JPH0491094A - 新規なシクロブタン誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、例えば抗ウィルス薬、制癌剤等の医薬として
期待される新規核酸誘導体に関する。

［従来の技術］ 核酸関連物質には抗ウィルス作用あるいは制癌作用を持
つものが数多く知られており、そのうちいくつかのもの
は有用な医薬品として臨床に供されている。例えば抗ウ
ィルス剤としてはビダラビ：／　（Ｍ、Ｐｒ１ｖａｔ　
ｄａ　Ｇａｒｉｌｈｅ　ａｎｄ　Ｊ、ｄｅ　Ｒｕｂｂｅ
ｒ、　Ｃ，Ｒ。

Ａｃａｄ、Ｓｏｃ、Ｄ（Ｐａｒｉｓ）２５９．２７２５
（１９６４））、アシクロビル（Ｇ、Ｂ、Ｅｌｉｏｎ　
ａｔ　ａｌ、、　Ｐｒｏｃ、Ｎａｔｌ、Ａｃａｄ、Ｓｃ
ｉ、ＵＳＡ７４、５Ｎ６　（２９７７））、アジドチミ
ジン（Ｈ，Ｍｉｔｓｕｙａ　ｅｔａｌ、、　Ｐｒｏｃ、
Ｎａｔｌ、＾ｃａｄ、ｓｃｉ、ＵｓＡ、　８２．７０９
６（１９８５））等が知られている。また、制癌剤とし
ては５−フルオロウラシル、シトシンアラビノシド等が
知られている。

［発明が解決しようとする課Ｍ］ しかしながら、上記抗ウィルス薬は適用範囲が狭く、ま
た溶解度、経口吸収性、代謝等の影響により投与方法が
限られる、才た、骨髄毒等の副作用のため長期投与が困
難である等問題点を多く残している。また、後天性免疫
不全症候群（Ａ　Ｉ　ＤＳ）、成人Ｔ細胞白血病（ＡＴ
Ｌ）等悪性なウィルス病が増加の傾向にあることから、
新たな抗ウィルス藁の開発が望まれている。

また、上記制癌剤についても適用範囲、副作用などに問
題を多く残している。

［！Ｊ題を解決するための手段］ 本発明は、一般式（１） ［式中臼は核酸塩基誘導体であり、Ｒ１は水素、保護さ
れていても良い水酸基または、保護されていても良いヒ
ドロキシメチル基を示す。Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立
に水素、置換または無置換アルキル基またはアリール基
を示す］ で表される新規シクロブタン誘導体及びこれら化合物の
生理学的に許容される塩に関する。

一般式（１）において、Ｂの核酸塩基誘導体としては、
例えばプリン塩基やピリミジン塩基及びこれらに保護基
が付いているものが挙げられる。

プリン塩基としては、例えば式 ［ここで、Ｙは水素、アミノ基、及び塩素、臭素、フッ
素等のハロゲンを示し、Ｒ５は、メチル基、エチル基、
ブチル基、メトキシエチル基、ベンジル基等のアルキル
基を示す］ で示される化合物が挙げられる。ピリミジン塩基として
は例えば、 ［ここで、Ｒ６は、水素、メチル基、エチル基、ブチル
基、ベンジル基等のアルキル基、２−ブロモビニル、２
−ヨウトビニル等のビニル基、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素等のハロゲンを示す］で示きれる化合物が挙げられ
る。

保護きれていても良い水酸基または、保護されていても
良いヒドロキシメチル基に存在する保護基とは、一般に
保護基として使用されるものなら特に制限なく、エステ
ル型保護基例えば、アセチル基、ベンゾイル基等のアシ
ル基、ジメチルカルバモイル基、ジフェニルカルバモイ
ル基等のカルバモイル基または、エーテル型保護基例え
ば、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニ
ルシリル基等のシリル基または、メトキシメチル基等の
（ＣＩ−Ｃ４アルコキシ）ＣＩ−Ｃ４アルキル基、テト
ラヒドロピラニル基、ベンジル基、４−メトキシベンジ
ル基、トリチル基等の１つ以上の置換荻たは無置換フェ
ニル基で置換されたメチル基が挙げられる。

無置換アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基
、オクチル基、オフタテシル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基等の直鎖状または、分枝鎖状アルキル基が挙げ
られる。置換アルキル基としては、例えばベンジル基、
フェネチル基、ｐ　−メトキシベンジル基等の７リール
基置換アルキル基、ヒドロキシエチル基等の水酸基置換
アルキル基、アセトキシプロピル基等のアシルオキシ基
置換アルキル基、ジメチルアミノプロピル基等のアミノ
基置換アルキル基、トリフルオロエチル基などのハロゲ
ン置換アルキル基などが挙げられる。

無置換アリール基としては、フェニル基、ピリジル基な
どが挙げられ、置換アリール基としては、ｐ−メトキシ
フェニル基、０−クロロフェニル基、２．４−ジメチル
フェニル基などフェニル基に１つまたは２つ以上の置換
基が存在するものが挙げられる。

また、生理学的に許容される塩とは、ナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属塩、カルシウム、マグネシウム等
のアルカリ土類金属塩、アンモラム塩、置換アンモニウ
ム塩、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸塩、酢酸、フマル酸、
マレイン酸、酒石酸、メタンスルフォン酸等の有機酸塩
が挙げられる。

船底（１）で示される化合物の具体例を次に示す。なお
ここに示した化合物について存在する全ての異性体、光
学活性体、ラセミ体を含む。また、塩についてはここに
示していない。

１．９−　［３−（ジヒドロキシフォスフォリル）メチ
ル−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル］アテニ
ン ２．９−［３−（ジヒドロキシフォスフォリル）メチル
−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチルコグアニン ９−　［３−（ジヒドロキシフォスフオリル）メチル−
２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル〕ヒボキサン
チン ２−アミノ−９−［３−（ジヒドロキシフォスフォリル
）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シフ０ブチル］
プリン ２−アミノ−９−［３−（ジヒドロキシフォスフォリル
）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル］
−６−クロロプリン ６゜２．６−ジアミツー９−　［３−（ジヒドロキシフ
ォスフォリル）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シ
クロブチル］プリン１−　［３−（ジヒドロキシフォス
フォリル）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シクロ
ブチルコ−２，４（Ｉｔ−１，３）（）−ピリミジンジ
オン １−　［３−（ジヒドロキシフォスフォリル）メチル−
２−ヒドロキシメチル−１−シフ０ブチル］−５−メチ
ル−２，４（ＩＨ３Ｈ）−ピリミジンジオン ９．１−［３−（ジヒドロキシフォスフォリル）メチル
−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチルコー５−ヨ
ード−２，４（ＩＨ３Ｈ）−ピリミジンジオン １０．５−（２−ブロモビニル）−１−［３−（ジヒド
ロキシフォスフォリル）メチル−２−ヒトＯキシメチル
ー１−シクロブチル］２、　４　（ＩＨ，３Ｈ）−ビリ
ミジンジ第ン ４−アミノ−１ｒ３　　（ジヒドロキシフォスフォリル
）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル］
−２（ｉＨ）ピリミジノン ９−　［３−［２−（ジヒドロキシフォスフォリル）エ
チルコーク−ヒドロキシメチル１−シクロプチルコアデ
ニン ９−　［３−［２−（ジヒドロキシフォスフォリル）エ
チルコー２−ヒドロキシメチル＝１−シクロブチルコグ
アニン １４．９−［３−［２−（ジヒドロキシフオスフォリル
）エチル］−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル
］ヒボキサンチン １５．２−アミノ−９−［３−［２−（ジヒドロキシフ
ォスフォリル）エチル］−２−ヒドロキシメチル−１−
シクロブチルコブリン１６２−アミノ−９−［３−［２
−（ジヒドロキシフオスフオリル）エチル］−２−ヒド
ロキシメチル−１−シクロブチル］−６−クロロプリン ＋７．２．６−ジアミツー９−　［３−［２−（ジヒド
ロキシフオスフオリル）エチル］−２−ヒドロキシメチ
ル−１−シクロブチルコブリン １８．１−　［３−［２−（ジヒドロキシフオスフォリ
ル）エチル］−２−ヒドロキシメチル１−シクロブチル
］−２，４（＋Ｈ，３日）−ピリミジンジオン ＋　９．　４−　［３−［２−（ジヒドロキシフオスフ
ォリル）エチルコーク−ヒドロキシメチル−１−シクロ
ブチルヨー５−メチル−２４（ｉＨ，３Ｈ）−ピリミジ
ンジオン ２０．４−　［３−［２−（ジヒドロキシフオスフォリ
ル）エチル］−２−ヒドロキシメチル＝１−シクロブチ
ルヨー５−ヨード−２４（ｌ）−１，３Ｈ）−ピリミジ
ンジオン２１゜５−（２−ブロモビニル）−１−［３［
２−（ジヒドロキシフオスフオリル）エチル］−２−ヒ
ドロキシメチル−１−シクロブチルコ−２，４（ｉＨ，
３Ｈ）−ピリミジンジオン ２２．４−アミノ−＋−［３−［２−（ジヒドロキシフ
ォスフォリル）エチル］−２−ヒドロキシメチル−１−
シクロブチル］−２（１日）−ピリミジノン 本発明化合物の一般式（１）で表される化合物は、例え
ば、一般式（１１） ［式中、×は脱離基を示し、Ｒ１は水素、保護されてい
ても良い水酸基または、保護されていても良いヒドロキ
シメチル基を示す。Ｒ２及びＲＳはそれぞれ独立に水素
、置換または無置換アルキル基またはアリール基を示す
。ｎは１〜３を示す］で表わされる化合物と核酸塩基誘
導体とを反応することにより得られる一般式（１■） ［式中、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基誘導体を
示しＲ１は水素、保護されていても良い水酸基または、
保護されていても良いヒドロキシメチル基を示す。Ｒ２
及びＲ３はそれぞれ独立に水素、置換または無置換アル
キル基またはアリール基を示す。ｎは１〜３を示す］ で表される化合物に保護基または、容易に脱離する置換
基が存在する場合は、所望によりその保護基等を除去す
る或いは所望のＲ２及びＲ３を導入することにより製造
される。

