JP2741530B2 - optical disk - Google Patents

optical disk

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JP2741530B2
JP2741530B2 JP1113132A JP11313289A JP2741530B2 JP 2741530 B2 JP2741530 B2 JP 2741530B2 JP 1113132 A JP1113132 A JP 1113132A JP 11313289 A JP11313289 A JP 11313289A JP 2741530 B2 JP2741530 B2 JP 2741530B2
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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光ディスク、特に光磁気記録ディスク、相
変化型の光記録ディスク、ピット形成型の光記録ディス
クや、再生専用の光ディスク等に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial Application Field> The present invention relates to an optical disk, particularly a magneto-optical recording disk, a phase-change optical recording disk, a pit-forming optical recording disk, a read-only optical disk, and the like.

〈従来の技術〉 光ディスクのうち、特に光記録ディスクは、基板上に
情報担持部としての記録層を設層して構成され、その記
録・再生に際しては、通常、基板側からレーザビーム等
を照射することによって行われる。
<Conventional technology> Among optical discs, optical recording discs, in particular, are formed by providing a recording layer as an information carrier on a substrate, and when recording / reproducing, a laser beam or the like is usually irradiated from the substrate side. It is done by doing.

このため用いる基板は透明なもの、例えば、ガラスや
樹脂から構成されている。
The substrate used for this purpose is made of a transparent material, for example, glass or resin.

この場合、ディスクの軽量化や、トラッキング用のグ
ルーブやピット形成の容易さの点から、従来光ディスク
の基板としては樹脂製の基板が用いられている。
In this case, a resin substrate is conventionally used as the substrate of the optical disk in terms of weight reduction of the disk and ease of forming grooves and pits for tracking.

また、最近、高速転送レートを得るために、記録・再
生に際して高速回転が要求されている。
In addition, recently, in order to obtain a high transfer rate, high speed rotation is required for recording / reproducing.

しかし、樹脂製の基板では、剛性が不十分であるため
面ブレが生じ、1800rpm以上、特に3000rpm以上の高速回
転駆動時には、フォーカストラッキングエラーが増大し
てしまう。
However, in the case of a resin substrate, surface rigidity is insufficient due to insufficient rigidity, and the focus tracking error increases when driving at a high speed of 1800 rpm or more, especially 3000 rpm or more.

このため、最近要求されるようになってきた高速回転
駆動、特に1800rpm以上、さらに3000rpm以上の高速回転
駆動に対応するためには、機械的強度の高いガラス製の
基板を用いることを考えなければならない。
Therefore, in order to cope with the high-speed rotation drive that has recently been required, particularly at 1800 rpm or more, and further at 3000 rpm or more, it is necessary to consider using a glass substrate with high mechanical strength. No.

しかし、ガラス製基板では誤って落としたりぶつけた
りした場合、破損する可能性がある。
However, if the glass substrate is accidentally dropped or hit, the glass substrate may be damaged.

また、特に強度の高い化学強化ガラスを用いたときに
は、ガラス小片となって破損し、この小片が飛び散ると
いう不都合もある。
In addition, when chemically strengthened glass having a particularly high strength is used, there is a disadvantage that the glass is broken into small pieces and the small pieces are scattered.

一方記録層のヒッカキ等による機械的損傷を防ぐため
には、基板の記録層設層側に保護基板を設けるか、一対
の基板を記録層が内封されるように一体化する必要があ
る。
On the other hand, in order to prevent mechanical damage due to cracking or the like of the recording layer, it is necessary to provide a protective substrate on the recording layer side of the substrate or to integrate a pair of substrates so that the recording layer is enclosed.

この場合、ガラス基板に、熱膨張率の違いによる剥離
を防止するため、ガラス製の保護基板等を接着すると、
ディスクの質量が限界値を超えてしまう。このため必要
な回転速度、特に安定な高回転速度を得ることが困難と
なる。
In this case, when a glass protective substrate or the like is bonded to the glass substrate to prevent peeling due to a difference in thermal expansion coefficient,
The mass of the disc exceeds the limit. For this reason, it is difficult to obtain a necessary rotation speed, particularly a stable high rotation speed.

また、破損の際の問題は解消しない。 In addition, the problem at the time of damage is not solved.

なお、熱膨張率の違いによる剥離を防止するため、樹
脂製基板に、樹脂製の基板ないし保護基板を接着して記
録層の機械的損傷を防止することも可能である。
In order to prevent peeling due to a difference in the coefficient of thermal expansion, a resin substrate or a protection substrate can be bonded to the resin substrate to prevent mechanical damage to the recording layer.

しかし、この場合も高速回転駆動によるフォーカスト
ラッキングエラーの問題は解消しない。
However, also in this case, the problem of the focus tracking error due to the high-speed rotation drive is not solved.

このような問題、特に高速回転駆動の際の問題を解決
するには、一対の基板のうち、あるいは基板と保護基板
のうち一方をガラス製、他方を樹脂製とすればよい。
In order to solve such a problem, in particular, the problem at the time of high-speed rotation drive, one of the pair of substrates or one of the substrate and the protection substrate may be made of glass, and the other is made of resin.

しかし、このように一対の基板のうち、あるいは基板
と保護基板のうち一方をガラス製、他方を樹脂製とする
光ディスクは従来知られていない。
However, an optical disk in which one of a pair of substrates or a substrate and a protection substrate is made of glass and the other is made of resin has not been known.

これは、熱膨張率の異なるガラスと樹脂とを接着する
ことは、過酷な保存条件下に置かれうる光ディスクでは
得策でないと考えられていたからであろうと思われる。
This is presumably because bonding glass and resin having different coefficients of thermal expansion was not considered to be advisable for an optical disk that could be placed under severe storage conditions.

ところで米国特許第4,503,531号には、樹脂製の基板
と樹脂製の基板とを、軟化点140℃以下、常態引張り接
着強度が20℃で1kg/cm2以上、溶融粘度が160℃で1000P
以下のホットメルト接着剤によって接着する旨が提案さ
れている。
By the way, U.S. Pat.No. 4,503,531 discloses that a resin substrate and a resin substrate have a softening point of 140 ° C. or less, a normal tensile adhesive strength of 1 kg / cm 2 or more at 20 ° C., and a melt viscosity of 160 P at 160 ° C.
It has been proposed to bond with the following hot melt adhesives.

しかしこのような接着剤は、熱膨張率のほぼ等しい樹
脂製基板と、樹脂製の基板ないし保護基板とを接着する
場合には接着効果を発揮するが、熱膨張率の異なるガラ
ス製基板と、樹脂製の基板ないし保護基板との接着には
適さない。
However, such an adhesive exerts an adhesive effect when bonding a resin substrate having substantially the same coefficient of thermal expansion to a resin substrate or a protective substrate, but a glass substrate having a different coefficient of thermal expansion, It is not suitable for bonding with a resin substrate or protection substrate.

つまり、ガラス製基板と、樹脂製の基板ないし保護基
板とを接着剤で一体化した光ディスクには、高温あるい
は低温下、例えば−20〜55℃で温度が変化する苛酷な条
件下に保存する場合、熱膨張率の違いにより基板、保護
基板、あるいは記録層、保護コート、接着剤層等の構成
層に応力や歪が発生する。このため従来の光ディスクに
用いられる接着剤で一体化しても基板と基板、基板と保
護基板、あるいはこれらと各構成層、さらには構成層と
構成層とが剥離してしまうのである。
In other words, when an optical disk in which a glass substrate and a resin substrate or a protection substrate are integrated with an adhesive is stored under a high or low temperature, for example, under severe conditions in which the temperature changes at −20 to 55 ° C. Due to the difference in the coefficient of thermal expansion, stress and strain are generated in the substrate, the protective substrate, or the constituent layers such as the recording layer, the protective coat, and the adhesive layer. For this reason, even if they are integrated with an adhesive used for a conventional optical disk, the substrate and the substrate, the substrate and the protective substrate, or these and each of the constituent layers, or the constituent layers and the constituent layers are peeled off.

このように、従来の光ディスクに用いられる接着剤に
よりガラス製基板と、樹脂製の基板ないし保護基板とを
一体化して、信頼性の高い光ディスクを得ることは困難
である。
As described above, it is difficult to obtain a highly reliable optical disk by integrating the glass substrate and the resin substrate or the protection substrate with the adhesive used for the conventional optical disk.

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、高温および低温下、例えば、−20〜
55℃で温度変化する苛酷な条件下に置かれる場合でも基
板と基板、基板と保護基板、これらと保護コート等の各
構成層、さらには構成層と構成層とが剥離することがな
く、しかも面ブレや変形を生じることがなく、安定した
高速回転を行うことができ、良好な記録・再生特性を有
する光ディスクを提供することにある。
<Problems to be Solved by the Invention> The object of the present invention is under high and low temperatures, for example, -20 to
Even when placed under severe conditions where the temperature changes at 55 ° C., each of the constituent layers such as the substrate and the substrate, the substrate and the protective substrate, these and the protective coat, and further, the constituent layers and the constituent layers do not peel off, and An object of the present invention is to provide an optical disk which can perform stable high-speed rotation without causing surface wobble and deformation and has good recording / reproducing characteristics.

