JPH0481913B2 - - Google Patents
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- JPH0481913B2 JPH0481913B2 JP62156257A JP15625787A JPH0481913B2 JP H0481913 B2 JPH0481913 B2 JP H0481913B2 JP 62156257 A JP62156257 A JP 62156257A JP 15625787 A JP15625787 A JP 15625787A JP H0481913 B2 JPH0481913 B2 JP H0481913B2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 13
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- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K15/00—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers
- G06K15/02—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers
- G06K15/12—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers
- G06K15/128—Arrangements for producing a permanent visual presentation of the output data, e.g. computer output printers using printers by photographic printing, e.g. by laser printers generating or processing printable items, e.g. characters
-
- G—PHYSICS
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Fax Reproducing Arrangements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明は、光ビームの走査により、フイルム等
の感光材料に線画のような２値化画像を露光記録
する方法に関し、特に画像寸法をより正確に記録
する方法に関する。
の感光材料に線画のような２値化画像を露光記録
する方法に関し、特に画像寸法をより正確に記録
する方法に関する。
＜従来の技術＞
第８図は、汎用されるレーザ光を利用したマル
チビームによる２値化画像の走査記録装置の一例
の概要を示す。
チビームによる２値化画像の走査記録装置の一例
の概要を示す。
すなわち、レーザ光源２１から発生されるレー
ザビームｌは複数のビームスプリツタ２２によつ
て分割され、分割された各ビームは音響光学変調
器（以下、「AOM」と記す）２３において、対
応する２値化画像信号によりON／OFF制御され
る。これらのビームのうち露光に供するビームは
集光レンズ２４により集光され、シリンダ２５上
に巻回されたフイルムなどの感光材料（以下、単
に「フイルム」と記す）２６を照射する。シリン
ダ２５は図のＸ方向（主走査方向と称する）に回
転すると同時にＹ方向（副走査方向と称する）に
駆動され、フイルム２６に所要の２値化画像が走
査記録されるのである。
ザビームｌは複数のビームスプリツタ２２によつ
て分割され、分割された各ビームは音響光学変調
器（以下、「AOM」と記す）２３において、対
応する２値化画像信号によりON／OFF制御され
る。これらのビームのうち露光に供するビームは
集光レンズ２４により集光され、シリンダ２５上
に巻回されたフイルムなどの感光材料（以下、単
に「フイルム」と記す）２６を照射する。シリン
ダ２５は図のＸ方向（主走査方向と称する）に回
転すると同時にＹ方向（副走査方向と称する）に
駆動され、フイルム２６に所要の２値化画像が走
査記録されるのである。
ところで、このような２値化画像の記録に際し
ての重要な要素として画像エツジの滑らかさと、
その寸法精度があり、特にプリント回路パターン
等においては問題となる。
ての重要な要素として画像エツジの滑らかさと、
その寸法精度があり、特にプリント回路パターン
等においては問題となる。
このため、従来では、１画素に対しビーム径を
対応する画像領域より大きくして、主・副走査方
向に隣接する露光域がかなり重複するように露光
することにより、画像エツジを滑らかにする方法
が採用されている。
対応する画像領域より大きくして、主・副走査方
向に隣接する露光域がかなり重複するように露光
することにより、画像エツジを滑らかにする方法
が採用されている。
＜発明が解決しようとする問題点＞
第９図は、この重複露光方式を従来のマルチビ
ーム走査露光に採用したときの図で、各ビームの
