JPH0483191A - 低エネルギ放射線用の放射検出器およびローカライザ - Google Patents
低エネルギ放射線用の放射検出器およびローカライザInfo
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- JPH0483191A JPH0483191A JP1296031A JP29603189A JPH0483191A JP H0483191 A JPH0483191 A JP H0483191A JP 1296031 A JP1296031 A JP 1296031A JP 29603189 A JP29603189 A JP 29603189A JP H0483191 A JPH0483191 A JP H0483191A
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(技術分野)
本願発明は、放射線源の検出および標定装置およびその
製造方法に関する。
製造方法に関する。
(背景技術)
癌組織の検出および処置は、長年の間熱心な研究の主題
であった。その検出の多くの試みの内の1つは、腫瘍特
有の抗原の識別に関するものであった。これらの抗原が
識別可能な場合、腫瘍部位に集まろうとする放射性核種
で識別される抗原か使用されてきた。このように集中す
ると、例えば放射性物質の集中度をイメージ化すること
により記録し、これにより腫瘍性の組織を標定するため
、やや精巧な放射線検出装置か次に使用される。この手
順における重要な進歩は、種々の放射性核種と共に単一
クローン抗原あるいはその断片を使用することによって
明らかになった。
であった。その検出の多くの試みの内の1つは、腫瘍特
有の抗原の識別に関するものであった。これらの抗原が
識別可能な場合、腫瘍部位に集まろうとする放射性核種
で識別される抗原か使用されてきた。このように集中す
ると、例えば放射性物質の集中度をイメージ化すること
により記録し、これにより腫瘍性の組織を標定するため
、やや精巧な放射線検出装置か次に使用される。この手
順における重要な進歩は、種々の放射性核種と共に単一
クローン抗原あるいはその断片を使用することによって
明らかになった。
これらの抗原の撮影を実施するための典型的な手法は、
例えば、断層写具走査法、免疫ンンチグラフィ等を含む
ものであった。抗原を識別するための放射性核種の特定
の選択は、その核特有の性質、物理的半減期、検出機器
の性能、放射性同位元素置換抗原の薬力学的特性、およ
び識別手順の困難度の程度に依有する。これらの核医療
撮影における放射性核種の内置も広く使用されるものは
、テクネチウム99“Tc、ヨウ素+25111311
、およびインジウム111inを含む。その内特に、胃
腸管の腫瘍を標定するためには、放射性核種1311が
、撮影用ガンマ線カメラ等と関連してマーカ即ちラベル
として使用されるが、これらのカメラは比較的大型であ
り、撮影過程において患者の上方に設置される精巧な装
置である。
例えば、断層写具走査法、免疫ンンチグラフィ等を含む
ものであった。抗原を識別するための放射性核種の特定
の選択は、その核特有の性質、物理的半減期、検出機器
の性能、放射性同位元素置換抗原の薬力学的特性、およ
び識別手順の困難度の程度に依有する。これらの核医療
撮影における放射性核種の内置も広く使用されるものは
、テクネチウム99“Tc、ヨウ素+25111311
、およびインジウム111inを含む。その内特に、胃
腸管の腫瘍を標定するためには、放射性核種1311が
、撮影用ガンマ線カメラ等と関連してマーカ即ちラベル
として使用されるが、これらのカメラは比較的大型であ
り、撮影過程において患者の上方に設置される精巧な装
置である。
やや広範囲に使用されているにも拘わらず、31[は診
断薬に使用するには理想的な放射性核種ではない。13
11から発射される高エネルギのガンマ・光子は、古典
的なガンマ線カメラ等の機器では僅かに検出されるに過
ぎない。更に、管理されたマーカ放射線は、患者に対し
て高い放射線量をもたらす。更にまた、これらの外的な
撮影装置のイメージ鮮明度は多くの理由から満足できる
ものではなかった。肝癌部位は小さくなるため、放射性
核種の集中は、イメージ化の観点からは、バックグラウ
ンドあるいは患者に必然的に存在する血液溜まりの放射
線において失われる傾向がある。
断薬に使用するには理想的な放射性核種ではない。13
11から発射される高エネルギのガンマ・光子は、古典
的なガンマ線カメラ等の機器では僅かに検出されるに過
ぎない。更に、管理されたマーカ放射線は、患者に対し
て高い放射線量をもたらす。更にまた、これらの外的な
撮影装置のイメージ鮮明度は多くの理由から満足できる
ものではなかった。肝癌部位は小さくなるため、放射性
核種の集中は、イメージ化の観点からは、バックグラウ
ンドあるいは患者に必然的に存在する血液溜まりの放射
線において失われる傾向がある。
最近において、例えば、+25t (27乃至35k
ev)の遥かに低エネルギのガンマ線レベルを使用する
ことにより、このような腫瘍性$:111fitの識別
および切除に関する外科的手法が発展を遂げた。このよ
うな放射性同位元素置換体は、肺癌と患者の体表面との
間の組織によって放射線が著しく吸収される故に従来の
外的なイメージ化あるいは走査装置と共には使用するこ
とができないが、プローブ型の検出構造と共に使用され
る時、非常に効率の良い弁別法が開発可能である。特に
、患者に対する放射性同位元素置換体の樺太時間から外
科手術の時間までの適当な間隔を待機することを含む外
科的方法論と組み合わせたこの種の放射性同位元素置換
体の半減期か長ければ長いはと、癌性肝癌の非常に正確
な弁別をもたらし得る。このような改善された癌f’1
. l11Ti瘍の標定、弁別および除去の方法は、腫
瘍性の組織の疑いかある患者が特定のエネルギ・レベル
の」1記光子放射に特定するある抗原の有効量が投与さ
れる外科的処置を含む。次に、外科的処置は、放射性同
位元素置換体が、患者に存在する腫瘍性の組織中に選好
的に集中させると共に、腫瘍性組織からの光子放射とバ
ンクグラウンドの光子放射との比率を増す用に正児な組
織から外させるように、このような投与後ある時間だけ
遅らせられる。
ev)の遥かに低エネルギのガンマ線レベルを使用する
ことにより、このような腫瘍性$:111fitの識別
および切除に関する外科的手法が発展を遂げた。このよ
うな放射性同位元素置換体は、肺癌と患者の体表面との
間の組織によって放射線が著しく吸収される故に従来の
外的なイメージ化あるいは走査装置と共には使用するこ
とができないが、プローブ型の検出構造と共に使用され
る時、非常に効率の良い弁別法が開発可能である。特に
、患者に対する放射性同位元素置換体の樺太時間から外
科手術の時間までの適当な間隔を待機することを含む外
科的方法論と組み合わせたこの種の放射性同位元素置換
体の半減期か長ければ長いはと、癌性肝癌の非常に正確
な弁別をもたらし得る。このような改善された癌f’1
. l11Ti瘍の標定、弁別および除去の方法は、腫
瘍性の組織の疑いかある患者が特定のエネルギ・レベル
の」1記光子放射に特定するある抗原の有効量が投与さ
れる外科的処置を含む。次に、外科的処置は、放射性同
位元素置換体が、患者に存在する腫瘍性の組織中に選好
的に集中させると共に、腫瘍性組織からの光子放射とバ
ンクグラウンドの光子放射との比率を増す用に正児な組
織から外させるように、このような投与後ある時間だけ
遅らせられる。
その後、患者の手術領域に外科的に接近し、腫瘍性組織
について調へられる手術領域内の組織のバックグラウン
ド光子放射カウントが決定される。−旦手術領域内の組
織に対するバンクグラウンドの光子放射カウントか決定
されると、この手で保持されるプローブが腫瘍性の疑い
のある組織に隣接する丁、衝頭域内に手で設置される。
について調へられる手術領域内の組織のバックグラウン
ド光子放射カウントが決定される。−旦手術領域内の組
織に対するバンクグラウンドの光子放射カウントか決定
されると、この手で保持されるプローブが腫瘍性の疑い
のある組織に隣接する丁、衝頭域内に手で設置される。
次に、弁別のための読みがプローブのカウントから得る
ことができる。この技術については、下記の技術的刊行
物を参照されたい。
ことができる。この技術については、下記の技術的刊行
物を参照されたい。
即ち、
1 、 E、 W、 Martin、 Jr、
、 MD; J、 P、 Minton、
MD。
、 MD; J、 P、 Minton、
MD。
PhD; Larry C,Carey、 MD
著1℃EA−Directed 5econd−Lo
ck Surgery in the Asympto
matic Patient afterPrimar
y Re5ection of Co1orec
tal Carcinoma”(Annals of
Surgery、 202: 1. 1985年
305−121゜Il、 P、 J、 O’Dwyer
、 MD、 CM; Mojzsik、 RN MS;
G、 H。
著1℃EA−Directed 5econd−Lo
ck Surgery in the Asympto
matic Patient afterPrimar
y Re5ection of Co1orec
tal Carcinoma”(Annals of
Surgery、 202: 1. 1985年
305−121゜Il、 P、 J、 O’Dwyer
、 MD、 CM; Mojzsik、 RN MS;
G、 H。
Hinkle、 RPh、 MS、 M、 Ru5se
au; J、 01sen、 MD; S、 E。
au; J、 01sen、 MD; S、 E。
Tuttle、 阿D; R,F、 Barth
、 PhD; D、 P、 McCabe、
MD;W、 B、 Farrar、 MD;
E、 W、 Martin、 Jr、。
、 PhD; D、 P、 McCabe、
MD;W、 B、 Farrar、 MD;
E、 W、 Martin、 Jr、。
著”Intraoperative Probe−Di
rected ImmunodetectionUsi
ng a Monoclonal Antibo
dy” (Archives ofSurgery
、121 (1986年12月1 1321−139
4)。
rected ImmunodetectionUsi
ng a Monoclonal Antibo
dy” (Archives ofSurgery
、121 (1986年12月1 1321−139
4)。
IIl、D、T、Martin、MD、G、H,Hin
kle、MRRPh、S。
kle、MRRPh、S。
Tuttle、MD、J、O]、sen、MO,H,A
bdel−Nabi、MD、D。
bdel−Nabi、MD、D。
Houchens、 PhD、 M、 Thu
rston、 PhD、 D、 E、 WMa
rtin、 Jr、、
MD−著”IntraoperativeRadi
oimmunodetection of Co1
orectai Tumors with aH
and−Held Radiation Dete
ctor” (American Journal
of Surgery、+50:6 (1985年
+2J1 )672−75)。
rston、 PhD、 D、 E、 WMa
rtin、 Jr、、
MD−著”IntraoperativeRadi
oimmunodetection of Co1
orectai Tumors with aH
and−Held Radiation Dete
ctor” (American Journal
of Surgery、+50:6 (1985年
+2J1 )672−75)。
IV、D、R,Aitken、MD、M、0.Thur
ston、PhD、G、H。
ston、PhD、G、H。
[(fnkle、 MRRPh、 D、
T、 Martin、 MD、 D、
EHaagensen、Jr、、HD、PhD、D、
Houchens、PhD、S、E。
T、 Martin、 MD、 D、
EHaagensen、Jr、、HD、PhD、D、
Houchens、PhD、S、E。
TuttlelMD、 E、 W、 Martin、
Jr、、 HD、著lIPortableGamma
Probe for Radi、oimm
une Localization ofEx
perimental Co1on Tumor Xe
nografts” (Journal ofSur
gical Re5earch、 36:5 (19
84年) 480−489)。
Jr、、 HD、著lIPortableGamma
Probe for Radi、oimm
une Localization ofEx
perimental Co1on Tumor Xe
nografts” (Journal ofSur
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84年) 480−489)。
V、 E、 W、Martin、 Jr、、M
D、 S、 E、 Tuttle、 MD、M
。
D、 S、 E、 Tuttle、 MD、M
。
Roussear、 C,M、 Mojzisik
、 RN MS、 P、 J、 O’Dwy
er。
、 RN MS、 P、 J、 O’Dwy
er。
MD、 G、 H,Hinkle、 M RP
h、 E、 A、 Miller、 R,A。
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Goodwin、O,A、0redipe、MA、R,
F、Barth、MD、J。
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0、 01sen、 MD、 D、 )louc
hens、 PhD、 S、 D、 Jeve
ll。
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ll。
MS、D、M、Bucci、BS、D、Adams、Z
、Steplewski、M。
、Steplewski、M。
0、Thurston、PhD F’、 llRa
dioimmunoguided Surgery:
Intraoperative 1.Ise of
Monoclonal Antibody +
7−IAin Co1orectal Can
cer (Hybridoma 5 5u
pplf+9861 597−1081゜ 更に、1988年11月8F1発行のE、 W、 Ma
rtin、 JrおよびM、 O,Thurstnnの
米国特許用4.782.840号「腫瘍の標定、弁別お
よび除去のための方法」をも参照されたい。
dioimmunoguided Surgery:
Intraoperative 1.Ise of
Monoclonal Antibody +
7−IAin Co1orectal Can
cer (Hybridoma 5 5u
pplf+9861 597−1081゜ 更に、1988年11月8F1発行のE、 W、 Ma
rtin、 JrおよびM、 O,Thurstnnの
米国特許用4.782.840号「腫瘍の標定、弁別お
よび除去のための方法」をも参照されたい。
このような非常に効率の良い弁別および標定手法の成功
は、この手法により必然的に発展した非常に少量の放射
線を検出することが可能なプローブ型の検出装置か得ら
れることに基づいて予測される。これに関して、125
Iの如き低エネルギの放射性核種が使用され、バックグ
ラウンド放射が最小限に抑えることかでき、かつバンク
グラウンド・カウントに対する受は取られた腫瘍特有の
カウントの比率が最大途なり得るように、核種による放
射性同位元素置換体の分布か非常に少ない。従来のプロ
ーブ型の放射線検出装置はこの目的のためには有効では
ない。一般に、室温で使用できるプローブ川の検出装置
か要求される故に、テルル化カドミウムの如き非常に脆
く即ちデリケートな結晶か使用されている。このような
結晶を用いるプローブは、例えば約2.000乃至4.
