JP2741531B2 - optical disk - Google Patents

optical disk

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JP2741531B2
JP2741531B2 JP1113133A JP11313389A JP2741531B2 JP 2741531 B2 JP2741531 B2 JP 2741531B2 JP 1113133 A JP1113133 A JP 1113133A JP 11313389 A JP11313389 A JP 11313389A JP 2741531 B2 JP2741531 B2 JP 2741531B2
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【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、光ディスク、特に光磁気記録ディスク、相
変化型の光記録ディスク、ピット形成型の光記録ディス
クや、再生専用の光ディスク等に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical disc, particularly a magneto-optical recording disc, a phase-change optical recording disc, a pit-forming optical recording disc, a read-only optical disc, and the like.

<従来の技術> 光ディスクのうち、特に光記録ディスクは、基板上に
情報担持部としての記録層を設層して構成され、この記
録・再生に際しては、通常、基板側からレーザビーム等
を照射することによって行われる。
<Prior Art> Among optical discs, an optical recording disc, in particular, is formed by providing a recording layer as an information carrying portion on a substrate. When recording / reproducing, a laser beam or the like is usually irradiated from the substrate side. It is done by doing.

このため用いる基板は透明なもの、例えば、ガラスや
樹脂から構成されている。
The substrate used for this purpose is made of a transparent material, for example, glass or resin.

この場合、ディスクの軽量化や、トラッキング用のグ
ループやピット形成の容易さの点から、従来光ディスク
の基板としては樹脂製の基板が用いられている。
In this case, a resin substrate is conventionally used as the substrate of the optical disk from the viewpoint of weight reduction of the disk and easiness of formation of groups and pits for tracking.

そして、記録層のピッカキ等による機械的損傷を防ぐ
ため、基板の記録層設層側に保護基板を設けたり、一対
の基板を記録層が内封されるようにして一体化してい
る。
In order to prevent mechanical damage due to picking of the recording layer or the like, a protective substrate is provided on the recording layer side of the substrate, or a pair of substrates are integrated so that the recording layer is enclosed.

このように樹脂製の一対の基板ないし基板と保護基板
とを接着する場合において、米国特許第4,503,531号に
は、軟化点140℃以下、常態引張り接着強度が20℃で1kg
/cm2以上、溶融粘度が160℃で1000P以下のホットメルト
接着剤によって接着する旨が提案されている。
In the case where a pair of resin-made substrates or a substrate and a protective substrate are bonded as described above, U.S. Pat.No. 4,503,531 discloses that the softening point is 140 ° C. or less, and the normal tensile adhesive strength is 1 kg at 20 ° C.
It has been proposed to bond with a hot melt adhesive having a melt viscosity of not less than 1000 P / cm 2 and a melt viscosity of 160 ° C. at 160 ° C.

また、特願昭62−072888号には、一対の基板を所定の
ホットメルト型接着剤により一体化する旨が提案されて
いる。
Further, Japanese Patent Application No. 62-072888 proposes that a pair of substrates be integrated with a predetermined hot-melt adhesive.

<発明が解決しようとする課題> しかし、光ディスク、特に光記録ディスクの基板上に
は、ガラスや金属等の別の材質からなる構成層が通常多
層構造にて設層される。
<Problems to be Solved by the Invention> However, constituent layers made of another material such as glass and metal are usually provided in a multilayer structure on a substrate of an optical disk, particularly an optical recording disk.

このため、例えば光ディスクを高温ないし低温下に保
存すると、基板、保護基板、さらには記録層、保護コー
ト、接着剤層等の構成層に反りや応力ないし歪が発生す
る。
Therefore, for example, when an optical disk is stored at a high temperature or a low temperature, warpage, stress, or distortion occurs in a substrate, a protective substrate, and constituent layers such as a recording layer, a protective coat, and an adhesive layer.

特に、記録層等の構成層を有する樹脂製基板と、樹脂
製保護基板とを一体化した片面記録型の光記録ディスク
では、ガラス製のディスクに比べて熱膨張率が高く、し
かも両基板には、非対称の反りや、応力ないし歪が発生
する。
In particular, a single-sided recording type optical recording disk in which a resin substrate having a constituent layer such as a recording layer and a resin protection substrate are integrated has a higher coefficient of thermal expansion than a glass disk, and both substrates have Causes asymmetrical warpage and stress or strain.

