JPH0484485A - 光パルス発生装置 - Google Patents
光パルス発生装置Info
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- JPH0484485A JPH0484485A JP2199880A JP19988090A JPH0484485A JP H0484485 A JPH0484485 A JP H0484485A JP 2199880 A JP2199880 A JP 2199880A JP 19988090 A JP19988090 A JP 19988090A JP H0484485 A JPH0484485 A JP H0484485A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/06—Arrangements for controlling the laser output parameters, e.g. by operating on the active medium
- H01S5/065—Mode locking; Mode suppression; Mode selection ; Self pulsating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
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- H01S5/14—External cavity lasers
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-
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- H01S5/0657—Mode locking, i.e. generation of pulses at a frequency corresponding to a roundtrip in the cavity
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、光パルス発生装置に関し、特に半導体レーサ
ー媒質を光源とする光パルス発生装置に関する。
ー媒質を光源とする光パルス発生装置に関する。
背景技術
半導体レーザー媒質を光源とし、この半導体レーザー媒
質の出射面に光導波路を形成する光ファイバーを結合し
て外部共振器を構成し、半導体レーザー媒質をモード同
期発振せしめることによって光パルスを発生する光パル
ス発生装置かある。
質の出射面に光導波路を形成する光ファイバーを結合し
て外部共振器を構成し、半導体レーザー媒質をモード同
期発振せしめることによって光パルスを発生する光パル
ス発生装置かある。
かかる光パルス発生装置において、スペクトル幅が10
0GHz以下と狭く、パルス幅も50pS以下と短い光
パルスを発生するためには、当該袋flでは単一モード
ファイバーによる反射率の波長依存性が低いことから、
半導体レーザー媒質と光ファイバーとの結合端面の無反
射コーティングの反射率R2をR2=2X10′4程度
まで小さくする必要がある。しかしながら、この数値は
実用的でなく、現実にはR2−10−’J″l下の再現
性を得るのは困難である。反射率R2が大きいと、半導
体レーザー媒質の素子長に依存する縦モード(以下、素
子モードと称する)が強調され、第3図に実線で示す発
振スペクトルとなり、主発振モード成分のレベルが低下
してしまうため、光パルスのスペクトル幅及びパルス幅
を狭くするにも限界かあった。
0GHz以下と狭く、パルス幅も50pS以下と短い光
パルスを発生するためには、当該袋flでは単一モード
ファイバーによる反射率の波長依存性が低いことから、
半導体レーザー媒質と光ファイバーとの結合端面の無反
射コーティングの反射率R2をR2=2X10′4程度
まで小さくする必要がある。しかしながら、この数値は
実用的でなく、現実にはR2−10−’J″l下の再現
性を得るのは困難である。反射率R2が大きいと、半導
体レーザー媒質の素子長に依存する縦モード(以下、素
子モードと称する)が強調され、第3図に実線で示す発
振スペクトルとなり、主発振モード成分のレベルが低下
してしまうため、光パルスのスペクトル幅及びパルス幅
を狭くするにも限界かあった。
発明の概要
[発明の目的]
そこで、本発明は、半導体レーザー媒質と光ファイバー
との結合端面の反射率が1%(−10シ)程度でもパル
ス幅か狭くかつスペクトル幅のより狭い光パルスの生成
を可能にした先パルス発生装置を提供することを目的と
する。
との結合端面の反射率が1%(−10シ)程度でもパル
ス幅か狭くかつスペクトル幅のより狭い光パルスの生成
を可能にした先パルス発生装置を提供することを目的と
する。
[発明の構成]
本発明による先パルス発生装置は、半導体レーサー媒質
と、前記半導体レーザー媒質をモード同期発振せしめて
光パルスを発生する外部共振器とからなる光パルス発生
装置であって、前記外部共振器が前記半導体レーザー媒
質から発せられるレーザー光の一部を反射する反射素子
を含む光導波路からなり、前記反射素子の持つ反射率の
高い波長域の中心波長が前記半導体レーザー媒質の利得
波長域内でかつ半値幅が素子モード間隔の2倍以内であ
る反射波長特性を有する構成となっている。
と、前記半導体レーザー媒質をモード同期発振せしめて
光パルスを発生する外部共振器とからなる光パルス発生
装置であって、前記外部共振器が前記半導体レーザー媒
質から発せられるレーザー光の一部を反射する反射素子
