JPH0478578A - Optical disk - Google Patents

Optical disk

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JPH0478578A
JPH0478578A JP2192257A JP19225790A JPH0478578A JP H0478578 A JPH0478578 A JP H0478578A JP 2192257 A JP2192257 A JP 2192257A JP 19225790 A JP19225790 A JP 19225790A JP H0478578 A JPH0478578 A JP H0478578A
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resin layer
recording
substrate
disk
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Hideki Hirata
秀樹 平田
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Abstract

PURPOSE:To obtain an optical disk having a resin layer capable of well holding the shape of a group or pit even under a high temp. and high humidity condition or reduced pressure and preventing the corrosion of a recording layer by providing the resin layer cured by the irradiation with light on a substrate and specifying the gel ratio of the resin layer. CONSTITUTION:For example, an optical magnetic recording disk 1 is formed by successively providing a resin layer 3, a protective layer 4, an intermediate layer 5, a recording layer 6, a protective layer 7, a protective coating layer 8, an adhesive layer 9 and a protective substrate 10 on a substrate 2 and the gel ratio of the resin layer 3 after curing is 95% or more. The elastic modulus of the resin layer 3 at frequency of 10 Hz within the temp. range of 20-100 deg.C is pref. 200 kgf/mm<2> or more and the dynamic loss coefficient tan delta thereof is pref. 0.01-0.2. Therefore, the good resin layer 3 can be formed and, even when the disk 1 is used or preserved under a high temp. and high humidity condition, the recording layer 6 is not corroded. In addition, the shape of the group or pit for an address or tracking formed to the resin layer 3 and that of the recording pit formed thereto can be well held.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光ディスク、例えば光磁気記録ディスク、相
変化型の光記録ディスク、ビット形成型の光記録ディス
クや、再生専用の光ディスク等に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to optical disks, such as magneto-optical recording disks, phase change type optical recording disks, bit forming type optical recording disks, read-only optical disks, and the like.

〈従来の技術〉 光ディスクのうち、例えば光磁気記録ディスクは、基板
上に、順次、樹脂層、記録層、保護コート等が積層され
て構成される。
<Prior Art> Among optical disks, for example, a magneto-optical recording disk is constructed by sequentially laminating a resin layer, a recording layer, a protective coat, etc. on a substrate.

この場合、樹脂層には、通常、紫外線硬化型化合物が用
いられる。 そして、いわゆる2P法を用いて、基板上
に、トラッキング用のグループやビット、あるいは記録
ビット等のバターンを有する樹脂層を形成する。
In this case, an ultraviolet curable compound is usually used for the resin layer. Then, using the so-called 2P method, a resin layer having a pattern of tracking groups, bits, recording bits, etc. is formed on the substrate.

2P法では、まず、前記パターンの母型パターンを有す
るスタンバ表面に紫外線硬化型化合物を展着し、この紫
外線硬化型化合物上にディスク状基板を圧接する。 次
いで紫外線を照射して硬化した後、スタンバと樹脂とを
剥離する。 これにより母型パターンが転写された樹脂
層を基板上に形成することができる。
In the 2P method, first, an ultraviolet curable compound is spread on the surface of a standber having a matrix pattern of the pattern described above, and a disk-shaped substrate is pressed onto the ultraviolet curable compound. Next, after curing by irradiating ultraviolet rays, the stand bar and the resin are peeled off. As a result, a resin layer to which the master pattern has been transferred can be formed on the substrate.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、従来の紫外線硬化型化合物を硬化させた樹脂層
を有するディスクの場合、スパッタリング等の気相成膜
法によって記録層を成膜する際に減圧すると、樹脂層か
らガスが発生し、このガスにより記録層が腐食すること
がある。
<Problems to be Solved by the Invention> However, in the case of a disk having a resin layer made by curing a conventional ultraviolet curable compound, if the pressure is reduced when forming the recording layer by a vapor phase film forming method such as sputtering, the resin Gas is generated from the layer, and this gas may corrode the recording layer.

また、ディスクを高温、高温下にて使用あるいは保存す
ると、樹脂層からモノマーが流出し、このモノマーによ
り記録層が腐食することがある。
Furthermore, if the disk is used or stored at high temperatures, monomer may flow out from the resin layer and the recording layer may be corroded by this monomer.

この結果、ディスクの記録・再生特性、特にC/Nが低
下し、しかもエラーが発生してしまう。
As a result, the recording/reproducing characteristics of the disk, particularly the C/N, deteriorate, and errors occur.

加えて、樹脂層からガスが発生したり、モノマーが流出
した結果、グループやビットが変形してしまう場合があ
る。
In addition, groups and bits may become deformed as a result of gas generation or monomer leakage from the resin layer.

このため、フォーカシングやトラッキングが困難となり
、エラーを増大することがある。
This may make focusing and tracking difficult and increase errors.

本発明の目的は、高温・高湿下や減圧下でもグループや
ビットの形状を良好に保持でき、記録層を腐食させない
樹脂層を有する光ディスクを提供することにある。
An object of the present invention is to provide an optical disc having a resin layer that can maintain the shapes of groups and bits well even under high temperature, high humidity, and reduced pressure, and that does not corrode the recording layer.

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記(1)〜(5)の本発明によっ
て達成される。
<Means for Solving the Problems> Such objects are achieved by the following inventions (1) to (5).

(1)基板上に、放射線を照射して硬化した樹脂層を有
し、 前記樹脂層のゲル分率が95%以上であることを特徴と
する光ディスク。
(1) An optical disc comprising a resin layer cured by irradiation with radiation on a substrate, the resin layer having a gel fraction of 95% or more.

(2)前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100
℃における弾性率が200 kgf/ff1m2以上で
ある上記(1)に記載の光ディスク。
(2) Frequency of the resin layer: 10 Hz, temperature: 20 to 100
The optical disc according to (1) above, which has an elastic modulus of 200 kgf/ff1m2 or more at °C.

(3)前記樹脂層の周波数10)1z、温度20〜10
0℃における力学的損失係数tanδが0.01〜0.
2である上記(1)または(2)に記載の光ディスク。
(3) Frequency of the resin layer: 10) 1z, temperature: 20-10
The mechanical loss coefficient tan δ at 0°C is 0.01 to 0.
2. The optical disc according to (1) or (2) above.

(4)前記樹脂層上に金属記録層を成膜した上記(1)
ないしく3)のいずれかに記載の光ディスク。
(4) The above (1) in which a metal recording layer is formed on the resin layer.
The optical disc according to any one of 3) to 3).

(5)前記樹脂層上に5Pa以下の気圧下にて成膜した
記録層を有する上記(1)ないしく3)のいずれかに記
載の光ディスク。
(5) The optical disc according to any one of (1) to 3) above, which has a recording layer formed on the resin layer under an atmospheric pressure of 5 Pa or less.