一般式（１１）に於ける脱離基（×）としては、例えば
、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−１−ルエンスルホニ
ルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基等
のスルホニルオキシ基、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲ
ン等容易に脱離する置換基が挙げられる。

核酸塩基誘導体としては、例えばアデニン、ヒボキサン
チン、グアニン、２−アミノ−６−クロロプリン、２−
アミノプリン、２６−シアミツプリン、２−アミノ−６
−ニトキシプリン、２アミノ−６−（２−メトキシエト
キシ）プリン等のプリン型塩基が挙げられる。これらの
化合物は保護基を有していても良い。例えば一般式（ｖ
ｌ）［式中、Ｒ７は水素または保護基を示す。Ｙｌは水
素またはＮＨＲ７を示し、Ｙ２はＹｌまたはＯＲ６を示
す。Ｒ８はベンジル基、ブチル基等ＣＩ−Ｃ５の低級ア
ルキル基、メ′トキシエチル基等の（ＣＩ−ＣＳアルコ
キシ）ＣＩ−Ｃ５アルキル基、或いはＲ７を示す］ に示されるような化合物、またはウラシル、チミン、シ
トシン、５−ヨードウラシル、５−フルオロウラシル、
５−（２−ブロモビニル）ウラシル等のピリミジン型塩
基が挙げられる。これらの化合物は保護基を有していて
も良い。例えば−放火［式中、Ｙ５はＯＲ７、Ｙ４はＹ
５またはＮＨＲ７を示す。Ｒ７は水素または保護基を示
す。Ｒ９は水素、メチル基、エチル基、ブチル基、ベン
ジル基等のアルキル基、２−ブロモビニル、２−ヨウド
ビール等のビニル基、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等の
ハロゲンを示すコ を挙げることができる。

一般式（１１）で表される化合物と、核酸塩基、例えば
−放火（■１）または（Ｖ＋＋　）の化合物との反応に
於て、−放火（１１）の化合物と例えば−放火（ｖｌ）
または（■１）の化合物の使用割合は、前者１当量に対
し後者的０．５−１０倍当量、好ましくは約１−５当Ｍ
程度が良い。又、両者の反応は、塩基触媒存在下にある
いは無触媒の何れかで行なわれる。塩基触媒存在下の反
応としては、炭酸カリウム、水素化リチウム、水素化ナ
トリウム等を用い、Ｎ、　　Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、１．
３−ジメチル−２−イミダゾリノン、ヘキサメチルフォ
スフォリツク　トリアミド（ＨＭ　Ｐ　Ａ）等の溶媒中
、０℃から溶媒の還流温度、好ましくは、室温付近から
１７０℃程度で行なわれる。塩基触媒の使用量は、例え
ば−放火（ｖｌ）または（Ｖｌｌ　）の化合物に対して
０当量から２倍当量・　好ましくは・０１から２倍当量
程度、さらに好ましくは、０３から１２倍当量程度がよ
い。

また、−放火（１ｖ）で示される化合物の保護基及び容
易に脱離する基の除去は、その保護基の這いにより適当
な脱保護試剤、或いは、脱保護方法を用いることで達成
される。例えば、水酸化ナトリウム、ナトリウムメチラ
ート、アンモニア等のアルカリ、塩酸、硫酸等の酸、三
塩化ホウ素、三フッ化ホウ素等のルイス酸、臭化トリメ
チルシリル、ヨｐ化トリメチルシリル等のシリル化剤、
フッ化テトラブチルアンモニウム等のフッ素試剤、水素
化分解等が挙げられる。

放火（１１）で表される化合物は、例えば以下の反応式
（１）または（２）のように製造できる。

例えば、反応式（１） ％式％（） 反応式（１） Ｕ式中Ｐ１及びＲ２は保護基であり、Ｒ２及びＲ３は放
火（１）と同じ。Ｘは脱離基を示す］に示すように、−
放火（ＩＸ）で表される化合物の水酸基を三臭化リン、
トリフェニルフォスフィンジブロミド等の試薬でハロゲ
ン化（臭素化）するかまたは、メタンスルフォニル化、
ｐ−ｈルエンスルフォニル化等により脱離基を導入し一
般式（Ｘ）で表される化合物へ導いた後、ヨウ化ナトリ
ウム等のヨウ化物存在下或いは非存在下、トリエチルフ
ォスファイト等のトリアルキルフォスファイトと反応さ
せ一般式（×１）で表される化合物を製造する。−放火
（×１）で表される化合物の保護基Ｐ１を選択的に除去
した後、生成する水酸基を脱離基に導く事により一般式
（ｌｌａ）で表され化合物が製造される。また、例えば
反応式（２）％式％） 反応式（２） ｃ式中Ｐ１及びＲ２は保護基であり、Ｒ２及びＲ３は一
般式（１）と同じ。Ｘは脱離基を示す］に従って一般式
（Ｉｌｂ）で表される化合物が製造される。即ち、−放
火（＋Ｘ　）で表される化合物を、ジメチルスルフオキ
シド（ＤＭＳＯ）−塩化オキザリル−トリエチルアミン
等ＤＭＳＯを用いる酸化反応、またはクロロクロム酸ピ
リジニウム（ＰＣＣ）等クロムを用いる酸化反応などで
酸化し、−放火（Ｘ　Ｖ）で表される化合物を得、これ
にジフェニル　トリフェニルフォスフォラニリデンメチ
ルフォスフォネート等の試薬を反応させ一般式（Ｘ　Ｖ
ｌ　）で表される化合物を製造する。−放火（Ｘ　Ｖｌ
　）で表される化合物を接触還元などで還元し一般式（
Ｘ　Ｖｌｌ　）で表される化合物とした後、この化合物
の保護基Ｐ１を選択的に除去した後、生成する水酸基を
脱離基に導く事により一般式（Ｉｌ　ｂ　）で表され化
合物が製造される。

［作用コ 本発明化合物は次の実験例から、強い抗ウィルス作用を
発揮することがわかる。

実験例 ［）ＮＡウィルスである単純ヘルペス１型ウイルス（Ｈ
ＳＶ−１）に対する抗ウィルス作用を下記の方法で試験
した。

（方法） ｅｒｏ細胞（アフリカミドリザル腎細胞由来）の重層を
有する６大のマルチプレートにウィルスＴ　ＯＯ−１５
０Ｐ　Ｆ　Ｕ　（Ｐｌａｑｕｅ　Ｆｏｒｍｉｎｇ　［Ｉ
ｎ１ｔ）を感染させ、３７℃で１時間吸着後、各濃度の
試料を含む寒天培地（１，５％寒天を含むイーグルＭＥ
Ｍ培地）を重層し、３７℃、５％（ｖ／ｖ）の炭酸ガス
フ卵器中で４８時間培養した後プラーク（Ｐｌａｑｕｅ
）の形成を測定し、５０％抑制値（Ｉｃ５ｏ）を求めた
。