従って、例えば−30〜−65℃、20℃/秒で温度変化す
る苛酷な熱的条件下では、基板と基板、基板と保護基
板、あるいはこれらと各構成層、さらには構成層と構成
層とが剥離してしまうことになる。
Therefore, for example, under severe thermal conditions in which the temperature changes at −30 to −65 ° C. and 20 ° C./sec, the substrate and the substrate, the substrate and the protective substrate, or these and each of the constituent layers, and further the constituent layers and the constituent layers Will peel off.

このように従来の光ディスクに用いられる接着剤によ
り一体化された光ディスクは、苛酷な熱的条件下での信
頼性が不十分である。
The optical disc integrated by the adhesive used in the conventional optical disc as described above has insufficient reliability under severe thermal conditions.

本発明の目的は、例えば−30〜65℃、20℃/秒で温度
変化する苛酷な熱的条件下に保存しても基板と基板、基
板と保護基板、これらと保護コート等の各構成層、さら
には構成層と構成層とが剥離することがなく、信頼性の
高いディスクを提供することになる。
An object of the present invention is to provide a substrate and a substrate, a substrate and a protective substrate, and each of these constituent layers such as a protective coat even when stored under severe thermal conditions in which the temperature changes at -30 to 65 ° C. and 20 ° C./sec. Further, the constituent layers are not separated from each other, so that a highly reliable disk can be provided.

<課題を解決するための手段> このような目的は下記の(1)〜(3)の本発明によ
って達成される。
<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention of the following (1) to (3).

(1)一対の基板を有し、少なくとも一方の基板に情報
担持部を形成し、この情報担持部を内封されるように、
前記一対の基板を接着剤により一体化した光ディスクで
あって、 前記一対の基板が、ともに樹脂製であるか、あるいは
ともにガラス製であり、 前記接着剤のガラス転移温度Tgが−60〜10℃であり、
ヤング率が−20℃、10Hzにて100kgf/mm2以下であり、力
学的損失係数tanδが−20℃、10Hzにて0.1以上であるこ
とを特徴とする光ディスク。
(1) having a pair of substrates, forming an information carrying portion on at least one substrate, and enclosing the information carrying portion,
An optical disc in which the pair of substrates are integrated with an adhesive, wherein the pair of substrates are both made of resin or both made of glass, and the glass transition temperature Tg of the adhesive is −60 to 10 ° C. And
An optical disc having a Young's modulus of not more than 100 kgf / mm 2 at -20 ° C and 10 Hz, and a mechanical loss coefficient tanδ of not less than 0.1 at -20 ° C and 10 Hz.

(2)前記情報担持部が記録層である上記(1)に記載
の光ディスク。
(2) The optical disc according to (1), wherein the information carrying unit is a recording layer.

(3)前記記録層が希土類金属元素を含有し、この記録
層上に樹脂製の保護コートが設層されている上記(2)
に記載に光ディスク。
(3) The above-mentioned (2), wherein the recording layer contains a rare earth metal element, and a resin protective coat is provided on the recording layer.
The optical disk as described in.

<作用> 本発明の光ディスクは、少なくとも一方に記録層等の
情報担持部を有する一対のガラス製あるいは樹脂製の基
板が、所定のガラス転移温度Tg、ヤング率がおよび力学
的損失係数tanδを有する接着剤により一体化される。
<Operation> In the optical disc of the present invention, a pair of glass or resin substrates having an information carrying portion such as a recording layer on at least one side has a predetermined glass transition temperature Tg, a Young's modulus and a mechanical loss coefficient tanδ. They are integrated by an adhesive.

このため、温度変化等によって生じる基板と基板間、
あるいはこれらと保護コート等の各構成層間、さらには
構成層と構成層間の応力や歪み等が接着剤層により吸収
あるいは緩和される。
For this reason, between the substrates caused by temperature changes and the like,
Alternatively, the adhesive layer absorbs or alleviates stress, strain, and the like between the constituent layers such as the protective coat and the like, and between the constituent layers.

従って、例えば−30〜65℃、20℃/秒で温度変化する
苛酷な熱的条件下に保存する場合であっても基板と基
板、これらと各構成層および構成層と構成層との剥離を
完全に防止することができ、高い信頼性を得ることがで
きる。
Therefore, for example, even when stored under severe thermal conditions in which the temperature changes at −30 to 65 ° C. and 20 ° C./sec, the separation between the substrate and the substrate, these and each of the constituent layers, and the constituent layers and the constituent layers is not removed. It can be completely prevented, and high reliability can be obtained.