〈作用〉 本発明の光ディスクは、ゲル分率が95%以上の樹脂層
を有する。
<Function> The optical disc of the present invention has a resin layer with a gel fraction of 95% or more.

このためディスクを高温、高湿下にて使用あるいは保存
しても、樹脂層からガスが発生したり、モノマー成分が
流出することがほとんどない。
Therefore, even when the disk is used or stored at high temperature and high humidity, gas is hardly generated from the resin layer or monomer components are hardly leaked.

そして、特に、スパッタリング等の気相成膜法により記
録層が成膜されろ光記録ディスクの場合、記録層の成膜
の際、減圧しても樹脂層からガスが発生することがほと
んどない。
Particularly in the case of an optical recording disk in which the recording layer is formed by a vapor phase film forming method such as sputtering, gas is hardly generated from the resin layer even if the pressure is reduced when forming the recording layer.

このため、良好な記録層を形成することができ、しかも
ディスクを高温、高湿下にて使用あるいは保存しても、
記録層が腐食しない。
Therefore, it is possible to form a good recording layer, and even if the disc is used or stored at high temperature and high humidity,
The recording layer will not corrode.

加えて、樹脂層に形成されているアドレス用ないしトラ
ッキング用のグループやビット、さらには、記録ビット
等の形状を良好に保持できる。
In addition, the shapes of addressing or tracking groups, bits, recording bits, etc. formed in the resin layer can be well maintained.

なお、樹脂層のゲル分率は、用いる紫外線硬化型化合物
によってのみ定まるものではないため、本発明では、紫
外線硬化型化合物、光重合開始剤、あるいはこれらの含
有量や紫外線の照射条件、雰囲気等積々の条件を組み合
わせて所望のゲル分率を有する樹脂層を形成する。
In addition, since the gel fraction of the resin layer is not determined only by the ultraviolet curable compound used, in the present invention, it is determined by the ultraviolet curable compound, the photopolymerization initiator, their contents, the ultraviolet irradiation conditions, the atmosphere, etc. A resin layer having a desired gel fraction is formed by combining various conditions.

〈具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成について詳細に説明する。<Specific configuration> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明の光ディスクは、基板上に、放射線を照射して硬
化させた樹脂層を有する。
The optical disc of the present invention has a resin layer cured by irradiation with radiation on a substrate.

この場合、本発明は、情報を予め担持している再生専用
の光ディスクおよび情報を担持させつる記録層を有する
光記録ディスクの双方である。
In this case, the present invention relates to both a read-only optical disc that previously carries information and an optical recording disc that has a recording layer that carries information.

ただし、ここでは好適例として第1図に示される光磁気
記録ディスクを例に挙げて説明する。
However, here, explanation will be given by taking the magneto-optical recording disk shown in FIG. 1 as a preferred example.

この光磁気記録ディスクlは、基板2上に、樹脂層3、
保護層4、中間層5、記録層6、保護層7、保護コート
8、接着剤層9、保護基板10を順次有する片面記録タ
イプである。
This magneto-optical recording disk l has a resin layer 3 on a substrate 2,
It is a single-sided recording type having a protective layer 4, an intermediate layer 5, a recording layer 6, a protective layer 7, a protective coat 8, an adhesive layer 9, and a protective substrate 10 in this order.

本発明において、基板2は、記録光および再生光に対し
て透明なものであり、その材質には、従来光ディスクの
基板材質として公知のガラスや樹脂等を用いればよく、
用途等に応じて適宜選択される。 この場合好ましくは
樹脂製あるいはガラス製とし、より好ましくはガラス製
とする。
In the present invention, the substrate 2 is transparent to recording light and reproduction light, and its material may be glass, resin, etc., which are conventionally known as substrate materials for optical discs.
It is selected as appropriate depending on the purpose and the like. In this case, it is preferably made of resin or glass, more preferably glass.

基板2をガラスにより構成すれば、耐熱性、耐湿性が向
上し、複屈折もほとんど生じない。
If the substrate 2 is made of glass, heat resistance and moisture resistance will be improved, and birefringence will hardly occur.

ガラス製基板の場合は、強化ガラスから構成することが
好ましい。 強化ガラスを用いることにより、より高い
剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。
In the case of a glass substrate, it is preferably made of tempered glass. By using tempered glass, higher rigidity, better weather resistance, and durability can be obtained.

本発明で用いる強化ガラスに特に制限はなく、通常の強
化法を用いて強化した物理強化ガラスや化学強化ガラス
を使用すればよいが、好ましくは化学強化ガラスを使用
する。
There are no particular restrictions on the tempered glass used in the present invention, and physically strengthened glass or chemically strengthened glass strengthened using a normal strengthening method may be used, but chemically strengthened glass is preferably used.

また、樹脂製基板の場合、例えばアクリル樹脂、ポリカ
ーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチルペンテン、ポリ
オレフィン、等が好適である。
In the case of a resin substrate, for example, acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, polymethylpentene, polyolefin, etc. are suitable.

基板2の形状は、ディスク状であり、外径は、通常50
〜36oIIII11程度、内径は、通常15〜60m
m程度、厚さは、通常0.5〜2mm程度である。
The shape of the substrate 2 is a disk, and the outer diameter is usually 50 mm.
~36oIII11 degree, inner diameter is usually 15-60m
The thickness is usually about 0.5 to 2 mm.

なお、基板2は、公知の方法に従い製造すればよい。Note that the substrate 2 may be manufactured according to a known method.

基板2上には、樹脂層3が設層れさる。A resin layer 3 is provided on the substrate 2 .

樹脂層3は、放射線硬化型化合物ないしその組成物を紫
外線、電子線等の放射線を照射して硬化させた物質から
構成され、その表面に、トラッキング用、アドレス用等
のために、ビットあるいはグループ等の所定のパターン
を有する。
The resin layer 3 is made of a material obtained by curing a radiation-curable compound or its composition by irradiating it with radiation such as ultraviolet rays or electron beams, and has bits or groups on its surface for tracking, addressing, etc. It has a predetermined pattern such as.

硬化後の樹脂層3のゲル分率は、95%以上、好ましく
は97%以上である。
The gel fraction of the resin layer 3 after curing is 95% or more, preferably 97% or more.

前記範囲未満では、ディスクを高温、高湿下や減圧下に
おいた場合、樹脂層3からガスが発生したり、モノマー
が流出し、記録層6が腐食する。
If it is less than the above range, when the disk is placed under high temperature, high humidity, or reduced pressure, gas will be generated from the resin layer 3, monomer will flow out, and the recording layer 6 will corrode.

そして、樹脂層3がらガスが発生したり、モノマーが流
出した結果、樹脂層3のグループやビットが変形する。
Then, as a result of gas being generated from the resin layer 3 or monomer flowing out, the groups and bits of the resin layer 3 are deformed.