副走査方向の光束分布の断面を模式図で表したも
のである。
ーム走査露光に採用したときの図で、各ビームの
副走査方向の光束分布の断面を模式図で表したも
のである。
図において、各ビームは周知のようにwl〜wo
で表されるようなガウス分布をしており、ビーム
全体の光量分布はwsで示されるようになる。
で表されるようなガウス分布をしており、ビーム
全体の光量分布はwsで示されるようになる。
したがつて、使用されるフイルム２６を黒化さ
せるための露光閾値がそのフイルムの感度のバラ
ツキ等によりこの光量分布wsに対し相対的に第
９図で示すようにe0，e1，e2と異なることによ
り、記録される両線幅はd0，d1，d2と変動するこ
とが判る。この変動は、時には一画素領域分にも
至り、精度を要するプリント回路パターン等にお
いては特に問題となる。
せるための露光閾値がそのフイルムの感度のバラ
ツキ等によりこの光量分布wsに対し相対的に第
９図で示すようにe0，e1，e2と異なることによ
り、記録される両線幅はd0，d1，d2と変動するこ
とが判る。この変動は、時には一画素領域分にも
至り、精度を要するプリント回路パターン等にお
いては特に問題となる。
そこで、従来は所要の画線幅になるように、レ
ーザの光量を加減して露光することも行われる
が、プリント回路基板の回路パターンにおけるよ
うに画像にポジとネガが混在する場合には、両方
の画像について、その画線幅を適切になるように
対応することはむずかしい。
ーザの光量を加減して露光することも行われる
が、プリント回路基板の回路パターンにおけるよ
うに画像にポジとネガが混在する場合には、両方
の画像について、その画線幅を適切になるように
対応することはむずかしい。
本発明は、これらの問題に対し、画線幅を安定
して制御し、精度良く再現することを目的とす
る。
して制御し、精度良く再現することを目的とす
る。
＜問題点を解決するための手段＞
本発明は、次のような方法でこの問題を解決し
た。
た。
すなわち、本発明の２値化画像の走査記録方法
は、画素と１対１に対応する光ビームを画素信号
の大きさに応じてON／OFF制御することによ
り、２値化画像を感光材料に走査記録する方法に
おいて、各画素に対応する光ビームの露光域が隣
接画素に重複するように露光を行う。
は、画素と１対１に対応する光ビームを画素信号
の大きさに応じてON／OFF制御することによ
り、２値化画像を感光材料に走査記録する方法に
おいて、各画素に対応する光ビームの露光域が隣
接画素に重複するように露光を行う。
そして、各画素に対するドツトデータを光ビー
ムON／OFF制御用の出力ドツトデータに変換す
るに際し、各画素に対するドツトデータと、これ
に対して主走査方向の前または後に隣接するいず
れか一方の画素のドツトデータと、これらの２つ
のドツトデータに対して副走査方向の前または後
に隣接するいずれか一方の２つの画素のドツトデ
ータとの合計４つの画素（以下、「隣接４画素」
と記す）のドツトデータに対して、 (a) 隣接４画素のドツトデータの論理積が“１”
のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームのON用の出力ドツトデータに変換
し、かつ、前記論理積が“０”のときにその変
換対象の画素のドツトデータを光ビームOFF
用の出力ドツトデータに変換するか、または、 (b) 隣接４画素のドツトデータの論理和が“１”
のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームのON用の出力ドツトデータに変換
し、かつ、前記論理和が“０”のときにその変
換対象の画素のドツトデータを光ビームOFF
用の出力ドツトデータに変換することを特徴と
する。
ムON／OFF制御用の出力ドツトデータに変換す
るに際し、各画素に対するドツトデータと、これ
に対して主走査方向の前または後に隣接するいず
れか一方の画素のドツトデータと、これらの２つ
のドツトデータに対して副走査方向の前または後
に隣接するいずれか一方の２つの画素のドツトデ
ータとの合計４つの画素（以下、「隣接４画素」
と記す）のドツトデータに対して、 (a) 隣接４画素のドツトデータの論理積が“１”
のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームのON用の出力ドツトデータに変換
し、かつ、前記論理積が“０”のときにその変
換対象の画素のドツトデータを光ビームOFF
用の出力ドツトデータに変換するか、または、 (b) 隣接４画素のドツトデータの論理和が“１”
のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームのON用の出力ドツトデータに変換
し、かつ、前記論理和が“０”のときにその変
換対象の画素のドツトデータを光ビームOFF
用の出力ドツトデータに変換することを特徴と
する。
＜作用＞
本発明の構成による作用は、次のとおりであ
る。
る。
各画素について隣接４画素域単位で、上述の論
理積または論理和により露光のON／OFF制御が