〈課題を解決するための手段〉 このような目的は下記の(1)〜(6)の本発明によ
って達成される。
<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention of the following (1) to (6).

(1)一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
担持部を形成し、この情報担持部が内封されるように、
前記一対の基板を接着剤により一体化した光ディスクで
あって、前記一対の基板のうち、一方がガラス製であ
り、他方が樹脂製であり、前記接着剤のガラス転移温度
Tgが、−60〜−10℃であることを特徴とする光ディスク (2)前記一対の基板のうち、ガラス製基板上に情報担
持部を形成し、これを樹脂製の保護基板と一体化した上
記(1)に記載の光ディスク。
(1) having a pair of substrates, forming an information carrier on at least one substrate, and enclosing the information carrier,
An optical disc in which the pair of substrates is integrated with an adhesive, wherein one of the pair of substrates is made of glass, the other is made of resin, and has a glass transition temperature of the adhesive.
An optical disc characterized by a Tg of −60 to −10 ° C. (2) Of the pair of substrates, an information carrying portion is formed on a glass substrate, and this is integrated with a resin protection substrate. The optical disc according to the above (1).

(3)前記情報担持部が記録層である上記(1)または
(2)に記載の光ディスク。
(3) The optical disc according to (1) or (2), wherein the information carrying unit is a recording layer.

(4)前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
層上に樹脂製の保護コートが設層されている上記(3)
に記載の光ディスク。
(4) The above-mentioned (3), wherein the recording layer contains a rare earth metal element, and a protective coat made of resin is provided on the recording layer.
An optical disk according to claim 1.

(5)前記接着剤のヤング率が、−20℃、10Hzにて100k
gf/mm2以下である(1)ないし(4)のいずれかに記載
の光ディスク。
(5) The adhesive has a Young's modulus of 100k at -20 ° C and 10Hz.
The optical disc according to any one of (1) to (4), which has a gf / mm 2 or less.

(6)前記接着剤の力学的損失係数tanδが、−20℃、1
0Hzにて0.1以上である上記(1)ないし(5)のいずれ
かに記載の光ディスク。
(6) The mechanical loss factor tan δ of the adhesive is −20 ° C., 1
The optical disc according to any one of the above (1) to (5), which has a value of 0.1 or more at 0 Hz.

〈作用〉 本発明の光ディスクは、少なくとも一方に記録層等の
情報担持部を有するガラス製の基板と樹脂製の保護基板
とが、−60〜−10℃のガラス転移温度Tgを有する接着剤
により一体化される。このため高温あるいは低温下、例
えば−20〜55℃で温度変化する苛酷な条件下に保存する
場合であってもガラス製基板と樹脂製基板間、あるいは
これらと保護コート等の各構成層間、さらには構成層と
構成層間に生じる応力や歪み等が接着剤層により吸収あ
るいは緩和され、剥離を完全に防止することができる。
<Operation> The optical disk of the present invention is a glass substrate having at least one information carrying portion such as a recording layer and a resin protection substrate, an adhesive having a glass transition temperature Tg of -60 to -10 ° C. Be integrated. For this reason, even when stored under severe conditions of high or low temperature, for example, a temperature change at −20 to 55 ° C., between a glass substrate and a resin substrate, or between these and each constituent layer such as a protective coat, and The adhesive layer absorbs or alleviates the stress, strain, and the like generated between the constituent layers, and the peeling can be completely prevented.

従って、一対の基板のうち一方をガラス製、他方を樹
脂製とする軽量かつ剛性の光ディスクを実現することが
できしかも十分な信頼性を得ることができる。
Therefore, it is possible to realize a lightweight and rigid optical disk in which one of the pair of substrates is made of glass and the other is made of resin, and sufficient reliability can be obtained.

そして、本発明の光ディスクによれば、1800rpm以
上、特に3000rpm以上の安定な高速回転駆動を容易に行
うことができ、その際面ブレや変形も防止することがで
きる。
According to the optical disc of the present invention, stable high-speed rotation drive of 1800 rpm or more, especially 3000 rpm or more can be easily performed, and in this case, surface shake and deformation can be prevented.

また、一方の基板は樹脂製であるため、光ディスクを
落としたりときの破損や、破損したときのガラス飛散も
防止することができる。
Further, since one substrate is made of resin, it is possible to prevent breakage when the optical disc is dropped or scattered glass when broken.

特に、ガラス製の基板上に記録層等の情報担持部を形
し、これを樹脂製の保護基板と一体化した光ディスクに
よれば、記録・再生上の障害となる複屈折を防止するこ
とができる。そして記録・再生を行うガラス製基板側
は、耐熱性、耐湿性に優れるため、高温ないし低温およ
び高湿ないし低湿下での長期間の保存によっても変形や
変質等がほとんど生じない。
In particular, according to an optical disk in which an information carrying portion such as a recording layer is formed on a glass substrate and integrated with a protective substrate made of resin, it is possible to prevent birefringence which is an obstacle to recording / reproduction. it can. The glass substrate on which recording / reproduction is performed is excellent in heat resistance and moisture resistance, and therefore hardly deforms or deteriorates even when stored for a long time at high or low temperature and high or low humidity.

なお、本発明における情報担持部とは、再生専用ディ
スクにおけるように、情報を予め担持しているもの、お
よび記録・再生ディスクにおけるように情報を担持させ
うる記録層の双方を指すものである。
It should be noted that the information carrying unit in the present invention refers to both a unit that carries information in advance, as in a read-only disc, and a recording layer that can carry information, as in a record / playback disk.

〈具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。<Specific Configuration> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

第1図に、本発明の光ディスクの好適実施例として、
光磁気記録ディスクの1例を示す。
FIG. 1 shows a preferred embodiment of the optical disk of the present invention.
1 shows an example of a magneto-optical recording disk.

第1図に示される光磁気記録ディスク1は、基板2上
に、樹脂層3、保護層4、中間層5、情報担持部として
の記録層6、保護層7、保護コート8、接着剤層9、保
護基板10を順次有する。
The magneto-optical recording disk 1 shown in FIG. 1 has a resin layer 3, a protective layer 4, an intermediate layer 5, a recording layer 6 as an information carrying portion, a protective layer 7, a protective coat 8, an adhesive layer on a substrate 2. 9. It has a protection substrate 10 in order.

本発明において、基板2は、記録光および再生光に対
して透明なものであり、樹脂製あるいはガラス製、好ま
しくはガラス製とする。
In the present invention, the substrate 2 is transparent to recording light and reproduction light, and is made of resin or glass, preferably glass.

基板2をガラスにより構成すれば、耐熱性、耐湿性が
向上し、複屈折もほとんど生じない。
When the substrate 2 is made of glass, heat resistance and moisture resistance are improved and birefringence hardly occurs.

基板2の形状は、ディスク状である。 The substrate 2 has a disk shape.

基板2の直径は通常50〜360mm程度であり、その厚さ
は、0.5〜2mm程度である。
The diameter of the substrate 2 is usually about 50 to 360 mm, and its thickness is about 0.5 to 2 mm.

基板2を樹脂製とする場合は、剛性の樹脂を用いる。 When the substrate 2 is made of resin, rigid resin is used.

この場合、用いる樹脂に制限はないが、例えばアクリ
ル樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチル
ペンテン、ポリオレフィン等が好適である。
In this case, the resin to be used is not limited, but for example, acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, polymethylpentene, polyolefin and the like are preferable.

基板2は、公知の方法に従い製造すればよい。例えば
樹脂製基板の場合には、射出成形等を用い、基板表面
に、トラッキング用、アドレス用等のために、ピットあ
るいはグルーブ等の所定のパターンを同時に形成すれば
よい。
The substrate 2 may be manufactured according to a known method. For example, in the case of a resin substrate, a predetermined pattern such as pits or grooves may be simultaneously formed on the substrate surface for tracking, addressing, etc. by using injection molding or the like.

なお、この場合、樹脂層3は設層されない。 In this case, the resin layer 3 is not provided.

基板2をガラス製とする場合は、強化ガラスから構成
することが好ましい。強化ガラスを用いることにより、
より高い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。
When the substrate 2 is made of glass, the substrate 2 is preferably made of tempered glass. By using tempered glass,
Higher rigidity and better weather resistance and durability can be obtained.

強化ガラスには、その強化法から物理強化ガラスと化
学強化ガラスとがあり、用途に応じて使用されている。
The tempered glass includes a physically tempered glass and a chemically tempered glass according to the tempering method, and is used depending on the application.