樹脂層3のゲル分率は、下記のように測定すればよい。The gel fraction of the resin layer 3 may be measured as follows.

まず、ディスクを製造、する場合と同一条件で、基板上
に、樹脂層を形成する。
First, a resin layer is formed on a substrate under the same conditions as when manufacturing a disk.

次いで、樹脂層からyg (0,5〜1.0g程度)の
試料片を削り取り、例えば、アセトンに、超音波をかけ
て溶解させる。
Next, a sample piece of yg (approximately 0.5 to 1.0 g) is scraped off from the resin layer and dissolved in, for example, acetone by applying ultrasonic waves.

そして、不溶物を秤量し、これをxgとして下記式から
算出する。
Then, the insoluble matter is weighed, and this is set as xg to calculate from the following formula.

式  (x/y)  X  1 00  (%)なお、
本発明では、後述する放射線硬化型化合物、光重合開始
剤、これらの含有量、紫外線の照射条件、雰囲気等積々
の条件を組み合わせることによって、樹脂層3のゲル分
率をほぼ100%近(にすることができる。
Formula (x/y) X 1 00 (%)
In the present invention, the gel fraction of the resin layer 3 can be increased to nearly 100% ( It can be done.

また、硬化後の樹脂層3の周波数10Hz、20〜10
0℃の温度範囲内の各温度における弾性率は、200 
kgf/am”以上であることが好ましい。
In addition, the frequency of the resin layer 3 after curing is 10 Hz, 20 to 10
The elastic modulus at each temperature within the temperature range of 0°C is 200
kgf/am” or more is preferable.

弾性率が200 kgf/+rs”以上であると、2P
法にて基板上に樹脂層3を形成する際、スタンバから樹
脂を容易に剥離できる。
If the elastic modulus is 200 kgf/+rs” or more, 2P
When forming the resin layer 3 on the substrate by the method, the resin can be easily peeled off from the stand bar.

加えて、形成されたグループやピットの形状をそのまま
保持できるため、スタンパの母型パターンが正確に転写
された樹脂層を形成できる。
In addition, since the shapes of the formed groups and pits can be maintained as they are, it is possible to form a resin layer in which the master pattern of the stamper is accurately transferred.

そして、樹脂層3の、耐熱性、i′4湿性、さらには、
膜強度が向上する。
The resin layer 3 has heat resistance, i′4 humidity, and further,
Membrane strength is improved.

このため、ディスクが高温、高湿下におかれた場合、例
えば、記録層6をスパッタリング等の気相成膜法にて形
成する際、あるいはディスクを高温、高湿下にて保存し
たり、使用する際でも樹脂層3が変形せず、ディスクの
機械的精度を高く保持できる。
Therefore, if the disk is placed under high temperature and high humidity, for example, when forming the recording layer 6 by a vapor phase film formation method such as sputtering, or when the disk is stored under high temperature and high humidity, Even during use, the resin layer 3 does not deform, and the mechanical precision of the disk can be maintained at a high level.

ただし、樹脂層3の弾性率があまり大きすぎると樹脂層
3がもろ(なりすぎ、温湿度変化によりクラックを生ず
る可能性があるため、200〜1500kgf/am”
であることが好ましい。
However, if the elastic modulus of the resin layer 3 is too large, the resin layer 3 may become too brittle and cracks may occur due to changes in temperature and humidity.
It is preferable that

そして、より好ましくは220〜1500kgf/mm
” 、特に250〜1000kgf/mm”であること
が好ましい。
And more preferably 220 to 1500 kgf/mm
", especially 250 to 1000 kgf/mm" is preferable.

弾性率が前記範囲の場合、耐熱性向上等の前記の効果や
本発明の効果がより一層向上する。
When the elastic modulus is within the above range, the effects described above such as improved heat resistance and the effects of the present invention are further improved.

また、硬化後の樹脂層3の周波数10Hz、20〜10
0℃の温度範囲内の各温度における力学的損失係数ta
nδは0.01〜0.2であることが好ましい。
In addition, the frequency of the resin layer 3 after curing is 10 Hz, 20 to 10
Mechanical loss coefficient ta at each temperature within the temperature range of 0°C
It is preferable that nδ is 0.01 to 0.2.

前記範囲をこえると材料の粘性が大きくなってきて、熱
によるグループ形状変化がおきやすくなる。
If the above range is exceeded, the viscosity of the material increases and the group shape tends to change due to heat.

前記範囲未満では樹脂層3自体がもろくなりすぎ、温湿
度変化によりクラックが生じやすい。
If it is less than the above range, the resin layer 3 itself becomes too brittle and cracks are likely to occur due to changes in temperature and humidity.

また、フィルム形成能力がおちてしまう。Moreover, the film forming ability is degraded.

そして、より好ましくは0.05〜0.2、特に0.0
5〜0.18であることが好ましい。
And more preferably 0.05 to 0.2, especially 0.0
It is preferable that it is 5-0.18.

tanδが前記範囲の場合、耐熱性向上等の前記の効果
や本発明の効果がより一層向上する。
When tan δ is within the above range, the effects described above such as improved heat resistance and the effects of the present invention are further improved.

なお、樹脂層3の弾性率やtanδもゲル分率と同様、
放射線硬化型化合物、光重合開始剤、あるいはこれらの
含有量や紫外線の照射条件、雰囲気等積々の条件を組み
合わせて所望のものとすればよい。
In addition, the elastic modulus and tan δ of the resin layer 3 are also the same as the gel fraction.
A desired composition may be obtained by combining various conditions such as the radiation-curable compound, the photopolymerization initiator, or the content thereof, ultraviolet irradiation conditions, and atmosphere.

樹脂層3の弾性率および力学的損失係数tanδは以下
のようにして測定される。
The elastic modulus and mechanical loss coefficient tan δ of the resin layer 3 are measured as follows.

樹脂層を例えば離型紙上に厚さ100〜500pmとな
るように形成する。 次いで離型紙から樹脂層を剥離し
、粘弾性測定装置を用い、強制振動法により加振周波数
10Hz(正弦波)にて、0〜150℃間で測定する。
For example, a resin layer is formed on release paper to a thickness of 100 to 500 pm. Next, the resin layer is peeled off from the release paper, and measured using a viscoelasticity measuring device at an excitation frequency of 10 Hz (sine wave) at a temperature of 0 to 150° C. using a forced vibration method.

樹脂層3を構成する樹脂材質は、前記のゲル分率が得ら
れれば特に制限はなく、いわゆる2P法に用いられる各
種放射線硬化型化合物から、適宜選択すればよい。
The resin material constituting the resin layer 3 is not particularly limited as long as the gel fraction described above is obtained, and may be appropriately selected from various radiation-curable compounds used in the so-called 2P method.