000電子間の結晶中に電子孔対を生しる僅かに1ガン
マの放射を検出できなければならない。
は、この手法により必然的に発展した非常に少量の放射
線を検出することが可能なプローブ型の検出装置か得ら
れることに基づいて予測される。これに関して、125
Iの如き低エネルギの放射性核種が使用され、バックグ
ラウンド放射が最小限に抑えることかでき、かつバンク
グラウンド・カウントに対する受は取られた腫瘍特有の
カウントの比率が最大途なり得るように、核種による放
射性同位元素置換体の分布か非常に少ない。従来のプロ
ーブ型の放射線検出装置はこの目的のためには有効では
ない。一般に、室温で使用できるプローブ川の検出装置
か要求される故に、テルル化カドミウムの如き非常に脆
く即ちデリケートな結晶か使用されている。このような
結晶を用いるプローブは、例えば約2.000乃至4.
000電子間の結晶中に電子孔対を生しる僅かに1ガン
マの放射を検出できなければならない。
1アンペアか毎秒6.25X]018個の電子を生しる
ことを考えれば、このようなプローブを用いて非常に小
さな電流を検出しなければならないことが判るであろう
。しかし、このプローブ装置もまた、例えば宇宙線、室
温の分子が生じるノイズ、またプローブ自体を単に触れ
て生しる容量的あるいは圧電作用的に誘起するノイズか
ら起生じ得る広範囲の電気的な擾乱からのかかる電流を
減衰し得るものでなければならない。これらの極限の基
準の下で使用できるものであると同時に、同しプローブ
は更に、手術室の要件の下で使用できねばならない。こ
の点において、このプローブは、汚染物質の侵入から安
全であり、滅菌が可能であり、また手術室内で外科医の
取り扱いに充分耐えるよう丈夫でなければならない。更
にまた、プローブに使用されるこの装置は、外科医を癌
の部位へ案内する目的のため装置が使用できるようにI
t!n瘍性組織が接近しつつある時これを外科医に明確
に知らせることかできなければならない。
ことを考えれば、このようなプローブを用いて非常に小
さな電流を検出しなければならないことが判るであろう
。しかし、このプローブ装置もまた、例えば宇宙線、室
温の分子が生じるノイズ、またプローブ自体を単に触れ
て生しる容量的あるいは圧電作用的に誘起するノイズか
ら起生じ得る広範囲の電気的な擾乱からのかかる電流を
減衰し得るものでなければならない。これらの極限の基
準の下で使用できるものであると同時に、同しプローブ
は更に、手術室の要件の下で使用できねばならない。こ
の点において、このプローブは、汚染物質の侵入から安
全であり、滅菌が可能であり、また手術室内で外科医の
取り扱いに充分耐えるよう丈夫でなければならない。更
にまた、プローブに使用されるこの装置は、外科医を癌
の部位へ案内する目的のため装置が使用できるようにI
t!n瘍性組織が接近しつつある時これを外科医に明確
に知らせることかできなければならない。
更に、外科的用途のためには、プローブ機器は手術口等
から有効に操作されるように小さくなければならない。
から有効に操作されるように小さくなければならない。
このような小さなサイズは、上記の使用基準において容
易には達成されない。
易には達成されない。
この手法については、E、 W、 Martin、
Jr、、MDおよびM、 0. Thurst
on、 PhDにより開発された外科的紙みである[
放射性免疫による外科手術Jとして記載されている。
Jr、、MDおよびM、 0. Thurst
on、 PhDにより開発された外科的紙みである[
放射性免疫による外科手術Jとして記載されている。
上記のやや極端な基準の下で使用できることに加えて、
緊急時の使用のため求められるプローブ機器は、実用的
な製造技術を用いて組み立て可能でなければならない。
緊急時の使用のため求められるプローブ機器は、実用的
な製造技術を用いて組み立て可能でなければならない。
プローブ機器の組み立て易さの改善の1つの試みについ
ては、1988年9月23日出願のDenen等の米国
特許出願箱077248、920号[低エネルギ放射線
放出用の検出器およびローカライザ」において記載され
ている。
ては、1988年9月23日出願のDenen等の米国
特許出願箱077248、920号[低エネルギ放射線
放出用の検出器およびローカライザ」において記載され
ている。
同出願に開示されたプローブの構造は、結晶面に固定さ
れる電極を用いてガンマ線検出結晶の両1u11に必要
なグラウンドおよびバイアスが加えられるものである。
れる電極を用いてガンマ線検出結晶の両1u11に必要
なグラウンドおよびバイアスが加えられるものである。
結晶、バイアス印加装置等を含む全ての構成要素を一緒
に構造的に保持するため、弾力性に富む保持器か使用さ
れる。−1−記の構造により製造が良好に行われたが、
同出願に記載された手法は、組立体に対し多くの構成要
素からなるキャップの使用を必要とするものであり、ま
た放射線応答結晶に対するバイアスおよびグラウンド電
極の接続に劣化か認められたものである。
に構造的に保持するため、弾力性に富む保持器か使用さ
れる。−1−記の構造により製造が良好に行われたが、
同出願に記載された手法は、組立体に対し多くの構成要
素からなるキャップの使用を必要とするものであり、ま
た放射線応答結晶に対するバイアスおよびグラウンド電
極の接続に劣化か認められたものである。
プローブの構造における更に別の改善は、ガンマ線結晶
に対する外部の要素の関連性を一体化すること、ならび
にプローブの組み立てを容易にすることの内観点におい
て必要であることが認められた。
に対する外部の要素の関連性を一体化すること、ならび
にプローブの組み立てを容易にすることの内観点におい
て必要であることが認められた。
(発明の要約)
本発明は、発射された放射線源、特にガンマ線源を検出
し標定するための装置、ならびにこのような装置を製造
する方法を目的とするものである。検出は、テルル化カ
ドミウムの如き結晶を用いて室温の条件下で、非常に低
エネルギの放射に関して達成される。装置の非常に高い
感度能力を達成するためには、やや脆い結晶が、さもな
ければ大きなノイズを生じる外部的に誘起される事態か
ら隔離状態で羅実に保持される計装法が開発された。こ
の点に関して、発散音響インピーダンスを呈する一連の
材料の使用により、マイクロッオニツク効果か最小限度
に抑えられる。構成要素間の非常に小さな運動により偶
発的に生じる容量効果あるいは圧電作用効果は、受は入
れられ得るレベルに制御される。結晶およびこれとの電
気的接点の圧縮保持が、導電性を有するが柔軟性に富む
面支持部との関連において用いられる。本装置はまた、
実際的な製造法により組み立てられる構造としなから能
率も達成するものである。
し標定するための装置、ならびにこのような装置を製造
する方法を目的とするものである。検出は、テルル化カ
ドミウムの如き結晶を用いて室温の条件下で、非常に低
エネルギの放射に関して達成される。装置の非常に高い
感度能力を達成するためには、やや脆い結晶が、さもな
ければ大きなノイズを生じる外部的に誘起される事態か
ら隔離状態で羅実に保持される計装法が開発された。こ
の点に関して、発散音響インピーダンスを呈する一連の
材料の使用により、マイクロッオニツク効果か最小限度
に抑えられる。構成要素間の非常に小さな運動により偶
発的に生じる容量効果あるいは圧電作用効果は、受は入
れられ得るレベルに制御される。結晶およびこれとの電
気的接点の圧縮保持が、導電性を有するが柔軟性に富む
面支持部との関連において用いられる。本装置はまた、
実際的な製造法により組み立てられる構造としなから能
率も達成するものである。
本発明の1つの特徴は、前方に配置された部分を有する
ハウジングを含む、予め定めたエネルギ・レベルを何す
る放射線の放り・1源を検出し標定する器具を提供する
ものである。ハウジングの前方に置かれた部分内に配置
され、−予め定めたエネルギ・レベルの放射線を減衰す
る材料から形成され、かつ前方に位置する開11から内
方へ延在する前方に置かれた結晶収受腔部を有する結晶
マウントが提供される。電気的な絶縁層が、前記腔部内
に置かれ、放射線応答結晶がこの腔部内に配置され、こ
の腔部は後部に置かれた面が前記絶縁層に而して配置さ
れ、かつ前方に置かれた面まで延在する側方部分を有す
る。バイアス装置が前記腔部内に伸びて、前記絶縁層と
隣接するバイアス接点を提供し、また前記結晶が後方に
置かれた面と前記バイアス接点との間にこれと一致し得
るように隣接状態にある第1の導電性を有する柔軟性に
富む部材が提供される。結晶が前方に置がれた而と一致
し得るように隣接して接触状態にある第2の導電性に富
む柔軟性部材が設けられ、接地装置が前記の第2の柔軟
性部材と当接状態に置かれ、結晶が前方に置かれた面を
接地させる。
ハウジングを含む、予め定めたエネルギ・レベルを何す
る放射線の放り・1源を検出し標定する器具を提供する
ものである。ハウジングの前方に置かれた部分内に配置
され、−予め定めたエネルギ・レベルの放射線を減衰す
る材料から形成され、かつ前方に位置する開11から内
方へ延在する前方に置かれた結晶収受腔部を有する結晶
マウントが提供される。電気的な絶縁層が、前記腔部内
に置かれ、放射線応答結晶がこの腔部内に配置され、こ
の腔部は後部に置かれた面が前記絶縁層に而して配置さ
れ、かつ前方に置かれた面まで延在する側方部分を有す
る。バイアス装置が前記腔部内に伸びて、前記絶縁層と
隣接するバイアス接点を提供し、また前記結晶が後方に
置かれた面と前記バイアス接点との間にこれと一致し得
るように隣接状態にある第1の導電性を有する柔軟性に
富む部材が提供される。結晶が前方に置がれた而と一致
し得るように隣接して接触状態にある第2の導電性に富
む柔軟性部材が設けられ、接地装置が前記の第2の柔軟
性部材と当接状態に置かれ、結晶が前方に置かれた面を
接地させる。
弾力性に富む保持器か前記接地装置および結晶か前方に
置かれた面一1.に緊張状態に置かれて、接地部材およ
び第2の柔軟性部材を結晶が前方に置かれた面に対し、
また結晶の後方に置かれた面を第1の柔軟性部材および
バイアス接点に対して圧縮状態で保持する。前方カバー
が、結晶マウント、結晶、接地装置、および弾力性保持
器を密閉するように配置され、予め定めたエネルギ・レ
ベルの放射線の放射の伝達を許容する。
置かれた面一1.に緊張状態に置かれて、接地部材およ
び第2の柔軟性部材を結晶が前方に置かれた面に対し、
また結晶の後方に置かれた面を第1の柔軟性部材および
バイアス接点に対して圧縮状態で保持する。前方カバー
が、結晶マウント、結晶、接地装置、および弾力性保持
器を密閉するように配置され、予め定めたエネルギ・レ
ベルの放射線の放射の伝達を許容する。
本発明の別の特徴は、下記のステップからなる予め定め
たエネルギ・レベルを持つ放射線の放射源を検出し標定
するための器具を製造する方法の提供するものである。
たエネルギ・レベルを持つ放射線の放射源を検出し標定
するための器具を製造する方法の提供するものである。
即ち、
前方に置かれた部分を有するハウジングを提供し、
予め定めたエネルギ・レベルの放射線を減衰する材料か
ら形成され、かつ前方に位置する開口から内方に延在す
る側壁面を有する予め定めた深さの前方に置かれた結晶
収受腔部を有する結晶マウントを提供し、 結晶収受腔部内に絶縁層を配置し、 前記腔部内に電気的なバイアス接点を配置し、 前記腔部内で、前記バイアス接点トにこれと自由に当接
する状態に、第1の樽電f1の柔軟性部材を置き、 後方に置かれた面と、前/J−に位置する而まて伸びる
四方部分とを有する放射線応答結晶を提す」1、し、 前記腔部内で、前記第1の導電性に富む柔軟部+A十に
、前記放射線応答結晶の後プj位置面を置き、 前記結晶の前方面子に第2の導電ヤ1柔軟部材を置き、 この第2の導電性柔軟部材1−に自111に当接状態に
柔軟性に富む接地接点を置き、 前記バイアス接点、第1の柔軟部材、結晶、第2の柔軟
部材、および接地接点の組立体を、その」、に弾力性保
持器を引き渡すことによりFr縮し、 この圧縮された組立体を結晶マウントにより、前記ハウ
ジングの前方に置かれた部分−」―に取付けることから
なる。
ら形成され、かつ前方に位置する開口から内方に延在す
る側壁面を有する予め定めた深さの前方に置かれた結晶
収受腔部を有する結晶マウントを提供し、 結晶収受腔部内に絶縁層を配置し、 前記腔部内に電気的なバイアス接点を配置し、 前記腔部内で、前記バイアス接点トにこれと自由に当接