本発明で用いる強化ガラスに特に制限はなく、通常の
強化法を用いて強化したガラスが使用されるが、好まし
くは化学強化ガラスを使用する。
There is no particular limitation on the tempered glass used in the present invention, and a glass tempered using a normal tempering method is used, but a chemically tempered glass is preferably used.

化学強化ガラスは、例えば、ガラス構成元素としての
アルカリ金属イオンの一部を外部から供給される他種ア
ルカリ金属イオンと交換することにより、特にLiとNaお
よびNaとKの交換によりガラス内に圧縮応力層を形成
し、機械的強度を高めたガラスである。
Chemically strengthened glass is compressed into glass by, for example, exchanging some alkali metal ions as glass constituent elements with other kinds of alkali metal ions supplied from outside, especially by exchanging Li and Na and Na and K. It is a glass in which a stress layer is formed and the mechanical strength is increased.

化学強化処理は、通常、硝酸塩、硫酸塩等のアルカリ
塩を加熱溶融し、溶融液中に被処理ガラスを数時間から
数十時間程度浸漬することにより行なわれる。
The chemical strengthening treatment is usually performed by heating and melting an alkali salt such as a nitrate or a sulfate, and immersing the glass to be treated in the molten liquid for several hours to several tens of hours.

このような化学強化処理により作製されたガラスは、
通常、ガラス表面付近だけに圧縮応力層が形成された表
面強化ガラスとなる。この場合、圧縮応力層の厚さは10
〜200μm、特に30〜75μm程度であることが好まし
い。
Glass produced by such a chemical strengthening process,
Usually, it is a surface strengthened glass having a compression stress layer formed only near the glass surface. In this case, the thickness of the compressive stress layer is 10
It is preferably about 200 to 200 μm, particularly about 30 to 75 μm.

用いる化学強化ガラスとしては、ソーダ・石灰・ケイ
酸ガラス等に上記の化学強化処理を施したものであって
もよいが、特に機械的強度が高いことから、アルミナケ
イ酸ガラスに化学処理を施したものを用いることが好ま
しい。
As the chemically strengthened glass to be used, soda, lime, silicate glass or the like which has been subjected to the above-mentioned chemical strengthening treatment may be used. However, since the mechanical strength is particularly high, the alumina silicate glass is subjected to the chemical treatment. It is preferable to use those that have been used.

アルミナケイ酸ガラスとしては、機械的強度が高いこ
とから、Al2O3含有量が10wt%以上であることが好まし
く、特に、15〜30wt%のAl2O3を含有するものを用いる
ことが好ましい。
The alumina silicate glass preferably has an Al 2 O 3 content of 10 wt% or more because of its high mechanical strength. In particular, a glass containing 15 to 30 wt% of Al 2 O 3 is preferably used. preferable.

本発明で好適に用いられるアルミナケイ酸ガラスの組
成範囲を、以下に示す。
The composition range of the alumina silicate glass suitably used in the present invention is shown below.

SiO2 50〜60wt% Al2O3 15〜30wt% B2O3 1〜10wt% RI 2O 10〜25wt% RIIO 1〜10wt% (ただし、RIおよびRIIは、それぞれ1価および2価の
金属) TiO2等 0〜5wt% そして、K+置換率は、0.01〜1mg/cm3程度であること
が好ましい。
SiO 2 50~60wt% Al 2 O 3 15~30wt% B 2 O 3 1~10wt% R I 2 O 10~25wt% R II O 1~10wt% ( provided that, R I and R II are each monovalent And divalent metal) TiO 2 etc. 0 to 5 wt% And the K + substitution rate is preferably about 0.01 to 1 mg / cm 3 .

ガラス製の基板2を用いる場合は、基板2上には、樹
脂層3が設層されることが好ましい。
When a glass substrate 2 is used, a resin layer 3 is preferably provided on the substrate 2.

樹脂層3は、その表面に、トラッキング用、アドレス
用等のために、ピットあるいはグルーブ等の所定のパタ
ーンを有する。なお樹脂層3を設けず、化学エッチング
等により所定のパターンを形成してもよい。
The resin layer 3 has a predetermined pattern such as pits or grooves on its surface for tracking, addressing, and the like. A predetermined pattern may be formed by chemical etching or the like without providing the resin layer 3.

樹脂層3を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわ
ゆる2P法に用いられる公知の樹脂から、適当に選択すれ
ばよい。2P法には、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れ、本発明では、例えば、多官能エステルアクリレー
ト、多官能ウレタンアクリレート、多官能エポキシアク
リレート等に属するモノマーを2〜3成分混合して、あ
るいはこれらモノマーにポリエステルアクリレート、オ
リゴエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、オリゴウレタンアクリレート等を混合し、光重合開
始剤Irg−907、651等を加えたもの等を好適に用いるこ
とができる。
The resin material constituting the resin layer 3 is not particularly limited, and may be appropriately selected from known resins used in a so-called 2P method. In the 2P method, a radiation-curable compound is generally used. In the present invention, for example, a monomer belonging to a polyfunctional ester acrylate, a polyfunctional urethane acrylate, a polyfunctional epoxy acrylate, or the like is mixed with two or three components, or A mixture obtained by mixing a polyester acrylate, an oligoester acrylate, a polyurethane acrylate, an oligourethane acrylate, or the like with a monomer and adding a photopolymerization initiator Irg-907, 651, or the like can be suitably used.

このような樹脂層3の設層は、公知の2P法により行な
うことが好ましい。
It is preferable to form such a resin layer 3 by a known 2P method.

2P法では、まず、所定のパターンを有するスタンパ表
面に放射線硬化型化合物を展着し、この放射線硬化型化
合物層上にガラス基板を圧接する。この圧接により、ス
タンパ表面のパターンを層表面に転写する。次いで、ガ
ラス基板を通して放射線を照射することにより硬化させ
て、樹脂とガラス基板とを接着する。この後、樹脂とス
タンパとを剥離する。
In the 2P method, first, a radiation-curable compound is spread on the surface of a stamper having a predetermined pattern, and a glass substrate is pressed onto the radiation-curable compound layer. This pressing transfers the pattern on the stamper surface to the layer surface. Next, the resin is cured by irradiating radiation through the glass substrate, and the resin and the glass substrate are bonded to each other. Thereafter, the resin and the stamper are separated.

以上の工程により、スタンパのパターンが転写された
樹脂層を、ガラス基板の表面に形成する。
Through the above steps, the resin layer to which the pattern of the stamper has been transferred is formed on the surface of the glass substrate.

このようにして形成される樹脂層3の層厚は、好まし
くは5〜100μm、より好ましくは10〜30μmである。
The thickness of the resin layer 3 thus formed is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 30 μm.

中間層5は、C/N比を向上させるために設けられ、各
種誘導体物質から形成されることが好ましく、その層厚
は30〜150nm程度であることが好ましい。また、設層方
法は、スパッタ法等の気相成膜法を用いることが好まし
い。
The intermediate layer 5 is provided to improve the C / N ratio, and is preferably formed from various derivative substances, and the layer thickness is preferably about 30 to 150 nm. Further, it is preferable to use a vapor phase film forming method such as a sputtering method as a layering method.

なお、このような中間層材質を後述する記録層6の上
に保護層7として設けて、前記中間層5と併用すること
もできる。併用する場合には、中間層5と保護層7の組
成は同一であっても異なっていてもよい。
Incidentally, such a material for the intermediate layer may be provided as a protective layer 7 on the recording layer 6 described later, and used together with the intermediate layer 5. When used together, the compositions of the intermediate layer 5 and the protective layer 7 may be the same or different.

保護層4および保護層7は、記録層6の耐食性向上の
ために設けられるものであり、これらは少なくとも一
方、好ましくは両方が設けられることが好ましい。これ
ら保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物ある
いはこれらの混合物からなる無機薄膜から構成されるこ
とが好ましい。また、前述したように、上記の中間層材
質で形成してもよい。保護層の層厚は30〜300nm程度で
あることが耐食性向上の点から好ましい。
The protective layer 4 and the protective layer 7 are provided for improving the corrosion resistance of the recording layer 6, and it is preferable that at least one of them, and preferably both of them are provided. These protective layers are preferably composed of an inorganic thin film made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides or mixtures thereof. Further, as described above, it may be formed of the above-mentioned intermediate layer material. The thickness of the protective layer is preferably about 30 to 300 nm from the viewpoint of improving corrosion resistance.

このような保護層は、スパッタ法等の各種気相成膜法
等によって形成されることが好ましい。
Such a protective layer is preferably formed by various vapor deposition methods such as a sputtering method.

記録層6は、変調された熱ビームあるいは変調された
磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記
録情報は磁気−光変換して再生されるものである。
In the recording layer 6, information is magnetically recorded by a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.

記録層6は、光磁気記録が行なえるものであればその
材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合
金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、
蒸着法等により、非晶質膜として形成したものであるこ
とが好ましい。
The material of the recording layer 6 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording. An alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal, is formed by sputtering,
It is preferably formed as an amorphous film by an evaporation method or the like.

