal conduction history of the thermal control layer is 2°Q [W/cm-d
If it exceeds eg, heat diffusion is too rapid and high laser power is required for recording and erasing, which is uneconomical. On the other hand, the thermal conductivity of the thermal control layer is 0.1 [W/cm-
On the contrary, when the temperature is less than 1 degree, thermal diffusion is too slow, and as recording and reproduction are repeated, the amorphous structure of the recording film is relaxed and crystallized. Therefore, the thermal conduction of the thermal control layer at room temperature is Rates include 2.0≧ to ≧0.1rW/c
m-d eg], especially 0.
It is preferable that the range is regulated to 25≧ and ≧0.14 [W/cm-deg].

第5図は、八〇 −T i合金中のT1含有率と、記録
、消去サイクル後における搬送波レベルの低下との関係
を示す図である。なお、前記Al−Ti合金の膜厚は7
50人とし、記録と消去を10.000回繰り返した後
、記録、再生した信号の搬送波レベルの低下状態を示し
たものである。
FIG. 5 is a diagram showing the relationship between the T1 content in the 80-Ti alloy and the decrease in carrier wave level after recording and erasing cycles. Note that the film thickness of the Al-Ti alloy is 7
This figure shows how the carrier wave level of the recorded and reproduced signals decreased after recording and erasing were repeated 10,000 times with 50 people.

この図からも明らかなように、Al−丁1合台中のTi
の含有率が10原子%を少し越えると搬送波レベルの低
下が生じており、これは記録膜の非晶質構造の緩和が生
じ、結晶化が進行したものであると推測される。
As is clear from this figure, Ti in the Al-T1 unit
When the content exceeds a little over 10 atomic %, the carrier wave level decreases, and this is presumed to be due to relaxation of the amorphous structure of the recording film and progress of crystallization.

この光−磁気記録媒体においては、基板上の冬服の厚み
は通常下記の通りである。
In this optical-magnetic recording medium, the thickness of the winter coat on the substrate is usually as follows.

第1エンハンス膜・・・・・600〜100OA光−砿
気記B膜・・・・・・・・200〜500人第2エンハ
ンス膜・・・・・  O〜 40 OA二のように構成
された光−磁気記録媒体の場合、記録、消去過程で必要
とするレーザパワーの制御は前記熱制御層のIffで行
うことができる。
1st enhancement film...600-100 OA light-Koiki B film...200-500 2nd enhancement film...0-40 Constructed like OA2 In the case of an optical-magnetic recording medium, the laser power required in the recording and erasing processes can be controlled by Iff of the thermal control layer.

膜面到達パワーで5〜10mWのレーザパワー[5イン
チの光−磁気ディスクを2400rpm(線速7.5〜
15m/秒)で回転]により記録、消去が行われ、1〜
3mWのレーザパワーで再生が行えるためには、熱制御
層の膜厚とAn−Ti合金中のTi含有率は第10図の
■の領域にある必要がある。この7の領域の上限以上で
は、l&S速15m/秒で消去を行う0合(トラックオ
フセットマージンまでを考慮すると)10mW以上のレ
ーザパワーを必要とする。また■の領域の下限以下では
、1〜3mWのレーザパワーで信号を再生した際にデー
タ破壊が起こる危険性がある。
Laser power reaching the film surface is 5 to 10 mW [5-inch optical-magnetic disk at 2400 rpm (linear velocity 7.5 to
Recording and erasing are performed by rotating at a speed of 15 m/s), and
In order to perform reproduction with a laser power of 3 mW, the film thickness of the thermal control layer and the Ti content in the An-Ti alloy need to be in the region ▪ in FIG. 10. Above the upper limit of this region 7, a laser power of 10 mW or more is required for erasing at an I&S speed of 15 m/sec (taking into account the track offset margin). Further, below the lower limit of the region (■), there is a risk that data will be destroyed when a signal is reproduced with a laser power of 1 to 3 mW.

またこの前記熱制御層は2記録膜を保護する機能も担っ
ており、その効果は熱制御層の組成と膜厚によって異な
る。An−Ti合金においては。
The thermal control layer also has the function of protecting the second recording film, and its effectiveness varies depending on the composition and thickness of the thermal control layer. In An-Ti alloy.