する状態に、第1の樽電f1の柔軟性部材を置き、 後方に置かれた面と、前/J−に位置する而まて伸びる
四方部分とを有する放射線応答結晶を提す」1、し、 前記腔部内で、前記第1の導電性に富む柔軟部+A十に
、前記放射線応答結晶の後プj位置面を置き、 前記結晶の前方面子に第2の導電ヤ1柔軟部材を置き、 この第2の導電性柔軟部材1−に自111に当接状態に
柔軟性に富む接地接点を置き、 前記バイアス接点、第1の柔軟部材、結晶、第2の柔軟
部材、および接地接点の組立体を、その」、に弾力性保
持器を引き渡すことによりFr縮し、 この圧縮された組立体を結晶マウントにより、前記ハウ
ジングの前方に置かれた部分−」―に取付けることから
なる。
本発明の曲の目的については、一部は自明であり、また
一部は以下本文において明らかになるであろう。
一部は以下本文において明らかになるであろう。
従って、本発明は、以下における詳細な開示において例
示される構造、構成要素の組み合わせ、ステソフ、およ
び部品の配置を含む装置および方法からなるものである
。本発明の性格および目的をより明瞭に理解するため、
添付図面に関して以降の詳細な説明を参照すべきである
。
示される構造、構成要素の組み合わせ、ステソフ、およ
び部品の配置を含む装置および方法からなるものである
。本発明の性格および目的をより明瞭に理解するため、
添付図面に関して以降の詳細な説明を参照すべきである
。
(実施例)
第1図においては、特に外科医療分野において使用され
るように設訂された本発明のプローブおよび支援器具の
一実施態様が番号10で全体的に示されている。この組
立体は、3芯ケーブル14によりコンソール16に接続
された全体的に12で示された手で操作するプローブを
含んでいる。
るように設訂された本発明のプローブおよび支援器具の
一実施態様が番号10で全体的に示されている。この組
立体は、3芯ケーブル14によりコンソール16に接続
された全体的に12で示された手で操作するプローブを
含んでいる。
外科医により使い捨て可能なポリマー製鞘部即ちカバー
内で保持されることか望ましいこのブローフ用2は、切
除のため肝癌組織を廿定するために外科的に問題となる
領域(・1近て操イ′1される。
内で保持されることか望ましいこのブローフ用2は、切
除のため肝癌組織を廿定するために外科的に問題となる
領域(・1近て操イ′1される。
例えば、し1.腸の手術に関して使用される際、プロー
ブ12は、人体の腔部内の切開口を介して操作されて外
科医により検討される臓器と接触状態になるよう実質的
に挿入される1、枕工免疫カイト・モードで使用される
時は、コンソール16内のラウドスピーカ即ち警¥IJ
器か付勢されて、外科医に対しプローフ用2が癌の部位
にあることを通知する「サイレン」形態の出力を生しる
、1このように、装置12は便利な長さてありかつ捩り
易いことか必要である。プローブ12は、ある角度たり
偏向した部分20の先端部に置かれた放射線を受は入れ
る面即ちウィンドウ18を含むことか判る17部分20
は、手で握ることができる部分22から約30°の角度
で延在し、臓器の裏あるいは隠れた側の付近における操
作を容易にし、またテフロン(ポリテトラフルオロエチ
レン)の如き摩擦の小さな表面で被覆され、手術中組織
等の表面18か擦られることによる偶発的に牛しる/イ
スの回避を強化することか望ましい。
ブ12は、人体の腔部内の切開口を介して操作されて外
科医により検討される臓器と接触状態になるよう実質的
に挿入される1、枕工免疫カイト・モードで使用される
時は、コンソール16内のラウドスピーカ即ち警¥IJ
器か付勢されて、外科医に対しプローフ用2が癌の部位
にあることを通知する「サイレン」形態の出力を生しる
、1このように、装置12は便利な長さてありかつ捩り
易いことか必要である。プローブ12は、ある角度たり
偏向した部分20の先端部に置かれた放射線を受は入れ
る面即ちウィンドウ18を含むことか判る17部分20
は、手で握ることができる部分22から約30°の角度
で延在し、臓器の裏あるいは隠れた側の付近における操
作を容易にし、またテフロン(ポリテトラフルオロエチ
レン)の如き摩擦の小さな表面で被覆され、手術中組織
等の表面18か擦られることによる偶発的に牛しる/イ
スの回避を強化することか望ましい。
組立体IOが手術室内で使用される故に、比較的大きな
L CDの窓即ちデイスプレィ26.2連の]、F、D
窓28および一連の指で操作されるスイッチを覆う平滑
な一体の接触に感応するポリマー而24を有するコンソ
ール16もまた容易に洗浄される。全体的に30で示さ
れるこれらのスイッチあるいはキーボードは、マイクロ
ブロセソザで駆動されるコンソール16が医師と指示的
な即ち「ユーザ・フレンドリな」対話を行うことを可能
にする。
L CDの窓即ちデイスプレィ26.2連の]、F、D
窓28および一連の指で操作されるスイッチを覆う平滑
な一体の接触に感応するポリマー而24を有するコンソ
ール16もまた容易に洗浄される。全体的に30で示さ
れるこれらのスイッチあるいはキーボードは、マイクロ
ブロセソザで駆動されるコンソール16が医師と指示的
な即ち「ユーザ・フレンドリな」対話を行うことを可能
にする。
安全の目的から、この装置は充電可能なパンテリにより
電力が供給される。
電力が供給される。
それぞれ番号32.33により示される従来のオン/オ
フ・スイッチに加えて、コンソール16上に設けられた
スイッチは、カウント・モード・スイッチ34、警報ス
イッチ35、リセット・スイッチ36、スケルチ機能ス
イッチ37、較正機能スイッチ38、およびそれぞれ3
9および40で示される如きスイッチが生じるモードの
あるものにおける調整を行う逓増低減スイッチを含む。
フ・スイッチに加えて、コンソール16上に設けられた
スイッチは、カウント・モード・スイッチ34、警報ス
イッチ35、リセット・スイッチ36、スケルチ機能ス
イッチ37、較正機能スイッチ38、およびそれぞれ3
9および40で示される如きスイッチが生じるモードの
あるものにおける調整を行う逓増低減スイッチを含む。
プローブ12は、必然的に室温において使用か可能でな
ければならない。このため、本装置は、テルル化カドミ
ウム結晶を使用し、検出が要求される望ましい低エネル
ギ・レベルの放射線の故に、低エネルギのガンマ線作用
に(’+用的に反応することかできねばならない。この
ような結晶に対するガンマ線の相互作用は、主として3
つのプロセス、即ち光電効果、コンプトン散乱効果、お
よび対生成によるものである。光電効果においては、エ
ネルギの光子即ちhvか全体として1つの原子と相互に
作用する。そのエネルギは、通常量も内部の核である電
子に完全に伝えられる。
ければならない。このため、本装置は、テルル化カドミ
ウム結晶を使用し、検出が要求される望ましい低エネル
ギ・レベルの放射線の故に、低エネルギのガンマ線作用
に(’+用的に反応することかできねばならない。この
ような結晶に対するガンマ線の相互作用は、主として3
つのプロセス、即ち光電効果、コンプトン散乱効果、お
よび対生成によるものである。光電効果においては、エ
ネルギの光子即ちhvか全体として1つの原子と相互に
作用する。そのエネルギは、通常量も内部の核である電
子に完全に伝えられる。
この電子は、運動エネルギe i : h ”’ h
V E l。
V E l。
(但し、E 、、は軌道電子の結合エネルギ、hはブラ
ンクの定数、■はガンマ線の波形特性と関連する周波数
)を持って発射される。このような電子は、このエネル
ギか数千の他の電子と共有されるまで、多数の衝突を行
う。これらの電子は谷々、文献において「正孔」と呼ば
れる正の荷電領域に残る。1251のエネルギては、コ
ンプトン散乱効果はそれはと重要ではない1.対生成は
、ガンマ線に対する電子および光子の反応を意味する。
ンクの定数、■はガンマ線の波形特性と関連する周波数
)を持って発射される。このような電子は、このエネル
ギか数千の他の電子と共有されるまで、多数の衝突を行
う。これらの電子は谷々、文献において「正孔」と呼ば
れる正の荷電領域に残る。1251のエネルギては、コ
ンプトン散乱効果はそれはと重要ではない1.対生成は
、ガンマ線に対する電子および光子の反応を意味する。
この過程は]、OMev以」−を必要とするため、この
現象は本用途においては生しない。
現象は本用途においては生しない。
コンプトン散乱においては、−次光子は軌道電子のとれ
かと相互に作用し得る。電子は、−次光子のエネルギが
電子の結合エネルギと比較して大きいという条件下では
略々自由電子であると考えられる。相互作用は、−次光
子と電子との間の弾性衝突であると分析される。エネル
ギは、反跳電子と二次光子との間で共有される。この二
次光子は、−次電子の方向とは異なる方向に移動し、散
乱光子と呼ばれる。
かと相互に作用し得る。電子は、−次光子のエネルギが
電子の結合エネルギと比較して大きいという条件下では
略々自由電子であると考えられる。相互作用は、−次光
子と電子との間の弾性衝突であると分析される。エネル
ギは、反跳電子と二次光子との間で共有される。この二
次光子は、−次電子の方向とは異なる方向に移動し、散
乱光子と呼ばれる。
このように、入射するガンマ線か結晶により吸収される
と、このガンマ線はそのエネルギの一部あるいは全てを
電子に移転し、この電子は荷電粒子として半導体を通過
して正孔対を生し、従って結晶媒体内の電荷移転能力を
生しる。
と、このガンマ線はそのエネルギの一部あるいは全てを
電子に移転し、この電子は荷電粒子として半導体を通過
して正孔対を生し、従って結晶媒体内の電荷移転能力を
生しる。
荷電t1γ子か電子の正孔り・1を゛1111内部で生
じると、電界はこれらの電荷キャリアを適当な電極へ移
動させてここて蓄積さゼる、1これらの電荷が電極へ移
動して集められると、検出器に対して外部の回路内にあ
る電荷即ちプラスの電気的信号を惹起する。この時、こ
れらの信号を予め増幅し、制御装置即ちコンソール16
の電子素子へりえることか必要である。
じると、電界はこれらの電荷キャリアを適当な電極へ移
動させてここて蓄積さゼる、1これらの電荷が電極へ移
動して集められると、検出器に対して外部の回路内にあ
る電荷即ちプラスの電気的信号を惹起する。この時、こ
れらの信号を予め増幅し、制御装置即ちコンソール16
の電子素子へりえることか必要である。
有効な性能を得るためには、プローブ12は、非常に低
エネルギであるガンマ線の衝突を示す信号を生して識別
できねばならない。この点に関して、テルル化カドミウ
ム結晶とのガンマ線の相互作用が、2乃至4千の電子を
住し得る。毎秒6 25X」018frffiの電子が
1アンペアの電流を表すことから、本装置の相対感度が
明らかとなろう。
エネルギであるガンマ線の衝突を示す信号を生して識別
できねばならない。この点に関して、テルル化カドミウ
ム結晶とのガンマ線の相互作用が、2乃至4千の電子を
住し得る。毎秒6 25X」018frffiの電子が
1アンペアの電流を表すことから、本装置の相対感度が
明らかとなろう。
その結果、プローブ12内部の結晶に対する支持装置の
機械的構造は、ガンマ線の相互作用を表すこれらの著し
く小さな電荷を検出し処理するための技術として非常に
重要となる。
機械的構造は、ガンマ線の相互作用を表すこれらの著し
く小さな電荷を検出し処理するための技術として非常に
重要となる。
第2図によれば、プローブ装置12の更に詳細な図が示
されている1、前方部分2])の角度方位は手の握り部
分22の中心軸に対して30°傾斜した状態で示されて
いる。装置12は、全長か約19cmの小ささてあり、
部分22は約12.7cmの長さをf丁する。円筒構造
部12の全径は約1.9cmである。低エネルギの放射
性同位元素171′換を用いてプローブの側にジ1當に
高い感度を達成する今日までの経験によれば、多くの用
途に対して、補助的な前方規準化の必要かなくなった。
されている1、前方部分2])の角度方位は手の握り部
分22の中心軸に対して30°傾斜した状態で示されて
いる。装置12は、全長か約19cmの小ささてあり、
部分22は約12.7cmの長さをf丁する。円筒構造
部12の全径は約1.9cmである。低エネルギの放射
性同位元素171′換を用いてプローブの側にジ1當に
高い感度を達成する今日までの経験によれば、多くの用
途に対して、補助的な前方規準化の必要かなくなった。
手の握り部分22は、全体的に44で示される如き長形