実験例の結果を次表に示す。

８４．２ ［効果］ 本発明の一般式（１）で表される化合物は強い抗ウィル
ス作用を持つことから、口唇、性器ヘルペス、帯状庖疹
、免疫抑制時の単純ヘルペスウィルス−１型、２型（Ｈ
ＳＶ−１，１１）、ハ’Ｊ　ｔ　ラゾスターウイルス（
ＶＺＶ）、サイトメガロウィルス（ＣＭＶ）、エプスタ
イン−パールウィルス（ＥＢＶ）感染症、Ｂ型肝炎ウィ
ルス、Ｃ型肝炎ウィルス等によるウィルス性肝炎、ウィ
ルス性呼吸器疾患、ウィルス性消化器疾患、ＡＩＤＳ、
ＡＴＬ等の多くのウィルス性疾患に有効であることが期
待される。また、制癌剤としても期待きれる。

以上のようにして得られた本発明化合物を抗ウィルス剤
或は制癌剤として使用する場合、経口投与、静脈内投与
、経皮投与することができる。投与量は投与する患者の
症状、年齢、投与方法によっても異なるが、通常０．１
−５００ｍｇ／ｋｇＺ日である。本発明化合物は、適当
な製剤用担体と混合して調整した製剤の形で投与される
。製剤の形としては、錠剤・顆粒剤・細粒剤・散剤・カ
ブセル剤・注射剤・クリーム・生布等が用いられる。製
剤中に含まれる有効成分の量は、Ｏ０１％から９９％程
度である。

［実施例］ 次に、実施例を挙げて本発明化合物の製造について具体
的に説明する。

実施例１゜ （Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２，３−ビス（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシメチル）−１−（４−メトキシフェ
ニル）メチルオキシシクロブタンの製造 アルゴン雰囲気下、文献記載（Ｙ、　　ｌｃｈｉｋａｗ
ａ　ｅｔａｔ、、　Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、、　Ｃ
ｈｅｍ、　Ｃｏｍｍｕｎ、、＋９１９　（＋９８９））
の方法で合成した（Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２３−ビス（
ｔ−ブチルジフェニルシリルオキシメチル）−１−シク
ロブタノール（１６，９２＋；１２７．８ｍｍｏｌ）及
び乾燥ヨウ化ナトリウム（４，１６ｇ、２７．８ｍｍｏ
　ｌ）のテトラヒドロフラン（＋　２７ｍ　ｌ）溶液に
、−７８℃で１６２Ｍ−ｎ−ブチルリチウム／ヘキサン
（２０゜６ｍｌ、３３．３ｍｍｏｌ）を滴下し、同温で
３０分間攪拌する。この反応液に、更にヘキサメチルリ
ン酸トリアミド（ＨＭＰＡ）（９，７ｍ５５．６ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、同温で１５分間攪拌した後４−メトキシ
ベンジルクロライド（５７ｍｌ、４１．７ｍｍｏｌ）を
加え、同温から室温で一晩攪拌する。反応液に０．２Ｍ
−リン酸緩衝液（１）　Ｈ７）　　（２６０ｍ　１．　
）を加え、しばらく攪拌した後、エーテルで抽呂する。

エーテル抽比液は２回水洗後飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残渣は
シリカゲルカラムクロマトグラフィ＝（酢酸エチル　ヘ
キサン＝＝Ｉ　：　１５．ｖ／ｖ）で精製し、（ＩＳ、
２Ｓ、３Ｓ）−２，３−ビス（ｔ−ブチルジフェニルシ
リルオキシメチル）−＋−（４−メトキシフェニル）メ
チルオキシシクロブタン（＋８．７９９．９３％）を得
る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）　　
ろ：１．０３　（１ｇ）１．　ｓ） ２、０１−２１３　（２Ｈ，ｍ） ２、２７　（ＩＨ，ｍ） ２、６０　（ＩＮ、　ｍ） ３、５２　（２Ｎ、　ｄ、　Ｊ＝５．５Ｈ２）３、７９
　（３Ｈ，ｓ） ３、８０　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝８．３．１０．３Ｈｚ
）４、０２　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．３．１０．３Ｈ
ｚ）４、　ｌ１ｌ（ＩＨ，ａｐｐｅｒａｎｔ　　ｑ、　
Ｊ＝６．５Ｈｚ）。

４、３６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ＩＬ　５８２）４、３９
　（ＩＮ、　ｄ、　Ｊｌｌ、　５Ｈ２）。

６、７７−６、８！ｌ　（２）１．　ｍ）７、１２−７
．２２　（２）１．　ｍ）７、２６−７、４８　（１２
Ｈ，ｍ） ７．６０−７．７２（８Ｌｍ） 実施例２ （Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキシメチ
ル）−＋−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシク
ロブタンの製造 （Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２，３−ビス（ｔ−ブチルジフ
ェニルシリルオキシメチル）−１−（４−メトキシフェ
ニル）メチルオキシシクロブタン（１８，７９ｇ、２５
．８ｍｍｏ　Ｉ）の無水メタ／−ル（１２９ｍ　ｌ　）
及び無水塩化メチレン（４８ｍ１）溶液に、水冷下４Ｍ
−塩酸／ジオキサン（２５，８ｍ　ｌ、　　１０３ｍｍ
ｏ　ｌ）を加え同温で１時間さらに室温で１時間攪拌す
る。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で中和した後
、水を加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン抽出
液は飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、溶媒を溜去する。残渣はシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル）で精製し、（Ｉｓ、２Ｓ、
３Ｓ）−２，３−ビス（ヒドロキシメチル）−１−（４
−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブタン（５，
ａｇ、８１％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）ろ１
、９７　（ＩＨｌｍ） ２、１２　（ＩＮ、　ｍ）。

２、２６−２．５６　（２Ｈ，ｍ） ２、４８（２Ｈ，ｂｒ、　ｅｘｃｈａｎｇｅａｂｌｅ）
３、４３−３．７２　（２Ｈ，ｍ） ３、７３−３．９５　（２）１．　ｍ１３、８０　（３
）１．　Ｓ） ４、２３　（ＩＨ，ｍ） ４．２９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝Ｎ、４Ｈｚ）。

４、４３　（ＩＨｌｄ、Ｊ＝Ｉ＋、　４Ｈｚ）。

６、８３−５．９２　（２Ｈ，ｍ） ７．１９−７．２９（２Ｈ，ｍ）。

実施例３゜ （Ｉ　Ｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ペンシルオキシメチル−
３−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニル）
メチルオキシシクロブタンの製造アルゴン雰囲気下、（
ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２３−ビス（ヒドロキシメチル）
−＋−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブ
タン（５３０ｇ、２１．０ｍｍｏｌ）のＮ、　　Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）（ｉｏｏｍｌ）溶液に、
６０％水素化ナトリウム（９２４ｍｇ、２３．１ｍｍｏ
ｌ）を加え、５０℃で４０分間攪拌する。

コノ反応液に、水冷下ペンシルブロマイド（３０ｍｌ、
２５．２ｍｍｏｌ）を加え、同温から室温で一晩攪拌す
る。反応液を氷水（５００ｍｌ）に加え、エーテルで抽
出する。エーテル抽出液は２回水洗後飽和食塩水で洗浄
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する
。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エ
チルへキサ：／−１：２．　　ｖ／ｖ）で精製し、　（
Ｉ８２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−３−ヒ
ドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニル）メチル
オキシシクロブタン（２，６１！；ｌ、３６％）を得る
。

）ＩＭ）Ｉ　（２ＤＯＭ肋Ｆ丁、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ　３
）　　　ろ１、８８　（１８，ｍｌ ２、０３　（ＩＨ，ｍ） ２、２２　（ＩＬ　ｂｒ） ２Ｊ９−２．５２（２Ｈ，ｍ）。

３、４７（Ｉｔ（、ｍｌ ３、５６−３．８３　（２Ｈ，ｍ） ３、　ＨＨＨ，ｓ） ４、１４（ＩＨ，ｍ） ４、３０　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝Ｉ＋、　４Ｈｚ）。

４、３９　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝Ｉ１．４Ｈｚ）４、５５
　（２）１．　ｓ） ６　８２−６．９１（２Ｈ，ｍ） ７、１７−７．２ｆｉ（２Ｈ，ｍ） ７、２８−７．３７　（５Ｈ，ｍ） この他（ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−３−ベンジルオキシメチ
ル−２−ヒドロキシメチル−１−（４−メトキシフェニ
ル）メチルオキシシクロブタン（３１３９，４４％）を
得る。