行われる。したがつて、各画素の露光域は、主お
よび副走査方向での前に隣接する画素に対する走
査（計３回）が先に行われているので合計隣接４
画素のデータの論理演算により１，２，３，４回
の重複露光量の段階を有する。
理積または論理和により露光のON／OFF制御が
行われる。したがつて、各画素の露光域は、主お
よび副走査方向での前に隣接する画素に対する走
査（計３回）が先に行われているので合計隣接４
画素のデータの論理演算により１，２，３，４回
の重複露光量の段階を有する。
＜実施例＞
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明を適用した実施例の光学系の概
要を示す図であり、また、第４図はドツトデータ
を演算処理する画像信号処理回路の構成を示す図
である。
要を示す図であり、また、第４図はドツトデータ
を演算処理する画像信号処理回路の構成を示す図
である。
図示しないレーザ光源からのレーザビームL0
はビームスプリツタ１５で２つに分割され、直進
したビームL1はロツドレンズ１により一方向に
拡散し、シリンドリカルレンズ２は、拡散された
ビームを平行光に変換する。
はビームスプリツタ１５で２つに分割され、直進
したビームL1はロツドレンズ１により一方向に
拡散し、シリンドリカルレンズ２は、拡散された
ビームを平行光に変換する。
平行光は、アパーチヤ３で各々のビーム内およ
びビーム相互間の光量分布がほぼ一様なLA1〜LAo
からなる並列ビームLAとなる。また、ビームL2
も反射ミラー１６で反射された後、ロツドレンズ
１′、シリンドリカルレンズ２′、アパーチヤ３′
の光学系により、ビームL1と同様にLB1〜LBoから
なる並列ビームLBとなる。
びビーム相互間の光量分布がほぼ一様なLA1〜LAo
からなる並列ビームLAとなる。また、ビームL2
も反射ミラー１６で反射された後、ロツドレンズ
１′、シリンドリカルレンズ２′、アパーチヤ３′
の光学系により、ビームL1と同様にLB1〜LBoから
なる並列ビームLBとなる。
並列ビームLA，LBは、AOM４，４′に入り、
そこで後述のように各ビームに対してON／OFF
制御される。並列ビームLA，LBの内のON信号に
よる個々のビームが所要の露光ビームとすると
（OFF信号によるものを露光ビームとしてもよ
い）、それらは図のようにAOM４，４′に対して
一定方向に偏向され、図示しない集光レンズによ
り、第２図のようにフイルム上にLA1′，LA2′，…
…LAo′および，LB1′，LB2′……LBo′の光点として
配列・集光される。
そこで後述のように各ビームに対してON／OFF
制御される。並列ビームLA，LBの内のON信号に
よる個々のビームが所要の露光ビームとすると
（OFF信号によるものを露光ビームとしてもよ
い）、それらは図のようにAOM４，４′に対して
一定方向に偏向され、図示しない集光レンズによ
り、第２図のようにフイルム上にLA1′，LA2′，…
…LAo′および，LB1′，LB2′……LBo′の光点として
配列・集光される。
そして、これらの光点はすべて画素に対応する
露光領域に対して主および副走査方向にほぼ２倍
の大きさになつている。また、光点LA′の画素に
対する露光域配列と光点LB′の画素に対する露光
域配列とは副走査方向に１画素分ずれており、
LA′はLB′は主走査方向に４画素分ずれている。
露光領域に対して主および副走査方向にほぼ２倍
の大きさになつている。また、光点LA′の画素に
対する露光域配列と光点LB′の画素に対する露光
域配列とは副走査方向に１画素分ずれており、
LA′はLB′は主走査方向に４画素分ずれている。
これは、レーザビームがいわゆる同波長のコヒ
ーレント光である場合、ビームどうしが同時に重
複すると、その間に干渉が起き、筋状に記録され
る欠陥が生じるため両光点列間にいくらかの間隔
をおいたものであり、この干渉の影響が問題にな
らない用途においては両光点列をより近づけた
り、１列にすることも差し支えはない。
ーレント光である場合、ビームどうしが同時に重
複すると、その間に干渉が起き、筋状に記録され
る欠陥が生じるため両光点列間にいくらかの間隔
をおいたものであり、この干渉の影響が問題にな
らない用途においては両光点列をより近づけた
り、１列にすることも差し支えはない。
なお、LA′およびLB′内の各光点は副走査方向
に隣接して描いてあるが、実際には干渉が起きな
い程度に離間している。また、最近この干渉が生
じないようにする技術が確定されつつあり、この
場合は上述のような離間の必要はなく、LA′と
LB′が重複する状態での走査も可能である。
に隣接して描いてあるが、実際には干渉が起きな
い程度に離間している。また、最近この干渉が生
じないようにする技術が確定されつつあり、この
場合は上述のような離間の必要はなく、LA′と
LB′が重複する状態での走査も可能である。
このLA′，LB′の配列による光点が各画素のド
ツトデータにより点滅しながら図の右方向（主走
査方向）に走査すると同時にフイルムが図の上方
向に送られ、所要の画像が順次に露光記録され
る。