の回路板」二に前置増幅器を支持する。
の回路板」二に前置増幅器を支持する。
遭遇する放射線エネルギに応じて、プローブL2のハウ
ジングは、導電性材料、従って放射線を減衰するよう機
能する遮蔽材料から形成される。
ジングは、導電性材料、従って放射線を減衰するよう機
能する遮蔽材料から形成される。
ケーブル14は、プローブの前置増幅器に対して電力を
供給すると共に、結晶に対してバイアスおよび接地を行
って前置増幅器が処理した出力信号を伝送するよう機能
する。ケーブル14は、撓ませるにはやや柔らかである
ポリテトラフルオロエチレンのカバー(テフロン)50
により相互に絶縁され離間された銀被覆(クラッド)材
46.48を含む。各線52.54の構成のテフロンで
絶縁された銀から形成された最も内側のリード線は、前
置増幅器44からの出力()’i j;、および装置1
2内部の結晶の後部面に与えられる例えば30ホルトの
バイアス信号を辻ぷ。クラット祠4Gは、前置増幅回路
に12ボルトの電力を供給し、外側のクランド材48は
、本装置のグラウンド電位を運ぶ。外側のンリコン・ゴ
ム製のカバー56か設けられる。
供給すると共に、結晶に対してバイアスおよび接地を行
って前置増幅器が処理した出力信号を伝送するよう機能
する。ケーブル14は、撓ませるにはやや柔らかである
ポリテトラフルオロエチレンのカバー(テフロン)50
により相互に絶縁され離間された銀被覆(クラッド)材
46.48を含む。各線52.54の構成のテフロンで
絶縁された銀から形成された最も内側のリード線は、前
置増幅器44からの出力()’i j;、および装置1
2内部の結晶の後部面に与えられる例えば30ホルトの
バイアス信号を辻ぷ。クラット祠4Gは、前置増幅回路
に12ボルトの電力を供給し、外側のクランド材48は
、本装置のグラウンド電位を運ぶ。外側のンリコン・ゴ
ム製のカバー56か設けられる。
第3図においては、プローブ12のノース部即ち前方部
分20の分解された細部が示される。この部分20は、
テルル化カドミウムから形成されることか望ましい放射
線に応答する結晶114を、必要な接地およびバイアス
条件を維持しながら、遮光された機械的に丈夫な状態で
保持する。
分20の分解された細部が示される。この部分20は、
テルル化カドミウムから形成されることか望ましい放射
線に応答する結晶114を、必要な接地およびバイアス
条件を維持しながら、遮光された機械的に丈夫な状態で
保持する。
一般に、このような結晶114はチョークにやや似た固
さ即ち物理的一体v1を持ち、その表面が非常に軽い金
色のコーティングを持つように形成される。このため、
このようなデリケートな結晶の取付け、およびプローブ
器具12内の操作には、高度に洗練された設計様式を必
要とする。
さ即ち物理的一体v1を持ち、その表面が非常に軽い金
色のコーティングを持つように形成される。このため、
このようなデリケートな結晶の取付け、およびプローブ
器具12内の操作には、高度に洗練された設計様式を必
要とする。
しかし、ブローフ用2の構造はその組立てか実際方法で
合理的に可能であることもまた重要である。
合理的に可能であることもまた重要である。
第3図は、管状の支持部70まで延長する手で捩ること
ができる部分22を示している。円筒状のコネクタ面7
2を含む部分7[)の前方に位置する管状部分は、室7
4を画成する内径を持つように形成される。室74は、
スラグ76を所定位置に保持する導電性を有するエポキ
ノ保持層146(第4図参照)と共に、略画々円筒状の
スラグ即ち結晶マウント76を収受する。
ができる部分22を示している。円筒状のコネクタ面7
2を含む部分7[)の前方に位置する管状部分は、室7
4を画成する内径を持つように形成される。室74は、
スラグ76を所定位置に保持する導電性を有するエポキ
ノ保持層146(第4図参照)と共に、略画々円筒状の
スラグ即ち結晶マウント76を収受する。
スラグ即ち結晶マウント76は、鉛の如き適当な放射線
減衰材料で形成され、略々円筒状の形態を呈する。この
点に関して、その後方に位置する円筒状の面78は、ハ
ウジングの後部22の室74内の上記の摺動自在な取付
けのための形態を有する。
減衰材料で形成され、略々円筒状の形態を呈する。この
点に関して、その後方に位置する円筒状の面78は、ハ
ウジングの後部22の室74内の上記の摺動自在な取付
けのための形態を有する。
スラグ76の中心に貫通しているのは接近口80で、全
体的に82で示される前ノjに位置する円筒状の四部ま
でP1通している。接近1]182は、被覆リード線8
4を通すように機能する。リード線84は、器具の手て
把持可能部分22内の物理的に隣接する前置増幅段44
まで伸びるバイアス信号伝送線として機能する。スラグ
76の円筒状の面78は、内部に形成された環状の保持
器の溝88を持つ形状であり更に中心位置の開]180
と通気するように延Y1する内孔90を内蔵する円筒状
のカラ一部分86で終わることかr1する。内孔90は
、本装置のハンドル即ち把持可能部分22と前方に置か
れた構成要素との間の気圧を等しくするように働く。こ
の内孔は更に、保守等の目的のため、スラグ即ち結晶マ
ウント76およびその関連する組立体の取り外しを容易
にするための道具を収受するよう働く。
体的に82で示される前ノjに位置する円筒状の四部ま
でP1通している。接近1]182は、被覆リード線8
4を通すように機能する。リード線84は、器具の手て
把持可能部分22内の物理的に隣接する前置増幅段44
まで伸びるバイアス信号伝送線として機能する。スラグ
76の円筒状の面78は、内部に形成された環状の保持
器の溝88を持つ形状であり更に中心位置の開]180
と通気するように延Y1する内孔90を内蔵する円筒状
のカラ一部分86で終わることかr1する。内孔90は
、本装置のハンドル即ち把持可能部分22と前方に置か
れた構成要素との間の気圧を等しくするように働く。こ
の内孔は更に、保守等の目的のため、スラグ即ち結晶マ
ウント76およびその関連する組立体の取り外しを容易
にするための道具を収受するよう働く。
凹部82内には、なかんずく電気的に絶縁する層92が
形成され、これは更に組立体のテルル化カドミウム結晶
114に対する緩衝支持部として機能する。シリコンゴ
トから形成された層92は、その外面か全体的に1()
4て示される結晶収受腔部の壁面を画成するような+7
i 辿になっており、その側面は94で示され、その底
面は96で示されている。
形成され、これは更に組立体のテルル化カドミウム結晶
114に対する緩衝支持部として機能する。シリコンゴ
トから形成された層92は、その外面か全体的に1()
4て示される結晶収受腔部の壁面を画成するような+7
i 辿になっており、その側面は94で示され、その底
面は96で示されている。
更にこの材料で形成されているのは環状の四部98て、
これは被覆リート線84の終端部に形成された対応する
形状のバイアス接点部材1. (] 0を収受する形態
を有する。例えば、接点100は、被覆リード線84内
部のリード」−に接着剤により保持された導電性に富む
銅箔から形成することかてきる。
これは被覆リート線84の終端部に形成された対応する
形状のバイアス接点部材1. (] 0を収受する形態
を有する。例えば、接点100は、被覆リード線84内
部のリード」−に接着剤により保持された導電性に富む
銅箔から形成することかてきる。
凹部98を設けることにより、このバイアス接点部材1
00は、上記のようにこれまた緩衝効果を生しるよう働
く絶縁層の底面に沿って平らに取付けることができる。
00は、上記のようにこれまた緩衝効果を生しるよう働
く絶縁層の底面に沿って平らに取付けることができる。
腔部104が画成された層92の側面94は、内部に取
付けられる結晶114の対応する側面97を完全に収受
するための長さとなっている。凹部82を形成する側面
102における結晶マウント76の放射線減衰材料は腔
部104の側面94と同一面内にあることに注意された
い。
付けられる結晶114の対応する側面97を完全に収受
するための長さとなっている。凹部82を形成する側面
102における結晶マウント76の放射線減衰材料は腔
部104の側面94と同一面内にあることに注意された
い。
保持器76のカラー即ち肩部の部分は、さもなければ、
組立体内部に置かれた時結晶の側面に入射する放射線を
胛断するように働く。
組立体内部に置かれた時結晶の側面に入射する放射線を
胛断するように働く。
腔部104の側面94の内部に置かれた面を横切る巾の
長さは、結晶114の対応するf1]よりやや大きい。
長さは、結晶114の対応するf1]よりやや大きい。
このように、空間即ち間隙95(第4図)は、腔部側面
94と結晶114の側面97との間に形成される。例え
ば、上記の如き円筒状の形態の結晶の場合は、腔部1(
)4は、結晶よりも僅かに大きい外径を有する円筒状の
形態を!Vする。
94と結晶114の側面97との間に形成される。例え
ば、上記の如き円筒状の形態の結晶の場合は、腔部1(
)4は、結晶よりも僅かに大きい外径を有する円筒状の
形態を!Vする。
例えば0.0013mm (0,[](115インチの
この小さな間隙95は、結晶の側面97と腔部1(Eの
側面94との間に生じるとんな接触からてム牛しるノイ
ス現象を防止する上で役立つ3.従って、間隙95は、
さもなければ結晶の側面97と腔部の側面94との間の
接触の結果として生成されあるいは生し得る電気的なノ
イス現象を避けるにIT効な11]を持つように形成さ
れるのである。
この小さな間隙95は、結晶の側面97と腔部1(Eの
側面94との間に生じるとんな接触からてム牛しるノイ
ス現象を防止する上で役立つ3.従って、間隙95は、
さもなければ結晶の側面97と腔部の側面94との間の
接触の結果として生成されあるいは生し得る電気的なノ
イス現象を避けるにIT効な11]を持つように形成さ
れるのである。
側面94、底面96および凹部98をイ1′する腔部1
04は、その形状および大きさが内部に挿入される結晶
組立体の対応する形状および大きさに合わせて誂えられ
る工具装置によって、間隙95の形成を考慮に入れて形
成される。第5図においては、層94を形成するプロセ
スにより腔部104をこのように注文通りに作るための
工具装置が示される。
04は、その形状および大きさが内部に挿入される結晶
組立体の対応する形状および大きさに合わせて誂えられ
る工具装置によって、間隙95の形成を考慮に入れて形
成される。第5図においては、層94を形成するプロセ
スにより腔部104をこのように注文通りに作るための
工具装置が示される。
層92に使用される材料は、例えば、米国オハイオ州グ
ローブボートのChcmbar社により市販される(
Two−r’art RTV)ゴムとして知られるノリ
コンゴムでよい。この材料は、予め定めた比率に従って
肛RTVンラスチンクゴI・材料を触媒と組み合わせる
ことによりコ1■製される7、この材料は、結晶保持器
76の凹部82内にLl;入され、矩形状の整合バー1
08、結晶の餠型110および中心に位置する整合バー
即ちロットl11からなる工具106か溜まり内に挿入
される。ロット111か開口80内に下方へ突出するこ
と、および型110か先に述べた四部98を形成するよ
う働く円筒状の突起部113を内蔵することに注目され
たい。一般に、シラスチック材料は四部82の周囲に置
かれ、これと同時に工具106か硬化に充分な時間挿入
される。
ローブボートのChcmbar社により市販される(
Two−r’art RTV)ゴムとして知られるノリ
コンゴムでよい。この材料は、予め定めた比率に従って
肛RTVンラスチンクゴI・材料を触媒と組み合わせる
ことによりコ1■製される7、この材料は、結晶保持器
76の凹部82内にLl;入され、矩形状の整合バー1
08、結晶の餠型110および中心に位置する整合バー
即ちロットl11からなる工具106か溜まり内に挿入
される。ロット111か開口80内に下方へ突出するこ
と、および型110か先に述べた四部98を形成するよ
う働く円筒状の突起部113を内蔵することに注目され
たい。一般に、シラスチック材料は四部82の周囲に置
かれ、これと同時に工具106か硬化に充分な時間挿入
される。
この工具106は後で引き出され、その結果得られるソ
ラスチ・ツク層92か空隙を牛しる間隙95を以てその
内部に置かれる結晶および関連要素を収受するものであ
る。電気的な絶縁をもたらすが、層92はまたHE ?