希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、Gd、Sm、Ceのうち
の1種以上を用いることが好ましい。
As the rare earth metal, it is preferable to use one or more of Tb, Dy, Nd, Gd, Sm, and Ce.

遷移金属としては、FeおよびCoが好ましい。 Fe and Co are preferable as the transition metal.

この場合、FeとCoの総含有量は、65〜85at%であるこ
とが好ましい。
In this case, the total content of Fe and Co is preferably 65 to 85 at%.

そして、残部は実質的に希土類金属である。 The balance is substantially a rare earth metal.

好適に用いられる記録層の組成としては、TbFeCo、Dy
TbFeCo、NdDyFeCo、NdGdFeCo等がある。
Preferred recording layer compositions include TbFeCo, Dy
There are TbFeCo, NdDyFeCo, NdGdFeCo and the like.

なお、記録層中には、10at%以下の範囲でCr、Al、T
i、Pt、Si、Mo、Mn、V、Ni、Cu、Zn、Ge、Au等が含有
されてもよい。
In the recording layer, Cr, Al, T
i, Pt, Si, Mo, Mn, V, Ni, Cu, Zn, Ge, Au and the like may be contained.

また、10at%以下の範囲で、Sc、Y、La、Ce、Pr、P
m、Sm、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等の他の希土類金属元
素を含有してもよい。
In addition, Sc, Y, La, Ce, Pr, P
Other rare earth metal elements such as m, Sm, Eu, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu may be contained.

このような記録層6の層厚は、通常、10〜1000nm程度
である。
The layer thickness of such a recording layer 6 is usually about 10 to 1000 nm.

このような記録層は、蒸着法、スパッタ法、イオンプ
レーティング法等のドライコーティング方式等を用いて
設層すればよい。そしてその設層厚さは20nm〜1μm程
度とされる。
Such a recording layer may be formed using a dry coating method such as an evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method. The thickness of the layer is about 20 nm to 1 μm.

保護コート8は耐食性や、耐擦傷性の向上のために設
けられるものであり、種々の有機系の物質から構成され
ることが好ましいが、特に、電子線、紫外線等の放射線
により硬化可能な放射線硬化型化合物を、放射線硬化さ
せた物質から構成されることが好ましい。
The protective coat 8 is provided for improving corrosion resistance and abrasion resistance, and is preferably composed of various organic substances. In particular, radiation curable by radiation such as electron beams and ultraviolet rays. The curable compound is preferably composed of a radiation-cured substance.

そしてこのような保護コート8の形成に用いる放射線
硬化型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含ま
れることが好ましい。
The radiation-curable compound used for forming such a protective coat 8 preferably contains an oligoester acrylate.

オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基また
はメタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物
である。そして好ましいオリゴエステルアクリレートと
しては、分子量1000〜10000、好ましくは2000〜7000で
あって、重合度2〜10、好ましくは、3〜5のものが挙
げられる。また、これらのうちアクリレート基またはメ
タクリレート基を2〜6個、好ましくは3〜6個有する
多官能オリゴエステルアクリレートが好ましい。
The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. Preferred oligoester acrylates include those having a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 7,000 and a degree of polymerization of 2 to 10, preferably 3 to 5. Of these, polyfunctional oligoester acrylates having 2 to 6, preferably 3 to 6, acrylate or methacrylate groups are preferred.

多官能オリゴエステルアクリレートとしてはアロニッ
クスM−7100、M−5400、M−5500、M−5700、M−62
50、M−6500、M−8030、M−8060、M−8100等(東亜
合成化学社製)として市販されているものを用いること
ができ、これらは下記式(A)、(B)で示されるもの
である。
Multifunctional oligoester acrylates include Aronix M-7100, M-5400, M-5500, M-5700, and M-62.
Commercially available products such as 50, M-6500, M-830, M-8060, and M-8100 (manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.) can be used, and these are represented by the following formulas (A) and (B). It is what is done.

A:アクリレート基またはメタクリレート基、M:2価ア
ルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、1,6−ヘキサングリコール、ビスフェノール
A等)残基、N:2塩素酸(例えば、テレフタル酸、イソ
フタル酸、アジピン酸、コハク酸等)残基、n:1〜10、
好ましくは2〜5 これらのうちでは、(A)で示されるものが好まし
い。
A: an acrylate group or a methacrylate group, M: a dihydric alcohol (eg, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,6-hexane glycol, bisphenol A, etc.) residue, N: dichloric acid (eg, terephthalic acid, isophthalic acid, adipine) Acid, succinic acid, etc.) residue, n: 1-10,
Preferably 2-5 Of these, those represented by (A) are preferred.

このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用
してもよい。
Such an oligoester acrylate may be used alone.

また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中20wt%以上存在することが好ましい。
Further, another radiation-curable compound may be used in combination. In such a case, the oligoester acrylate is preferably present in the radiation-curable compound in an amount of 20% by weight or more.

上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線
硬化型化合物を併用することができ、このようなものと
しては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重
結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重結
合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分子
中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよびポ
リマー等を挙げることができる。これらは多官能、特に
3官能以上であることが好ましい。
Other radiation-curable compounds can be used in combination with the above-mentioned oligoester acrylates, such as acrylic acid and methacrylic acid having an unsaturated double bond that is sensitive to ionization energy and exhibits radical polymerizability. Groups that are crosslinked or polymerized by irradiation such as acrylic double bonds such as acids or their ester compounds, allyl double bonds such as diallyl phthalate, unsaturated double bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives, etc. And monomers, oligomers and polymers containing or introduced in the molecule. These are preferably polyfunctional, particularly preferably trifunctional or higher.

放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の化
合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のもの
が用いられる。
As the radiation-curable monomer, a compound having a molecular weight of less than 2,000 is used, and as the oligomer, one having a molecular weight of 2,000 to 10,000 is used.

これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサングリコールジメ
タクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタ
クリレート)、ペンタエリスリトールアクリレート(メ
タクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(メタクリレート)、トリメチロールプロパンジア
クリレート(メタクリレート)、ウレタンエラストマー
(ニッポラン4040)のアクリル変性体、あるいはこれら
のものにCOOH等の官能基が導入されたもの、フェノール
エチレンオキシド付加物のアクリレート(メタクリレー
ト)、特願昭62−072888号に示されるペンタエリスリト
ール縮合環にアクリル基(メタクリル基)またはε−カ
プロラクトン−アクリル基のついた化合物、および特願
昭62−072888号に示される特殊アクリレート類等が挙げ
られる。
These include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol dimethacrylate, and the like, and particularly preferable ones Examples thereof include pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), an acrylic modified product of urethane elastomer (Nipporan 4040), or these. Products with functional groups such as COOH, phenol ethylene oxide adducts Acrylate (methacrylate), pentaerythritol fused ring acrylic group (methacryl group) shown in Japanese Patent Application Sho 62-072888 or epsilon - caprolactone - compound with a acryl group, and special shown in Japanese Patent Application Sho 62-072888 Acrylates and the like.

また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものに
COOH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
As the radiation-curable oligomer, an acrylic modified urethane elastomer, or these materials may be used.
Examples include those into which a functional group such as COOH has been introduced.

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて
熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られ
る放射線硬化型化合物を用いてもよい。
Further, a radiation-curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification in addition to or instead of the above-mentioned compounds may be used.

このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジ
カル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、
メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタレートのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する
基を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂
である。
Specific examples of such a radiation-curable resin include acrylic acid having an unsaturated double bond showing radical polymerizability,
Groups that crosslink or polymerize upon irradiation, such as acrylic double bonds such as methacrylic acid or their ester compounds, allyl double bonds such as diallyl phthalate, and unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives. Is contained or introduced in the molecule of the thermoplastic resin.

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエステル樹脂、
ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ
キシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができる。
Examples of thermoplastic resins that can be modified into radiation-curable resins include vinyl chloride copolymers, saturated polyester resins,
Examples thereof include a polyvinyl alcohol resin, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a cellulose derivative.

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。
Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyetherester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (PVP
An olefin copolymer), a polyamide resin, a polyimide resin, a phenol resin, a spiro acetal resin, an acrylic resin containing at least one hydroxyl-containing acrylic ester and methacrylic ester as a polymerization component are also effective.

このような放射線硬化型化合物の保護コート8の膜厚
は0.1〜100μm、より好ましくは5〜30μm程度とする
ことが好ましい。
The thickness of the protective coating 8 of such a radiation-curable compound is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably about 5 to 30 μm.

この膜厚が0.1μm未満になると、一様な膜を形成で
きず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でなく、
記録層6の耐久性が向上しない。また、100μmをこえ
ると、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反
りや保護膜中のクラックが生じることになる。
If this film thickness is less than 0.1 μm, a uniform film cannot be formed, and the moisture-proof effect in an atmosphere with high humidity is not sufficient,
The durability of the recording layer 6 does not improve. On the other hand, when the thickness exceeds 100 μm, warpage of the recording medium and cracks in the protective film occur due to shrinkage caused when the resin film is cured.