を含む光導波路からなり、前記反射素子の持つ反射率の
高い波長域の中心波長が前記半導体レーザー媒質の利得
波長域内でかつ半値幅が素子モード間隔の2倍以内であ
る反射波長特性を有する構成となっている。
[発明の作用〕
本発明による光パルス発生装置においては、光導波路中
の反射素子によって半導体レーサー媒質の利得の最も高
い素子モード(以下、発振主縦モードと称する)成分以
外の成分を抑制し、結果的に発振主縦モード成分のレベ
ルを向上させる。
の反射素子によって半導体レーサー媒質の利得の最も高
い素子モード(以下、発振主縦モードと称する)成分以
外の成分を抑制し、結果的に発振主縦モード成分のレベ
ルを向上させる。
実施例
以下、本発明の実施例を図に基づいて詳細に説明する。
第1図において、1は半導体レーザー媒質素子であり、
当該素子1の一方の端面1aが高反射面、他方の端面1
bが低反射出射面となっている。高反射面1aの反射率
R1はR+ >0.9となるように設定され、又低反射
出射面1bの反射率R2はR2=F10”’程度に設定
される。この半導体レーザー媒質素子1には、コンデン
サCを介してモード同期用RF(高周波)電流I MF
が、さらにインダクタンスコイルLを介してバイアス用
DC(直流)電流I0゜がそれぞれ供給されるようにな
っている。
当該素子1の一方の端面1aが高反射面、他方の端面1
bが低反射出射面となっている。高反射面1aの反射率
R1はR+ >0.9となるように設定され、又低反射
出射面1bの反射率R2はR2=F10”’程度に設定
される。この半導体レーザー媒質素子1には、コンデン
サCを介してモード同期用RF(高周波)電流I MF
が、さらにインダクタンスコイルLを介してバイアス用
DC(直流)電流I0゜がそれぞれ供給されるようにな
っている。
半導体レーザー媒質素子1の出射面1bには光導波路を
形成する例えば光ファイバー2が結合されている。この
光ファイバー2は例えばその中間位置に反射率R3が0
. 6程度の反射素子3を有することにより、半導体レ
ーザー媒質素子1をモード同期発振せしめる外部共振器
を構成している。
形成する例えば光ファイバー2が結合されている。この
光ファイバー2は例えばその中間位置に反射率R3が0
. 6程度の反射素子3を有することにより、半導体レ
ーザー媒質素子1をモード同期発振せしめる外部共振器
を構成している。
反射素子3としては、例えば第2図に示すように、ガラ
ス、石英、アルミナ等の透明基板3a上に、反射率の異
なる透明層3bを複数層(例えば、6層)コーティング
した構成のものであって、後述する如き反射波長特性を
有するものを用い得る。
ス、石英、アルミナ等の透明基板3a上に、反射率の異
なる透明層3bを複数層(例えば、6層)コーティング
した構成のものであって、後述する如き反射波長特性を
有するものを用い得る。
なお、反射素子3はかかる構成のものに限定されるもの
ではなく、光フアイバー内にエツチングによって形成さ
れた回折格子構成のものなどであっても良く、要は、所
定の反射周波数特性を有するものであれば良いのである
。また、反射素子3の配設位置は、光ファイバー2の中
間位置に限らず、出射端位置であっても良い。
ではなく、光フアイバー内にエツチングによって形成さ
れた回折格子構成のものなどであっても良く、要は、所
定の反射周波数特性を有するものであれば良いのである
。また、反射素子3の配設位置は、光ファイバー2の中
間位置に限らず、出射端位置であっても良い。
この反射素子3は、反射率の高い波長域の中心波長が半
導体レーザー媒質素子1の利得波長域内でかつ反射率の
半値幅が素子モード間隔の2倍以内で、特に発振主縦モ
ードに対して反射率が最大でかつ発振主縦モードのスペ
クトル幅を包含する反射周波数特性を有している。すな
わち、この反射周波数特性は、第3図に示すように、半
導体レーザー媒質素子1の発振縦モードのスペクトル(
実線)に対して点線で示す如き特性となっている。なお
、第3図において、Δλ1は半導体装置ザー媒質素子1
内のレーザー光の往復時間に、Δλ2は外部共振器内の
レーザー光の往復時間にそれぞれ相当する波長間隔であ
る。また、中間波長λ。は例えば850nmであり、レ
ーザー媒質素子の光学長か300μm、共振器長Lef
tが15cmであれば、Δλ1は約1.2nm、Δλ2
は約0.024人となる。
導体レーザー媒質素子1の利得波長域内でかつ反射率の
半値幅が素子モード間隔の2倍以内で、特に発振主縦モ
ードに対して反射率が最大でかつ発振主縦モードのスペ
クトル幅を包含する反射周波数特性を有している。すな
わち、この反射周波数特性は、第3図に示すように、半
導体レーザー媒質素子1の発振縦モードのスペクトル(
実線)に対して点線で示す如き特性となっている。なお
、第3図において、Δλ1は半導体装置ザー媒質素子1
内のレーザー光の往復時間に、Δλ2は外部共振器内の
レーザー光の往復時間にそれぞれ相当する波長間隔であ
る。また、中間波長λ。は例えば850nmであり、レ
ーザー媒質素子の光学長か300μm、共振器長Lef
tが15cmであれば、Δλ1は約1.2nm、Δλ2
は約0.024人となる。
かかる構成において、半導体レーザー媒質素子1の高反
射面1aと反射素子3との間の距離り、2.が共振器長
となり、バイアス用DC電流ID。にモード同期用RF
電流I RFを重畳した電流を半導体レーザー媒質素子
1に流してモード同期周波数で活性化する。ここで、光
速をCとすると、モード同期周波数νは、シーC/2L
−ttで表わされる。活性化された半導体レーザー媒質
素子1で発生したレーザー光は、モード同期周波数νで
