JPH0478934U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

図面は本考案に係る真空処理装置の一実施例を
示し、第１図はその要部を示す水平断面図、第２
図はその全体構成を示す平面図、第３図は中間室
及び試料準備室相互間における基板の搬送機構を
示す説明図、第４図は基板を保持する基板ホルダ
ーを示す説明図である。 ３……被処理物、４……支持部、５……ゲート
バルブ、６……トランスフアー、１２……制御部
、１４……連通部、１５……検知手段、Ａ，Ｂ…
…真空空間。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 真空下での処理が行われる被処理物３を支持す
   る支持部４が配置された真空空間Ａと、前記被処
   理物３を前記支持部４へ前記真空空間Ａとは別の
   真空空間Ｂから搬送・受渡しするトランスフアー
   ６と、そのトランスフアー６による前記被処理物
   ３の搬送のために前記両真空空間Ａ，Ｂを連通す
   る連通部１４と、その連通部１４を開閉するゲー
   トバルブ５と、開閉指令に基づいて前記ゲートバ
   ルブ５を開閉制御する制御部１２とを備えた真空
   処理装置であつて、 前記ゲートバルブ５の設置部分に、その部分で
   の前記トランスフアー６の存在を検知する検知手
   段１５を設けると共に、 前記制御部１２が、前記検知手段１５による前
   記トランスフアー６の存在検知情報に基づいて前
   記ゲートバルブ５の閉止作動を実行しないように
   構成されている真空処理装置。