なお、本発明における情報担持部とは、再生専用ディ
スクにおけるように、情報を予め担持しているもの、お
よび記録・再生ディスクにおけるように情報を担持させ
うる記録層の双方を指すものである。
It should be noted that the information carrying unit in the present invention refers to both a unit that carries information in advance, as in a read-only disc, and a recording layer that can carry information, as in a record / playback disk.

<具体的構成> 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。<Specific Configuration> Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

第1図に、本発明の光ディスクの好適実施例として、
光磁気記録ディスクの1例を示す。
FIG. 1 shows a preferred embodiment of the optical disk of the present invention.
1 shows an example of a magneto-optical recording disk.

第1図に示される光磁気記録ディスク1は、基板2上
に、樹脂層3、保護層4、中間層5、情報担持部として
の記録層6、保護層7、保護コート8、接着剤層9、保
護基板10を順次有する。
The magneto-optical recording disk 1 shown in FIG. 1 has a resin layer 3, a protective layer 4, an intermediate layer 5, a recording layer 6 as an information carrying portion, a protective layer 7, a protective coat 8, an adhesive layer on a substrate 2. 9. It has a protection substrate 10 in order.

本発明において、基板2は、記録光および再生光に対
して透明なものであり、樹脂製あるいはガラス製とす
る。
In the present invention, the substrate 2 is transparent to recording light and reproduction light, and is made of resin or glass.

基板2を、ガラスにより構成すれば、耐熱性、耐湿性
が向上し、高い剛性が得られ、複屈折もほとんど生じな
い。
When the substrate 2 is made of glass, heat resistance and moisture resistance are improved, high rigidity is obtained, and birefringence hardly occurs.

基板2を樹脂により構成しれば、ディスクの計量化を
計ることができる。
If the substrate 2 is made of resin, the disk can be measured.

基板2の形状は、ディスク状である。 The substrate 2 has a disk shape.

基板2の直径は通常50〜360mm程度であり、その厚さ
は、0.5〜2mm程度である。
The diameter of the substrate 2 is usually about 50 to 360 mm, and its thickness is about 0.5 to 2 mm.

基板2を樹脂製とする場合は、剛性の樹脂を用いる。 When the substrate 2 is made of resin, rigid resin is used.

この場合、用いる樹脂に制限はないが、例えばクリカ
リ樹脂、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチル
ペンテン、ポリオレフィン、等が好適である。
In this case, the resin to be used is not limited, but for example, a crispy resin, a polycarbonate, an epoxy resin, polymethylpentene, a polyolefin and the like are preferable.

基板2は公知の方法に従い製造すればよい。 The substrate 2 may be manufactured according to a known method.

例えば樹脂製基板の場合には、射出成形等を用い基板
表面に、トラッキング用、アドレス用等のために、ピッ
トあるいはグループ等の所定のパターンを同時に形成す
ればよい。
For example, in the case of a resin substrate, predetermined patterns such as pits or groups may be simultaneously formed on the substrate surface by injection molding or the like for tracking, addressing, and the like.

なお、この場合、樹脂層3は設層されない。 In this case, the resin layer 3 is not provided.

基板2をガラス製とする場合は、強化ガラスから構成
することが好ましい。強化ガラスを用いることにより、
より高い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。
When the substrate 2 is made of glass, the substrate 2 is preferably made of tempered glass. By using tempered glass,
Higher rigidity and better weather resistance and durability can be obtained.

強化ガラスには、その強化法から物理強化ガラスと化
学強化ガラスとがあり、用途に応じて使用されている。
The tempered glass includes a physically tempered glass and a chemically tempered glass according to the tempering method, and is used depending on the application.

本発明で用いる強化ガラスに特に制限はなく、通常の
強化法を用いて強化したガラスが使用されるが、好まし
くは化学強化ガラスを使用する。
There is no particular limitation on the tempered glass used in the present invention, and a glass tempered using a normal tempering method is used, but a chemically tempered glass is preferably used.