ツトデータにより点滅しながら図の右方向（主走
査方向）に走査すると同時にフイルムが図の上方
向に送られ、所要の画像が順次に露光記録され
る。
第３図は並列ビームLA（またはLB）の光量分布
を第９図と対応して表した模式図である。
を第９図と対応して表した模式図である。
上述のように分割された各ビームは、すべて
ON信号として見た場合、第３図のW1〜Woで示
すように全体的に平坦な光量分布となつている。
ON信号として見た場合、第３図のW1〜Woで示
すように全体的に平坦な光量分布となつている。
次に、これら各ビームLA，LBのON／OFF制御
信号を発生させる画像信号処理回路の例を第４図
に示す。
信号を発生させる画像信号処理回路の例を第４図
に示す。
走査記録用の一連の各画素に対する２値化画像
信号の作成については各種のスキヤナ（レーザプ
ロツタ等）で既に行われているので、ここでは省
略するが、これらは、先ず副走査方向の画像信号
配列としてコントローラ５およびアドレスカウン
タ６により順次１ライン毎にラインメモリ７ａ，
７ｂに書き込まれる。
信号の作成については各種のスキヤナ（レーザプ
ロツタ等）で既に行われているので、ここでは省
略するが、これらは、先ず副走査方向の画像信号
配列としてコントローラ５およびアドレスカウン
タ６により順次１ライン毎にラインメモリ７ａ，
７ｂに書き込まれる。
次に、２×２マスク演算部８は、各画素毎にデ
ータセレクタ９により読み出される隣接４画素デ
ータにより後記のようにして所要の論理演算を行
い、その結果を再び１ライン毎にドツトデータメ
モリ１０ａ（または１０ｂ）にメモリさせる。
ータセレクタ９により読み出される隣接４画素デ
ータにより後記のようにして所要の論理演算を行
い、その結果を再び１ライン毎にドツトデータメ
モリ１０ａ（または１０ｂ）にメモリさせる。
ドツトデータメモリ１０ａは第２図の並列ビー
ムLA中のドツトデータをメモリするものであり、
ドツトデータメモリ１０ｂは並列ビームLB中の
ドツトデータをメモリするものであり、それぞれ
コントローラ５により個別的に制御される。
ムLA中のドツトデータをメモリするものであり、
ドツトデータメモリ１０ｂは並列ビームLB中の
ドツトデータをメモリするものであり、それぞれ
コントローラ５により個別的に制御される。
こうして、ラインメモリ７ａ，７ｂからの読み
出し、演算処理中に次の１ライン分のデータがラ
インメモリ７ｃに書き込まれ、演算処理後にはラ
インメモリ７ｂ，７ｃに対して同じく読み出し、
演算処理が行われるとともに、次の１ライン分の
データがラインメモリ７ａに書き込まれるという
繰り返し処理が行われる。
出し、演算処理中に次の１ライン分のデータがラ
インメモリ７ｃに書き込まれ、演算処理後にはラ
インメモリ７ｂ，７ｃに対して同じく読み出し、
演算処理が行われるとともに、次の１ライン分の
データがラインメモリ７ａに書き込まれるという
繰り返し処理が行われる。
ドツトデータメモリ１０ｂのデータはAOM
４′に読み出され、ドツトデータメモリ１０ａの
データは遅延回路１１によりドツトデータメモリ
１０ｂより４画素分遅れたデータとしてAOM４
に読み出され、これらのデータによりAOM４，
４′を介して分割された各レーザビームが偏向変
調され、フイルム上へのON／OFFビームとして
照射される。 次に、２×２マスク演算部８によ
る画像幅のコントロールの動作について説明す
る。
４′に読み出され、ドツトデータメモリ１０ａの
データは遅延回路１１によりドツトデータメモリ
１０ｂより４画素分遅れたデータとしてAOM４
に読み出され、これらのデータによりAOM４，
４′を介して分割された各レーザビームが偏向変
調され、フイルム上へのON／OFFビームとして
照射される。 次に、２×２マスク演算部８によ
る画像幅のコントロールの動作について説明す
る。
今、ｎ画素からなる１ライン上（副走査方向）
の画素の位置座標を１，２，３，……，ｉ，……
ｎとし、主走査方向に同じく１，２，３，……，
ｊ，……ｎとし、ｉ番目とｊ番目の交点にある画
素をDijで表すものとする。
の画素の位置座標を１，２，３，……，ｉ，……
ｎとし、主走査方向に同じく１，２，３，……，
ｊ，……ｎとし、ｉ番目とｊ番目の交点にある画
素をDijで表すものとする。
画素Dijに対応するビームは画素D(i+1)j，Di(j+1)，
D(i+1)(j+1)を含めた領域（隣接４画素の領域）を露
光することになり、それは作業前に予め選択設定
される論理式により決定される。
D(i+1)(j+1)を含めた領域（隣接４画素の領域）を露
光することになり、それは作業前に予め選択設定
される論理式により決定される。
すなわち、その露光域は、論理積、
Dij＋D(i+1)j・Di(j+1)・D(i+1)(j+1)
または、論理和、
Dij＋D(i+1)j＋Di(j+1)＋D(i+1)(j+1)が“１”のとき
は露光状態となり、“０”のときは非露光状態と
なる。
は露光状態となり、“０”のときは非露光状態と
なる。
第５図および第６図は、説明のために主走査方
向の１回の走査露光ライン分の副走査方向幅を８