使用するモノマーとしては、1官能、2官能、3官能あ
るいは多官能エステルアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、工・ホキシアクリレート等が好適である。
Suitable monomers to be used include monofunctional, difunctional, trifunctional, or polyfunctional ester acrylates, urethane acrylates, polypropylene acrylates, and the like.

この場合、七ツマ−は1種だけ用いてもよいが、前記の
ゲル分率、さらには弾性率やtanδが得やすい点で2
種、場合によっては3種以上イ井用してもよい。
In this case, only one type of nanatsumer may be used, but it is preferable that the above-mentioned gel fraction, furthermore, the elastic modulus and tan δ are easily obtained.
In some cases, three or more species may be used.

そして前記のモノマーのうち、トリメヂロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等の
3官能モノマーと5ヒドロキシピバリン酸ネオベンチル
グリコールジアククリレート、カプロラクトン変性ヒド
ロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジメタクリレート等の2官
能モノマーとの併用が最適である。
Among the above-mentioned monomers, trifunctional monomers such as trimedylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and trimethylolpropane trimethacrylate, and neobentyl glycol 5-hydroxypivalate diacrylate, caprolactone-modified neopentyl glycol hydroxypivalate, etc. It is best to use it in combination with bifunctional monomers such as diacrylate and neopentyl glycol dimethacrylate.

また、モノマーにかえて、あるいはモノマーに加えて、
オリゴマーを1種あるいは2種以上併用してもよい。
Also, instead of or in addition to the monomer,
One kind or two or more kinds of oligomers may be used in combination.

オリゴマーとしては、オリゴエステルアクリレート等が
好適である。
As the oligomer, oligoester acrylate and the like are suitable.

多官能オリゴエステルアクリレートとしては、アロニッ
クスM−8100、M−6500(東亜合成化学社製)
として市販されているものを用いることができ、これら
は下記式%式% Aニアクリル酸、X:多価アルコール、M:2価アルコ
ール、Y:多塩基酸、 N:2塩基酸 また、モノマーやオリゴマーに加え、通常、光重合開始
剤が添加される。
As polyfunctional oligoester acrylate, Aronix M-8100, M-6500 (manufactured by Toagosei Kagaku Co., Ltd.)
Commercially available products can be used, and these are represented by the following formula % formula % A Niacrylic acid, X: Polyhydric alcohol, M: Dihydric alcohol, Y: Polybasic acid, N: Dibasic acid Also, monomers and In addition to the oligomer, a photoinitiator is usually added.

使用する光重合開始剤には特に制限がないが、例えば2
.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−
メチル−[4−(メチルヂオ)フェニル]−2−モルフ
ォリノ−1−プロパノン、ベンゾイン、ベンゾフェノン
、ベンジル等のケトン系が好適である。
There is no particular restriction on the photopolymerization initiator used, but for example, 2
.. 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-
Ketones such as methyl-[4-(methyldio)phenyl]-2-morpholino-1-propanone, benzoin, benzophenone, and benzyl are preferred.

光重合開始剤の含有量は、1〜10重量%、特に3〜5
重量%が好ましい。
The content of the photopolymerization initiator is 1 to 10% by weight, especially 3 to 5% by weight.
Weight percent is preferred.

この場合、本発明では溶剤等の添加物が含有されないこ
とが好ましい。
In this case, in the present invention, it is preferable that additives such as solvents are not contained.

このような樹脂層3の設層は、公知の2P法により行な
うことが好ましい。
It is preferable that the resin layer 3 is formed by the known 2P method.

2P法では、まず、所定のパターンを有するスタンバ表
面に放射線硬化型化合物、好ましくは放射線硬化型化合
物に光重合開始剤を添加したものを展着し、この塗膜上
に基板2を圧接する。 この圧接により、スタンバ表面
のパターンを塗膜表面に転写する。
In the 2P method, first, a radiation-curable compound, preferably a radiation-curable compound to which a photopolymerization initiator is added, is spread on the surface of a stand bar having a predetermined pattern, and the substrate 2 is pressed onto this coating film. This pressure contact transfers the pattern on the standber surface to the coating film surface.

次いで、基板2を通して放射線好ましくは紫外線を照射
することにより塗膜を硬化させて、樹脂と基板2とを接
着した後、樹脂とスタンバとを剥離する。
Next, the coating film is cured by irradiating radiation, preferably ultraviolet rays, through the substrate 2 to bond the resin and the substrate 2, and then the resin and the stand bar are separated.

以上の工程により、スタンバのパターンが転写された樹
脂層3を、基板2の表面に形成する。
Through the above steps, the resin layer 3 to which the standby pattern has been transferred is formed on the surface of the substrate 2.

なお、硬化後の樹脂層3の弾性率を200kgf/mm
”以上に規制する場合は、樹脂とスタンバとの剥離が容
易であり1.シかも形成されたグループやビットを良好
な形に保持できる。
Note that the elastic modulus of the resin layer 3 after curing is 200 kgf/mm.
If the above-mentioned restrictions are applied, the resin and the stand bar can be easily separated, and the formed groups and bits can be maintained in a good shape.

塗膜を紫外線によって硬化させるには、公知の種々の方
法に従えばよい。
Various known methods may be used to cure the coating film with ultraviolet rays.

例えば、キセノン放電管、高圧水銀灯等の紫外線電球等
を用いればよい。
For example, a xenon discharge tube, an ultraviolet light bulb such as a high-pressure mercury lamp, etc. may be used.

また、場合によっては電子線等を用いることもできる。Further, depending on the case, an electron beam or the like may be used.

塗膜の硬化条件には特に制限がなく、例えば、下記の条
件とすればよい。
There are no particular restrictions on the conditions for curing the coating film, and for example, the following conditions may be used.

放射線照射量: 0.3〜2ジユ一ル/cm”程度 なお、硬化時の雰囲気には特に制限がな(、例えば大気
中でよい。
Radiation dose: about 0.3 to 2 joules/cm'' Note that there are no particular restrictions on the atmosphere during curing (for example, the atmosphere may be used).

ただし、嫌気硬化性を備えた放射線硬化型化合物を用い
る場合には、Ar等の不活性ガス雰囲気、N2ガス雰囲
気等が好適である。
However, when using a radiation-curable compound with anaerobic curing properties, an inert gas atmosphere such as Ar, N2 gas atmosphere, etc. are suitable.

このようにして形成される樹脂層3の層厚は、好ましく
は5〜100M、より好ましくは30〜50μである。
The layer thickness of the resin layer 3 formed in this way is preferably 5 to 100M, more preferably 30 to 50μ.

前記範囲未満では樹脂層3が薄すぎて硬化不足になり易
い。
If it is less than the above range, the resin layer 3 is too thin and tends to be insufficiently cured.