両翼性体の構造は、それぞれのアセチル体のＣＯＣ０３
Ｙ−Ｎの比較により確認した。

実施例４ （Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−３
−メタンスルフォニルオキシメチル−（４−メトキシフ
ェニル）メチルオキシシクロブタンの製造 アルゴン雰囲気下、　（Ｉ　Ｓ、　　２Ｓ、　　３Ｓ）
　−２−ベンジルオキシメチル−３〜ヒドロキシメチル
−１−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブ
タン（５０７ｍｇ、’１．４８ｍｍｏ　ｌ）及びトリエ
チルアミン（０，３７ｍ１，２．６６ｍｍ０１）の塩化
メチレン（３ｍ　ｌ　）溶液に、氷冷下メタンスルフォ
ニルクロライド（０，１７ｍ２．２２ｍｍｏｌ）を加え
、同温で１５分間攪拌する。反応液に０．２Ｍ−リン酸
緩衝液（ｐＨ７）を加えエーテルで柚比する。エーテル
抽出液は飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥した後、溶媒を溜去する。残渣はシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１２、ｖ／
ｖ）で精製し、　（ｉＳ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジル
オキシメチル−３−メタンスルフォニルオキシメチル−
１−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブタ
ン（４６８ｍｇ。７５％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）　　
５　：２、００−２．２９　（２Ｎ、　ｍ）　。

２、４１−２．１８　（２Ｈ，ｍ） ２、９５　（３Ｈ，ｓ）。

３、６２　（ＩＮ、　ｄｄ、　Ｊ＝７．５．９．５Ｈｚ
）、３、８０　（３Ｈ，ｓ） ３．８１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝７．１，９．５Ｈ２）４、
、　ｌ５（ＩＨ，ｍ） ４、２３　（２Ｎ、　ｄ、　Ｊ＝６．３Ｈｚ）４、３７
　（２）１．　ｓ）。

４、５１　（２１１，ｓ） ６．８１−５．９１（２Ｈ，ｍ） ７、１７−７、２６　（２Ｈ，ｍ）　。

７、２８−７．３６　（５Ｈ，ｍ）　。

実施例５ （ＩＳ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ペンシルオキシメチル−１
−（４−メトキシフェニル）メチルオキシ−３−（ジエ
トキシフォスフォリル）メチルシクロブタンの製造 アルゴン雰囲気下、　（ＩＳ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベン
ジルオキシメチル−３−メタンスルフオルオキシメチル
−１−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブ
タン（４６８ｍｇ、　　１．１１ｍｍｏｌ）及びヨウ化
ナトリウム（１３８ｍｇ０．９２ｍｍｏｌ）にトリエチ
ルフォスファイト（１，９ｍｌ、Ｉｌ、１ｍｍｏｌ）を
加え、１６０℃で２時間攪拌する。反応液中の揮発性物
質を減圧下溜去した後、水を加えエーテルで抽出する。

エーテル抽出液は２回水洗後飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残渣は
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル、塩
化メチレン＝＋：２．ｖ／ｖ）及び分取用薄層クロマト
グラフィー（酢酸エチル）で精製し、（Ｉ　Ｓ、２Ｓ、
３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−１−（４−メトキ
シフェニル）メチルオキシ−３−（ジエトキシフォスフ
ォリル）メチルシクロブタン（３９３ｍｇ、７６％）を
得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）　　
５：Ｌ　２９　（５）！、　ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ）１
、７８−２．６３　（６Ｌ　ｍ） ３、５９（ＩＨ，ｔｌｔｌ、　Ｊ＝６．０．９．５Ｈｚ
）。

３、　Ｈ（３Ｈ，ｓ） ３、８２　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．８．９．５Ｈｚ）
３、９５−４．１４　（４Ｈ，ｍ） ４、１８（ＩＨ，ｍ） ４、３９　（２Ｈ，ｓ）。

４、５２　（２Ｈ，ｓ） ６、８２−６．９０　（２Ｈ，ｍ） ７．１８−７．２６（２Ｈ，ｍ）。

７、２８−７．３５　（５Ｈ，ｍ） 実施例６゜ （ＩＳ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−３
−（゛ジエトキシフォスフォリル）メチル−１−シクロ
ブタノールの製造 （Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−１
−（４−メトキシフェニル）メチルオキシ−３−（ジエ
トキシフォスフォリル）メチルシクロブタン（３９３ｍ
ｇ、０．８５ｍｍｏ　ｌ）の塩化メチレン（３，６ｍ１
）溶液に水（０，２ｍ）を加えた後、水冷下２，３−ジ
クロロ−５６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（ＤＤ
Ｑ）（２３１ｍｇ、０．９８ｍｍｏｌ）を加え室温で３
．５時間攪拌する。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加え塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン抽出
液は飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜
去する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
塩化メチレンメタノール＝４０　＋、ｖ／ｖ）で精製し
、（Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−
３−（ジエトキシフォスフォリル）メチル−１−シクロ
ブタノール（＋６６ｍｇ、５７％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ、）、　
　５１、２９　（３Ｎ、　ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）　。

１、３０　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．　ＩＨｚ）１、９１
　（２Ｈ，ｄｄ、　Ｊ＝７．３．１８．２Ｈｚ）２、０
０−２．３０　（２）１．　ｍ）２、４０−２．７０　
（２Ｈ，ｍ） ２、９０　（ＩＨ，ｂｒ） ３、７２−３．８１（２Ｈ，ｍ） ４、０６　（１８，ａｐｐａｒｅｎｔ　　ｑ、　Ｊ＝７
．４Ｈｚ）４、４１１１　（Ｉｆ（、ｍ） ４、５５　（２Ｈ，ｓ） ７、２８−７．３９　（５Ｈ，ｍ） 実施例７゜ （ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ペンシルオキシメチル−３
−（ジエトキシフォスフォリル）メチル−１−メタンス
ルフォニルオキシシクロブタンの製造 アルゴン雰囲気下、　（Ｉｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベン
ジルオキシメチル−３−（ジエトキシフォスフォリル）
メチル−１−シクロブタノール（１６６ｍ９．０．４８
５ｍｍ○［）及びトリエチルアミン（１２２１，ｌｌ、
０．８７３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（２ｍ　ｌ　）溶
液に、水冷下メタンスルフォニルクロライド（５６μｌ
、０．７２７ｍｍ０１）を加え、同温で１５分間攪拌す
る。反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐ　Ｈ７）を加
えエーテルで抽出する。エーテル抽出液は飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去
する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩
化メチレン：メタノール＝３ｏ　１ｖ　／　ｖ　）で精
製し、　（Ｉ　Ｓ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシ
メチル−３−（ジエトキシフオスフォリル）メチル−１
−メタンスルフォニルオキシシクロブタン（１８３ｍｇ
、９０％）を得る。

ＮＭＲ（２００Ｍ）ｔｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ、）　
　６：１、２７　（６Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７、ＩＨｚ）１、
７２−２．０９　（２）１．　ｍ）２、２６　（ＩＮ、
　ｍ） ２、４３−２．８２　（３Ｈ，ｍ） ２、８９　（３１（、ｓｌ ３、６０（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．８．９．６Ｈｚ）。

３、７１（１８，ｄｄ、　Ｊ＝７．８．９．６Ｈｚ）３
、９４−４．１４　（４Ｈ，ｍ） ４、４８　（２１（、ｓ） ５、１６（ＩＨ，ｍ） ７、２６−７、３４　（５Ｈ，ｍ）　。

実施例８ ９−　［（ｉ　Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）　−２−ベンジルオキ
シメチル−３−（ジエトキシフォスフォリル）メチル−
１−シクロブチル］アテ゛ニンの製造アルゴン雰囲気下
、アデニン（８８ｍｇ、０６５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ　（
２ｍ　ｌ　）Ｄ濁液に６０％水素化ナトリウム（２６ｍ
ｇ、０．６５ｍｍ。

）を加え、１時間攪拌する。反応液に（１Ｓ２８．３Ｓ
）−２−ベンジルオキシメチル−３−（ジエトキシフォ
スフォリル）メチル−１−メタンスルフォニルオキシシ
クロブタン（１８３ｍｇ０．４４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（
３ｍｌ）溶液を加え、１４０℃で４０分間攪拌する。冷
却後０２Ｍ−リン酸緩衝液を加え酢酸エチルで抽出する
。

酢酸エチル抽出液は、２回水洗後飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残
渣は、シリカゲルカラムクロマ１〜グラフイー（塩化メ
チレン　メタノール＝Ｉ８：Ｉ。