化学強化ガラスは、例えば、ガラス構成元素としての
アルカリ金属イオンの一部を外部から供給される他種ア
ルカリ金属イオンと交換することにより、特にLiとNaお
よびNaとKの交換によりガラス内に圧縮応力層を形成
し、機械的強度を高めたガラスである。
Chemically strengthened glass is compressed into glass by, for example, exchanging some alkali metal ions as glass constituent elements with other kinds of alkali metal ions supplied from outside, especially by exchanging Li and Na and Na and K. It is a glass in which a stress layer is formed and the mechanical strength is increased.

化学強化処理は、通常、硝酸塩、硫酸塩等のアルカリ
塩を加熱溶融し、溶融液中に被処理ガラスを数時間から
数十時間程度浸漬することにより行なわれる。
The chemical strengthening treatment is usually performed by heating and melting an alkali salt such as a nitrate or a sulfate, and immersing the glass to be treated in the molten liquid for several hours to several tens of hours.

このような化学強化処理により作製されたガラスは、
通常、ガラス表面付近だけに圧縮応力層が形成された表
面強化ガラスとなる。この場合、圧縮応力層の厚さは10
〜200μm、特に30〜75μm程度であることが好まし
い。
Glass produced by such a chemical strengthening process,
Usually, it is a surface strengthened glass having a compression stress layer formed only near the glass surface. In this case, the thickness of the compressive stress layer is 10
It is preferably about 200 to 200 μm, particularly about 30 to 75 μm.

用いる化学強化ガラスとしては、ソーダ・石灰・ケイ
酸ガラス等に上記の化学強化処理を施したものであって
もよいが、特に機械的強度が高いことから、アルミナケ
イ酸ガラスに化学強化処理を施したものを用いることが
好ましい。
As the chemically strengthened glass to be used, soda, lime, silicate glass, etc., which has been subjected to the above-mentioned chemical strengthening treatment, may be used. It is preferable to use those that have been applied.

アルミナケイ酸ガラスとしては、機械的強度が高いこ
とから、Al2O3含有量が10wt%以上であることが好まし
く、特に、15〜30wt%のAl2O3を含有するものを用いる
ことが好ましい。
The alumina silicate glass preferably has an Al 2 O 3 content of 10 wt% or more because of its high mechanical strength. In particular, a glass containing 15 to 30 wt% of Al 2 O 3 is preferably used. preferable.

本発明で好適に用いられるアルミナケイ酸ガラスの組
成範囲を、以下に示す。
The composition range of the alumina silicate glass suitably used in the present invention is shown below.

SiO3 50〜60wt% Al2O3 15〜30wt% B2O3 1〜10wt% RI 2O 10〜25wt% RIIO 1〜10wt% (ただし、RIおよびRIIは、それぞれ1価および2価の
金属) TiO2等 0〜5wt% そして、K+置換率は、0.01〜1mg/cm3程度であること
が好ましい。
SiO 3 50~60wt% Al 2 O 3 15~30wt% B 2 O 3 1~10wt% R I 2 O 10~25wt% R II O 1~10wt% ( provided that, R I and R II are each monovalent And divalent metal) TiO 2 etc. 0 to 5 wt% And the K + substitution rate is preferably about 0.01 to 1 mg / cm 3 .

ガラス製の基板2を用いる場合は、基板2上には、樹
脂層3が設層されることが好ましい。
When a glass substrate 2 is used, a resin layer 3 is preferably provided on the substrate 2.

樹脂層3は、その表面に、トラッキング用、アドレス
用等のために、ピットあるいはグルーブ等の所定のパタ
ーンを有する。なお、樹脂層3を設けず、化学エッチン
グ等により所定のパターンを形成してもよい。
The resin layer 3 has a predetermined pattern such as pits or grooves on its surface for tracking, addressing, and the like. Note that a predetermined pattern may be formed by chemical etching or the like without providing the resin layer 3.

樹脂層3を構成する樹脂材質に特に制限はなく、いわ
ゆる2P法に用いられる公知の樹脂から、適当に選択すれ
ばよい。2P法には、通常、放射線硬化型化合物が用いら
れ、本考案では、例えば、多官能エステルアクリレー
ト、多官能ウレタンアクリレート、多官能エポキシアク
リレート等に属するモノマーを2〜3成分混合して、あ
るいはこれらモノマーにポリエステルアクリレート、オ
リゴエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレー
ト、オリゴウレタンアクリレート等を混合し、光重合開
始剤Irg−907、651等を加えたもの等を好適に用いるこ
とができる。
The resin material constituting the resin layer 3 is not particularly limited, and may be appropriately selected from known resins used in a so-called 2P method. In the 2P method, a radiation-curable compound is generally used. In the present invention, for example, a monomer belonging to a polyfunctional ester acrylate, a polyfunctional urethane acrylate, a polyfunctional epoxy acrylate, or the like is mixed with two or three components, or these are mixed. A mixture obtained by mixing a polyester acrylate, an oligoester acrylate, a polyurethane acrylate, an oligourethane acrylate, or the like with a monomer and adding a photopolymerization initiator Irg-907, 651, or the like can be suitably used.