前記範囲をこえると樹脂層3が厚すぎて、層の内部が未
硬化になり易く、また、シワが発生し易い。
If the thickness exceeds the above range, the resin layer 3 will be too thick, the inside of the layer will tend to be uncured, and wrinkles will easily occur.

中間層5は、C/N比を向上させるために設けられ、各
種誘電体物質から形成されることが好ましく、その層厚
は30〜150nm程度であることが好ましい。
The intermediate layer 5 is provided to improve the C/N ratio, and is preferably formed from various dielectric materials, and preferably has a layer thickness of about 30 to 150 nm.

なお、このような中間層材質を後述する記録層6の上に
保護層7として設けて、前記中間層5と併用することも
できる。 併用する場合には、中間層5と保護層7の組
成は同一であっても異なっていてもよい。
Note that such an intermediate layer material may be provided as a protective layer 7 on a recording layer 6 to be described later, and used in combination with the intermediate layer 5. When used together, the compositions of the intermediate layer 5 and the protective layer 7 may be the same or different.

必要に応じて設けられる保護層4および保護層7は、記
録層6の耐食性向上のために設けられるものであり、こ
れらは少なくとも一方、好ましくけ両方が設けられるこ
とが好ましい。
The protective layer 4 and the protective layer 7, which are provided as necessary, are provided to improve the corrosion resistance of the recording layer 6, and it is preferable that at least one of them, and preferably both, be provided.

これら保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物
あるいはこれらの混合物からなる無機薄膜から構成され
ることが好ましい。 また、前述したように、上記の中
間層材質で形成してもよい、 保護層の層厚は30〜3
00 r+n+程度であることが耐食性向上の点から好
ましい。
These protective layers are preferably composed of inorganic thin films made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides, or mixtures thereof. Further, as mentioned above, the protective layer may be formed of the above-mentioned intermediate layer material, and the thickness of the protective layer is 30 to 3
00 r+n+ is preferable from the viewpoint of improving corrosion resistance.

このような保護層4.7や中間層5は、スパッタ法等の
各種気相成膜法等によって形成されることが好ましい。
The protective layer 4.7 and intermediate layer 5 are preferably formed by various vapor phase deposition methods such as sputtering.

記録層6は、変調された熱ビームあるいは変調された磁
界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記録
情報は磁気−光変換して再生されるものである。
Information is magnetically recorded in the recording layer 6 using a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.

記録層6は、光磁気記録が行なえるものであればその材
質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合金
、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、蒸
着法、イオンブレーティング法等により、非晶質膜とし
て形成したものであることが好ましい。
The material of the recording layer 6 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording, but alloys containing rare earth metal elements, particularly alloys of rare earth metals and transition metals, may be used by sputtering, vapor deposition, or ion beam deposition. It is preferable that the film be formed as an amorphous film by a rating method or the like.

希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、Gd、Sm、
Ceのうちの1種以上を用いることが好ましい。
Rare earth metals include Tb, Dy, Nd, Gd, Sm,
It is preferable to use one or more types of Ce.

遷移金属としては、FeおよびCOが好ましい。As the transition metal, Fe and CO are preferred.

この場合、FeとCOの総合有量は、65〜85at%
であることが好ましい。
In this case, the total amount of Fe and CO is 65 to 85 at%
It is preferable that

そして、残部は実質的に希土類金属である。The remainder is substantially rare earth metal.

好適に用いられる記録層の組成として は、TbFeCo、DyTbFeCo、NdDyFeC
o、NdGdFeCo等がある。
The composition of the recording layer suitably used is TbFeCo, DyTbFeCo, NdDyFeC.
o, NdGdFeCo, etc.

なお、記録層中には、10at%以下の範囲でCr、A
A、Ti、Pt、Si、Mo、Mn、■、Ni、Cu、
Zn、Ge、Au等が含有されてもよい。
In addition, the recording layer contains Cr and A in a range of 10 at% or less.
A, Ti, Pt, Si, Mo, Mn, ■, Ni, Cu,
Zn, Ge, Au, etc. may be contained.

また、]Oat%以下の範囲で、Sc、Y、La、Ce
、Pr、Pm、Sm、Eu、Ho。
In addition, in the range of ]Oat% or less, Sc, Y, La, Ce
, Pr, Pm, Sm, Eu, Ho.

Er、Tm、Yb、Lu等の他の希土類金属元素を含有
してもよい。
It may also contain other rare earth metal elements such as Er, Tm, Yb, and Lu.

このような記録層6の層厚は、通常、10〜11000
n程度である。
The thickness of such recording layer 6 is usually 10 to 11,000.
It is about n.

なお、記録層6の成膜方法にもよるが、例えばスパッタ
リングでは5Pa程度以下、特に0.5〜3Pa程度に
減圧され、この際、ディスクは、60〜100℃程度の
温度下におかれることがあるが、樹脂層3は、ゲル分率
が95%以上であり、七ツマー成分が少ないため、ガス
の発生や千ツマ−の流出がほとんどない。
Although it depends on the method of forming the recording layer 6, for example, in sputtering, the pressure is reduced to about 5 Pa or less, particularly about 0.5 to 3 Pa, and at this time, the disk is placed at a temperature of about 60 to 100°C. However, since the resin layer 3 has a gel fraction of 95% or more and a small amount of 7-mer component, there is almost no gas generation or 7-mer outflow.

このように、本発明の効果は、特に気相成膜法のように
減圧下、例えば5Pa程度以下、特に0.5〜3Pa程
度の気圧にて、さらには、高温下、例えば60〜100
℃程度の温度で記録層6の成膜が行なわれる場合に顕著
に発現する。
As described above, the effects of the present invention can be obtained particularly under reduced pressure such as in a vapor phase film forming method, for example, at an atmospheric pressure of about 5 Pa or less, particularly at a pressure of about 0.5 to 3 Pa, or at a high temperature, for example, at a pressure of 60 to 100 Pa.
This phenomenon is noticeable when the recording layer 6 is formed at a temperature of about .degree.

保護コート8は、耐食性や、耐擦傷性の向上のために設
けられるものであり、種々の有機系の物質から構成され
ることが好ましいが、特に、放射線硬化型化合物ないし
その組成物を、電子線、紫外線等の放射線により硬化さ
せた物質から構成されることが好ましい。
The protective coat 8 is provided to improve corrosion resistance and scratch resistance, and is preferably composed of various organic substances. It is preferable that the material is made of a material cured by radiation such as UV rays or ultraviolet rays.

保護コート8の膜厚は、通常0.1〜100−程度であ
る。
The thickness of the protective coat 8 is usually about 0.1 to 100 mm.

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい。
Such a coating film may usually be formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping.