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビ
ア塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知
の方法を組み合わせて設層すればよい。この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
Such a coating film may be usually formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping. The conditions for forming the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the desired thickness of the coating film, and the like.

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外
線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。
In the present invention, examples of the radiation applied to the coating film include an ultraviolet ray and an electron beam, and an ultraviolet ray is preferable.

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化
型化合物の中には、通常、光重合増感剤を加えることが
好ましい。
When ultraviolet rays are used, it is usually preferable to add a photopolymerization sensitizer to the above-mentioned radiation-curable compound.

本発明に用いる光重合増感剤としては、特願昭62−07
2888号等に記載されている化合物が好適である。
As the photopolymerization sensitizer used in the present invention, Japanese Patent Application No. 62-07
Compounds described in 2888 and the like are preferred.

保護基板10は、記録層6の損傷等を有効に防止するた
めに設けられるものである。
The protection substrate 10 is provided to effectively prevent the recording layer 6 from being damaged or the like.

そして、ガラス製の基板2に用いる保護基板10は樹脂
製とし、樹脂製の基板2に用いる保護基板10はガラス製
とする。
The protection substrate 10 used for the glass substrate 2 is made of resin, and the protection substrate 10 used for the resin substrate 2 is made of glass.

このように一対の基板2、10のうち一方をガラス製、
他方を樹脂製とすることにより、軽量でしかも高い剛性
を有するディスクが得られる。このため面ブレのない安
定した高速回転駆動、例えば3000rpm以上の回転駆動を
行うことができる。
Thus, one of the pair of substrates 2 and 10 is made of glass,
When the other is made of resin, a disk which is lightweight and has high rigidity can be obtained. For this reason, stable high-speed rotation drive without surface shake, for example, rotation drive of 3000 rpm or more can be performed.

さらに、一方の基板が樹脂製であるため、ディスクを
落としたりしたときの破損の防止や、割れた場合のガラ
ス飛散の防止も図ることができる。
Furthermore, since one of the substrates is made of resin, it is possible to prevent breakage when the disk is dropped or to prevent glass from scattering when the disk is broken.

本発明において特に好ましいものは、ガラス製の基板
2と樹脂製の保護基板10とを一体化するディスクであ
る。
Particularly preferred in the present invention is a disk in which the glass substrate 2 and the resin protection substrate 10 are integrated.

つまり、このディスクによれば前述した複屈折の防止
や耐候性耐久性の向上に加え、高速回転駆動時の面ブレ
を一層低減することができる。
In other words, according to this disk, in addition to the prevention of birefringence and the improvement of weather resistance and durability described above, it is possible to further reduce surface blur during high-speed rotation driving.

本発明の保護基板10に用いるガラスや樹脂に制限はな
く、例えば不透明なものであってもよい。
The glass or resin used for the protective substrate 10 of the present invention is not limited, and may be opaque, for example.

なお、記録・再生は通常基板2側から行われるが、保
護基板10として、透明なガラスや樹脂を用いれば、保護
基板10側から記録・再生を行うこともできる。
Note that recording / reproduction is usually performed from the substrate 2 side, but if transparent glass or resin is used as the protection substrate 10, recording / reproduction can also be performed from the protection substrate 10 side.

ガラス製保護基板10には、例えば、前述のガラス製基
板2に用いることができるガラス等を用いることができ
る。そして、この場合も強化ガラス、特に化学強化ガラ
スが好ましい。
As the glass protective substrate 10, for example, glass that can be used for the above-described glass substrate 2 can be used. And also in this case, tempered glass, especially chemically strengthened glass is preferable.

また、樹脂製保護基板10には、剛性の樹脂例えば、ポ
リカーボネート、アクリル樹脂、ポリオレフィン等が好
適である。
The resin protective substrate 10 is preferably made of a rigid resin such as polycarbonate, acrylic resin, and polyolefin.

保護基板10の厚さは、剛性を確保するために、0.5〜
2.0mm程度とする。
The thickness of the protection substrate 10 should be 0.5 to
It should be about 2.0mm.

そして、保護基板10の形状は、基板2の形状に合わせ
ればよい。
Then, the shape of the protection substrate 10 may be adjusted to the shape of the substrate 2.

本発明では保護基板10は、接着剤層9により基板2と
一体化される。
In the present invention, the protection substrate 10 is integrated with the substrate 2 by the adhesive layer 9.

接着剤層9にはガラス転移温度Tgが−60〜−10℃、好
ましくは−40〜−15℃の接着剤を用いる。
For the adhesive layer 9, an adhesive having a glass transition temperature Tg of -60 to -10C, preferably -40 to -15C is used.

前記範囲未満では、フローポイト(FP)が低く、高
温、例えば45〜50℃程度で接着剤が流出してしまう。
Below the above range, the flow point (FP) is low, and the adhesive flows out at a high temperature, for example, about 45 to 50 ° C.

前記範囲をこえると、低温、例えば−10℃以下で接着
力が消失してしまう。
If it exceeds the above range, the adhesive strength will be lost at a low temperature, for example, -10 ° C or lower.

ここにフローポイント(FP)とは、接着剤が流動する
温度である。これらガラス転移温度Tgおよびフローポイ
ント(FP)の測定は、粘弾性測定装置を用い、強制振動
法により、加振周波数10Hz(正弦波)で行う。この場
合、Tgは損失弾性率E″のピークを生じる温度より求
め、FPは、Tg以上の高温側でのヤング率E′が急激に減
少する温度より求める。
Here, the flow point (FP) is a temperature at which the adhesive flows. The measurement of the glass transition temperature Tg and the flow point (FP) is performed at a vibration frequency of 10 Hz (sine wave) by a forced vibration method using a viscoelasticity measuring device. In this case, Tg is determined from the temperature at which the peak of the loss modulus E ″ occurs, and FP is determined from the temperature at which the Young's modulus E ′ on the high temperature side above Tg rapidly decreases.

このようなガラス転移温度Tgを有する接着剤のフロー
ポイント(FP)は、通常60〜70℃程度である。
The flow point (FP) of the adhesive having such a glass transition temperature Tg is usually about 60 to 70 ° C.

また、本発明に用いる接着剤は、ヤング率が−20℃、
10Hzにて100kgf/mm2以下、特に3〜100kgf/mm2のものが
好ましい。
The adhesive used in the present invention has a Young's modulus of -20 ° C,
10Hz at 100 kgf / mm 2 or less, particularly preferably those of 3~100kgf / mm 2.

前記範囲をこえると、基板2と保護基板10間、あるい
は、これらと保護コート8等の各構成層間、さらには構
成層と構成層間に生じる応力や歪を接着剤層9により吸
収あるいは緩和することが困難である。
Beyond the above range, the adhesive layer 9 absorbs or relieves stress and strain generated between the substrate 2 and the protective substrate 10 or between each of the constituent layers such as the protective coat 8 and between the constituent layers. Is difficult.

例えば、−20〜55℃で温度が変化する苛酷な条件下に
置くと、保護コート8等の構成層が基板2あるいは他の
構成層から剥離してしまう。
For example, under severe conditions in which the temperature changes at -20 to 55 [deg.] C., the constituent layers such as the protective coat 8 peel off from the substrate 2 or other constituent layers.

またヤング率があまり低いと高温側でのヤング率がさ
らに減少し、接着力が低下してしまう。
On the other hand, if the Young's modulus is too low, the Young's modulus on the high temperature side is further reduced, and the adhesive strength is reduced.

このためヤング率は、前記のとおり特に3〜100kgf/m
m2であることが好ましい。
Therefore, the Young's modulus is, as described above, particularly 3 to 100 kgf / m
m 2 is preferred.

さらに接着剤は、力学的損失係数tanδが−20℃、10H
zにて0.1以上、特に0.2〜1.5のものが好ましい。
Further, the adhesive has a mechanical loss coefficient tan δ of -20 ° C, 10H
It is preferable that z is 0.1 or more, especially 0.2 to 1.5.

前記範囲未満では粘着性が低く、十分な接着強度を得
ることが困難である。例えば、−20〜55℃で温度が変化
する苛酷な条件下に置くと、接着剤層9が、保護基板1
0、基板2あるいは保護コート8等の構成層から剥離し
てしまう。
If it is less than the above range, the tackiness is low and it is difficult to obtain a sufficient adhesive strength. For example, under severe conditions where the temperature changes at -20 to 55 ° C., the adhesive layer 9 becomes
0, peels off from the constituent layers such as the substrate 2 or the protective coat 8.