このような樹脂層3の設層は、公知の2P法により行な
うことが好ましい。
It is preferable to form such a resin layer 3 by a known 2P method.

2P法では、まず、所定のパターンを有するスタンパ表
面に放射線硬化型化合物を展着し、この放射線硬化型化
合物層上にガラス基板を圧接する。この圧接により、ス
タンパ表面のパターンを層表面に転写する。次いで、ガ
ラス基板を通して放射線を照射することにより硬化させ
て、樹脂とガラス基板とを接着する。この後、樹脂とス
タンパとを剥離する。
In the 2P method, first, a radiation-curable compound is spread on the surface of a stamper having a predetermined pattern, and a glass substrate is pressed onto the radiation-curable compound layer. This pressing transfers the pattern on the stamper surface to the layer surface. Next, the resin is cured by irradiating radiation through the glass substrate, and the resin and the glass substrate are bonded to each other. Thereafter, the resin and the stamper are separated.

以上の工程により、スタンパのパターンが転写された
樹脂層を、ガラス基板の表面に形成する。
Through the above steps, the resin layer to which the pattern of the stamper has been transferred is formed on the surface of the glass substrate.

このようにして形成される樹脂層3の層厚は、好まし
くは5〜100μm、より好ましくは10〜30μmである。
The thickness of the resin layer 3 thus formed is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 30 μm.

中間層5は、C/N比を向上させるために設けられ、各
種誘電体物質から形成されることが好ましく、その層厚
は30〜150nm程度であることが好ましい。また、設層方
法は、スパッタ法等の気相成膜法を用いることが好まし
い。
The intermediate layer 5 is provided to improve the C / N ratio, and is preferably formed of various dielectric materials, and preferably has a thickness of about 30 to 150 nm. Further, it is preferable to use a vapor phase film forming method such as a sputtering method as a layering method.

なお、このような中間層材質を後述する記録層6の上
に保護層7として設けて、前記中間層5と併用すること
もできる。併用する場合には、中間層5と保護層7の組
成は同一であっても異なっていてもよい。
Incidentally, such a material for the intermediate layer may be provided as a protective layer 7 on the recording layer 6 described later, and used together with the intermediate layer 5. When used together, the compositions of the intermediate layer 5 and the protective layer 7 may be the same or different.

保護層4および保護層7は、記録層6の耐食性向上の
ために設けられるものであり、これらは少なくとも一
方、好ましくは両方が設けられることが好ましい。これ
ら保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物ある
いはこれらの混合物からなる無機薄膜から構成されるこ
とが好ましい。また、前述したように、上記の中間層材
質で形成してもよい。保護層の層厚は30〜300nm程度で
あることが耐食性向上の点から好ましい。
The protective layer 4 and the protective layer 7 are provided for improving the corrosion resistance of the recording layer 6, and it is preferable that at least one of them, and preferably both of them are provided. These protective layers are preferably composed of an inorganic thin film made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides or mixtures thereof. Further, as described above, it may be formed of the above-mentioned intermediate layer material. The thickness of the protective layer is preferably about 30 to 300 nm from the viewpoint of improving corrosion resistance.

このような保護層は、スパッタ法等の各種気相成膜法
等によって形成されることが好ましい。
Such a protective layer is preferably formed by various vapor deposition methods such as a sputtering method.

記録層6は、変調された熱ビームあるいは変調された
磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記
録情報は磁気−光変換して再生されるものである。
In the recording layer 6, information is magnetically recorded by a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.

記録層6は、光磁気記録が行なえるものであればその
材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合
金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、
蒸着法等により、非晶質膜として形成したものであるこ
とが好ましい。
The material of the recording layer 6 is not particularly limited as long as it can perform magneto-optical recording. An alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal, is formed by sputtering,
It is preferably formed as an amorphous film by an evaporation method or the like.