!i効果を生しることにも役立つ。
ラスチ・ツク層92か空隙を牛しる間隙95を以てその
内部に置かれる結晶および関連要素を収受するものであ
る。電気的な絶縁をもたらすが、層92はまたHE ?
!i効果を生しることにも役立つ。
第3図に戻り、バイアス接点部材100を層の面96の
凹部98内のり−ト1! 84と結合した状態で設置す
ると同時に、環状の即ちディスク形状の導電性に富む柔
軟部材+12か自111に当接し得るようにバイアス接
点1 +10 J=に置かれる。柔軟(変形可能)部材
+12は、例えば約(1,(105mm(0,020イ
ンチ)の厚さを持ち必要な導電性を牛しるように炭素粒
子で充填される商標rGORETIEXJの下に市販さ
れる不織テフロン布(延伸され高度の結晶性を持つ焼結
されないポリテトラフルオロエチレン)から形成される
ことが望ましい。要素112は、バイアス要素10 t
lとの緊密な接触を生じるのみならず、重要なこきには
、放射線に応答する結晶114との対応する電気的接触
を生じるように働く。結晶114の後部の而11は要素
112の−・致する面に対して自由に当接して、緊密な
面か一致する電気的な接触を牛しる。更にまた、要素1
1.2は、デリケートな結晶114をID (Lする重
要な機能を供するのである。
凹部98内のり−ト1! 84と結合した状態で設置す
ると同時に、環状の即ちディスク形状の導電性に富む柔
軟部材+12か自111に当接し得るようにバイアス接
点1 +10 J=に置かれる。柔軟(変形可能)部材
+12は、例えば約(1,(105mm(0,020イ
ンチ)の厚さを持ち必要な導電性を牛しるように炭素粒
子で充填される商標rGORETIEXJの下に市販さ
れる不織テフロン布(延伸され高度の結晶性を持つ焼結
されないポリテトラフルオロエチレン)から形成される
ことが望ましい。要素112は、バイアス要素10 t
lとの緊密な接触を生じるのみならず、重要なこきには
、放射線に応答する結晶114との対応する電気的接触
を生じるように働く。結晶114の後部の而11は要素
112の−・致する面に対して自由に当接して、緊密な
面か一致する電気的な接触を牛しる。更にまた、要素1
1.2は、デリケートな結晶114をID (Lする重
要な機能を供するのである。
接地電位は、結晶1140反対側面即ち前方面l18に
加えられる。この電位は、部材112(炭素を充填した
不織テフロン)と同し形状を呈するものでよい別の導電
性を何する柔軟部材12()を面118上に自由に当接
自在に設置することにより行われる。
加えられる。この電位は、部材112(炭素を充填した
不織テフロン)と同し形状を呈するものでよい別の導電
性を何する柔軟部材12()を面118上に自由に当接
自在に設置することにより行われる。
前のように、構成要素120は、面118と緊密に一致
することにより自由に当接する接点を提供するよう働く
。接地電位を確立するため、4つの細いプラチナ線12
2〜125か設けられるが、これは第6図に示されるよ
うにスラグ76の表面102に形成された谷a 128
〜131内に据え込みされる。
することにより自由に当接する接点を提供するよう働く
。接地電位を確立するため、4つの細いプラチナ線12
2〜125か設けられるが、これは第6図に示されるよ
うにスラグ76の表面102に形成された谷a 128
〜131内に据え込みされる。
線122〜125は次に、第6図に示されるように柔軟
部材120の前に位置する面と接触するように折り曲げ
られる。この小組立体は、透明なテープの小さなディス
ク134により固定される。
部材120の前に位置する面と接触するように折り曲げ
られる。この小組立体は、透明なテープの小さなディス
ク134により固定される。
この小さな細いプラチナ線122〜125は、衝突する
放射線の非常に小さなポテンシャル防壁を供するのみで
、部材120を介して結晶1[4の前面118に適当な
接地条件を確立する。線122〜125およびバイアス
接点部材100の双方からの電気的接触を強化し安定さ
せるため、ディスク134、柔軟ディスク120、結晶
114、柔軟ディスク+12、バイアス接点10()、
および層92の組立体が、この組立体[二に緊張状態に
置かれむξ1品保持器即ちスラグ76の溝88内の保持
器136と係合する従来の弾性Oリング138によりこ
のような緊張状態に保持される1jliI性保持器13
6によって、圧縮され物理的あるいは動的に安定した状
態に保持される。
放射線の非常に小さなポテンシャル防壁を供するのみで
、部材120を介して結晶1[4の前面118に適当な
接地条件を確立する。線122〜125およびバイアス
接点部材100の双方からの電気的接触を強化し安定さ
せるため、ディスク134、柔軟ディスク120、結晶
114、柔軟ディスク+12、バイアス接点10()、
および層92の組立体が、この組立体[二に緊張状態に
置かれむξ1品保持器即ちスラグ76の溝88内の保持
器136と係合する従来の弾性Oリング138によりこ
のような緊張状態に保持される1jliI性保持器13
6によって、圧縮され物理的あるいは動的に安定した状
態に保持される。
更に第7図を見れば、保持器136は、ナイロン等から
形l戊することかてきる弾性ウェブとして示される。こ
のウェブは、に記のf7i成要素組立体」−に置かれ、
またこれら要素−りおよび0リング138によりこのよ
うな緊張状態に保持される保持器76の外面102上で
下方に引っ張られる。
形l戊することかてきる弾性ウェブとして示される。こ
のウェブは、に記のf7i成要素組立体」−に置かれ、
またこれら要素−りおよび0リング138によりこのよ
うな緊張状態に保持される保持器76の外面102上で
下方に引っ張られる。
単純なカンブ形状のジグをこの[1的のため使用するこ
とかできる。結果として得られた組立体は、バイアスお
よび接地用の電気的接点の安定化を生しると共に、運動
が生しるノイズの生成を避けるため全ての要素を所要の
静的に安定した状態に結晶114と隣接状態に保持する
ことか判った。
とかできる。結果として得られた組立体は、バイアスお
よび接地用の電気的接点の安定化を生しると共に、運動
が生しるノイズの生成を避けるため全ての要素を所要の
静的に安定した状態に結晶114と隣接状態に保持する
ことか判った。
再び第3図において、前方カバー140が、ハウジング
の室74内に取付けられる時」1記の組立体上に置かれ
ている。1側方部分102による結晶114の側面周囲
における保持器76の鉛の如き放射線遮蔽材料の張力の
故に、前方カバー140は、アルミニウムの如き適宜の
放射線透過材料で全体的にかつ一体的に作ることかでき
る。このため、切れた後手術室からの流体等の侵入を許
しがちな窓要素18の周囲の接合部の形成を避ける。
の室74内に取付けられる時」1記の組立体上に置かれ
ている。1側方部分102による結晶114の側面周囲
における保持器76の鉛の如き放射線遮蔽材料の張力の
故に、前方カバー140は、アルミニウムの如き適宜の
放射線透過材料で全体的にかつ一体的に作ることかでき
る。このため、切れた後手術室からの流体等の侵入を許
しがちな窓要素18の周囲の接合部の形成を避ける。
カバー140は、電気的なシールドとして機能するため
、その内側面は142の如き薄い金の層を付着させるこ
とにより導電性を与えられる。最後に、カバー140の
外面はII?擦の面抵抗が小さなポリマー・コーティン
グ1/14で覆われることが望ましい。例えば、この層
1.44は、テフロンとすることかできる。このコーテ
ィングは、組織上の装置および手術室内で典型的に遭遇
する備品の運動により偶発的に生じる摩擦で生しるノイ
ズを避けることを助けるよう機能する。
、その内側面は142の如き薄い金の層を付着させるこ
とにより導電性を与えられる。最後に、カバー140の
外面はII?擦の面抵抗が小さなポリマー・コーティン
グ1/14で覆われることが望ましい。例えば、この層
1.44は、テフロンとすることかできる。このコーテ
ィングは、組織上の装置および手術室内で典型的に遭遇
する備品の運動により偶発的に生じる摩擦で生しるノイ
ズを避けることを助けるよう機能する。
第4図においては、器具の部分2()の最終的な組立体
か訂細に断面で示される。保持器即ちスラグ76が導電
性のエボキノ接石剤層146により管状の支持部分70
に接着されるが、iFI方カバカバー140た導電ヤ1
のエボキノ接首剤層17I8によりハウジングの部分7
2上に保持されることに注意。
か訂細に断面で示される。保持器即ちスラグ76が導電
性のエボキノ接石剤層146により管状の支持部分70
に接着されるが、iFI方カバカバー140た導電ヤ1
のエボキノ接首剤層17I8によりハウジングの部分7
2上に保持されることに注意。
第4図においては、管状部分70、結晶114およびこ
れと関連する構成要素の組立体が、結晶114の前方の
面118ならびに関連する緩衝する保持器および電気的
な接触要素と、カバー140の窓部18との間にデッド
スペース150が生じるように最終組立体上に指向され
ることに注意されたい。
れと関連する構成要素の組立体が、結晶114の前方の
面118ならびに関連する緩衝する保持器および電気的
な接触要素と、カバー140の窓部18との間にデッド
スペース150が生じるように最終組立体上に指向され
ることに注意されたい。
このデッドスペースは、結晶114の音響的な隔離を強
化する。
化する。
第2図の回路44に示されるように、結晶114とのガ
ンマ線の相互作用により生じる非常に弱い電荷の処理を
行うため、この相互作用の部位に対しできるだけ近く予
備的な増幅機能が生しることが重要である。プローブ1
2の後部支持部22の対応する軸心に対して前方部分2
0の中心軸が30°傾斜させる外科手術1−の必要の観
点から、導線84の長さが短いことか要求される。30
0乃至600アツト・クーロン(aLLo−coulo
mbs)の範囲の非常に小さな電荷が生しる故に、非常
に大きな利得を達成するよう機能するもノイズの生成か
少ない前置増幅段か求められる1、実際に、本装置の前
置増幅段は、例えば約25.000ボルト程度の電圧増
幅を行うものである。
ンマ線の相互作用により生じる非常に弱い電荷の処理を
行うため、この相互作用の部位に対しできるだけ近く予
備的な増幅機能が生しることが重要である。プローブ1
2の後部支持部22の対応する軸心に対して前方部分2
0の中心軸が30°傾斜させる外科手術1−の必要の観
点から、導線84の長さが短いことか要求される。30
0乃至600アツト・クーロン(aLLo−coulo
mbs)の範囲の非常に小さな電荷が生しる故に、非常
に大きな利得を達成するよう機能するもノイズの生成か
少ない前置増幅段か求められる1、実際に、本装置の前
置増幅段は、例えば約25.000ボルト程度の電圧増
幅を行うものである。
結晶11/Iは、慎重に電気的に遮蔽され、音響的に沈
静しかつ遮光状態の環境に維持される。アルミニウム製
カバー140は、ガンマ線の非常に低レベルの放射の侵
入を許す。このため、結晶1[4の前方面118全体が
放射線に曝される。カバー140の窓部18の巾が比較
的広くとも、放射性同位元素置換体等を含む組織とこの
ような放射性同位元素置換体を含まない組織との境界面
を弁別する器具12の能力は、厳密な弁別を達成する規
準化が一般的に不要である稈ジ1常に正61′である。
静しかつ遮光状態の環境に維持される。アルミニウム製
カバー140は、ガンマ線の非常に低レベルの放射の侵
入を許す。このため、結晶1[4の前方面118全体が
放射線に曝される。カバー140の窓部18の巾が比較
的広くとも、放射性同位元素置換体等を含む組織とこの
ような放射性同位元素置換体を含まない組織との境界面
を弁別する器具12の能力は、厳密な弁別を達成する規
準化が一般的に不要である稈ジ1常に正61′である。
機器の洗浄およびその無菌状態の維持を共に簡素化する
手法は、プローブ装置+21に嵌合し、容易に無菌状態
にできるポリマー材料から形成される使い捨てiiJ能
なプラスチック・カバーを使用することを含む。このよ
うに、使用に先立ち、手術要t1はこのカバー即ち鞘部
内にプローブを滑り込ませることになる1、このポリマ
ー面を付設することは、振動により生じるノイズの制御