また、tanδがあまり高いと基板2の反り、あるいは
衝撃等の外部応力が働いた場合に、保護基板10のずれが
起こる可能性がある。
If tan δ is too high, the protective substrate 10 may be displaced when the substrate 2 is warped or an external stress such as an impact is applied.

このため、tanδは、前記のとおり特に0.2〜1.5であ
ることが好ましい。
Therefore, tan δ is particularly preferably 0.2 to 1.5 as described above.

この場合、ヤング率および力学的損失係数tanδは以
下のようにして測定される。
In this case, the Young's modulus and the mechanical loss coefficient tan δ are measured as follows.

接着剤を例えば離型紙上にロールコータ等を用い、厚
さ100〜500μmとなるように塗布する。乾燥後、離型紙
から剥離し、粘弾性測定装置を用い、強制振動法により
加振周波数10Hz(正弦波)にて、−50〜80℃間で測定す
る。
The adhesive is applied on a release paper using a roll coater or the like so as to have a thickness of 100 to 500 μm. After drying, it is peeled off from the release paper, and is measured at a vibration frequency of 10 Hz (sine wave) at -50 to 80 ° C. by a forced vibration method using a viscoelasticity measuring device.

このような特性の接着剤としては、ホットメルト系接
着剤が好ましい。
As an adhesive having such characteristics, a hot melt adhesive is preferable.

ホットメルト系接着剤は一般に、ベースポリマーを主
体とし、これに粘着付与剤、軟化剤、可塑剤、ワックス
等の添加剤を加えて構成される。
A hot-melt adhesive generally comprises a base polymer as a main component and additives such as a tackifier, a softener, a plasticizer, and a wax.

本発明に用いられる接着剤の各構成成分に制限はない
が、ベースポリマーとしては、ポリオレフィン系樹脂、
例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
やこれらを含む共重合体等の1種または2種以上の混合
物等、さらに、これらに他のポリオレフィン、ポリオレ
フィン系共重合体、合成ゴム等を加えたものを用いれば
よい。
Although there is no limitation on each component of the adhesive used in the present invention, as the base polymer, a polyolefin resin,
For example, if one or a mixture of two or more kinds of polyethylene, polypropylene, polystyrene and copolymers containing them, and the like, and further added with other polyolefins, polyolefin-based copolymers, synthetic rubbers and the like are used. Good.

これらのうち、ポリスチレン−ポリプロピレン共重合
体、ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体、ポリスチ
レン−ポリブタジエン共重合体等、 特にポリスチレン−アタクチックポリプロピレン共重
合体、ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体等が好適
である。
Among these, a polystyrene-polypropylene copolymer, a polystyrene-polyisoprene copolymer, a polystyrene-polybutadiene copolymer and the like, particularly, a polystyrene-atactic polypropylene copolymer, a polystyrene-polyisoprene copolymer and the like are suitable.

この場合、ベースポリマーの分子量は、10万〜30万程
度が好ましい。
In this case, the molecular weight of the base polymer is preferably about 100,000 to 300,000.

本発明に用いる接着剤は、ベースポリマー100重量部
に対し、粘着付与剤を100〜600重量部程度添加したもの
が好ましい。
The adhesive used in the present invention is preferably one in which about 100 to 600 parts by weight of a tackifier is added to 100 parts by weight of the base polymer.

粘着付与剤としては、各種天然樹脂やその変成品ある
いは各種合成樹脂等が挙げられ、これらのうち、ロジ
ン、ロジン誘導体、ピネン系樹脂、石油樹脂等が好適で
ある。
Examples of the tackifier include various natural resins, modified products thereof, various synthetic resins, and the like. Of these, rosin, rosin derivatives, pinene resins, petroleum resins and the like are preferable.

用いる接着剤は、さらに、ベースポリマー100重量部
に対し、軟化剤を0〜100重量部程度添加したものが好
ましい。
The adhesive used is preferably one in which a softener is added in an amount of about 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the base polymer.

軟化剤としては、公知の各種軟化剤が用いられる。 As the softener, various known softeners are used.

また、可塑剤、ワックスは必要に応じて添加される。 Further, a plasticizer and a wax are added as needed.

可塑剤としてはフタル酸エステル系、リン酸エステル
系、脂肪酸エステル系、アジピン酸エステル系、多価ア
ルコールエステル系、エポキシ系等が挙げられる。
Examples of the plasticizer include a phthalate ester type, a phosphate ester type, a fatty acid ester type, an adipate ester type, a polyhydric alcohol ester type, and an epoxy type.

ワックスとしては、パラフィンワックス、低分子量ポ
リエチレンワックス等を用いればよい。
As the wax, paraffin wax, low molecular weight polyethylene wax, or the like may be used.

そして、必要に応じて紫外線吸収剤、充填剤、老化防
止剤等が添加されてもよい。
And an ultraviolet absorber, a filler, an antioxidant, etc. may be added as needed.

接着に際しては、例えばホットメルト系接着剤を用い
るときには、ロールコータ等を用いればよい。
When bonding, for example, when using a hot-melt adhesive, a roll coater or the like may be used.

接着剤層9の厚さは、10〜100μm、特に50〜80μm
とすることが好ましい。
The thickness of the adhesive layer 9 is 10 to 100 μm, particularly 50 to 80 μm.
It is preferable that

この場合、層厚が前記範囲未満であると接着力が不十
分であり、前記範囲をこえると耐久性が低下する。
In this case, if the layer thickness is less than the above range, the adhesive strength is insufficient, and if it exceeds the above range, the durability is reduced.

本発明ではこのような特性の接着剤を用いることによ
り、熱膨張率の異なるガラスおよび樹脂により構成され
る基板2と保護基板10との強固な接着が可能となる。
In the present invention, by using an adhesive having such characteristics, the substrate 2 made of glass and resin having different coefficients of thermal expansion and the protective substrate 10 can be firmly bonded.

つまり、基板2には、情報担持部としての記録層6や
保護コート8等の各構成層が形成されているが、基板
2、保護基板10および各構成層相互間に生じる応力や歪
は接着剤層9により吸収ないし緩和される。
That is, the constituent layers such as the recording layer 6 and the protective coat 8 as the information carrying unit are formed on the substrate 2, but the stress and strain generated between the substrate 2, the protective substrate 10 and each constituent layer are not adhered. It is absorbed or relaxed by the agent layer 9.

このため、例えば本発明の光磁気記録ディスク1を−
20〜55℃で温度変化する苛酷な条件下に置いても、基板
2、保護基板10および各構成層相互間の剥離を防止する
ことができる。
Therefore, for example, the magneto-optical recording disk 1 of the present invention is
Even under severe conditions in which the temperature changes at 20 to 55 ° C., peeling between the substrate 2, the protective substrate 10, and each constituent layer can be prevented.

なお、ガラスの熱膨張率は8〜9×10-6deg-1程度で
あり、樹脂の熱膨張率は5〜6×10-5deg-1程度であ
る。
The coefficient of thermal expansion of glass is about 8 to 9 × 10 −6 deg −1 , and the coefficient of thermal expansion of resin is about 5 to 6 × 10 −5 deg −1 .

以上では、本発明の光ディスクを片面記録型の光磁気
記録ディスクに適用する場合を説明したが、両面記録型
の光磁気記録ディスクにも適用することができる。
In the above, the case where the optical disk of the present invention is applied to a single-sided recording type magneto-optical recording disk has been described, but the present invention can also be applied to a double-sided recording type magneto-optical recording disk.

両面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成
層を有するガラス製の基板2と、樹脂製の基板2とを情
報担持部としての記録層7が内封されるように、接着剤
層9により接着して得られる。
The double-sided recording type magneto-optical recording disk includes an adhesive layer such that a glass substrate 2 having the above-described respective constituent layers and a resin substrate 2 are enclosed in a recording layer 7 as an information carrier. 9 obtained by bonding.

この場合も、前述した片面記録型の光磁気記録ディス
クと同様の効果を得ることができる。
Also in this case, the same effects as those of the above-described single-sided recording type magneto-optical recording disk can be obtained.

また本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層
を有し、反射率変化により記録・再生を行なう光記録デ
ィスクにも適用することができる。
In addition, the present invention can be applied to an optical recording disk having a recording layer of a so-called phase-change type or the like and performing recording / reproduction by changing the reflectance.

このような記録層としては、例えば、特公昭54−4190
2号、特許第1004835号などに記載のTe、Se系合金、特開
昭58−54338号、特許第974257号、特許第974258号、特
許第974257号記載のTe酸化物系、その他各種Te、Seを主
体とするカルコゲン系、 Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じる合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構造変化によっ
て色変化を生じる合金、In−Sb等の結晶粒径の変化を生
じる合金などがある。
As such a recording layer, for example, Japanese Patent Publication No. 54-4190
No. 2, described in Patent No. 100004835, Te, Se-based alloy, JP-A-58-54338, Patent No. 974257, Patent No. 974258, Te oxide system described in Patent No. 974257, various other Te, Se-based chalcogen-based, Ge-Sn, Si-Sn, etc., alloys that produce amorphous-crystalline transitions. Color changes occur due to crystal structure changes of Ag-Zn, Ag-Al-Cu, Cu-Al, etc. Alloys, such as alloys, such as In-Sb, which cause a change in the crystal grain size, may be used.