ドツトとし、太枠で囲んだパターンＰを所要の画
像として走査記録するときの模式図で、パターン
Ｐ内の２値化ドツトデータは“１”で、他は
“０”となつている。
向の１回の走査露光ライン分の副走査方向幅を８
ドツトとし、太枠で囲んだパターンＰを所要の画
像として走査記録するときの模式図で、パターン
Ｐ内の２値化ドツトデータは“１”で、他は
“０”となつている。
本実施例では先述のように露光用光点が画素幅
の約２倍となつており、したがつて画素Dijが画
素領域内にある場合には、その前のD(i-1)(j-1)，
Di(j-1)およびD(i-1)jの画素の走査露光時にも露光
され得るので、合計最大４回の露光を受け得るこ
とになる。
の約２倍となつており、したがつて画素Dijが画
素領域内にある場合には、その前のD(i-1)(j-1)，
Di(j-1)およびD(i-1)jの画素の走査露光時にも露光
され得るので、合計最大４回の露光を受け得るこ
とになる。
第５図Ａは論理和による場合、第６図Ａは論理
積による場合を表し、各画素内の数値は走査露光
の結果重複して露光される回数を表している。
積による場合を表し、各画素内の数値は走査露光
の結果重複して露光される回数を表している。
また、第５図Ｂは同図ＡのＥ−Ｅ間の各画素毎
の露光量（または露光回数）をグラフとして表
し、第６図Ｂは同図ＡのＦ−Ｆ間の各画素毎の露
光量（または露光回数）をグラフとして表したも
のである。
の露光量（または露光回数）をグラフとして表
し、第６図Ｂは同図ＡのＦ−Ｆ間の各画素毎の露
光量（または露光回数）をグラフとして表したも
のである。
また、第７図は、第５図および第６図と比較の
ために、前述の論理演算を行わずに各画素のデー
タのまま露光した場合の模式図である。
ために、前述の論理演算を行わずに各画素のデー
タのまま露光した場合の模式図である。
図で明らかなように第５図Ｂではフイルムの露
光閾値が露光回数の３と４との間にあると、黒化
される結果画像領域は所要の画像領域と一致する
が、３以下では結果画像領域は所要画像領域より
大きくなつてしまい、また、４より大きいと画像
は記録されないことを判る。
光閾値が露光回数の３と４との間にあると、黒化
される結果画像領域は所要の画像領域と一致する
が、３以下では結果画像領域は所要画像領域より
大きくなつてしまい、また、４より大きいと画像
は記録されないことを判る。
同じく、第６図Ｂでは露光閾値が露光回数０よ
り大きく１以下であれば、黒化される画像幅は所
要の４画素となるが、１より大きく２以下では３
画素、２より大きく３以下では１画素、３より大
きいと画像は記録されないことが判る。
り大きく１以下であれば、黒化される画像幅は所
要の４画素となるが、１より大きく２以下では３
画素、２より大きく３以下では１画素、３より大
きいと画像は記録されないことが判る。
これらに対し、第７図を見ると明らかなよう
に、論理演算を一切行わずに重複して走査露光を
行うと、フイルムの露光閾値が露光回数のどのレ
ベルにあつても、所要のパターンＰと同じ画像は
記録できないことが判る。
に、論理演算を一切行わずに重複して走査露光を
行うと、フイルムの露光閾値が露光回数のどのレ
ベルにあつても、所要のパターンＰと同じ画像は
記録できないことが判る。
したがつて、例えば２×２マスク演算の論理式
を、フイルム感度が低く露光閾値がビーム光量に
対して相対的に高い場合（例えば第５図Ａの露光
回数３と４の間）は論理和に、この逆の場合は論
理積に設定することにより、常に所要寸法の画像
が得られるように調節が可能になる。
を、フイルム感度が低く露光閾値がビーム光量に
対して相対的に高い場合（例えば第５図Ａの露光
回数３と４の間）は論理和に、この逆の場合は論
理積に設定することにより、常に所要寸法の画像
が得られるように調節が可能になる。
本実施例は、画像エツジをより滑らかにするた
め、上述のごとくアパーチヤ３により分割ビーム
それぞれの内部の光量を一様なものとしたため、
画像の寸法は露光回数と露光閾値との兼ね合いに
より上述のようにデジタル的に特にコントロール
しやすい利点があるが、従来のガウス分布の分割
ビームの場合に適用しても同様に画像寸法のコン
トロールができる。
め、上述のごとくアパーチヤ３により分割ビーム
それぞれの内部の光量を一様なものとしたため、
画像の寸法は露光回数と露光閾値との兼ね合いに
より上述のようにデジタル的に特にコントロール
しやすい利点があるが、従来のガウス分布の分割
ビームの場合に適用しても同様に画像寸法のコン
トロールができる。
また、画像パターンにネガ、ポジが混在してい
ても、その画素信号に対応してより正確に露光記
録を行うことができる。
ても、その画素信号に対応してより正確に露光記
録を行うことができる。
なお、第２図において、分けられた並列ビーム
LAと並列ビームLBの副走査方向のずれ量を１画
素分としたが、必ずしも正確である必要はない。
LAと並列ビームLBの副走査方向のずれ量を１画
素分としたが、必ずしも正確である必要はない。
また、隣接４画素は、主走査方向および副走査
方向の各々の後側に隣接するものとしたが、前側