を助けると共に、装置に必要な無菌状態を維持するため
の理想的な手法を示す。
手法は、プローブ装置+21に嵌合し、容易に無菌状態
にできるポリマー材料から形成される使い捨てiiJ能
なプラスチック・カバーを使用することを含む。このよ
うに、使用に先立ち、手術要t1はこのカバー即ち鞘部
内にプローブを滑り込ませることになる1、このポリマ
ー面を付設することは、振動により生じるノイズの制御
を助けると共に、装置に必要な無菌状態を維持するため
の理想的な手法を示す。
第8図においては、器具12がポリマー製カバー154
と共に、点線で示されている。カバー154は、例えば
0.005111Q+ (0,020インチ)の厚さを
持つ丈夫なプラスチックから形成されたノーズ部156
を含む。このため、激しい手術動作において使用される
時カバー154を破断等から守ることになる。
と共に、点線で示されている。カバー154は、例えば
0.005111Q+ (0,020インチ)の厚さを
持つ丈夫なプラスチックから形成されたノーズ部156
を含む。このため、激しい手術動作において使用される
時カバー154を破断等から守ることになる。
このノーズ部156からは、鞘部が無菌状態の安全を保
障するため充分な距離となるようI4の如き信号伝達要
素を覆うに充分な長さだけ後方へ伸びている。
障するため充分な距離となるようI4の如き信号伝達要
素を覆うに充分な長さだけ後方へ伸びている。
第9八図および第9B図においては、計装回路のブロッ
ク図が示されている1、第9八図においては、テルル化
カドミウム結晶114カ<1つの面を線+57を介して
接地され反対側の即ちバイアスか掛けられた面が線15
8、+59を介してブロック160て示されたバイアス
・フィルタと接続された状態で示されている。このフィ
ルタ16[)に対する入力は前に14で説明されこの番
号により示される如き3芯ケーブルを介して加えられる
ように線161て示される。線158は、第2図の先に
説明した線52と対応している。このバイアス電圧は、
第9B図においてブロック162で示され線163で表
される電源から出る。
ク図が示されている1、第9八図においては、テルル化
カドミウム結晶114カ<1つの面を線+57を介して
接地され反対側の即ちバイアスか掛けられた面が線15
8、+59を介してブロック160て示されたバイアス
・フィルタと接続された状態で示されている。このフィ
ルタ16[)に対する入力は前に14で説明されこの番
号により示される如き3芯ケーブルを介して加えられる
ように線161て示される。線158は、第2図の先に
説明した線52と対応している。このバイアス電圧は、
第9B図においてブロック162で示され線163で表
される電源から出る。
結晶114からの線158は、前置増幅器44の積算段
164まで伸びるように示されている。検出された放射
線擾乱の積算された値は、線165により示される如く
ブロック166て示される駆動増幅回路網へ送られる。
164まで伸びるように示されている。検出された放射
線擾乱の積算された値は、線165により示される如く
ブロック166て示される駆動増幅回路網へ送られる。
+2Vの電力が、線167で示されるように電源162
(第9B図)から与えられ、第9A図に示されるように
ブロック168により示されるプローブ電流回路へ送ら
れる。線169により示される如きマイクロコンピュー
タの制御下て、回路168は例えば、プローブ器!″!
12か適正にコンノール16と接続されたかどうかを判
定する信号を生しる。ni1置装幅段44に対する12
Vの電力の供給は、線171を介してケーブル14から
駆動増幅器まで伸びる如き線170て示されている。
(第9B図)から与えられ、第9A図に示されるように
ブロック168により示されるプローブ電流回路へ送ら
れる。線169により示される如きマイクロコンピュー
タの制御下て、回路168は例えば、プローブ器!″!
12か適正にコンノール16と接続されたかどうかを判
定する信号を生しる。ni1置装幅段44に対する12
Vの電力の供給は、線171を介してケーブル14から
駆動増幅器まで伸びる如き線170て示されている。
線171は、第2図においてケーブル14と関連して述
へたクランド46と対応している1、器具12に対する
接地電位もまた、ケーブル14まで伸び、かつ線+73
を介して器具の前置増幅要素44まで伸びる如く第9八
図に示される線172て表された電源ブロック162か
ら生しる。線173は、先に述べた第2図のクランド4
8と対応している。
へたクランド46と対応している1、器具12に対する
接地電位もまた、ケーブル14まで伸び、かつ線+73
を介して器具の前置増幅要素44まで伸びる如く第9八
図に示される線172て表された電源ブロック162か
ら生しる。線173は、先に述べた第2図のクランド4
8と対応している。
前置増幅回路44の出力は、第2図の先に述へた線54
と対応するケーブル14を介して伸びる線+7/1で示
される。線174はケーブル14から線175としてブ
ロック176で示される正規化増幅器の入力側まで伸び
ている。ブロック176により示される回路は、与えら
れた器具12のノイズ特性を増幅あるいは減衰する、即
ちスケール化し、またその値を正規化即ち以降の比較段
に対して定常化するように機能する。一般に、例えば、
27kcvのエネル・ギ・レベルのガンマ線か生じるノ
ステム内のパルスは、ノイズ・レベルより約5倍大きく
なる。
と対応するケーブル14を介して伸びる線+7/1で示
される。線174はケーブル14から線175としてブ
ロック176で示される正規化増幅器の入力側まで伸び
ている。ブロック176により示される回路は、与えら
れた器具12のノイズ特性を増幅あるいは減衰する、即
ちスケール化し、またその値を正規化即ち以降の比較段
に対して定常化するように機能する。一般に、例えば、
27kcvのエネル・ギ・レベルのガンマ線か生じるノ
ステム内のパルスは、ノイズ・レベルより約5倍大きく
なる。
増幅0回路176の正規化は、これらのノイズ・レベル
をある予め定めたレベル、例えば、200ミリホルトに
桶:保し、その結里牛しる有効ガンマ線と関連するパル
スは比較機能を保障する目的のため略々1ボルト高くな
るブロック176の増幅回路が線178を介してブロッ
ク177で表されたディジタル/アナログ・コンバータ
回路から制御される状態で示される。回路177は更に
、第9B図に示されるように、マイクロコンピュータ回
路を表すブロック180まで伸びる線179から制御さ
れる。
をある予め定めたレベル、例えば、200ミリホルトに
桶:保し、その結里牛しる有効ガンマ線と関連するパル
スは比較機能を保障する目的のため略々1ボルト高くな
るブロック176の増幅回路が線178を介してブロッ
ク177で表されたディジタル/アナログ・コンバータ
回路から制御される状態で示される。回路177は更に
、第9B図に示されるように、マイクロコンピュータ回
路を表すブロック180まで伸びる線179から制御さ
れる。
回路176から生じる正規化された出力は、線181お
よび182を介してブロック183で示される如き平均
化回路へ送られる。この回路183は、ある器具12の
あるシステムのノイズに対する増幅値を決定し、マイク
ロコンピュータ180により使用されるfJ1報として
先に述べたように使用される線184(ノイズ増幅器)
に表される如き対応信号を生しる。この情報は、ブロッ
ク17Gで示される正規化増幅器により使用されること
に加えて、比較機能のための小さな窓の値を生じるため
にも使用することかできる。。
よび182を介してブロック183で示される如き平均
化回路へ送られる。この回路183は、ある器具12の
あるシステムのノイズに対する増幅値を決定し、マイク
ロコンピュータ180により使用されるfJ1報として
先に述べたように使用される線184(ノイズ増幅器)
に表される如き対応信号を生しる。この情報は、ブロッ
ク17Gで示される正規化増幅器により使用されること
に加えて、比較機能のための小さな窓の値を生じるため
にも使用することかできる。。
&!J1182はまた、線186を介して、ブロック1
88で示されるパルス取得回路までのびる。この回路は
、ブロック180で示されるマイクロコンピュータによ
り付勢される時、線186において明らかにされる最も
高いパルス振幅の値を取11すするように機能する。次
いて、この情報は、線190により示される如くブロッ
ク+80のマイクロコンピュータへ周期的に送られる。
88で示されるパルス取得回路までのびる。この回路は
、ブロック180で示されるマイクロコンピュータによ
り付勢される時、線186において明らかにされる最も
高いパルス振幅の値を取11すするように機能する。次
いて、この情報は、線190により示される如くブロッ
ク+80のマイクロコンピュータへ周期的に送られる。
ある形態のピーク検出器を表す回路は、時に「スナップ
ショット回路」と呼ばれる。線192およびブロック1
94におけるように、線182から得られるのもバンフ
ァ増幅器であり、これは線196において従来の放射線
の測定目的のためのコンソール16の後の部分で得るこ
とができる受は取られたパルスを表す出力を生じる。
ショット回路」と呼ばれる。線192およびブロック1
94におけるように、線182から得られるのもバンフ
ァ増幅器であり、これは線196において従来の放射線
の測定目的のためのコンソール16の後の部分で得るこ
とができる受は取られたパルスを表す出力を生じる。
線+81は、第9B図においてiIJ+ 98で示され
る如く、ブロック2 (] 0で示される−1一部の窓
コンパレータおよびブロック2()2て示される下部の
窓コンパレータの1つの人力まで伸びている。
る如く、ブロック2 (] 0で示される−1一部の窓
コンパレータおよびブロック2()2て示される下部の
窓コンパレータの1つの人力まで伸びている。
ブロック202の回路により使用される比較目的のため
の閾値レベルか1!20/lから表明された状態で示さ
れ、また望ましくは線187Iから生したノイズ振幅信
号より僅かに−1、のレベルでマイクロコンピュータ回
路180のロジックにより生成される。無論、このよう
な窓の手動設定を行うことができる。同様に、有効なガ
ンマ線作用の受は入れの上部窓は対応する線206から
羅立される。
の閾値レベルか1!20/lから表明された状態で示さ
れ、また望ましくは線187Iから生したノイズ振幅信
号より僅かに−1、のレベルでマイクロコンピュータ回
路180のロジックにより生成される。無論、このよう
な窓の手動設定を行うことができる。同様に、有効なガ
ンマ線作用の受は入れの上部窓は対応する線206から
羅立される。
この閾値設定は、パルス取得回路188から得た情報か
ら行うことかできる。
ら行うことかできる。
第9A図においては、−1一部窓および下部窓の閾値の
選択は、ブロック177に示されるディジタル/アナロ
グ・コンバータ回路から制御される如きブロック180
のマイクロコンピータ回路の制御下で行われる。例えば
、変化する振幅の256ステツプからなる出力を牛しる
のは、ブロック177のこのような回路の特v1である
。段階的な逓増率は、生した電圧の値の範囲にわたって
やや変化することになる1、jfって、線208および
210における如きブロック177のこの変換回路から
の出力は、それぞれブロック212.214で示される
スケルチ回路へ送られる。これらの回路は、線208.
210のその時の出力を2乗し、これにより線204.
206の出力を規定する閾g1の均一 な率の増分を得
るように機能する。
選択は、ブロック177に示されるディジタル/アナロ
グ・コンバータ回路から制御される如きブロック180
のマイクロコンピータ回路の制御下で行われる。例えば
、変化する振幅の256ステツプからなる出力を牛しる
のは、ブロック177のこのような回路の特v1である
。段階的な逓増率は、生した電圧の値の範囲にわたって
やや変化することになる1、jfって、線208および
210における如きブロック177のこの変換回路から
の出力は、それぞれブロック212.214で示される
スケルチ回路へ送られる。これらの回路は、線208.
210のその時の出力を2乗し、これにより線204.