共振器長L 、11間を往復するから、その周波数νに
同期した短パルスとして成長する。この光パルスの一部
が反射素子3を透過して光出力となるのであるが、反射
素子3が第3図に点線で示す如き反射周波数特性を有し
ていることから、第4図に示すように、発振主縦モード
成分以外の成分か抑制され、結果的に発振主縦モード成
分のレベルが向上することになるため、光出力としてス
ペクトル幅及びパルス幅のより狭い光パルスを導出でき
ることになる。
射面1aと反射素子3との間の距離り、2.が共振器長
となり、バイアス用DC電流ID。にモード同期用RF
電流I RFを重畳した電流を半導体レーザー媒質素子
1に流してモード同期周波数で活性化する。ここで、光
速をCとすると、モード同期周波数νは、シーC/2L
−ttで表わされる。活性化された半導体レーザー媒質
素子1で発生したレーザー光は、モード同期周波数νで
共振器長L 、11間を往復するから、その周波数νに
同期した短パルスとして成長する。この光パルスの一部
が反射素子3を透過して光出力となるのであるが、反射
素子3が第3図に点線で示す如き反射周波数特性を有し
ていることから、第4図に示すように、発振主縦モード
成分以外の成分か抑制され、結果的に発振主縦モード成
分のレベルが向上することになるため、光出力としてス
ペクトル幅及びパルス幅のより狭い光パルスを導出でき
ることになる。
発明の詳細
な説明したように、本発明による光パルス発生装置にお
いては、光導波路中の反射素子か反射率の高い波長域の
中心波長か半導体レーザー媒質の利得波長域内でかつ半
値幅が素子モード間隔の2倍以内である反射波長特性を
有することにより、発振主縦モード成分以外の成分が抑
制され、結果的に発振主縦モード成分のレベルか向上す
るので、半導体レーザー媒質と光ファイバーとの結合端
面の反射率か1%程度であってもスペクトル幅及びパル
ス幅のより狭い光パルスを得ることができる。
いては、光導波路中の反射素子か反射率の高い波長域の
中心波長か半導体レーザー媒質の利得波長域内でかつ半
値幅が素子モード間隔の2倍以内である反射波長特性を
有することにより、発振主縦モード成分以外の成分が抑
制され、結果的に発振主縦モード成分のレベルか向上す
るので、半導体レーザー媒質と光ファイバーとの結合端
面の反射率か1%程度であってもスペクトル幅及びパル
ス幅のより狭い光パルスを得ることができる。
また、かかる先パルス発生装置は、より狭いスペクトル
幅及びパルス幅の光パルスを発生できるため、S HG
(Second Harmonjcs Genera
tor)技術を用いたレーザー光波長変換装置や光パラ
メトリツク発振器、さらには時間分解分光用の光源とし
て有用である。
幅及びパルス幅の光パルスを発生できるため、S HG
(Second Harmonjcs Genera
tor)技術を用いたレーザー光波長変換装置や光パラ
メトリツク発振器、さらには時間分解分光用の光源とし
て有用である。
第1図は本発明による光パルス発生装置を示す構成図、
第2図は第1図における反射素子の構成の一例を示す断
面図、第3図は半導体レーザー媒質の発振縦モードのス
ペクトル(実線)及び反射素子の反射波長特性(点線)
を示す図、第4図は本発明による発振縦モードのスペク
トル(実線)及び反射素子の反射波長特性(点線)を示
す図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・半導体レーザー媒質素子2・・・・・・
光ファイバー 3・・・・・・反射素子第 7T
iJJ ¥ニー12図 tノ 出願人 パイオニア株式会社
第2図は第1図における反射素子の構成の一例を示す断
面図、第3図は半導体レーザー媒質の発振縦モードのス
ペクトル(実線)及び反射素子の反射波長特性(点線)
を示す図、第4図は本発明による発振縦モードのスペク
トル(実線)及び反射素子の反射波長特性(点線)を示
す図である。 主要部分の符号の説明 1・・・・・・半導体レーザー媒質素子2・・・・・・
光ファイバー 3・・・・・・反射素子第 7T
iJJ ¥ニー12図 tノ 出願人 パイオニア株式会社
Claims (4)
- (1)半導体レーザー媒質と、前記半導体レーザー媒質
を注入する電流周波数に同期してモード同期発振せしめ
て光パルスを発生する外部共振器とからなる光パルス発
生装置であって、 前記外部共振器は前記半導体レーザー媒質から発せられ
るレーザー光の一部を反射する反射素子を含む光導波路
からなり、 前記反射素子は反射率の高い波長域の中心波長が前記半
導体レーザー媒質の利得波長域内でかつ半値幅が前記半
導体レーザー媒質の素子長に依存する縦モード間隔の2
倍以内である反射波長特性を有することを特徴とする光
パルス発生装置。 - (2)前記反射周波数特性は発振主縦モードのスペクト
ルの中心波長に対して反射率が最大であることを特徴と
する請求項1記載の光パルス発生装置。 - (3)前記反射波長特性がさらに狭く、発振主縦モード
のスペクトル幅のみを包含することを特徴とする請求項
1記載の光パルス発生装置。 - (4)前記光導波路は光ファイバーによって形成される
ことを特徴とする請求項1記載の光パルス発生装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2199880A JPH0777279B2 (ja) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | 光パルス発生装置 |