ｖ　／　ｖ　）で分離精製し、９−［（＋Ｒ，２Ｒ，３
Ｓ）−２−ペンシルオキシメチル−３−（ジエトキシフ
ォスフォリル）メチル−１−シクロブチル］アデニン（
５１ｍｇ、２５％）を得る。

ＮＭＲ（２００Ｍ）ＩｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ、）　
　５　：１．３２　（６Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．　＋Ｈ２）
　。

１．９３−２．２８（２Ｈ，ｍ） ２、３６−２．５５　（２８，ｍ）　。

２．８２　（＋Ｈ，ｍ） ３、０３　（ＩＨ，ｍ） ３、６４　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．１Ｈ２）３、９９−
４．１９　（４Ｍ、　ｍ） ４、５１　（２Ｈ，ｓ） ４、７１　（ＩＨ，ａｐｐｓｒｅｎｔ　ｑ、　Ｊ＝８．
５Ｈｚ）５、７４　（２Ｈ，ｂｒｓ）。

７．１７−７．４４（５Ｈ，ｍ）。

７、　Ｈ（ＩＨ，ｓ） ８、３４　（ＩＮ、　ｓ） 実施例９゜ ９−　［（ｉＲ，２Ｒ，３Ｓ）−３−（ジヒドロキシフ
ォスフォリル）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シ
クロブチル］アテニンの製造アルゴン雰囲気下、９−　
［（ｉＲ，２Ｒ，３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−
３−（ジエトキシフォスフォリル）メチル−１−シクＯ
ブチル］アデニン（１７，３ｍｇ、０．０３８ｍｍｏ　
Ｉ）のＤＭＦ（２ｍｌ）溶液にトリメチルシリルブロマ
イド（３２０μ＋、２．４ｍｍｏ　Ｉ）を加え室温で一
晩攪拌する。反応液は、減圧下溶媒を溜去した復水を加
えＯ，４Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、ダ
イヤイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィー（水→
４０％−メタノール水溶液）で精製し、９−　［（ｉＲ
，２Ｒ，３Ｓ）　−３＝（ジヒドロキシフォスフォリル
）メチル−２−ベンジルオキシメチル−１−シクロブチ
ルコアデニンナトリウム塩（１４，５ｍｇ）を得る。

アルゴン雰囲気下、上記化合物に塩化メチレン（０，５
ｍ１）及びジメチルスルフィド（０，５ｍ１）を加え、
三フッ化ホウ素エーテレート（４０μｍ、０．３２４ｍ
ｍｏ　ｌ）を加え室温で一晩攪拌する。反応液に炭酸水
素ナトリウム（５５ｍｇ、０．６５ｍｍｏｌ）の水溶液
を加えた後減圧下揮発性物質を溜去する。残渣は、分取
用高速液体クロマトグラフィー（水）で精製し、９［（
＋Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）　−３−（ジヒドロキシフォスフォ
リル）メチル−２−ヒドロキシメチル−１−シクロプチ
ルコアデニンを得る。

実施例１０ ２−アミノ−９−［（＋Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）−２ベンジル
オキシメチル−３−（ジエトキシフォスフォリル）メチ
ル−１−シクロブチル］−６−（２−メトキシエトキシ
）プリンの製造アルゴン雰囲気下、２−アミノ−６−（
２−メトキシエトキシ）プリン（１４９ｍｇ、０．７１
ｍｍｏｌ）のＤＭＦ　（Ｌ　　５ｍ１）懸濁液に水素化
リチウム（５，７ｍｇ、０．７１ｍｍｏ　ｌ）を加え、
１時間攪拌する。反応液に（ｉｓ、２Ｓ。

３Ｓ）−２−ペンシルオキシメチル−３−（ジエトキシ
フォスフォリル）メチル−１−メタンスルフォニルオキ
シシクロブタン（１５０ｍｇ、０３６ｍｍｏｌ）のＤＭ
Ｆ　（１，５ｍ１）溶液を加え、１４０℃で４０分間攪
拌する。冷却後０．　２Ｍ−リン酸緩衝液を加え酢酸エ
チルで抽出する。

酢酸エチル抽出液は、２回水洗後飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残
渣は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（塩化メチ
レン・メタノール−２０＝１３０：Ｉ、ｖ／ｖ）で分離
精製し、２−アミノ−９−［（ｉＲ，２Ｒ，３Ｓ）−２
−ベンジルオキシメチル−３−（ジエトキシフオスフオ
リル）メチル−１−シクロブチル］−６−（２−メトキ
シエトキシ）プリン（２７ｍｇ、１４％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、　ＴＭＳ、　ＣＤＣ１Ｂ）
　　５　：１、３１６　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．１Ｈｚ
）。

１、３２２　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

１、９０−２．２０　（２Ｈ，ｍ）　。

２、２０−２．５５　（２Ｂ、　ｍ） ２、７４　（ＩＨ，ｍ） ２、９４　（ＩＨ，ｍ）。

３、４３　（３Ｈ，ｓ）。

３．６０　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．０）Ｉｚ）３．８０
（２Ｈ，ｄｉｆｆｕｓｅｄ　ｔ、Ｊ＝５．０Ｈｚ）。

４．０１−４．１９（４Ｈ，ｎ）。

４．５０　（２８，ｓｌ。

４．６０（ＩＨ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　　ｗｉｔｈ　
　ｏｔｈｅｒ　　ｓｉｇｎａｌｓ）。

４．６５（２Ｈ，ｄｉｆｆｕｓ＠ｄ　　ｔ、Ｊ＝５．０
Ｈｚ）４、８０　（２Ｈ，ｂｒｓ）　。

７、２５−７．３８　（５Ｈ，ｍ）　。

７、６６　（１１ｓ）。

実施例１１゜ ２−アミノ−９−Ｅ　（＋　Ｒ，２Ｒ，３，Ｓ）　−３
−（ジエトキシフォスフォリル）メチル−２−ヒドロキ
シメチル−１−シクロブチル］　−６−（２−メトキシ
エトキシ）プリンの製造 ２−アミノ−９−［（Ｉ　Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）　−２−ベ
ンジルオキシメチル−３〜（ジエトキシフォスフォリル
）メチル−１−シクロブチル］−６−（２−メトキシエ
トキシ）プリン（２７ｍｇ、００５ｍｍｏｌ）のエタノ
ール（０，８ｍ１）溶液に、２０％−水酸化パラジウム
／炭素（７，４ｍｇ）及びシクロヘキセン（０，４ｍ１
）を加え、２．５時間加熱還流する。触媒を濾去した後
、減圧下溶媒を濾去し、粗２−アミノ−９−［（ＩＲ。

２Ｒ，３Ｓ）−３−（ジエトキシフォスフォリル）メチ
ル−２−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル］　−６
−（２−メトキシエトキシ）プリン（２４ｍ９）を得る
。

ＮＭＲ（２００ＭＨ２ＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）　　
δ。

１、３４（５Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）１、９０−２
．４４　（５Ｈ，ｍ） ２、５５　（ｌ）１５ｍ） ２．８３　（ＩＨ，ｍｌ。

３、４３　（３Ｈ，ｓ） ３、　Ｎ　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．　（ｌ）１２）３、
７３−３．８４　（４Ｈ１ｍ）　。

４、０２−４．２２　（４Ｈ，ｍ）　。

４、３２　（１）ｆ、　ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ、　Ｊ＝
８．５）ｔｚ１４、６４　（２Ｈ，ｄｉｆｆｕｓｅｄ　
ｔ、　Ｊ＝Ｃ９１（ｚ）４、９９　（２Ｈ，ｂｒｓ） ７、６３　（ＩＨ，ｓ） 実施例１２ ９−　［（ｉ　Ｒ，２Ｒ，３Ｓ）　−３−（ジヒドロキ
シフォスフオリル）メチル−２−ヒドロキシメチル−１
−シクロブチルコグアニンの製造アルゴン雰囲気下、実
施例１１で製造した２−アミノ−９−［（ＩＲ，２Ｒ，
３Ｓ）−３−（ジエトキシフォスフォリル）メチル−２
−ヒドロキシメチル−１−シクロブチル］　−６−（２
−メトキシエトキシ）プリン（２４ｍｇ）のＤＭＦ　（
ｉｍｌ）溶液にトリメチルシリルブロマイド（７２１、
Ｉｉ、０．５４ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩撹拌する。