保護基板10は、記録層6の損傷等を有効に防止するた
めに必要に応じて設けられるものであり、通常、ガラス
製あるいは樹脂製である。
The protective substrate 10 is provided as necessary to effectively prevent damage to the recording layer 6, and is usually made of glass or resin.

保護基板10の厚さは、剛性を確保するために、通常、
0.5〜2.0mm程度とする。
The thickness of the protective substrate 10 is usually set to a certain value in order to ensure rigidity.
The thickness should be approximately 0.5 to 2.0 mm.

保護基板10は、例えば、図示されるように接着剤層9
により接着され、基板2と一体化される。
The protective substrate 10 includes, for example, an adhesive layer 9 as shown in the figure.
is bonded and integrated with the substrate 2.

用いる接着剤に、特に制限はないが、ホットメルト系接
着剤が好ましい。
There are no particular restrictions on the adhesive used, but hot melt adhesives are preferred.

ボットメルト系接着剤は一般に、ベースポリマーを主体
とし、これに粘着付与剤、軟化剤、可塑剤、ワックス等
の添加剤を加えて構成される。
Botmelt adhesives generally consist of a base polymer, to which additives such as tackifiers, softeners, plasticizers, and waxes are added.

接着に際しては、例えばボットメルト系接着剤を用いる
ときには、ロールコータ等を用いればよい。
For adhesion, for example, when using a Botmelt adhesive, a roll coater or the like may be used.

接着剤層9の厚さは、通常、10〜too、m程度であ
る。
The thickness of the adhesive layer 9 is usually about 10 to 10,000 m.

以上では、本発明の光ディスクを片面記録型の光磁気記
録ディスクに適用する場合を説明したが、両面記録型の
光磁気記録ディスクにも適用することができる。
Although the optical disk of the present invention is applied to a single-sided recording type magneto-optical recording disk, it can also be applied to a double-sided recording type magneto-optical recording disk.

両面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成層
を有する基板2を2枚用意して、記録層6が内封される
ように、例えば、接着剤層9により接着して得られる。
A double-sided recording type magneto-optical recording disk is obtained by preparing two substrates 2 having each of the above-mentioned constituent layers and adhering them with, for example, an adhesive layer 9 so that the recording layer 6 is encapsulated therein.

また本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層を
有し、反射率変化により記録・再生を行なう光記録ディ
スクにも適用することができる。
Furthermore, the present invention can also be applied to optical recording disks that have a so-called phase change type recording layer and perform recording and reproduction by changing reflectance.

このような記録層としては、例えば、特公昭54−41
902号、特許第1004835号などに記載のTe−
5e系合金、特開昭62−76035号などに記載のT
e−Ge系合金、特開昭63−56827号などに記載
のTe−In系合金、特願昭61−307298号、特
願昭61−307299号などに記載のTeSn系合金
、特開昭58−54338号、特許第974257号、
特許第974258号、特許第974257号などに記
載のTeM化物系、その他各種Te、Seを主体とする
カルコゲン系、 Ge−3n、5i−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金 Ag−Zn、Ag−Al!、−Cu、Cu−Aj2等の
結晶構造変化によって色変化を生じる合金、In−5b
等の結晶粒径の変化を生じる合金などがある。
As such a recording layer, for example,
Te- as described in No. 902 and Patent No. 1004835
5e series alloy, T described in JP-A-62-76035 etc.
e-Ge based alloys, Te-In based alloys described in JP-A No. 63-56827, TeSn-based alloys described in Japanese Patent Applications JP-A-61-307298, JP-A-61-307299, etc., JP-A-58 -54338, Patent No. 974257,
TeM compound system described in Patent No. 974258, Patent No. 974257, etc., various other chalcogen systems mainly composed of Te and Se, alloys that cause amorphous-crystalline transition such as Ge-3n and 5i-Sn, Ag- Zn, Ag-Al! , -Cu, Cu-Aj2, etc. alloys that change color due to changes in crystal structure, In-5b
There are alloys that cause changes in crystal grain size.

また、ビット形成により反射率変化を生じるいわゆるビ
ット形成型の記録層を有する光記録ディスクにも適用す
ることができる。
Furthermore, the present invention can also be applied to an optical recording disk having a so-called bit-forming type recording layer in which the reflectance changes due to bit formation.

ビット形成型の記録層には、シアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系
、トリフェニルメタン系、ビリリウムないしチアピリリ
ウム塩系等の色素系、あるいはTeを主体とするTe系
等の材料が用いられる。
The bit-forming recording layer may contain pigments such as cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, anthraquinone, azo, triphenylmethane, biryllium or thiapyrylium salts, or Te-based pigments mainly containing Te. material is used.

この他、本発明は、光学式ビデオディスク、光学式デジ
タルオーディオディスク等の再生専用の光ディスクであ
ってもよい。 ただ、好ましくは、上記のうち気相成膜
法により減圧下で記録層が形成される金属を含有する記
録層、特に金属の記録層を有する相変化型の光記録ディ
スクと、希土類金属元素等の金属を含有する記録層、特
に金属の記録層を有する光磁気記録ディスクである。
In addition, the present invention may be applied to playback-only optical discs such as optical video discs and optical digital audio discs. However, among the above, preferred are phase-change optical recording disks having a recording layer containing a metal, in particular a recording layer of a metal, in which the recording layer is formed under reduced pressure by a vapor phase deposition method, and a rare earth metal element, etc. This is a magneto-optical recording disk having a recording layer containing a metal, particularly a metal recording layer.

このような金属を含有する記録層を有する光ディスクの
場合、記録層の成膜の際、ディスクが減圧下、例えば5
Pa程度以下、特に0.1〜3Pa程度の気圧下におか
れ、同時に高温下、例えば、60〜100℃程度の温度
下におかれるため、前記の樹脂層を形成することによっ
て、樹脂層からのガスの発生や千ツマ−の流出を減少さ
せることができる。
In the case of an optical disc having a recording layer containing such a metal, the disc is heated under reduced pressure, for example, 5
Since the resin layer is placed under an atmospheric pressure of about Pa or less, especially about 0.1 to 3 Pa, and at a high temperature, for example, about 60 to 100 degrees Celsius, by forming the resin layer, It is possible to reduce the generation of gas and the outflow of water.

このため、良好な記録層と、良好な形状のグループやビ
ットが形成された樹脂層とを有する光ディスクが実現す
る。
Therefore, an optical disc having a good recording layer and a resin layer in which groups and bits of good shape are formed is realized.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving specific examples of the present invention.