希土類金属としては、Tb、Dy、Nd、Gd、Sm、Ceのうち
の1種以上を用いることが好ましい。
As the rare earth metal, it is preferable to use one or more of Tb, Dy, Nd, Gd, Sm, and Ce.

遷移金属としては、FeおよびCoが好ましい。 Fe and Co are preferable as the transition metal.

この場合、FeとCoの総含有量は、65〜85at%であるこ
とが好ましい。
In this case, the total content of Fe and Co is preferably 65 to 85 at%.

そして、残部は実質的に希土類金属である。 The balance is substantially a rare earth metal.

好適に用いられる記録層の組成としては、TbrFCo、Dy
TbFeCo、NdDyFeCo、NdGdFeCo等がある。
Preferred compositions of the recording layer include TbrFCo, Dy
There are TbFeCo, NdDyFeCo, NdGdFeCo and the like.

なお、記録層中には、10at%以下の範囲でCr、Al、T
i、Pt、Si、Mo、Nn、V、Ni、Cu、Zn、Ge、Au等が含有
されてもよい。
In the recording layer, Cr, Al, T
i, Pt, Si, Mo, Nn, V, Ni, Cu, Zn, Ge, Au and the like may be contained.

また、10at%以下の範囲で、Sc、Y、La、Ce、Pr、P
m、Sm、Eu、Ho、Er、Tm、Yb、Lu等の他の希土類金属元
素を含有してもよい。
In addition, Sc, Y, La, Ce, Pr, P
Other rare earth metal elements such as m, Sm, Eu, Ho, Er, Tm, Yb, and Lu may be contained.

このような記録層6の層厚は、通常、10〜1000nm程度
である。
The layer thickness of such a recording layer 6 is usually about 10 to 1000 nm.

このような記録層は、蒸着法、スパッタ法、イオンプ
レーティング法等のドライコーティング方式等を用いて
設層すればよい。そしてその設層厚さは20nm〜1μm程
度とされる。
Such a recording layer may be formed using a dry coating method such as an evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method. The thickness of the layer is about 20 nm to 1 μm.

保護コート8は耐食性や耐擦傷性の向上のために設け
られるものであり、種々の有機系の物質から構成される
ことが好ましいが、特に、電子線、紫外線等の放射線に
より硬化可能な放射線硬化型化合物を、放射線硬化させ
た物質から構成されることが好ましい。
The protective coat 8 is provided for improving corrosion resistance and abrasion resistance, and is preferably composed of various organic substances. In particular, radiation curing which can be cured by radiation such as an electron beam or ultraviolet rays. Preferably, the mold compound is composed of a radiation-cured substance.

そしてこのような保護コート8の形成に用いる放射線
硬化型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含ま
れることが好ましい。
The radiation-curable compound used for forming such a protective coat 8 preferably contains an oligoester acrylate.

オリゴエステルアクリレートは、アクリレート基また
メタクリレート基を複数有するオリゴエステル化合物で
ある。そして好ましいオリゴステルアクリレートとして
は、分子量1000〜10000、好ましは2000〜7000であっ
て、重合度2〜10、好ましくは、3〜5のものが挙げら
れる。また、これらのうちアクリレート基またはメタク
リレート基を2〜6個、好ましくは3〜6個有する多官
能オリゴエステルアクリレートが好ましい。
The oligoester acrylate is an oligoester compound having a plurality of acrylate groups or methacrylate groups. Preferred oligosteracrylates include those having a molecular weight of 1,000 to 10,000, preferably 2,000 to 7000, and a degree of polymerization of 2 to 10, preferably 3 to 5. Of these, polyfunctional oligoester acrylates having 2 to 6, preferably 3 to 6, acrylate or methacrylate groups are preferred.

多官能オリゴエステルアクリレートとしてはアロニッ
クスM−7100、M−5400、M−5500、M−5700、M−62
50、M−6500、M−8030、M−8060、M−8100等(東亜
合成化学社製)として市販されているものを用いること
ができ、これらは下記式(A)、(B)で示されるもの
である。
Multifunctional oligoester acrylates include Aronix M-7100, M-5400, M-5500, M-5700, and M-62.
Commercially available products such as 50, M-6500, M-830, M-8060, and M-8100 (manufactured by Toagosei Chemical Co., Ltd.) can be used, and these are represented by the following formulas (A) and (B). It is what is done.