206の出力を規定する閾g1の均一 な率の増分を得
るように機能する。
再び第9B図において、ブロック202.202に示さ
れるコンパレータ回路の出力は、与えられた閾値の上あ
るいは下であり得る候補パルスを表し、各線216.2
18上の「UWパルス」およびrLWパルス」として生
しるものとして識別される。これらの線は、プール論理
を行って有効パルスの存否を判定するブロック220で
示される実時間パルス弁別回路へ送られる。有効パルス
は、線222により示される如きマイクロコンピュータ
180へ送られる。
れるコンパレータ回路の出力は、与えられた閾値の上あ
るいは下であり得る候補パルスを表し、各線216.2
18上の「UWパルス」およびrLWパルス」として生
しるものとして識別される。これらの線は、プール論理
を行って有効パルスの存否を判定するブロック220で
示される実時間パルス弁別回路へ送られる。有効パルス
は、線222により示される如きマイクロコンピュータ
180へ送られる。
ブロック180で示されるマイクロコンピュータは、多
数の演算モートのドでf′1動して肝癌組織を標定ある
いは弁別する際外科医を助けるため、聴覚および視覚的
な出力を生じる。前者に関しては、線224およびブロ
ック226で示されるように、音量制御機能か表明され
て線228およびブロック230に示される如きソリッ
ドステート形態のボテンノヨメータから振幅の変化か制
御される。
数の演算モートのドでf′1動して肝癌組織を標定ある
いは弁別する際外科医を助けるため、聴覚および視覚的
な出力を生じる。前者に関しては、線224およびブロ
ック226で示されるように、音量制御機能か表明され
て線228およびブロック230に示される如きソリッ
ドステート形態のボテンノヨメータから振幅の変化か制
御される。
更に、サイレン形態の周波数変化が、236で示される
スピーカおよび線238を駆動するためのブロック23
4て示される音響増幅回路に対して線232て示される
ように表明される3、上記のサイレン装置により、スピ
ーカ236からの周波数出力は、器具12が集中した放
射線の部位に近付くよう移動されるに伴い増加する。無
論、オペレータの選択により、従来のクリックおよびビ
ープ音を生じるようにできる。
スピーカおよび線238を駆動するためのブロック23
4て示される音響増幅回路に対して線232て示される
ように表明される3、上記のサイレン装置により、スピ
ーカ236からの周波数出力は、器具12が集中した放
射線の部位に近付くよう移動されるに伴い増加する。無
論、オペレータの選択により、従来のクリックおよびビ
ープ音を生じるようにできる。
矢印240およびブロック244により示されように、
マイクロコンピュータ回路180もまた入出力回路をア
ドレス指定し、この回路は、矢印244により示される
ように、変化するタイプのパルス・カウント出力、なら
びに音用レベル、パルスの高さ、ノイズ・レベルおよび
パンテリ状態を表す出力を生じるように機能する。視覚
的な読みは、第1図に関連して述へたように同じ番弓2
6を付したブロックとして、第913図に示される。同
様に、ブロック242で示される入出力機能は、第1図
の30と関連して述へた第9B図の同し番号で示される
キーホードあるいはスイッチの適当な走査を行う。カウ
ント動作中、マイクロコンピュータ回路180は、線2
48からのブロック246により示される発光ダイオー
ド駆動回路を制御するように機能する。ブロック246
で示されるこの駆動回路は、線250により示されるよ
うに、第1図の28で示され同し番号を付したブロック
で示される2連LEDデイスプレイへ入力を生じるよう
に示される。この読みは、ガンマ線が検出される時は赤
色の光を、また通常のカウント操作においては緑色の光
を生じる。周知の種類の直列出力ポートもまたコンソー
ル16上に設けられ、このようなボートは線254から
ブロック180のマイクロコンピユータからアドレス指
定されるブロック252で示され、矢印256により示
される人出力成分を有する。不揮発性のメモリーを備え
た実時間クロック/カレンダもまた、ブロック258お
よび矢印260により示される如きマイクロコンピュー
タ回路180の機能に関連して設けることもできる。
マイクロコンピュータ回路180もまた入出力回路をア
ドレス指定し、この回路は、矢印244により示される
ように、変化するタイプのパルス・カウント出力、なら
びに音用レベル、パルスの高さ、ノイズ・レベルおよび
パンテリ状態を表す出力を生じるように機能する。視覚
的な読みは、第1図に関連して述へたように同じ番弓2
6を付したブロックとして、第913図に示される。同
様に、ブロック242で示される入出力機能は、第1図
の30と関連して述へた第9B図の同し番号で示される
キーホードあるいはスイッチの適当な走査を行う。カウ
ント動作中、マイクロコンピュータ回路180は、線2
48からのブロック246により示される発光ダイオー
ド駆動回路を制御するように機能する。ブロック246
で示されるこの駆動回路は、線250により示されるよ
うに、第1図の28で示され同し番号を付したブロック
で示される2連LEDデイスプレイへ入力を生じるよう
に示される。この読みは、ガンマ線が検出される時は赤
色の光を、また通常のカウント操作においては緑色の光
を生じる。周知の種類の直列出力ポートもまたコンソー
ル16上に設けられ、このようなボートは線254から
ブロック180のマイクロコンピユータからアドレス指
定されるブロック252で示され、矢印256により示
される人出力成分を有する。不揮発性のメモリーを備え
た実時間クロック/カレンダもまた、ブロック258お
よび矢印260により示される如きマイクロコンピュー
タ回路180の機能に関連して設けることもできる。
更にまた、このマイクロコンピュータは、ブロック16
2で示される電源の状態を監視するため用いることがで
きる。このことは、ブロック262で示されるマルチプ
レクサを有し、矢印264.266により示される関連
動作を行うマイクロコンピュータ回路の相互作用により
行われる。前記電源はまた線268により示される如き
回路の論理レベル成分に対する+5ボルト・ソース、線
270の−5ボルト・ソース、ならびにデイスプレィ2
6の駆動のための線272の一9ボルトの基準電圧、そ
して最後に以下本文に述へるアナログ回路に基準入力を
与える線274で示される如き2.5ボルトの基準電圧
を提供することが判るであろう。
2で示される電源の状態を監視するため用いることがで
きる。このことは、ブロック262で示されるマルチプ
レクサを有し、矢印264.266により示される関連
動作を行うマイクロコンピュータ回路の相互作用により
行われる。前記電源はまた線268により示される如き
回路の論理レベル成分に対する+5ボルト・ソース、線
270の−5ボルト・ソース、ならびにデイスプレィ2
6の駆動のための線272の一9ボルトの基準電圧、そ
して最後に以下本文に述へるアナログ回路に基準入力を
与える線274で示される如き2.5ボルトの基準電圧
を提供することが判るであろう。
第9A図においては、フロック18()て示される如き
マイクロコンピュータ回路もまた、ブロック177で示
されるティジタル、/アナログ変換回路に対して即時の
パルス反復数と対応する人力を!jえ、この情報は線2
78を介してブロック276で示されるパルス反復数の
増幅回路に伝えられる1、線280て示される如きその
結果生しる出力は、例えは、コンソールI6の後にりえ
ることかできる。ブロック276で示されるこの回路も
また、システムの下流側の構成要素のテストのため較正
パルスを生しるために使用することもできる、7このよ
うに、マイクロコンピュータは、ブロック276で示さ
れる増幅回路へ与えるために、ブロック177のディジ
タル/アナログ変換回路を介して予め定めタパルス・レ
ベルを与える。線282において結果として生した出力
は、ブロック284により示されように選択的に切り換
えられて、線286のマイクロコンピュータ入力から線
288の較正パルスまでのパルス11Jを規定する。
マイクロコンピュータ回路もまた、ブロック177で示
されるティジタル、/アナログ変換回路に対して即時の
パルス反復数と対応する人力を!jえ、この情報は線2
78を介してブロック276で示されるパルス反復数の
増幅回路に伝えられる1、線280て示される如きその
結果生しる出力は、例えは、コンソールI6の後にりえ
ることかできる。ブロック276で示されるこの回路も
また、システムの下流側の構成要素のテストのため較正
パルスを生しるために使用することもできる、7このよ
うに、マイクロコンピュータは、ブロック276で示さ
れる増幅回路へ与えるために、ブロック177のディジ
タル/アナログ変換回路を介して予め定めタパルス・レ
ベルを与える。線282において結果として生した出力
は、ブロック284により示されように選択的に切り換
えられて、線286のマイクロコンピュータ入力から線
288の較正パルスまでのパルス11Jを規定する。
上記のシステムおよび装置ならびに方法において本発明
の範囲から逸脱することなく変更か可能であり、その記
述に含まれあるいは添付図面に示された全ての事項は例
示であって限定を意図するものではない。
の範囲から逸脱することなく変更か可能であり、その記
述に含まれあるいは添付図面に示された全ての事項は例
示であって限定を意図するものではない。
第1図は本発明の#1器を示すプローブ機器および関連
するコンソールの斜視図、第2図は内部の構造を示すた
め一部を破断した第1図に示されるプローブ機器の側面
図、第3図は第2図の計器の前方組立て状態を示す分解
図、第4図は第3図に示された本計器の実施態様の前方
部分の断面図、第5図は第2図および第3図の計器の結
晶保持器の腔部内の絶縁層を提供する器具部を示す部分
断面図、第6図は製造中に生じる第2図および第3図の
計器の構成要素の組立て状態を示す斜視図、第7図は組
立て手順の次のステラフを示す第2図および第3図の5
1器の別の斜視図、第8図は無菌状態のカバー即ち鞘部
を使用した状態を示す第2図のプローブ機器の斜視図、
および第9Δ図および第913図は本発明の計器と関連
する制御装置の機ill的な’r:l11成要素を示型
要素ック図の組み合わせ図である。 10・・・プローブ/支援機器、12・・プローブ、■
7I・・・3芯ケーブル、16・・・コンソール、18
・・・窓部、20・・・偏向した部分、22・・把持可
能部分、2/l・−ポリマー而、26・・・ティスプレ
ィ、28・・−2連のL E D 窓、30・・・スイ
ッチ/キーホード、32・−オン・スイッチ、33・・
・オフ・スイッチ、34・・・カウント・モード・スイ
ッチ、35・・・警報スイッチ、36・・・リセフト・
スイッチ、37・・・スケルチ機能スイッチ、38・・
・較正機能スイッチ、39・・スイッチ、40・・スイ
ッチ、44・・・前置増幅器、46.48・・・クラツ
ド材、5()・・・−カバー、52.54・・・線、5
6・・−ノリコン・ゴム製カバー、70・・・管状の支
持部、72・・・円筒状コネクタ面、74・・・室、7
6・・・結晶マウント、78・・円筒状面、80・・・
中心位置開口、82・・・接近口、84・・・被覆リー
ド線、86・・・円筒状カラ一部分、90・・・内孔、
92・・・絶縁層、94・・・側面、95・・・間隙、
96・・・底面、97・・・側面、98・・・凹部、1
00・・・バイアス接触部材、102・・・側面、10
4・・・腔部、】06・・・工具、108・・・矩形状
整合バー110・・結晶)II型、111・ ロソ1−
1112・・・柔軟部材、113−・・円筒状突起部、
118・・・面、137I・・・ティスフ、136・・
・保持器、138−・・すIi’ t’I Oリンク、
140・・・前方カバー、144・・・ポリマー・コー
ティング、+46・・エボキン保持層、148・−・導
電性エボキノ接着剤層、150・・・デッドスペース、
154−・・ポリマー製カバー156・・・ノーズ部、
157.158.159・・・線、160・・・バイア
ス・フィルタ、161・・線、162・・−電源、16
3・・・線、164・・・積算段、165、+67・・
・線、168・・・プローブ電流回路、169〜175
・・・線、176・・・正規化増幅器、177・・・デ
ィジタル/アナログ・コンバータ回路、178.179
・・・線、180・・・マイクロコンピュータ回路、1
81.182・・・線、183・・・平均化回路、18
4.186・・・線、188・・・パルス取得回路、1
90.192.196.198・・・線、200・・・
上部の窓コンパレータ、202・・−下部の窓コンパレ
ータ、204.2〔)6.2()8.21(J・・・線
、212・・スケルチ回路、214・・−スケルチ回路
、216.218・・・線、220・・・実時間パルス
弁別回路、222.224.228・・・線、230・
・・ポテンショメータ、232・・・線、234・・・
音響増幅回路、236・・・スピーカ、238・・・線
、246−・・発光ダイオード馴動回路、248.25
0.254・・・線、264・・・マイクロコンピュー
タ回路、266・・・マイクロコンピュータ回路、27
()、272.274・線、276・・・増幅回路、2
78.28()、282.286.288・・・線。 手 続 補 書(斌) 平成 2年3 月2−20 2、発明の名称 低エネルギ放射線用の放射検出器およびローカライザ3