反応液は、減圧下溶媒を溜去した後２Ｎ塩酸水溶液（ｉ
ｍｌ）を加え、１時間１０ｏ℃に加熱する。反応液は、
減圧下溶媒を溜去した後、０．４Ｎ水酸化ナトリウム溶
液で中和し溶媒を溜去する。残渣はＤＥＡＥセファデッ
クスＡ−２５カラムクＯマドグラフイー（水→０．５Ｍ
食塩水）及びカーボンカラムクロマトグラフィー（水−
メタノール）で精製し、９−　［（ｉＲ，２Ｒ，３Ｓ）
−３−（ジヒドロキシフォスフォリル）メチル２−ヒド
ロキシメチル−１−シクロブチル〕グアニンナトリウム
ｆ、％（４，５ｍ９）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、　Ｃ２０）　　ろ。

１．６５−１．９６（２Ｌｍ）。

１、９６−２．２４　（２８，ｍ） ２．５０−２．８０　（２Ｈ，ｍ）　。

３、６９　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．８Ｈｚ１４、３９　
（ＩＨ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ、　Ｊ＝８．２Ｈｚ）７
、９３　（ＩＨ，ｓ）。

ＵＶ　’／ｙ　ｍａｘ　（Ｈ２Ｏ）　ｎｍｐＨ１，２５
４，２７８；ｐＨ７，２５３，２７８（ｓｈ）　；ｐＨ
ｌ３．２５６　（ｓｈ）　、　２６７）ＩＲｌｉｌｓ（
ＦＡＢ）、　３７４．３５２Ｃａｌｃｄ　ｆｏｒ　［Ｃ
１１Ｈ１５Ｎ５Ｎａ０５Ｐ＋１（］”；　３５２．０Ｌ
８７Ｆｏｕｎｄ　・３５２．０７９２ 実施例１３ （ＩＳ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−３
−（Ｅ）−（２−ジフエノキシフォスフォリル）エチニ
ル−１−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロ
ブタンの製造 アルゴン雰囲気下、塩化オキザリル（０，＋９ｍｌ、２
．２３ｍｍｏｌ）の無水塩化メチレン（６ｍｌ）溶液に
、−７８℃でジメチルスルフオキシド（ＤＭＳＯ）（０
，３２ｍ　ｌ、４．５ｍｍ０１）を適下し同温で５分間
攪拌する。反応液に（ＩＳ、２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジ
ルオキシメチル−３−ヒドロキシメチル−１−（４−メ
トキシフェニル）メチルオキシシクロブタン（６４５ｍ
ｇ、１．８８ｍｍ○１）の塩化メチレン（１，５ｍ１）
溶液を一７８℃で滴下し同温で１５分間攪拌する。更に
、トリエチルアミン（１，３ｍ９．３ｍｍｏｌ）を加え
室温まで昇温する。反応液に０．２Ｍ−リン酸緩衝液を
加え、エーテルで抽出する。エーテル抽出液は２回水洗
後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した
後、溶媒を溜去し、相アルデヒドを得る。

このアルデヒドはＤＭＳＯ（ｌｏｍｌ）に溶解した後、
ジフェニル　トリフェニルフォスフォラニリデンメチル
フォスフォネート（１４３９゜２．８ｍｍｏｌ）を加え
１００℃で１０時間攪拌する。反応液に水を加え、エー
テルで抽出する。

エーテル抽出液は２回水洗後飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残渣は
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘ
キサン＝　＋　：　２．ｖ／ｖ）で精製し、　（ｉｓ、
２Ｓ、３Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−３−（Ｅ）
−（２−ジフェノキシフォスフォリル）エチニル−１−
（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブタン（
５５１ｍｇ５１％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）　　
ろ：２、１０　（ＩＨ，ｍｌ。

２、２６（１１（、ｍ）。

２、６７　（Ｉ）１．　ｍ） ２、９４（ＩＨ，ｍ）。

３、５７　（Ｉ）１．　ｄｄ、　Ｊ＝７．　Ｉｌｌ、　
９．８Ｈｚ）　。

３．８０（ＩＨ，ｄｄ、ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　ｗｉｔ
ｈ　ｏｔｈｅｒ　ｓｉｇｎａｌ）。

３、８０　（３８；　ｓ） ４、１４　（ＩＨ，ｍｌ。

４、３７　（２Ｈ，ｓ）。

４、５０　（２Ｈ，ｓ） ５、８６　（ＩＨ，ｄｄｄ、　Ｊ＝Ｌ　５．　＋７．１
．２２．３１（ｚ）５、８２−６．９０　（２Ｈ，ｍ） ６．９５−７．３７（１８Ｈ，ｍ）一 実施例１４ （Ｉ　Ｓ、２Ｓ、３Ｒ）−２−ベンジルオキシメチル−
３−（２−ジフエノキシフォスフォリル）エチル−１−
（４−メトキシフェニル）メチルオキシシクロブタンの
製造 （１Ｓ、　　２　Ｓ、　　３　Ｓ）　−２−ペンシルオ
キシメチル−３−（Ｅ）−（２−ジフエノキシフォスフ
ォリル）エチニル−１−（４−メトキシフェニル）メチ
ルオキシシクロブタン（５５４ｍｇ、　　０．　９７ｍ
ｍ○１）のエタノール（ＩＯｍｌ）溶液に１０％−パラ
ジウム／炭素（５５ｍｇ）を加え、水素雰囲気下室温で
１５時間攪拌する。反応液は触媒を５去した後溶媒を溜
去し、　（１ｓ、２Ｓ。

３Ｒ）−２−ベンジルオキシメチル−３−（２−ジフエ
ノキシフォスフォリル）エチル−１−（４メトキシフエ
ニル）メチルオキシシクロブタン（５１６ｍｇ、９３％
）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨ２ＦＴ、　ＴＭＳ、　ＣＤＣｌ５）
　　ろ：１、８０−２．２６　（７Ｈ，ｍ） ２、４６　（ＩＨ，ｍ） ３、５８　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．４．９．５）１ｚ
）３．８０（ＩＨ，ｄｄ、ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　ｗｉ
ｔｈ　ｏｔｈｅｒ　ｓｉｇｎａｌ）３．８０　（３Ｈ，
ｓ）。

４、１８　Ｆ＋Ｈ，ｍ） ４、３７　（２８，Ｓ）。

４、５１　（２Ｈ，ｓ） ５、８１−６．９０　（２Ｎ、　ｍ）　。

７、１０−７．３６　（１７Ｈ，ｍ）。

実施例１５゜ （Ｉｓ チル−３ エチル−１ （Ｉｓ チル−３− ２Ｓ、３Ｒ）−２−ベンジルオキシメ （２−ジフエノキシフォスフォリル） シクロブタノールの製造 ２Ｓ、３Ｒ）−２−ペンジルオキシメ （２−ジフェノキシフォスフォリル） エチル−１−（４−メトキシフェニル）メチルオキシシ
クロブタン（４８１ｍｇ、０．８４ｍｍ。

）の塩化メチレン（３，６ｍ１）溶液に水（０２ｍ１）
を加えた後、水冷下ＤＤＱ　（２２９ｍｇ１．０ｍｍｏ
ｌ）を加え室温で１時間攪拌する。

反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え塩化メチ
レンで抽出する。塩化メチレン抽出液は飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液で洗浄後飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残渣はシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサ
ン＝Ｉ：＋、ｖ／Ｖ）で精製し、　（ｉｓ、２Ｓ、３Ｒ
）−２−ベンジルオキシメチル−３−（２−ジフエノキ
シフォスフオリル）エチＪレー１−シクロブタノ−Ｊし
く３４０ｍｇ、８９％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨ２ＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ５）　　
ろ：Ｌ　８０−２．４２　（８Ｈ，ｍ） ２、８２　（Ｉ）１．　ｄ、　Ｊ＝５．９Ｈｚ）　。

３、７２　（２Ｎ、　ｄ、　Ｊ＝５．２Ｈｚ）　。

４．４５（Ｉ）ｌ、…） ４．５１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝Ｉ＋、８Ｈ２）。

４、５６　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝Ｉ１．８Ｈｚ）７、　ｌ
ｌ−７，２２（６Ｈ，ｍ）　。