また、ピット形成により反射率変化を生じるいわゆる
ピット形成型の記録層を有する光記録ディスクにも適用
することができる。
Further, the present invention can also be applied to an optical recording disk having a so-called pit forming type recording layer in which a change in reflectance occurs due to pit formation.

ピット形成型の記録層には、シアニン系、フタロシア
ニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系等の色素系、あるいはTeを主体とするTe系等
の材料が用いられる。
Pit-forming recording layers include dyes such as cyanine-based, phthalocyanine-based, naphthalocyanine-based, anthraquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based, pyrylium or thiapyrylium salt-based, and Te-based such as Te-based. Materials are used.

この他、本発明は、再生専用の光ディスクであっても
よい。ただ、好ましくは、上記のうち情報担持部が記録
層である光記録ディスクであり、最も好ましいのは、希
土類金属元素等の腐食性を有する金属を含有する記録層
を有する光記録ディスクである。
In addition, the present invention may be a read-only optical disc. However, among the above, an optical recording disk in which the information bearing portion is a recording layer is most preferable, and an optical recording disk having a recording layer containing a corrosive metal such as a rare earth metal element is most preferable.

このときには、保護基板10として樹脂を用いても、前
記の保護コート8を設層することにより、樹脂をとおし
ての酸素や水分の透過を阻止でき、本発明の効果に加
え、高い信頼性がえられるからである。
At this time, even if a resin is used as the protective substrate 10, the provision of the protective coat 8 can prevent the permeation of oxygen and moisture through the resin, and achieve high reliability in addition to the effect of the present invention. Because you can get it.

この場合、前記保護コート8の厚さ範囲にて、保護基
板10の厚さ0.5〜2.0mmの範囲において十分な効果を発揮
する。
In this case, a sufficient effect is exhibited in the thickness range of the protective coat 10 and the thickness range of 0.5 to 2.0 mm of the protective substrate 10.

加えて、保護コート8を介して樹脂製の保護基板10を
接着するときには、ガラスと樹脂という熱膨張係数の著
しく異なる2種の材料間の熱膨張率の違いを接着剤層9
に加えて、保護コート8も吸収するので、高温および低
温における保存性はきわめて高いものとなるという効果
が発現する。
In addition, when bonding the protective substrate 10 made of resin via the protective coat 8, the difference in the coefficient of thermal expansion between the two materials, glass and resin, which have significantly different coefficients of thermal expansion, is determined by the adhesive layer 9.
In addition, since the protective coat 8 is also absorbed, an effect that the preservability at high and low temperatures is extremely high is exhibited.

本発明の光ディスクは、100rpm以上の回転速度にて駆
動されて記録および再生を行う。
The optical disk of the present invention is driven at a rotation speed of 100 rpm or more to perform recording and reproduction.

この際、記録・再生は公知の方式に従えばよい。 At this time, recording and reproduction may be performed according to a known method.

そして、本発明では、1800rpm以上、特に3000rpm以
上、より好ましくは3000〜5000rpmの回転駆動にて十分
な特性を与えるものである。
In the present invention, sufficient characteristics can be obtained by rotation at 1800 rpm or more, particularly 3000 rpm or more, and more preferably 3000 to 5000 rpm.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに
詳細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

[実施例1] ガラス製基板2に、順次樹脂層3、ガラス保護層4、
SiNxの中間層5、TbFeCo記録層6、SiNx保護層7、およ
び保護コート8を形成し、最後に接着剤層9により樹脂
製保護基板10を接着して第1図に示される片面記録型の
光磁気記録ディスクを製造した。
[Example 1] A resin layer 3, a glass protective layer 4,
An intermediate layer 5, a TbFeCo recording layer 6, a SiNx protective layer 7, and a protective coat 8 of SiNx are formed, and a resin protective substrate 10 is finally bonded by an adhesive layer 9 to form a single-sided recording type shown in FIG. A magneto-optical recording disk was manufactured.

ガラス製基板2は、アルミナケイ酸系の化学強化ガラ
スとし、外径200mm、厚さ1.2mmのディスク状とした。
The glass substrate 2 was made of alumina silicate-based chemically strengthened glass and had a disk shape with an outer diameter of 200 mm and a thickness of 1.2 mm.

また、樹脂製保護基板10は、材料にポリカーボネート
を用い、基板2と同一サイズのディスク状とした。
The resin protective substrate 10 was made of polycarbonate as a material, and was formed into a disk having the same size as the substrate 2.

樹脂層3は2P法で形成し、その表面にはトラッキング
用グルーブを形成した。また保護層4、中間層5、記録
層6および保護層7の形成にはスパッタ法を用いた。
The resin layer 3 was formed by the 2P method, and a tracking groove was formed on the surface thereof. The protective layer 4, the intermediate layer 5, the recording layer 6, and the protective layer 7 were formed by a sputtering method.

また、保護コート8は、オリゴエステルアクリレート
を塗布後、紫外線照射して架橋硬化させることにより、
10μmに設層した。
Further, the protective coat 8 is formed by applying an oligoester acrylate and then irradiating ultraviolet rays to crosslink and cure.
The layer was set to 10 μm.

接着剤層9は、ロールコータにより設層し、その厚さ
を80μmとした。
The adhesive layer 9 was formed by a roll coater and had a thickness of 80 μm.

そして、それぞれ組成の異なる接着剤を用いた光磁気
記録ディスクサンプルNo.1〜No.3を製造した。
Then, magneto-optical recording disk samples No. 1 to No. 3 using adhesives having different compositions were manufactured.

各サンプルの接着剤層9には、下記に示されるベース
ポリマーおよび添加剤として石油樹脂、ピネン系樹脂等
を含有するホットメルト系接着剤を用いた。
For the adhesive layer 9 of each sample, a hot-melt adhesive containing a petroleum resin, a pinene-based resin, or the like as a base polymer shown below and additives was used.

サンプルNo.1(本発明)のベースポリマー ポリスチレン−アタクチックポリプロピレン共重合体
(分子量10万):100重量% サンプルNo.2(本発明)のベースポリマー ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体(分子量12
万):15重量% ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体(分子量23
万):85重量% サンプルNo.3(比較)のベースポリマー スチレン−アタクチックポリプロピレン共重合体(分
子量7万):20重量% スチレン−アタクチックポリプロピレン共重合体(分
子量13万):80重量% また各サンプルの接着剤層9のガラス転移温度Tg、フ
ローポイント(FP)、−20℃、10Hzでのヤング率および
力学的損失係数tanδは表1に示されるとおりである。
Sample No. 1 (the present invention) base polymer Polystyrene-atactic polypropylene copolymer (molecular weight 100,000): 100% by weight Sample No. 2 (the present invention) base polymer Polystyrene-polyisoprene copolymer (molecular weight 12
10,000): 15% by weight polystyrene-polyisoprene copolymer (molecular weight 23
10,000): 85% by weight Sample No. 3 (comparative) base polymer Styrene-atactic polypropylene copolymer (molecular weight 70,000): 20% by weight Styrene-atactic polypropylene copolymer (molecular weight 130,000): 80% by weight Table 1 shows the glass transition temperature Tg, flow point (FP), Young's modulus at -20 ° C, and 10 Hz and the mechanical loss coefficient tan δ of the adhesive layer 9 of each sample.

なお、ガラス転移温度Tgおよびフローポイント(FP)
の測定は、岩本製作所製粘弾性スペクトロメータを用
い、強制振動法により加振周波数(正弦波)10Hzで行っ
た。
In addition, glass transition temperature Tg and flow point (FP)
Was measured at an excitation frequency (sine wave) of 10 Hz by a forced vibration method using a viscoelastic spectrometer manufactured by Iwamoto Seisakusho.

また、ヤング率および力学的損失係数tanδの測定は
以下のようにして測定した。
In addition, the measurement of the Young's modulus and the mechanical loss coefficient tanδ were measured as follows.

接着剤を離型紙上にロールコータを用いて厚さ100〜5
00μmとなるように塗布し、乾燥させた。得られた接着
剤層を離型紙から剥離し、岩本製作所製粘弾性スペクト
ロメータにより、加振周波数(正弦波)10Hzにて、−50
〜80℃間で測定した。
Adhesive on release paper using roll coater, thickness 100 ~ 5
It was applied to a thickness of 00 μm and dried. The obtained adhesive layer was peeled off from the release paper, and was applied with a viscoelastic spectrometer manufactured by Iwamoto Seisakusho at an excitation frequency (sine wave) of 10 Hz to −50.
Measured between 8080 ° C.

これらの各サンプルに対し、下記の試験を行った。 The following tests were performed on each of these samples.