に隣接するものとしてもよい。また、マルチビー
ム露光だけでなく、シングルビーム露光の場合で
も、露光域が重複する走査露光方式であれば本発
明により全く同じ効果が得られる。
方向の各々の後側に隣接するものとしたが、前側
に隣接するものとしてもよい。また、マルチビー
ム露光だけでなく、シングルビーム露光の場合で
も、露光域が重複する走査露光方式であれば本発
明により全く同じ効果が得られる。
＜発明の効果＞
本発明によれば、上述のように作用するので、
感光材料の感度にバラツキがあつても、それに応
じて２×２マスク演算を論理和または論理積に設
定することにより、常に画像寸法を精度良く記録
することができる。また、ネガ、ポジが混在して
いても高精度な記録ができる。
感光材料の感度にバラツキがあつても、それに応
じて２×２マスク演算を論理和または論理積に設
定することにより、常に画像寸法を精度良く記録
することができる。また、ネガ、ポジが混在して
いても高精度な記録ができる。
第１図は本発明の実施例の光学系の概要構成を
示す図、第２図は露光ビームの配列を示す図、第
３図はビームの光量分布図、第４図は画像信号処
理回路のブロツク図、第５図および第６図は論理
演算の状態をパターンＰに対して示す図である。
また、第７図は第５図、第６図との比較のために
論理演算を行わずに各画素のデータのまま露光し
た場合の模式図、第８図は従来のマルチビーム露
光方式の一例を示す図、第９図は第８図における
ビームの光量分布を示す図である。 １，１′……ロツドレンズ、２，２′……シリン
ドリカルレンズ、３，３′……アパーチヤ、４，
４′……AOM、５……コントローラ、６……ア
ドレスカウンタ、７ａ，７ｂ，７ｃ……ラインメ
モリ（第１〜第３）、８……２×２マスク演算部、
９……データセレクタ、１０ａ，１０ｂ……ドツ
トデータメモリ（第１〜第３）、１１……遅延回
路、１５……ビームスプリツタ、１６……反射ミ
ラー。
示す図、第２図は露光ビームの配列を示す図、第
３図はビームの光量分布図、第４図は画像信号処
理回路のブロツク図、第５図および第６図は論理
演算の状態をパターンＰに対して示す図である。
また、第７図は第５図、第６図との比較のために
論理演算を行わずに各画素のデータのまま露光し
た場合の模式図、第８図は従来のマルチビーム露
光方式の一例を示す図、第９図は第８図における
ビームの光量分布を示す図である。 １，１′……ロツドレンズ、２，２′……シリン
ドリカルレンズ、３，３′……アパーチヤ、４，
４′……AOM、５……コントローラ、６……ア
ドレスカウンタ、７ａ，７ｂ，７ｃ……ラインメ
モリ（第１〜第３）、８……２×２マスク演算部、
９……データセレクタ、１０ａ，１０ｂ……ドツ
トデータメモリ（第１〜第３）、１１……遅延回
路、１５……ビームスプリツタ、１６……反射ミ
ラー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 画素と１対１に対応する光ビームを画素信号
の大きさに応じてON／OFF制御することによ
り、２値化画像を感光材料に走査記録する方法に
おいて、 各画素に対するドツトデータを光ビームON／
OFF制御用の出力ドツトデータに変換するに際
し、 各画素に対するドツトデータと、これに対して
主走査方向の前または後の隣接するいずれか一方
の画素のドツトデータと、これらの２つのドツト
データに対して副走査方向の前または後に隣接す
るいずれか一方の２つの画素のドツトデータとの
合計４つの画素のドツトデータに対して、 これら４つのドツトデータの論理積が“１”の
ときにその変換対象の画素のドツトデータを光ビ
ームON用の出力ドツトデータに変換し、かつ、
前記論理積が“０”のときにその変換対象の画素
のドツトデータを光ビームOFF用の出力ドツト
データに変換するか、 または、前記４つのドツトデータの論理和が
“１”のときにその変換対象の画素のドツトデー
タを光ビームON用の出力ドツトデータに変換
し、かつ、前記論理和が“０”のときにその変換
対象の画素のドツトデータを光ビームOFF用の
出力ドツトデータに変換し、 各画素に対応する光ビームの露光域が前記隣接
４画素に対応する露光域を露光することを特徴と
する２値化画像の走査記録方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156257A JPS641367A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Scanning and recording method for binarization picture |