80’C590%RHのffl境下で1000時間でエ
ラーレートがユXIO〜C以下のままである組成ならび
に膜厚:土第ユO図のンの領域である。、へΩ−Ti合
金中におけるTiの含有率が6原子%以上の領域では、
熱制御層の膜厚が:、OOA以上あれば安定した保護効
果を有する二とが確認されている。、これはTiによる
防蝕効果の現れであり。
The composition and film thickness are in the range of the composition and film thickness in which the error rate remains below UXIO~C for 1000 hours under the ffl condition of 80'C590%RH. , in the region where the Ti content in the Ω-Ti alloy is 6 at% or more,
It has been confirmed that if the thickness of the thermal control layer is equal to or greater than OOA, it has a stable protective effect. , this is a manifestation of the anti-corrosion effect of Ti.

Tiの含有率が6原子9二未満であると防蝕効果が必ず
しも十分でない。よっでAn−Ti合金中におけるTi
の含有率は6原子%以上、膜厚が500Å以上に規制す
る必要がある。
If the Ti content is less than 6 atoms and 92, the corrosion prevention effect is not necessarily sufficient. Therefore, Ti in the An-Ti alloy
It is necessary to control the content to 6 atomic % or more and the film thickness to 500 Å or more.

以上の二とから熱制御層のAl−Ti合金中におけるT
iの含有率は6〜10i子%、膜厚を500Å以上に規
制することにより、記録、消去サイクルの耐久性、記録
、消去、再生パワー特性、ならびに記録膜の保設効の優
れた光−磁気記録媒体を得ることができる。
From the above two points, T in the Al-Ti alloy of the thermal control layer is
By regulating the i content to 6 to 10 i% and the film thickness to 500 Å or more, a light beam with excellent recording and erasing cycle durability, recording, erasing, and reproducing power characteristics, and recording film storage efficiency can be obtained. A magnetic recording medium can be obtained.

第6図ならびに第7図は、本発明の具体例を示す図で、
第6図は密着貼合せ型の光−磁気記録媒体、第7図はエ
アサンドインチ型の光−磁気記録媒体を示し1図中の1
1.12は記録ディスク、13は第1図に示す冬服3〜
6を有する積W!膜、14は接着剤層、iDL内周スペ
ーサ、16は外周スペーサ、17は空隙である。
FIG. 6 and FIG. 7 are diagrams showing specific examples of the present invention,
Figure 6 shows a closely bonded type optical-magnetic recording medium, and Figure 7 shows an air sandwich type optical-magnetic recording medium.
1.12 is a recording disk, 13 is winter clothes 3~ shown in Figure 1.
Product W with 6! 14 is an adhesive layer, iDL inner spacer, 16 is outer spacer, and 17 is a gap.

前記実施例では熱制御層としてAl−Ti合金の場合に
ついて説明したが、 AL Ag、Au+Cu、Beの
グループから選択された少なくとも]種の金属元素と、
Cr、Ti、Ta、Sn+Si、Rb、Pt、Nb、M
o、Mg、W、Zrのグループから選択された少なくと
も1種の金属元素との合金において熱伝導率を0.1≦
に≦2.0とした熱制御層であれば、前記実施例と同様
の効果が得られる。
In the above embodiments, the thermal control layer is made of an Al-Ti alloy.
Cr, Ti, Ta, Sn+Si, Rb, Pt, Nb, M
In an alloy with at least one metal element selected from the group consisting of o, Mg, W, and Zr, the thermal conductivity is 0.1≦
As long as the thermal control layer has a temperature of ≦2.0, the same effects as in the above embodiment can be obtained.

つぎに具体的な実施例について各実施例間の性能比較に
ついて説明する。
Next, a performance comparison between each example will be explained regarding specific examples.

(実施例1) 第1エンハンス膜(SiN)     800人光−磁
気記録FA (Tb−F e−Co) 400人第2エ
ンハンス膜(SiN)     200人熱制御、fi
i’(Ti含有率7原子%のAl−Ti合金)    
            750人(実施例2) 第1エンハンス膜(S i N)     800人光
−磁気記録膜(Tb−Fe−Co)400人第2エンハ
ンス膜(SiN)     200人熱制御層(Ti含
有率1o原子%のAl−Ti合金)         
     750人(実施例3) 第1エンハンス膜(S i N)     B Q O
人光−磁気記録膜(Tb−Fe−Co)400人第2エ
ンハンス膜(SユN)      200A熱制御JW
(Ti含有率12原子%のAl−Ti合金)     
          750人第11図は、本発明が適
用できるAl1−Ag合金組成とその合金の熱伝導率と
の関係を示す特性図、第12図はさらに、Cu−Ti合
金組成とその合金の熱伝導率との関係を示す特性図であ
る。
(Example 1) First enhancement film (SiN) 800 people Optical-magnetic recording FA (Tb-Fe-Co) 400 people Second enhancement film (SiN) 200 people Thermal control, fi
i' (Al-Ti alloy with Ti content of 7 at%)
750 people (Example 2) First enhancement film (SiN) 800 people Optical-magnetic recording film (Tb-Fe-Co) 400 people Second enhancement film (SiN) 200 people Thermal control layer (Ti content 1o atoms % Al-Ti alloy)
750 people (Example 3) First enhancement film (S i N) B Q O
Human optical-magnetic recording film (Tb-Fe-Co) 400 people 2nd enhancement film (SUN) 200A thermal control JW
(Al-Ti alloy with Ti content of 12 at%)
750 people Figure 11 is a characteristic diagram showing the relationship between the Al1-Ag alloy composition to which the present invention can be applied and the thermal conductivity of that alloy, and Figure 12 further shows the relationship between the Cu-Ti alloy composition and the thermal conductivity of that alloy. FIG.

