JPH049222U - - Google Patents
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- JPH049222U JPH049222U JP4920790U JP4920790U JPH049222U JP H049222 U JPH049222 U JP H049222U JP 4920790 U JP4920790 U JP 4920790U JP 4920790 U JP4920790 U JP 4920790U JP H049222 U JPH049222 U JP H049222U
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- JP
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- cleaning
- ultrasonic
- casing
- cleaning liquid
- deburring
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- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 25
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 20
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- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 8
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
Description
添付図面は本発明の実施例を示しており、第１
図〜第３図は超音波洗浄、バリ取り装置の第１実
施例を示し、第１図はその全体構成図、第２図は
第１図に於ける脱気手段の構成を示す断面図、第
３図は第２図のＸ−Ｘ′線に沿う断面図であり、
第４図、第５図は超音波洗浄、バリ取り装置の第
２実施例を示し、第４図はその全体構成図、第５
図は第４図に於けるスプレーノズルの構成を示す
断面図である。 尚、図中符号は、１……超音波洗浄、バリ取り
装置、２……洗浄液、３……ワーク、４ａ，４ｂ
……フイルター、５……脱気手段、６……ケーシ
ング、７……気体分離要素、８……一次側、９…
…二次側、１０……気体分離膜の中空部分、１１
……真空ポンプ、１３……槽、１４……主洗浄槽
、１５……超音波発振器、１６……底壁、１７…
…整流部、３０……スプレーノズル、３２……底
部、をそれぞれ示す。
図〜第３図は超音波洗浄、バリ取り装置の第１実
施例を示し、第１図はその全体構成図、第２図は
第１図に於ける脱気手段の構成を示す断面図、第
３図は第２図のＸ−Ｘ′線に沿う断面図であり、
第４図、第５図は超音波洗浄、バリ取り装置の第
２実施例を示し、第４図はその全体構成図、第５
図は第４図に於けるスプレーノズルの構成を示す
断面図である。 尚、図中符号は、１……超音波洗浄、バリ取り
装置、２……洗浄液、３……ワーク、４ａ，４ｂ
……フイルター、５……脱気手段、６……ケーシ
ング、７……気体分離要素、８……一次側、９…
…二次側、１０……気体分離膜の中空部分、１１
……真空ポンプ、１３……槽、１４……主洗浄槽
、１５……超音波発振器、１６……底壁、１７…
…整流部、３０……スプレーノズル、３２……底
部、をそれぞれ示す。
補正 平２．７．３１
考案の名称を次のように補正する。
考案の名称 超音波洗浄、バリ取り装置
実用新案登録請求の範囲、図面の簡単な説明を
次のように補正する。
次のように補正する。
【実用新案登録請求の範囲】
(1) 脱気した洗浄液２を超音波洗浄、バリ取り
装置１に供給し、上記洗浄液２に対して超音波を
放射することによつてキヤビテーシヨンを発生さ
せ、その作用を利用してワーク３の洗浄、バリ取
りを行う超音波洗浄、バリ取り装置１に於て、 上記洗浄液２をワーク３の洗浄、バリ取りに使
用後、フイルター４で濾過し、次いで脱気手段５
によつて含有気体を除去し、再び超音波洗浄、バ
リ取り装置１に供給する様に成すと共に、上記脱
気手段５はケーシング６とケーシング６内に納め
られた複数の中空糸状の気体分離膜より成る気体
分離要素７より成り、ケーシング６の一次側８か
ら入つた洗浄液２を上記気体分離要素７を構成す
る気体分離膜の中空部分１０へ通し、ケーシング
６の二次側９から吐出する過程で上記ケーシング
６に連なる真空ポンプ１１によつて吸気すること
により気体分離要素７を構成する気体分離膜の中
空部分１０を通る洗浄液２の含有気体を真空除去
し、よつて洗浄液２の脱気を行う様にしたことを
特徴とする超音波洗浄、バリ取り装置。 (2) 上記超音波洗浄、バリ取り装置１は槽１３
と上記槽１３の底壁１６に配設された超音波発振
器１５を含む領域に主洗浄槽１４を設け、ワーク
３の洗浄を行うと共に、ワーク３の投入によつて
オーバーフローした洗浄液２及び主洗浄槽１４内
の洗浄液２を脱気手段５のケーシング６の一次側
８に送り、脱気を行つた後、上記ケーシング６の
二次側９から整流部１７を介して主洗浄槽１４へ
再び供給し、ワーク３の洗浄を行う事を特徴とす
る請求項第１項記載の超音波洗浄、バリ取り装置
。 (3) 上記、超音波洗浄、バリ取り装置１は、上
記脱気手段５のケーシング６の二次側９から供給