| US07/210,227 US4896169A (en) | 1987-06-23 | 1988-06-23 | Laser scan recording apparatus using aperture plates to form shifted rows of beams which are modulated and converged on photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156257A JPS641367A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Scanning and recording method for binarization picture |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH011367A JPH011367A (ja) | 1989-01-05 |
| JPS641367A JPS641367A (en) | 1989-01-05 |
| JPH0481913B2 true JPH0481913B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=15623841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62156257A Granted JPS641367A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Scanning and recording method for binarization picture |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4896169A (ja) |
| JP (1) | JPS641367A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225924A (en) * | 1989-04-07 | 1993-07-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical beam scanning system |
| US5119113A (en) * | 1990-10-11 | 1992-06-02 | International Business Machines Corporation | Spot-defined exposure system for a laser printer |
| US5635976A (en) * | 1991-07-17 | 1997-06-03 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for the production of a structure by focused laser radiation on a photosensitively coated substrate |
| JPH0735994A (ja) * | 1993-07-22 | 1995-02-07 | Asahi Optical Co Ltd | レーザ描画装置 |
| DE4426109B4 (de) * | 1993-08-11 | 2004-05-19 | Pentax Corp. | Laser-Zeicheneinrichtung |
| US5608444A (en) * | 1994-06-10 | 1997-03-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Image scanning/recording apparatus and method |
| JP3532167B2 (ja) * | 2001-06-01 | 2004-05-31 | 株式会社オーディオテクニカ | レーザー墨出し器におけるレーザーライン光照射方法および装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4053898A (en) * | 1974-09-13 | 1977-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser recording process |
| US4496956A (en) * | 1982-07-19 | 1985-01-29 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Aperture mask for image scanning and recording system |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP62156257A patent/JPS641367A/ja active Granted
-
1988
- 1988-06-23 US US07/210,227 patent/US4896169A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4896169A (en) | 1990-01-23 |
| JPS641367A (en) | 1989-01-05 |
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