これらAρ−Ag合金ならびにCu−Ti合金を熱制御
層として使用し、それの熱伝導率の範囲を規制すること
により、同様の効果な得る二とができる。
Similar effects can be obtained by using these Aρ-Ag alloys and Cu-Ti alloys as a thermal control layer and regulating the range of their thermal conductivity.

[発明の効果] 前記各実施例における光−磁気ディスクの消去特性を第
8図に示す。この図から明らかなように、各実施例にお
ける光−磁気ディスクとも低いレーザパワーで十分であ
る。
[Effects of the Invention] FIG. 8 shows the erasing characteristics of the opto-magnetic disk in each of the above embodiments. As is clear from this figure, low laser power is sufficient for both the opto-magnetic disks in each embodiment.

第9図は、実施例1における光−磁気ディスクのキャリ
アレベルの特性図である。この匡から明らかなように本
発明のものは、記録、消去を多数回繰り返しても信号の
減衰がほとんど起こらず、信頼性の高い光−磁気記録媒
体が提供できる。
FIG. 9 is a characteristic diagram of the carrier level of the opto-magnetic disk in Example 1. As is clear from this box, in the present invention, even if recording and erasing are repeated many times, signal attenuation hardly occurs, and a highly reliable optical-magnetic recording medium can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の実施例に係る光−磁気記録媒体の拡
大断面図。 第2図は、光−磁気記録膜にレーザビームを照射したと
きの温度分布を説明するための図。 第3図は、A11−Ti合金中のTi含有率と光−磁気
記i膜にレーザビームを照射したときの中央部温度との
関係を示す特性図。 第4図は、、Aff−Ti合金中のTi含有率とその合
金の熱伝導率との関係を示す特性図、第5図は、Al−
Ti合金中のTi含有率と記録、再生サイクル後におニ
ブる搬送波レベルの低下との関係を示す特性図、 第6図ならびに第7図は1本発明の具体例に係る光−磁
気記録媒体の断面図、 第8図は、本発明の各実施例における光−磁気記録媒体
の再生信号出力特性図。 第9図は、本発明の実施例1における光−磁気記録媒体
のキャリアレベルの特性図、 第10図は、Al−Ti合金中のTi含有率ならびにそ
の合金の熱伝導率と、膜厚との関係を示す特性図、 第11@は、へΩ−Ag合金組成とその合金の熱伝導率
との関係を示す特性図。 第12図は、Cu−Ti合金組成とその合金の熱伝導率
との関係を示す特性図である。 第1図 1・・・・・・透明基板、2・・・・・・信号面、3・
・・ 第1エンハンス膜、4・ 光−磁気記録膜、5・
・・第2エンハンス膜、6・・・・・・温度制御層。 1゜ 2゜ 3、。 4、。 5、。 6、。 、透明基板 、信号面 、第1エンハンス膿 、光−磁気記録層 、第2エンハンス膜 、熱制御層 第 図 第 図 !3 第 図 第 図 第 図 消去レーザーパワー (mW) 第 図 記録、消去繰り返し回数 (ロ) 第 図 T1含有率 (0士% ) + 0.50.30.2 0.15 0.1 熱伝導率K [W/crrrdegコ
FIG. 1 is an enlarged sectional view of an opto-magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a diagram for explaining the temperature distribution when the optical-magnetic recording film is irradiated with a laser beam. FIG. 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the Ti content in the A11-Ti alloy and the central temperature when the opto-magnetic recording film is irradiated with a laser beam. Fig. 4 is a characteristic diagram showing the relationship between the Ti content in the Aff-Ti alloy and the thermal conductivity of the alloy, and Fig. 5 is a characteristic diagram showing the relationship between the Ti content in the Aff-Ti alloy and the thermal conductivity of the alloy.
FIGS. 6 and 7 are characteristic diagrams showing the relationship between the Ti content in the Ti alloy and the decrease in the nib carrier wave level after recording and reproducing cycles. FIG. 8 is a cross-sectional view, and FIG. 8 is a reproduction signal output characteristic diagram of the optical-magnetic recording medium in each embodiment of the present invention. FIG. 9 is a characteristic diagram of the carrier level of the opto-magnetic recording medium in Example 1 of the present invention. FIG. 10 is a graph showing the Ti content in the Al-Ti alloy, the thermal conductivity of the alloy, and the film thickness. 11th is a characteristic diagram showing the relationship between the Ω-Ag alloy composition and the thermal conductivity of the alloy. FIG. 12 is a characteristic diagram showing the relationship between the Cu-Ti alloy composition and the thermal conductivity of the alloy. Fig. 1 1...Transparent substrate, 2...Signal surface, 3.
・・ First enhancement film, 4. Optical-magnetic recording film, 5.
...Second enhancement film, 6...Temperature control layer. 1゜2゜3. 4. 5. 6. , transparent substrate, signal surface, first enhancement layer, optical-magnetic recording layer, second enhancement film, thermal control layer. 3 Figure Figure Figure Figure Erasing laser power (mW) Figure Number of recording and erasing repetitions (B) Figure T1 content (0%) + 0.50.30.2 0.15 0.1 Thermal conductivity K [W/crrrdegko