７、２７−７、３８　（９Ｈ，ｍ） 実施例１６ （ｉｓ、２Ｓ、３Ｒ）−２−ベンジルオキシメチル−３
−（２−ジフエノキシフォスフオリル）エチル−１−メ
タンスルフォニルオキシシクロブタンの製造 アルゴン雰囲気下、　＜ＩＳ、２Ｓ、３Ｒ）−２−ベン
ジルオキシメチル−３−（２−ジフエノキシフォスフォ
リル）エチル−１−シクロブタノール（３３２ｍｇ・　
０．７３ｍｍｏｌ）及びト１ノエチルアミン（１８４μ
ｌ、　　１．３ｍｍｏｌ）の塩化メチレン（３ｍｌ）溶
液に、水冷下メタンスルフォニルクロライド（８５ＬＪ
　１．１．、ｉｍｍｏ　ｌ）を加え、同温で１５分間攪
拌する。反応液に０２Ｍ−リン酸緩衝液（ｐＨ７）を加
えエーテルで抽出する。エーテル抽出液は飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去
する。残渣はシリカゲルカラムクロマトグラフィ（酢酸
エチル−ヘキサン＝１・Ｉ、ｖ／ｖ）で精製し、　（Ｉ
ｓ、２Ｓ、３Ｒ）−２−ベンジルオキシメチル−３−（
２−ジフェノキシフォスフォリル）エチル−１−メタン
スルフォニルオキシシクロブタン（３８０ｍｇ、９８％
）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、　ＴＭＳ、　ＣＤＣｌ！り
　５　：Ｌ　８０−２．２２　（５Ｈ，ｍ） ２、２２−２．７１　（３Ｈ，ｍ） ２、９３　（３Ｈ，ｓ）。

３、５９　（ＩＨ，ｄ＋１．　Ｊ＝７．１．９．６Ｈｚ
）　。

３、７４（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．　Ｉ、　９．６Ｈ２
）４、５１（２Ｈ，ｓ）　。

５、１７　（ＩＨ，ｍ）。

７、１０−７．２２　（６Ｈ，ｍ） ７、２６−７、３５　（９Ｈ，ｍ） 実施例１７ ９−　［（＋Ｒ，２Ｒ，３Ｒ）−２−ベンジルオキシメ
チル−３−（ジフェノキシフォスフォリル）エチル−１
−シクロブチル］アデニンの製造アルゴン雰囲気下、ア
テ゛ニン（６３ｍｇ、０４７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ　（３
ｍ　ｌ　）　懸濁液に６０％水素化ナトリウム（＋　９
ｍｇ、０．４８ｍｍ。

）を加え、１時間攪拌する。反応液に（＋８２Ｓ、３Ｒ
）−２−ベンジルオキシメチル−３（２−ジフェノキシ
フォスフォυル）エチル−１メタンスルフオニルオキシ
シクロブタン（１６４ｍ９，０．３１ｍｍｏｌ）のＤＭ
Ｆ　（２ｍｌ）溶液を加え、１４０℃で１時間攪拌する
。冷却後０．２Ｍ−リン酸緩衝液を加え酢酸エチルで抽
出する。酢酸エチル抽出液は、２回水洗後飽和食塩水で
洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去
する。残渣は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（
塩化メチレン、メタノール−５０１−２０・ｉ、ｖ／ｖ
）で分離精製し、９−［（ＩＲ，２Ｒ，３Ｒ）−２−ベ
ンジルオキシメチル−３−（ジフエノキシフォスフォリ
ル）エチル−１−シクロプチルユアデニン（３４ｍｇ９
％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨ２ＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣｌ５）　ろ
：１、９０−２．３９　（６Ｈ，ｍ）　。

２、７１　（ＩＨ，ｍ）。

２、．９１　（＋Ｈ，翔）。

３、５８　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．４Ｈｚ）　。

４、４９　（２Ｈ，ｓ）。

４、６６　（０１，ｍ）。

５、８０　（２）１．　ｂｒｓ） ７．０７−７．３＋１（１５Ｈ，＋ｎ）。

７、８５　（ＩＨ，ｓ）。

８、３３　（ＩＨ，ｓ）。

実施例１８゜ ９−　［（ｉ　Ｒ，２Ｒ，３Ｒ）−２−ベンジルオキシ
メチル−３−（ジベンジルオキシフォスフォリル）エチ
ル−１−シクロプチルコアデニンの製造 アルゴン雰囲気下、９−［（ｉＲ，２Ｒ，３Ｒ）−２−
ベンジルオキシメチル−３−（ジフエノキシフォスフォ
リル）エチル−１−シクロブチル〕アデニン（３３ｍｇ
、５８μｍｏ　ｌ）のＤＭＳＯ（ｉｍｌ）溶液に０．３
７５Ｍ−ソディウムヘンジルオキシド／ＤＭＳＯ（０，
７７ｍ１，０．２９ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間攪
拌する。反応液に、１％−塩化アンモニウム水溶液を加
え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル抽出液は、飽和食
塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒
を溜去する。残渣は、シリカゲル分取用薄層クロマトグ
ラフィー（塩化メチレン・メタノール＝　＋　Ｏ：　１
．　　ｖ／ｖ）で精製し、９−［（ＩＲ，２Ｒ，３Ｒ）
−２−ベンジルオキシメチル−３−（ジベンジルオキシ
フォスフォリル）エチル−１−シクロブチル］アデニン
（１５ｍｇ、４３％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１３）　　
５　：１、５５−１．９３（４）１．ｍ）。

Ｌ　９３−２．　Ｂ　（２Ｈ，＋ｎ） ２、５１−２．１１１　（２Ｈ，ｍ） ３、４７　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．５．９．９Ｈｚ）
　。

３、５４　（ＩＬ　ｄｄ、　Ｊ＝５．４．９．９Ｈｚ＞
３、８０（２Ｈ，ｄｉｆｆｕｓｅｄ　ｔ、　Ｊ＝５．０
Ｈｚ）４、４６　（２Ｈ，ｓ） ４、６０　（ＩＨ，ｍ） ４．９６（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝８．５．Ｉｌ、９Ｈ２）。

５．０６（２Ｌ　ｄｄ、Ｊ＝８．９．１＋、９Ｈｚ）５
、７８　（２Ｈ，ｂｒｓ） ７、２０−７．３９　（１５ｆｔ、　ｍ）７．８３（Ｉ
Ｈ，ｓ）。

８、３２　（ＩＮ、　ｓ）。

実施例１９ ９−　［（ｉ　Ｒ，２Ｒ，３Ｒ）−３−（ジヒドロキシ
フォスフォリル）エチル−２−ヒドロキシメチル−１−
シクロブチル〕アデニンの製造９−［（＋Ｒ，２Ｒ，３
Ｒ）−２−ベンジルオキシメチル−３−（ジベンジルオ
キシフォスフォリル）エチル−１−シクロブチル］アデ
ニン（１５ｍｇ、２５μｍ０１）のエタノール（１ｍ　
ｌ）溶液に、２０％−水酸化パラジウム／炭素（８ｍ９
）及びシクロヘキセン（０，５ｍ１）を加え、２時間加
熱還流する。触媒を５去した後、減圧下溶媒を溜去する
。残渣はＤＥＡＥセファデックスＡ−２５カラムクロマ
トグラフイー（水−０，５Ｍ食塩水）で精製した後、脱
塩装置（マイクロ・アシライザーＧ＋（旭化成））を用
いて脱塩し、９−［（ｉＲ，２Ｒ，３Ｒ）−３−（ジヒ
ドロキシフォスフォリル）エチル−２−ヒドロキシメチ
ル−１−シクロブチル］アデニンジナトリウム（６，８
ｍｇ）を得る。

を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、　Ｃ２０）　　ろ：Ｌ　２
４−１．５０（２Ｈ，ｍ）。

１、５０−１．８２（２Ｈ，ｍ） １、８６−２．４０　（２Ｈ，ｍ） ２、６０−２．７４　（２Ｈ，ｍ）　。

３．７０　（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．８Ｈｚ）　。

４．７０（ＩＨ，ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　ｗｉｔｈ　５
ｏｌｖｅｎｔ　ｐｅａｋ）８、　＋　５　（＋Ｈ，Ｓ） ８、３０　（ＩＨ，Ｓ）　。