される脱気された洗浄液２を底部３２に超音波発
振器１５を有するスプレーノズル３０から放出し
、ワークの洗浄、バリ取り行う事を特徴とする請
求項第１項記載の超音波洗浄、バリ取り装置。
装置１に供給し、上記洗浄液２に対して超音波を
放射することによつてキヤビテーシヨンを発生さ
せ、その作用を利用してワーク３の洗浄、バリ取
りを行う超音波洗浄、バリ取り装置１に於て、 上記洗浄液２をワーク３の洗浄、バリ取りに使
用後、フイルター４で濾過し、次いで脱気手段５
によつて含有気体を除去し、再び超音波洗浄、バ
リ取り装置１に供給する様に成すと共に、上記脱
気手段５はケーシング６とケーシング６内に納め
られた複数の中空糸状の気体分離膜より成る気体
分離要素７より成り、ケーシング６の一次側８か
ら入つた洗浄液２を上記気体分離要素７を構成す
る気体分離膜の中空部分１０へ通し、ケーシング
６の二次側９から吐出する過程で上記ケーシング
６に連なる真空ポンプ１１によつて吸気すること
により気体分離要素７を構成する気体分離膜の中
空部分１０を通る洗浄液２の含有気体を真空除去
し、よつて洗浄液２の脱気を行う様にしたことを
特徴とする超音波洗浄、バリ取り装置。 (2) 上記超音波洗浄、バリ取り装置１は槽１３
と上記槽１３の底壁１６に配設された超音波発振
器１５を含む領域に主洗浄槽１４を設け、ワーク
３の洗浄を行うと共に、ワーク３の投入によつて
オーバーフローした洗浄液２及び主洗浄槽１４内
の洗浄液２を脱気手段５のケーシング６の一次側
８に送り、脱気を行つた後、上記ケーシング６の
二次側９から整流部１７を介して主洗浄槽１４へ
再び供給し、ワーク３の洗浄を行う事を特徴とす
る請求項第１項記載の超音波洗浄、バリ取り装置
。 (3) 上記、超音波洗浄、バリ取り装置１は、上
記脱気手段５のケーシング６の二次側９から供給
される脱気された洗浄液２を底部３２に超音波発
振器１５を有するスプレーノズル３０から放出し
、ワークの洗浄、バリ取り行う事を特徴とする請
求項第１項記載の超音波洗浄、バリ取り装置。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本考案の実施例を示しており、第１
図〜第３図は超音波洗浄、バリ取り装置の第１実
施例を示し、第１図はその全体構成図、第２図は
第１図に於ける脱気手段の構成を示す断面図、第
３図は第２図のＸ−Ｘ′線に沿う断面図であり、
第４図、第５図は超音波洗浄、バリ取り装置の第
２実施例を示し、第４図はその全体構成図、第５
図は第４図に於けるスプレーノズルの構成を示す
断面図である。 尚、図中符号は、１……超音波洗浄、バリ取り
装置、２……洗浄液、３……ワーク、４ａ，４ｂ
……フイルター、５……脱気手段、６……ケーシ
ング、７……気体分離要素、８……一次側、９…
…二次側、１０……気体分離膜の中空部分、１１
……真空ポンプ、１３……槽、１４……主洗浄槽
、１５……超音波発振器、１６……底壁、１７…
…整流部、３０……スプレーノズル、３２……底
部、をそれぞれ示す。
図〜第３図は超音波洗浄、バリ取り装置の第１実
施例を示し、第１図はその全体構成図、第２図は
第１図に於ける脱気手段の構成を示す断面図、第
３図は第２図のＸ−Ｘ′線に沿う断面図であり、
第４図、第５図は超音波洗浄、バリ取り装置の第
２実施例を示し、第４図はその全体構成図、第５
図は第４図に於けるスプレーノズルの構成を示す
断面図である。 尚、図中符号は、１……超音波洗浄、バリ取り
装置、２……洗浄液、３……ワーク、４ａ，４ｂ
……フイルター、５……脱気手段、６……ケーシ
ング、７……気体分離要素、８……一次側、９…
…二次側、１０……気体分離膜の中空部分、１１
……真空ポンプ、１３……槽、１４……主洗浄槽
、１５……超音波発振器、１６……底壁、１７…
…整流部、３０……スプレーノズル、３２……底
部、をそれぞれ示す。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 脱気した洗浄液２を超音波洗浄、バリ取り
装置１に供給し、上記洗浄液２に対して超音波を
放射することによつてキヤビテーシヨンを発生さ
せ、その作用を利用してワーク３の洗浄、バリ取
りを行う超音波洗浄、バリ取り装置１に於て、 上記洗浄液２をワーク３の洗浄、バリ取りに使
用後、フイルター４で濾過し、次いで脱気手段５
によつて含有気体を除去し、再び超音波洗浄、バ
リ取り装置１に供給する様に成すと共に、上記脱
気手段５はケーシング６とケーシング６内に納め
られた複数の中空糸状の気体分離膜より成る気体
分離要素７より成り、ケーシング６の一次側８か
ら入つた洗浄液２を上記気体分離要素７を構成す
る気体分離膜の中空部分１０へ通し、ケーシング
６の二次側９から吐出する過程で上記ケーシング
６に連なる真空ポンプ１１によつて吸気すること
により気体分離要素７を構成する気体分離膜の中
空部分１０を通る洗浄液２の含有気体を真空除去
し、よつて洗浄液２の脱気を行う様にしたことを
特徴とする超音波洗浄、バリ取り装置。 (2) 上記超音波洗浄、バリ取り装置１は槽１３
と上記槽１３の底壁１６に配設された超音波発振
器１５を含む領域に主洗浄槽１４を設け、ワーク
３の洗浄を行うと共に、ワーク３の投入によつて
オーバーフローした洗浄液２及び主洗浄槽１４内
の洗浄液２を脱気手段５のケーシング６の一次側
８に送り、脱気を行つた後、上記ケーシング６の
二次側９から整流部１７を介して主洗浄槽１４へ
再び供給し、ワーク３の洗浄を行う事を特徴とす