[実施例I〕 ガラス製基板2に、順次樹脂層3、ガラス保護層4.S
iNx中間層5、TbFeCo記録層6、SiNx保護
層7、および保護コート8を形成し、最後に接着剤層9
により樹脂製保護基板lOを接着して第1図に示される
片面記録型の光磁気記録ディスクを製造した。
[Example I] A resin layer 3, a glass protective layer 4, etc. are sequentially formed on a glass substrate 2. S
An iNx intermediate layer 5, a TbFeCo recording layer 6, a SiNx protective layer 7, and a protective coat 8 are formed, and finally an adhesive layer 9 is formed.
A single-sided recording type magneto-optical recording disk shown in FIG. 1 was manufactured by adhering a resin protective substrate IO.

ガラス製基板2は、アルミナケイ酸系の化学強化ガラス
とし、外径200+nm、厚さ1.2mmのディスク状
とした。
The glass substrate 2 was made of alumina-silicate-based chemically strengthened glass, and was shaped like a disk with an outer diameter of 200+ nm and a thickness of 1.2 mm.

樹脂層3は2P法により厚さ30賜に形成し、その表面
にはトラッキング用グループを形成した。
The resin layer 3 was formed to a thickness of 30 mm by the 2P method, and tracking groups were formed on its surface.

この場合、紫外線硬化性モノマーおよび光重合開始剤は
下記のものを用いた。
In this case, the following UV-curable monomers and photopolymerization initiators were used.

紫外線硬化性モノマーA1ニ トリメチロールプロパントリアクリレート光重合開始剤
B1: 2.2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン 光重合開始剤B2: 2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モ
ルフォリノ−1−プロパノン紫外線硬化性モノマーA2
: ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリ
レート CH,=CHC0CI(2 前記のAI、A2、B1およびB2を表1に示される配
合比(重量比)にて混合した組成物を用い、樹脂層が異
なるサンプルN011〜No。
UV-curable monomer A1 Nitrimethylolpropane triacrylate Photoinitiator B1: 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Photoinitiator B2: 2-Methyl-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-1 -Propanone UV curable monomer A2
: Hydroxypivalic acid neopentyl glycol diacrylate CH,=CHC0CI (2 Samples with different resin layers using a composition in which the above AI, A2, B1 and B2 were mixed at the blending ratio (weight ratio) shown in Table 1. N011~No.

3を製造した。3 was manufactured.

樹脂の硬化には高圧水銀灯を使用し、硬化条件は下記の
とおりとした。
A high-pressure mercury lamp was used to cure the resin, and the curing conditions were as follows.

U   シHi 紫外線照射量:lジュール7cm” 最大放射束二0.1ワット/cm” 雰囲気二N、ガス中 保護層4、中間層5、記録層6および保護層7は、それ
ぞれ、スパッタ法にて成膜した。
UV irradiation amount: 1 joule 7 cm" Maximum radiant flux 2 0.1 watts/cm" Atmosphere 2 N, in gas The protective layer 4, intermediate layer 5, recording layer 6 and protective layer 7 were each formed by sputtering. The film was formed using

また、保護コート8は、オリゴエステルアクリレートを
塗布後、紫外線照射して架橋硬化させることにより51
0−に設層した。
In addition, the protective coat 8 is formed by coating the oligoester acrylate and then cross-linking and curing it by irradiating it with ultraviolet rays.
The layer was set at 0-.

接着剤層9には、ホットメルト系接着剤を用い、ロール
コータにより設層し、その厚さを80μとした。
The adhesive layer 9 was formed using a hot melt adhesive using a roll coater, and had a thickness of 80 μm.

得られた各サンプルの樹脂層3のゲル分率、20℃およ
び100℃のそれぞれにおける弾性率および力学的損失
係数tanδは表1に示されるとおりである。
The gel fraction, elastic modulus and mechanical loss coefficient tan δ at 20° C. and 100° C. of the resin layer 3 of each sample obtained are as shown in Table 1.

この場合、ゲル分率は、下記のようにして測定した。In this case, the gel fraction was measured as follows.

ガラス製基板上に、ディスクを製造する場合と同一条件
で、樹脂層を形成し、この樹脂層から1gの試料片を削
り取った。
A resin layer was formed on a glass substrate under the same conditions as when manufacturing a disk, and a 1 g sample piece was scraped off from this resin layer.

次いで、試料片を50mjのアセトン中に入れ、1時間
、超音波をかけて溶解させた。
Next, the sample piece was placed in 50 mj of acetone and dissolved using ultrasonic waves for 1 hour.

そして、アセトン中の不溶物を秤量し、これをxgとし
て下記式から算出した。
Then, the insoluble matter in acetone was weighed, and this was set as xg, which was calculated from the following formula.

式  (x/1)X100(%) また、弾性率および力学的損失係数tanδの測定は下
記のようにして測定した。
Formula (x/1)X100(%) In addition, the elastic modulus and mechanical loss coefficient tan δ were measured as follows.

樹脂層を離型紙上にロールコータを用いて厚さ100〜
500μとなるように塗布し、サンプルと同一条件で硬
化させた。 得られた樹脂層を離型紙から剥離し、台本
製作所製粘弾性スペクトロメータにより、加振周波数(
正弦波)10)1zにて、0〜150℃間で測定した。
Apply the resin layer onto release paper using a roll coater to a thickness of 100~
It was coated to a thickness of 500μ and cured under the same conditions as the sample. The obtained resin layer was peeled off from the release paper, and the excitation frequency (
Sine wave) 10) Measured at 1z between 0 and 150°C.

得られた各サンプルに、同一の条件で、同一の光磁気記
録を行なった。
The same magneto-optical recording was performed on each of the obtained samples under the same conditions.

この場合、記録信号はデユーティ−50150の矩形信
号とし、記録周波数はI MHzとした。
In this case, the recording signal was a rectangular signal with a duty of -50150, and the recording frequency was IMHz.

そして、OM S −1000(Nakamichi社
製)を用いて、下記条件にて、ディスクのピットエラー
レートを測定した。
Then, the pit error rate of the disc was measured using OMS-1000 (manufactured by Nakamichi) under the following conditions.

ディスクの線速度:4m/秒 最適記録感度P’W:3.8mW 読み取りパワー:1mW 次いで各サンプルを温度80℃、湿度80%RHの雰囲
気中に入れ、500時間保存した。
Disk linear velocity: 4 m/sec Optimum recording sensitivity P'W: 3.8 mW Reading power: 1 mW Each sample was then placed in an atmosphere with a temperature of 80° C. and a humidity of 80% RH and stored for 500 hours.

そして、この後、前記と同様にしてピットエラーレート
を測定した。
After that, the pit error rate was measured in the same manner as above.

結果は表2に示されるとおりである。The results are shown in Table 2.

表 初  期 経時後 1(本発明)   t、oxlo−st、3xxo”2
(本発明)   1.2x 10−’   1.4x 
10−’3(比 較)   5.0X10弓   測定
不能また、各サンプルの機械的精度を光デイスク機械特
性測定装置0DA−n (新電子工業製)を用いて、測
定した。
Initial table After aging 1 (invention) t, oxlo-st, 3xxo”2
(This invention) 1.2x 10-' 1.4x
10-'3 (Comparison) 5.0×10 bow Unmeasurable In addition, the mechanical accuracy of each sample was measured using an optical disk mechanical property measuring device 0DA-n (manufactured by Shindenshi Kogyo).