ＵＶ　　λ−ａｘ（Ｈ２Ｏ）ｎｗ： ｐＨ１，２６０；ｐＨ７，２６０）　：ｐ）１１３．２
６０ＨＲＭＳ（ＦＡＢ）；　　３７２．　３５０゜Ｃａ
１ｃｄ　　ｆｏｒ　　［Ｃｌ２Ｊ６Ｎ５Ｎａ２０４Ｐ＋
Ｈ］”；　　３７２．０８１４Ｆｏｕｎｄ　　；　　３
７２．０７８４゜実施例２０ ２−アミノ−９−［（ＩＲ，２Ｒ，３Ｒ）−２−ベンジ
ルオキシメチル−３−（ジフェノキシフォスフォリル）
エチル−１−シクロブチルコ−６−（２−メトキシエト
キシ）プリンの製造アルゴン雰囲気下、２−アミノ−６
−（２−メトキシエトキシ）プリン（＋＋９ｍｇ、　　
０．　５７ｒｎｍｏｌ）のＤＭＦ　（３ｍ　ｌ）Ｗ濁液
に水素化リチウム（４，５ｍｇ、０．５７ｍｍｏｌ）を
加え、１時間攪拌する。反応液に（１ｓ、２Ｓ、３Ｒ）
−２−ベンジルオキシメチル−３−（２−ジフエノキシ
フォスフォリル）エチル−１−メタンスルフォニルオキ
シシクロブタン（２００ｍｇ、０゜３８ｍｍｏｌ）のＤ
ＭＦ　（１，５ｍ１）溶液を加え、１４０℃で１．５時
間攪拌する。冷却後０２Ｍ−リン酸緩衝液を加え酢酸エ
チルで抽出する。

酢酸エチル抽出液は、２回水洗後飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を溜去する。残
渣は、シリカゲルカラムクロマドグラフイー（塩化メチ
レン°メタノール；５０１ｖ　／　ｖ　）で分離精製し
、２−アミノ−９−［（ＩＲ，２Ｒ，３Ｒ）−２−ベン
ジルオキシメチル３−（ジフェノキシフォスフォリル）
エチル−シクロブチル］　−６−（２−メトキシエトキ
シ）プリン（１７ｍｇ、７％）を得る。

ＮＭＲ（２００ＭＨｚＦＴ、　ＴＭＳ、　ＣＤＣｌ、）
　　ろ：１、９５−２．３７　ｆ５）１．　ｍ）２、６
１　（ＩＨ，ｍ） ２、９３　（ＩＨ，ｍ）。

３、４３　（３Ｈ，ｓ）。

３．５４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．ＩＨｚ）。

３．８０（２）１．ｄｉｆｆｕｓｅｄ　ｔ、Ｊ＝５．ｏ
ｆ（ｚ）４、４９　（２Ｈ，ｓ） ４、５１　（ＩＨ，ｍ） ４．６４（２）１．ｄｉｆｆｕｓｅｄ　　ｔ、Ｊ＝５．
０Ｈ２）４．８４（２Ｈ，ｂｒｓ） ７、１０−７．２３　（６Ｎ、　ｍ）　。

７、２４−７．３１１　（９Ｈ，ｍ） ７、６０　（ＩＨ，ｓ） 実施例２１ ２−アミノ−９−［（ｉ　Ｒ，２Ｒ，３Ｒ）　−２ベン
ジルオキシメチル−３−（ジベンジルオキシフォスフォ
リル）エチル−１−シクロブチル］−６−（２−メトキ
シエトキシ）プリンの製造アルゴン雰囲気下、２−アミ
ノ−９−［（１Ｒ２Ｒ，３Ｒ）−２−ペンシルオキシメ
チル−３＝（ジフエノキシフォスフォリル）エチル−１
−シクロブチル］　−６−（２−メトキシエトキシ）プ
リン（２２ｍｇ、３４μｍｏ　ｌ）のＤＭＳ○（１ｍｌ
）溶液に０．３７５Ｍ−ソディウムベンジルオキシド／
ＤＭＳ○（０，４６ｍ１，０．　１７ｍｍｏｌ）を加え
、室温で５分間攪拌する。反応液に、１％−塩化アンモ
ニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
抽出液は、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した後、溶媒を溜去する。残渣はシリカゲル分取用
Ｊｆｉクロマトグラフィー（塩化メチレン　メタノール
＝２０：Ｉ、ｖ／ｖ）で精製し、２−アミノ−９−［（
ｉＲ，２Ｒ，３Ｒ）−２−ベンジルオキシメチル−３−
（ジベンジルオキシフォスフォリル）エチル−１−シク
ロブチル］−６−（２−メトキシエトキシ）プリン（Ｉ
Ｉｍｇ、４８％）を得る。

ＮＭＲ（２００Ｍ８２ＦＴ、ＴＭＳ、ＣＤＣ１Ｂ）　　
５１、５８−２．１９　（６Ｂ、　ｍ） ２、５０　（Ｉ）１．　ｍ） ２、７５　（ＩＨ，ｍ） ３、４３　（３Ｈ，ｓ） ３．４δ（２Ｈ，ｄ、ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ　ｅｉｔｈ
　ｏｔｈｅｒ　ｓｉｇｎａｌ）３、８０　（２Ｈ，ｄ　
１ｆｆｕｓｅｄ　ｔ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）４、４４　（
ＩＨ，ｍ） ４、４５　（２Ｈ，ｓ） ４．５４（２Ｈ，ｄｉｆｆｕｓｅｄ　ｔ、Ｊ：５．０Ｈ
ｚ）４、８１　（２Ｎ、　ｂｒｓ） ４、９６　（２Ｈ１ｄｄ、　Ｊ＝８．４．　Ｉｌ、　８
Ｈｚ）５．０７（２８，ｄｄ、Ｊ＝８．４．Ｉｌ、８Ｈ
ｚ）７、２３−７．３９　（１５Ｈ，ｍ）。

７、５７　（ＩＨ，ｓ）。

実施例２２゜ ９−　［（ＩＲ，２Ｒ，３Ｒ）　−３−（ジヒドロキシ
フォスフォリル）エチル２−ヒドロキシメチル−１−シ
クロブチルコグアニンの製造２−アミノ−９，−［（Ｉ
　Ｒ，２Ｒ，３Ｒ）　−２−ベンジルオキシメチル−３
−（ジペンシルオキシフォスフォリル）エチル−１−シ
クロブチルコ−６−（２−メトキシエトキシ）プリン（
１１ｍｇ、＋６１．Ｉｍｏｌ）のエタノール（ｉｍｌ）
溶液に、２０％−水酸化パラジウム／炭素（５ｍ９）及
びシクロヘキセン（０，５ｍ１）を加え、３時間加熱還
流する。触媒を濾去した後、減圧下溶媒を溜去する。残
渣はＤＥＡ　ＥセファデックスＡ２５カラムクロマトグ
ラフィー（水−０，５Ｍ食塩水）及びカーボンカラムク
ロマトグラフィーで精製し、９−　［（ＩＲ，２Ｒ，３
Ｒ）−３−（ジヒドロキシフォスフォリル）エチル−２
−ヒドロキシメチル−１−シクロブチルコグアニンナト
リウム塩（４，７ｍｇ）を得る。

を得る。

ＮＭＲ［２００ＭＨｚＦＴ、　Ｄ２０）　　５　：１、
３０−１．８４　（４１ｍ） １：　！ｌ０−２．０２　（２）１．　ｌ１ｌ）。

２、４７−２．７．１　（２Ｈ，ｍ） ３．６７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５．　Ｈｌｚ）。

４Ｊ８（ＩＨ，ａｐｐａｒｅｎｔ　ｑ、Ｊ＝ｌｌ、５Ｈ
ｚ）。

７、９７　（ＩＨ，ｓ）。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中Ｂは核酸塩基誘導体であり、Ｒ＾１は水素、保護
   されていても良い水酸基または、保護されていても良い
   ヒドロキシメチル基を示す。Ｒ＾２及びＲ＾３はそれぞ
   れ独立に水素、置換または無置換アルキル基またはアリ
   ール基を示す］ て表される新規シクロブタン誘導体及びこれら化合物の
   生理学的に許容される塩。
2. （２）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｘは脱離基を示し、Ｒ＾１は水素、保護されて
   いても良い水酸基または、保護されていても良いヒドロ
   キシメチル基を示す。Ｒ＾２及びＲ＾３はそれぞれ独立
   に水素、置換または無置換アルキル基またはアリール基
   を示す］ で表わされる化合物と核酸塩基誘導体とを溶媒中反応さ
   せ、得られる化合物に保護基または、容易に脱離する置
   換基が存在する場合は、所望によりその保護基等を除去
   するを特徴とする一般式（ I ）▲数式、化学式、表等
   があります▼（ I ） ［式中Ｂは核酸塩基誘導体であり、Ｒ＾１は水素、保護
   されていても良い水酸基または、保護されていても良い
   ヒドロキシメチル基を示す。Ｒ＾２及びＲ＾３はそれぞ
   れ独立に水素、置換または無置換アルキル基またはアリ
   ール基を示す］ で表わされる新規シクロブタン誘導体の製造法