(熱衝撃試験) サンプルを−20℃の雰囲気中に入れ30分間保存し、そ
の後、サンプルを入れたまま雰囲気の温度を5秒間で55
℃に昇温する。そして、55℃の雰囲気中に30分間保存
後、5秒間で−20℃に冷却する。
(Thermal shock test) The sample was placed in an atmosphere of -20 ° C and stored for 30 minutes.
Heat to ° C. Then, after storing in an atmosphere of 55 ° C. for 30 minutes, it is cooled to −20 ° C. in 5 seconds.

以上を1サイクルとし、20サイクル行った。 The above was regarded as one cycle, and 20 cycles were performed.

(サイクル試験) サンプルを温度−20℃の雰囲気中に入れ、4.5時間保
存する。その後サンプルを入れたまま雰囲気の温度を速
度10℃/時間で55℃に昇温し、湿度を80%RHに保つ。
(Cycle test) The sample is placed in an atmosphere at a temperature of -20 ° C and stored for 4.5 hours. Thereafter, the temperature of the atmosphere is increased to 55 ° C. at a rate of 10 ° C./hour while the sample is kept, and the humidity is maintained at 80% RH.

そして、55℃、80%RHの雰囲気中に4.5時間保存後、
速度10℃/時間で−20℃に冷却する。
Then, after storing in an atmosphere of 55 ° C and 80% RH for 4.5 hours,
Cool to -20 ° C at a rate of 10 ° C / hour.

以上を1サイクルとし、14サイクル行った。 The above was regarded as one cycle, and 14 cycles were performed.

結果は表1に示されるとおりである。 The results are as shown in Table 1.

表1の結果より本発明の効果が明らかである。 The effect of the present invention is clear from the results in Table 1.

この場合、比較サンプルNo.3は、熱衝撃試験では、10
サイクル以下で表1に示されるように10個中8個が剥離
した。
In this case, the comparative sample No. 3 showed 10% in the thermal shock test.
As shown in Table 1, 8 out of 10 peeled off after the cycle.

なお、熱衝撃試験およびサイクル試験でのガラス製基
板2と、樹脂製保護基板10との剥離は、接着剤層9と保
護コート8との間で生じた。
The peeling between the glass substrate 2 and the resin protective substrate 10 in the thermal shock test and the cycle test occurred between the adhesive layer 9 and the protective coat 8.

〈発明の効果〉 本発明の光ディスクでは、情報担持部が内封されるよ
うに一対の基板が一体化されるため、情報担持部、例え
ば記録層の損傷を十分に防止することができる。
<Effect of the Invention> In the optical disc of the present invention, since the pair of substrates are integrated so that the information carrier is enclosed, damage to the information carrier, for example, the recording layer can be sufficiently prevented.

そして、一方の基板がガラス製であり、他方の基板が
樹脂製であるため、十分高い剛性を有し、質量の軽減も
図ることができる。
Since one substrate is made of glass and the other substrate is made of resin, the substrate has sufficiently high rigidity, and the weight can be reduced.

このため1800rpm以上、特に3000rpm以上の安定した高
速回転駆動を容易に行うことができ、しかも面ブレや変
形も防止することができる。
For this reason, stable high-speed rotation drive of 1800 rpm or more, especially 3000 rpm or more can be easily performed, and surface blurring and deformation can be prevented.

従って本発明の光ディスクによれば、高速回転駆動時
においても良好な記録・再生特性が得られる。
Therefore, according to the optical disk of the present invention, good recording / reproducing characteristics can be obtained even during high-speed rotation driving.

さらに、一方の基板は樹脂製であるため、光ディスク
を落としたりしたときの破損や、破損した場合のガラス
飛散を防止することができる。
Further, since one of the substrates is made of resin, it is possible to prevent breakage when the optical disc is dropped or scattering of the glass when it is broken.

また、ガラス製基板と樹脂製基板とは、ガラス転移温
度Tgが−60〜−10℃の接着剤層により一体化される。
Further, the glass substrate and the resin substrate are integrated by an adhesive layer having a glass transition temperature Tg of −60 to −10 ° C.

このため、熱膨張率の違い等により生じるガラス製基
板と樹脂製基板間、あるいはこれらと保護コート、記録
層、接着剤層等の各構成層間、さらには構成層と構成層
間の応力や歪が接着剤層により吸収あるいは緩和され
る。
For this reason, the stress or strain between the glass substrate and the resin substrate, or between them, and each of the constituent layers such as a protective coat, a recording layer, an adhesive layer, and the like, and also between the constituent layers, caused by a difference in the coefficient of thermal expansion. Absorbed or mitigated by the adhesive layer.

従って、高温あるいは低温下、例えば−20〜55℃で温
度変化する苛酷な条件下に保存する場合であってもガラ
ス製基板と樹脂製基板、これらと各構成層および構成層
と構成層との剥離を防止することができる。このため光
ディスクとして信頼性の高い製品を得ることができる。
Therefore, even when stored under severe conditions in which the temperature changes at a high or low temperature, for example, at −20 to 55 ° C., the glass substrate and the resin substrate, and these and each of the constituent layers and the constituent layers and the constituent layers Peeling can be prevented. Therefore, a highly reliable product can be obtained as an optical disk.

特に、ガラス製の基板上に記録層等の情報担持部を形
成し、これを樹脂製の保護基板と一体化した本発明の光
ディスクは、記録・再生を行うガラス製基板側が、耐候
性、耐久性に優れる。このため高温ないし低温および高
湿ないし低湿下で長期間保存した場合でもガラス製基板
の変形成や変質等はほとんど生じない。
In particular, an optical disk of the present invention in which an information carrying portion such as a recording layer is formed on a glass substrate and integrated with a protective substrate made of resin has a glass substrate side on which recording / reproduction is performed. Excellent in nature. For this reason, even if the glass substrate is stored for a long period of time under high or low temperature and high or low humidity, the glass substrate hardly undergoes transformation or deterioration.

そして複屈折もほとんど生じないため、この光ディス
クを用いれば、一層正確に記録・再生を行うことができ
る。
Since birefringence hardly occurs, recording and reproduction can be performed more accurately by using this optical disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明の光ディスクの1例を示す断面図であ
る。 符号の説明 1…光磁気記録ディスク 2…基板 3…樹脂層 4…保護層 5…中間層 6…記録層 7…保護層 8…保護コート 9…接着剤層 10…保護基板
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the optical disk of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Magneto-optical recording disk 2 ... Substrate 3 ... Resin layer 4 ... Protective layer 5 ... Intermediate layer 6 ... Recording layer 7 ... Protective layer 8 ... Protective coat 9 ... Adhesive layer 10 ... Protective substrate

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一対の基板を有し、少なくとも一方の基板
に情報担持部を形成し、この情報担持部が内封されるよ
うに、前記一対の基板を接着剤により一体化した光ディ
スクであって、前記一対の基板のうち、一方がガラス製
であり、他方が樹脂製であり、前記接着剤のガラス転移
温度Tgが、−60〜−10℃であることを特徴とする光ディ
スク
An optical disc having a pair of substrates, wherein an information carrying portion is formed on at least one of the substrates, and the pair of substrates are integrated with an adhesive so that the information carrying portion is enclosed. An optical disk, wherein one of the pair of substrates is made of glass, the other is made of resin, and the glass transition temperature Tg of the adhesive is −60 to −10 ° C.
【請求項2】前記一対の基板のうち、ガラス製基板上に
情報担持部を形成し、これを樹脂製の保護基板と一体化
した請求項1に記載の光ディスク。
2. The optical disk according to claim 1, wherein an information carrying portion is formed on a glass substrate of said pair of substrates, and is integrated with a resin protective substrate.
【請求項3】前記情報担持部が記録層である請求項1ま
たは2に記載の光ディスク。
3. The optical disc according to claim 1, wherein the information carrying section is a recording layer.
【請求項4】前記記録層が希土類金属元素を含有し、こ
の記録層上に樹脂製の保護コートが設層されている請求
項3に記載の光ディスク。
4. The optical disk according to claim 3, wherein the recording layer contains a rare earth metal element, and a resin protective coat is provided on the recording layer.
【請求項5】前記接着剤のヤング率が、−20℃、10Hzに
て100kgf/mm2以下である請求項1ないし4のいずれかに
記載の光ディスク。
5. The optical disk according to claim 1, wherein the adhesive has a Young's modulus of not more than 100 kgf / mm 2 at −20 ° C. and 10 Hz.
【請求項6】前記接着剤の力学的損失係数tanδが、−2
0℃、10Hzにて0.1以上である請求項1ないし5のいずれ
かに記載の光ディスク。
6. The adhesive has a mechanical loss coefficient tanδ of -2.
The optical disc according to any one of claims 1 to 5, wherein the optical disc temperature is 0.1 or more at 0 ° C and 10 Hz.
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