る請求項第１項記載の超音波洗浄、バリ取り装置
。 (3) 上記、超音波洗浄、バリ取り装置１は、上
記脱気手段５のケーシング６の二次側９から供給
される脱気された洗浄液２を底部３２に超音波発
振器１５を有するスプレーノズル３０から放出し
、ワークの洗浄、バリ取り行う事を特徴とする請
求項第１項記載の超音波洗浄、バリ取り装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990049207U JP2512342Y2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 超音波洗浄、バリ取り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990049207U JP2512342Y2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 超音波洗浄、バリ取り装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH049222U true JPH049222U (ja) | 1992-01-27 |
| JP2512342Y2 JP2512342Y2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=31566699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990049207U Expired - Lifetime JP2512342Y2 (ja) | 1990-05-11 | 1990-05-11 | 超音波洗浄、バリ取り装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2512342Y2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501118A (ja) * | 2003-08-01 | 2007-01-25 | ステリス インク | 再処理装置用フィルタアセンブリ |
| JP2015058544A (ja) * | 2013-09-17 | 2015-03-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置および液体供給方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5081064U (ja) * | 1973-11-26 | 1975-07-12 | ||
| JPS5128261A (ja) * | 1974-09-03 | 1976-03-10 | Takuzo Ichihara | Datsukisochi |
| JPS61205800U (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-25 | ||
| JPS63103786U (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-05 |
-
1990
- 1990-05-11 JP JP1990049207U patent/JP2512342Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5081064U (ja) * | 1973-11-26 | 1975-07-12 | ||
| JPS5128261A (ja) * | 1974-09-03 | 1976-03-10 | Takuzo Ichihara | Datsukisochi |
| JPS61205800U (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-25 | ||
| JPS63103786U (ja) * | 1986-12-22 | 1988-07-05 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007501118A (ja) * | 2003-08-01 | 2007-01-25 | ステリス インク | 再処理装置用フィルタアセンブリ |
| JP2015058544A (ja) * | 2013-09-17 | 2015-03-30 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置および液体供給方法 |
| US20160075145A1 (en) * | 2013-09-17 | 2016-03-17 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting apparatus and liquid supply method |
| US9827779B2 (en) * | 2013-09-17 | 2017-11-28 | Seiko Epson Corporation | Liquid ejecting apparatus and liquid supply method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2512342Y2 (ja) | 1996-10-02 |
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