測定条件は、ディスク回転数:1800rpat 、 
レーザーパワー:1mWとし、ディスクの内周r=55
mmから外周r=95a+mまで5mmおきに機械精度
測定を行なった。
The measurement conditions were: disk rotation speed: 1800 rpm;
Laser power: 1mW, inner circumference of disk r = 55
Mechanical accuracy was measured every 5 mm from mm to outer circumference r=95a+m.

この結果、比較用サンプルNo、 3は、トラッキング
エラーが多く、ディスクの偏心加速度、真円度が悪く、
ディスクの機械的精度が低いことが確認された。
As a result, comparative sample No. 3 had many tracking errors, poor eccentric acceleration and roundness of the disk,
It was confirmed that the mechanical precision of the disc was low.

これに対し、本発明のサンプルNo、  1およびNo
、  2は、偏心加速度等が小さく、ディスクの機械的
精度が高いことが確認された。
In contrast, samples No. 1 and No. 1 of the present invention
, 2, it was confirmed that the eccentric acceleration etc. were small and the mechanical precision of the disk was high.

なお、本発明のサンプルNo、  lおよびNo、 2
は、樹脂層3を形成する際、すなわち紫外線で硬化した
後スタンバと樹脂とを剥離するのが容易であった。
In addition, samples No. 1 and No. 2 of the present invention
When forming the resin layer 3, that is, after curing with ultraviolet rays, it was easy to separate the resin from the stand bar.

そして、スタンバの母型パターンを正確に転写すること
ができ、しかも形成されたグループの形状を良好に保持
することができた。
Furthermore, it was possible to accurately transfer the master pattern of the stand bar, and to maintain the shape of the formed group well.

加えて、経時後のC/N等の記録・再生特性も良好であ
った。
In addition, recording/reproducing characteristics such as C/N after aging were also good.

これらの結果から、本発明の効果が明らがである。From these results, the effects of the present invention are clear.

[実施例2] 実施例1において、記録層6をTe−5n合金にかえた
ほかは同様にして、反射率変化により記録・再生を行な
う相変化型の光記録ディスクサンプルを製造した。
[Example 2] A phase-change type optical recording disk sample that performs recording and reproduction by changing reflectance was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the recording layer 6 was changed to a Te-5n alloy.

この場合、記録層6は、高周波マグネトロンスパッタに
て成膜した。
In this case, the recording layer 6 was formed by high frequency magnetron sputtering.

そして、各サンプルに対し、実施例1と同様の評価を行
なったところ同等の結果が得られた。
Then, when each sample was evaluated in the same manner as in Example 1, the same results were obtained.

以上の結果から本発明の効果が明らかである。The effects of the present invention are clear from the above results.

ループやビットを良好な形状のまま保持することができ
、しかも記録層を良好に保持できる。
Loops and bits can be held in good shape, and the recording layer can also be held well.

このため、従来の光ディスクに比べ経時後の記録・再生
、特にC/Nが向上し、加えて、エラーレートが減少す
る。
Therefore, compared to conventional optical discs, recording/reproducing after aging, especially C/N, is improved, and in addition, error rate is reduced.

〈発明の効果〉 本発明の光ディスクは、ディスクの製造中間工程におい
て、記録層等の各層の成膜時に減圧下や高温、高湿下に
おかれても樹脂層からガスが発生したり、千ツマ−が流
出することがほとんどない。
<Effects of the Invention> The optical disc of the present invention does not generate gas from the resin layer even if it is placed under reduced pressure, high temperature, and high humidity during the formation of each layer such as the recording layer during the intermediate process of manufacturing the disc. There is almost no leakage of snails.

このため、良好な形状のグループやビットが形成された
樹脂層を有する光ディスクが実現する。
Therefore, an optical disc having a resin layer in which well-shaped groups and bits are formed is realized.

そして、特に、光記録ディスクの場合、良好な記録層を
形成できる。
Particularly in the case of an optical recording disk, a good recording layer can be formed.

加えて、ディスクを高温、高湿下にて保存したり、使用
しても、樹脂層に形成さねているグ
In addition, even if the disc is stored or used in high temperature and high humidity conditions, the glue that forms on the resin layer will be removed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明の光ディスクの1例を示す断面図であ
る。 符号の説明 1・・・光磁気記録ディスク 2・・・基板 3・・・樹脂層 4・・・保護層 5・・・中間層 6・・・記録層 7・・・保護層 8・・・保護コート 9・・・接着剤層 10・・・保護基板 出 願 人 ティーデイ−ケイ株式会社代  理  人
  弁理士   石  井  隔間     弁理士 
  増  1) 達  哉FIG、1
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the optical disc of the present invention. Explanation of symbols 1... Magneto-optical recording disk 2... Substrate 3... Resin layer 4... Protective layer 5... Intermediate layer 6... Recording layer 7... Protective layer 8... Protective coat 9...Adhesive layer 10...Protective substrate Applicant: TDA-K Co., Ltd. Agent Patent attorney Seika Ishii Patent attorney
Increase 1) Tatsuya FIG, 1

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板上に、放射線を照射して硬化した樹脂層を有
し、 前記樹脂層のゲル分率が95%以上であることを特徴と
する光ディスク。
(1) An optical disc comprising a resin layer cured by irradiation with radiation on a substrate, the resin layer having a gel fraction of 95% or more.
(2)前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100
℃における弾性率が200kgf/mm^2以上である
請求項1に記載の光ディスク。
(2) Frequency of the resin layer: 10 Hz, temperature: 20 to 100
The optical disc according to claim 1, having an elastic modulus of 200 kgf/mm^2 or more at °C.
(3)前記樹脂層の周波数10Hz、温度20〜100
℃における力学的損失係数tanδが0.01〜0.2
である請求項1または2に記載の光ディスク。
(3) Frequency of the resin layer: 10 Hz, temperature: 20-100
Mechanical loss coefficient tan δ at °C is 0.01 to 0.2
The optical disc according to claim 1 or 2.
(4)前記樹脂層上に金属記録層を成膜した請求項1な
いし3のいずれかに記載の光ディスク。
(4) The optical disc according to any one of claims 1 to 3, wherein a metal recording layer is formed on the resin layer.
(5)前記樹脂層上に5Pa以下の気圧下にて成膜した
記録層を有する請求項1ないし3のいずれかに記載の光
ディスク。
(5) The optical disc according to any one of claims 1 to 3, further comprising a recording layer formed on the resin layer under an atmospheric pressure of 5 Pa or less.
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