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)透明基板と、その透明基板の上方に形成された光
−磁気記録膜と、その光−磁気記録膜の上方に形成され
た熱制御層とを有し、その熱制御層の常温における熱伝
導率にが0.1〜2.0[W/Cm・deg]の範囲に
規制されていることを特徴とする光−磁気記録媒体。
(1) It has a transparent substrate, an optical-magnetic recording film formed above the transparent substrate, and a thermal control layer formed above the optical-magnetic recording film, and the thermal control layer is kept at room temperature. An optical-magnetic recording medium characterized in that its thermal conductivity is regulated within a range of 0.1 to 2.0 [W/Cm·deg].
(2)請求項(1)記載において、前記熱制御層が、A
l、Ag、Au、Cu、Beのグループから選択された
1種以上の金属元素と、Cr、Ti、Ta、Sn、Si
、Rb、Pe、Nb、Mo、Li、Mg、W、Zrのグ
ループから選択された1種以上の金属元素との合金で構
成されていることを特徴とする光−磁気記録媒体。
(2) In claim (1), the thermal control layer comprises A
one or more metal elements selected from the group consisting of 1, Ag, Au, Cu, and Be, and Cr, Ti, Ta, Sn, and Si.
, Rb, Pe, Nb, Mo, Li, Mg, W, and Zr.
(3)請求項(2)記載において、前記熱制御層がAl
−Tiの合金から構成され、その合金中におけるTiの
含有率が6〜10原子%の範囲に規制されていることを
特徴とする光−磁気記録媒体。
(3) In claim (2), the thermal control layer is made of Al.
- An optical-magnetic recording medium comprising an alloy of Ti, wherein the content of Ti in the alloy is regulated within a range of 6 to 10 at.%.
(4)請求項(1)、請求項(2)または請求項(3)
記載において、前記熱制御層の膜厚が500〜1000
Åの範囲に規制されていることを特徴とする光−磁気記
録媒体。
(4) Claim (1), Claim (2) or Claim (3)
In the description, the thickness of the thermal control layer is 500 to 1000.
An optical-magnetic recording medium characterized in that the recording medium is regulated within a range of Å.
(5)請求項(1)、請求項(2)、請求項(3)また
は請求項(4)記載において、前記光−磁気記録膜が非
晶質の垂直磁化膜からなり、下式の組成を有しているこ
とを特徴とする光−磁気記録媒体。 Tb_XFe_(_1_0_0_−_X_−_Y_−_
Z_)Co_YM_Z式中のX、Y、Zは原子%で、1
5≦X≦30、5≦Y≦15、0≦Z≦10 M=Nb、Cr、Pt。
(5) In claim (1), claim (2), claim (3), or claim (4), the optical-magnetic recording film is composed of an amorphous perpendicularly magnetized film, and has a composition of the following formula: An optical-magnetic recording medium comprising: Tb_XFe_(_1_0_0_-_X_-_Y_-_
Z_)Co_YM_Z In the formula, X, Y, and Z are atomic %, and 1
5≦X≦30, 5≦Y≦15, 0≦Z≦10 M=Nb, Cr, Pt.
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