US07/734,973 US5181213A (en) | 1990-07-27 | 1991-07-24 | Optical pulse generating apparatus |
DE69101414T DE69101414T2 (de) | 1990-07-27 | 1991-07-29 | Optischer Impulsgeber. |
EP91306936A EP0468826B1 (en) | 1990-07-27 | 1991-07-29 | Optical pulse generating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2199880A JPH0777279B2 (ja) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | 光パルス発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0484485A true JPH0484485A (ja) | 1992-03-17 |
JPH0777279B2 JPH0777279B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=16415152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2199880A Expired - Lifetime JPH0777279B2 (ja) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | 光パルス発生装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5181213A (ja) |
EP (1) | EP0468826B1 (ja) |
JP (1) | JPH0777279B2 (ja) |
DE (1) | DE69101414T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH065961A (ja) * | 1992-01-29 | 1994-01-14 | American Teleph & Telegr Co <Att> | レーザ装置 |
Families Citing this family (24)
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---|---|---|---|---|
US5305336A (en) * | 1992-01-29 | 1994-04-19 | At&T Bell Laboratories | Compact optical pulse source |
US5237576A (en) * | 1992-05-05 | 1993-08-17 | At&T Bell Laboratories | Article comprising an optical fiber laser |
JPH0697886A (ja) * | 1992-09-14 | 1994-04-08 | Ando Electric Co Ltd | 変位素子を光スイッチとする波長可変光パルス発生器 |
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FR2700895B1 (fr) * | 1993-01-28 | 1995-03-03 | Jean Debeau | Procédé et dispositif de génération d'impulsions optiques. |
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US5555253A (en) * | 1995-01-09 | 1996-09-10 | Amoco Corporation | Technique for locking a laser diode to a passive cavity |
US5682398A (en) * | 1996-05-03 | 1997-10-28 | Eastman Kodak Company | Frequency conversion laser devices |
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AU9472298A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-22 | Micron Optics, Inc. | Tunable fiber fabry-perot surface-emitting lasers |
JP2000353856A (ja) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Nec Corp | 半導体レーザモジュ−ル |
AU5842100A (en) | 1999-07-07 | 2001-01-30 | Cyoptics Ltd. | Laser wavelength stabilization |
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WO2002103867A1 (de) * | 2001-06-15 | 2002-12-27 | Infineon Technologies Ag | Opto-elektronisches lasermodul |
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