゜ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 名 称 ネオプローブ・コーポレーション4、代理人 住 所 東京都千代田区大手町二丁目2番1号新大手
町ビル 206区 電話270−6641〜66−1¥−6氏名(2770
)弁理士湯浅恭二胛。 □1 5、補正命令の日付 6、補正の対象 平成 2年 2月27日 (発送口)
するコンソールの斜視図、第2図は内部の構造を示すた
め一部を破断した第1図に示されるプローブ機器の側面
図、第3図は第2図の計器の前方組立て状態を示す分解
図、第4図は第3図に示された本計器の実施態様の前方
部分の断面図、第5図は第2図および第3図の計器の結
晶保持器の腔部内の絶縁層を提供する器具部を示す部分
断面図、第6図は製造中に生じる第2図および第3図の
計器の構成要素の組立て状態を示す斜視図、第7図は組
立て手順の次のステラフを示す第2図および第3図の5
1器の別の斜視図、第8図は無菌状態のカバー即ち鞘部
を使用した状態を示す第2図のプローブ機器の斜視図、
および第9Δ図および第913図は本発明の計器と関連
する制御装置の機ill的な’r:l11成要素を示型
要素ック図の組み合わせ図である。 10・・・プローブ/支援機器、12・・プローブ、■
7I・・・3芯ケーブル、16・・・コンソール、18
・・・窓部、20・・・偏向した部分、22・・把持可
能部分、2/l・−ポリマー而、26・・・ティスプレ
ィ、28・・−2連のL E D 窓、30・・・スイ
ッチ/キーホード、32・−オン・スイッチ、33・・
・オフ・スイッチ、34・・・カウント・モード・スイ
ッチ、35・・・警報スイッチ、36・・・リセフト・
スイッチ、37・・・スケルチ機能スイッチ、38・・
・較正機能スイッチ、39・・スイッチ、40・・スイ
ッチ、44・・・前置増幅器、46.48・・・クラツ
ド材、5()・・・−カバー、52.54・・・線、5
6・・−ノリコン・ゴム製カバー、70・・・管状の支
持部、72・・・円筒状コネクタ面、74・・・室、7
6・・・結晶マウント、78・・円筒状面、80・・・
中心位置開口、82・・・接近口、84・・・被覆リー
ド線、86・・・円筒状カラ一部分、90・・・内孔、
92・・・絶縁層、94・・・側面、95・・・間隙、
96・・・底面、97・・・側面、98・・・凹部、1
00・・・バイアス接触部材、102・・・側面、10
4・・・腔部、】06・・・工具、108・・・矩形状
整合バー110・・結晶)II型、111・ ロソ1−
1112・・・柔軟部材、113−・・円筒状突起部、
118・・・面、137I・・・ティスフ、136・・
・保持器、138−・・すIi’ t’I Oリンク、
140・・・前方カバー、144・・・ポリマー・コー
ティング、+46・・エボキン保持層、148・−・導
電性エボキノ接着剤層、150・・・デッドスペース、
154−・・ポリマー製カバー156・・・ノーズ部、
157.158.159・・・線、160・・・バイア
ス・フィルタ、161・・線、162・・−電源、16
3・・・線、164・・・積算段、165、+67・・
・線、168・・・プローブ電流回路、169〜175
・・・線、176・・・正規化増幅器、177・・・デ
ィジタル/アナログ・コンバータ回路、178.179
・・・線、180・・・マイクロコンピュータ回路、1
81.182・・・線、183・・・平均化回路、18
4.186・・・線、188・・・パルス取得回路、1
90.192.196.198・・・線、200・・・
上部の窓コンパレータ、202・・−下部の窓コンパレ
ータ、204.2〔)6.2()8.21(J・・・線
、212・・スケルチ回路、214・・−スケルチ回路
、216.218・・・線、220・・・実時間パルス
弁別回路、222.224.228・・・線、230・
・・ポテンショメータ、232・・・線、234・・・
音響増幅回路、236・・・スピーカ、238・・・線
、246−・・発光ダイオード馴動回路、248.25
0.254・・・線、264・・・マイクロコンピュー
タ回路、266・・・マイクロコンピュータ回路、27
()、272.274・線、276・・・増幅回路、2
78.28()、282.286.288・・・線。 手 続 補 書(斌) 平成 2年3 月2−20 2、発明の名称 低エネルギ放射線用の放射検出器およびローカライザ3
゜ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 名 称 ネオプローブ・コーポレーション4、代理人 住 所 東京都千代田区大手町二丁目2番1号新大手
町ビル 206区 電話270−6641〜66−1¥−6氏名(2770
)弁理士湯浅恭二胛。 □1 5、補正命令の日付 6、補正の対象 平成 2年 2月27日 (発送口)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、予め定めたエネルギ・レベルを持つ放射線の放射源
を検出し標定するための器具において、前方に置かれた
部分を持つハウジングと、 前記ハウジングの前方位置部分の内部に 置かれ、前記所定のエネルギ・レベルの放射線を減衰す
る材料から形成されるマウントであって、前方に置かれ
た開口から電気的に絶縁する表面まで内部で延在する側
壁を有する前方に置かれた結晶収受用腔部を持つ結晶マ
ウントと、 前記腔部内に置かれ、前記電気的な絶縁面に面して置か
れた後方に位置する表面を持ち、かつ前方に置かれた面
まで延在する側部を持つ放射線に応答する結晶と、 前記腔部内に延在し、前記絶縁面に隣接したバイアス接
点を有するバイアス手段と、 前記結晶の後方位置の面と前記バイアス接点との間に順
応して隣接状態にある第1の導電性を有する柔軟性部材
と、 前記結晶の前方位置の面に順応してこれと 隣接状態にある第2の導電性を有する柔軟性部材と、 前記第2の柔軟性部材と隣接して当接状態に置かれ前記
結晶の前方位置の面を接地する接地手段と、 該接地手段と前記第2の導電性を有する柔軟性部材と前
記結晶の前方位置の面との上に緊張状態で置かれ、前記
接地手段と前記第2の柔軟性部材とを前記結晶の前方位
置面に押し当て、また前記後方位置の面を前記第1の柔
軟性部材に押し当てて保持する弾性保持手段と、 前記結晶マウントと前記結晶と前記接地手段と前記弾性
保持手段との上方にこれらを包囲するように置かれ、前
記予め定めたエネルギ・レベルの前記放射線の放射を伝
達することを許容する前方カバー手段と、 を設けてなる器具。 2、前記バイアス接点が、前記第1の導電性を有する柔
軟性部材と自由に当接する接触状態にある請求項1に記
載の器具。 3、前記第1の導電性を有する柔軟性部材が、炭素を充
填した不織ポリテトラフルオロエチレン布である請求項
1記載の器具。 4、前記接地手段が、前記第2の導電性を有する柔軟性
部材上でこれと自由に当接する接触状態にある請求項1
に記載の器具。 5、前記第2の導電性を有する柔軟性部材が、炭素を充
填した不織ポリテトラフルオロエチレン布である請求項
1記載の器具。 6、前記腔部内で前記絶縁面を確立するように置かれた
絶縁性のポリマー層を有する請求項1記載の器具。 7、前記前方のカバー手段の外側面上に置かれた摩擦の
小さなポリマー・コーティングを含む請求項1記載の器
具。 8、前記器具上に置くことが可能な使い捨て可能な無菌
の薄いポリマー製カバーを含み、該器具の構成要素を汚
染物から隔離して外科的用途のための無菌状態の器具の
外面を提供する請求項1記載の器具。 9、前記接地手段が、前記ハウジングと電気的に接続さ
れ、かつ前記第2の導電性を有する柔軟性部材上でこれ
と自由に当接する接触状態で延在する導線を含む請求項
1記載の器具。 10、前記接地手段の導線が、前記結晶マウントに支持
されるよう固定され、かつ前記第2の導電性を有する柔
軟性部材上でこれと自由に当接する接触状態で延在する
請求項1記載の器具。 11、前記弾性保持手段が、前記第2の導電性を有する
柔軟性部材上に緊張状態に置かれかつ前記結晶マウント
に対して緊張状態に固定された弾性ウェブである請求項
1記載の器具。 12、前記結晶マウントの結晶収受用腔部が、該結晶の
側部と少なくとも同一面内に収まる深さを有し、さもな
ければこれに入射してしまう放射線を、減衰させる形態
を呈する請求項1記載の器具。 13、前記バイアス接点が、前記第1の導電性を有する
柔軟性部材と自由に当接する接触状態にあり、 前記接地手段は、前記第2の導電性を有する柔軟性部材
上でこれと自由に当接する接触状態で延在する導電性部
材を含み、前記弾性保持手段が、前記接地手段上で緊張
状態に置かれ、かつ前記結晶マウントに対して固定され
て前記接地手段を前記第2の柔軟性部材に対して、また
前記第2の柔軟性部材を前記結晶の前方位置の面に対し
て圧縮保持させるようにする弾性ウェブである請求項1
記載の器具。 14、前記第1および第2の導電性を有する柔軟性部材
が、炭素を充填した不織ポリテトラフルオロエチレン布
である請求項13記載の器具。 15、前記弾性保持手段がナイロン帯材である請求項1
4記載の記載。 16、前記放射線に応答する結晶の側部が、実質的に接
触しない位置関係を生じるように選択された距離だけ前
記結晶収受用腔部の側壁から隔てられる請求項1記載の
器具。 17、前記放射線応答結晶の側部が、約0.0013m
m(0.005インチ)の距離だけ前記結晶収受用腔部
の側壁から隔てられる請求項1記載の器具。 18、前記放射線応答結晶の側部が、電気的ノイズ現象
の生成を避けるに充分な間隙を画成するように、前記結
晶収受用腔部の側壁から隔てられる請求項1記載の器具
。 19、予め定めたエネルギ・レベルを有する放射線の放
射源を検出し標定するための器具を製造する方法におい
て、 前方に位置する部分を持つハウジングを 設け、 前記の予め定めたエネルギ・レベルの放射線を減衰させ
る材料から形成され、かつ予め定めた深さを持ち、前方
の開口から電気的に絶縁する面まで内部で延在する側壁
を有する前方配置結晶収受用腔部を有する結晶マウント
を設け、 前記腔部内で前記絶縁面上に電気的バイアス接点を配置
し、 前記腔部内で前記バイアス接点上でこれ と自由に当接する接触状態で第1の導電性を有する柔軟
性部材を置き、 後方に位置する面と、前方に位置する面まで延在する側
部とを有する放射線に応答する結晶を設け、 前記放射線応答結晶の前記後方位置面を前記腔部内で前
記第1の導電性を有する柔軟性部材上に置き、 第2の導電性を有する柔軟性部材を前記結晶の前方面上
に置き、 可撓性の接地接点を前記第2の導電性を 有する柔軟性部材上に自由に当接する接触状態に置き、 前記電気的バイアス接点、前記第1の柔軟性部材、前記
結晶、前記第2の柔軟性部材および前記接地接点の組立
体を、その上に弾性保持体を伸ばして渡すことにより圧
縮し、 該圧縮された組立体を前記結晶マウントと共に前記ハウ
ジングの前方部分上に取付ける ステップからなる方法。 20、放射線を透過するキャップを前記圧縮された組立
体および結晶マウント上に置くステップを含む請求項1
9記載の方法。 21、前記結晶と実質的に一致する寸法の雄型によりポ
リマー層を特に前記結晶マウントの収受用腔部内に成型
して前記絶縁面を提供するステップを含む請求項19記
載の方法。 22、実質的に接触しない位置関係を生じるよう選択さ
れた距離だけ前記結晶の側部から前記側壁が隔てられる
、前記前方に位置する結晶収受用腔部を有する前記結晶
マウントが設けられる請求項19記載の方法。 23、前記結晶の側部から隔てられる寸法である前記側
壁を有するよう前記前方位置の結晶収受用腔部が形成さ
れて、その間に前記結晶による電気的ノイズ現象の発生
を避けるに有効な間隙が画成されるように前記結晶マウ
ントが設けられる請求項19記載の方法。 24、ポリマー層を特に前記結晶マウント収受用腔部内
で前記結晶と実質的に一致する寸法の雄型により成型し
て前記電気的絶縁面を提供するステップを含む請求項2
3記載の方法。
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US271023 | 1988-11-14 | ||
US404403 | 1989-09-08 | ||
US07/404,403 US5070878A (en) | 1988-11-14 | 1989-09-08 | Detector and localizer for low energy radiation emissions |
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JPH0483191A true JPH0483191A (ja) | 1992-03-17 |
JPH0833448B2 JPH0833448B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1296031A Expired - Lifetime JPH0833448B2 (ja) | 1988-11-14 | 1989-11-14 | 低エネルギ放射線用の放射検出器およびローカライザ |
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JP (1) | JPH0833448B2 (ja) |
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GR (1) | GR3019697T3 (ja) |
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