A:アクリレート基またはメタクリレート基、M:2価ア
ルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、1,6−ヘキサングリコール、ビスフェノール
A等)残基、N:2塩基酸(例えば、テレフタル酸、イソ
フタル酸、アジピン酸、コハク酸等)残基、 n:1〜10、好ましくは2〜5 これらのうちでは、(A)で示されるものが好まし
い。
A: acrylate group or methacrylate group, M: dihydric alcohol (eg, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,6-hexane glycol, bisphenol A, etc.) residue, N: dibasic acid (eg, terephthalic acid, isophthalic acid, adipine) (Acid, succinic acid, etc.) residues, n: 1 to 10, preferably 2 to 5 Of these, those represented by (A) are preferred.

このようなオリゴエステルアクリレートは単独で使用
してもよい。
Such an oligoester acrylate may be used alone.

また、他の放射線硬化型化合物を併用してもよい。そ
のような場合、オリゴエステルアクリレートは、放射線
硬化型化合物中20wt%以上存在することが好ましい。
Further, another radiation-curable compound may be used in combination. In such a case, the oligoester acrylate is preferably present in the radiation-curable compound in an amount of 20% by weight or more.

上記のオリゴエステルアクリレートには、他の放射線
硬化型化合物を併用することができ、このようなものと
しては、イオン化エネルギーに感応し、ラジカル重合性
を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、メタクリル
酸、あるいはそれらのエステル化合物のようなアクリル
系二重結合、ジアリルフタレートのようなアクリル系二
重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和二重
結合等の放射線照射による架橋あるいは重合する基を分
子中に含有または導入したモノマー、オリゴマーおよび
ポリマー等を挙げることができる。これらは多官能、特
に3官能以上であることが好ましい。
Other radiation-curable compounds can be used in combination with the above-mentioned oligoester acrylates, such as acrylic acid and methacrylic acid having an unsaturated double bond that is sensitive to ionization energy and exhibits radical polymerizability. Groups that are cross-linked or polymerized by irradiation such as acrylic double bonds such as acids or their ester compounds, acrylic double bonds such as diallyl phthalate, unsaturated double bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives. And monomers, oligomers and polymers containing or introduced in the molecule. These are preferably polyfunctional, particularly preferably trifunctional or higher.

放射線硬化型モノマーとしては、分子量2000未満の化
合物が、オリゴマーとしては分子量2000〜10000のもの
が用いられる。
As the radiation-curable monomer, a compound having a molecular weight of less than 2,000 is used, and as the oligomer, one having a molecular weight of 2,000 to 10,000 is used.

これらはスチレン、エチルアクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールメタクリレート、1,6−ヘキサングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサングリコールジメ
タクリレート等も挙げられるが、特に好ましいものとし
ては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(メタ
クリレート)、ペンタエリスリトールアクリレート(メ
タクリレート)、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート(メタクリレート)、トリメチロールプロパンジア
クリレート(メタクリレート)ウレタンエラストマー
(ニッポラン4040)のアクリレート変性体、あるいはこ
れらのものにCOOH等の官能基が導入されたもの、フェノ
ールエチレンオキシド付加物のアクリレート(メタクリ
レート)、特願昭62−072888号に示されるペンタエリス
リトール縮合環にアクリル基(メタクリレート基)また
はε−ガプロタクトン−アクリル基のついた化合物、お
よび特願昭62−072888号に示される特殊アクリレート類
等が挙げられる。
These include styrene, ethyl acrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol methacrylate, 1,6-hexane glycol diacrylate, 1,6-hexane glycol dimethacrylate, and the like, and particularly preferable ones Examples of the acrylate include pentaerythritol tetraacrylate (methacrylate), pentaerythritol acrylate (methacrylate), trimethylolpropane triacrylate (methacrylate), trimethylolpropane diacrylate (methacrylate), and an acrylate modified urethane elastomer (Nipporan 4040). With functional groups such as COOH, phenol ethylene oxide adduct Acrylate (methacrylate), a compound having an acrylic group (methacrylate group) or ε-gaprotactone-acryl group attached to a pentaerythritol condensed ring shown in Japanese Patent Application No. 62-072888, and a special compound shown in Japanese Patent Application No. 62-072888. Acrylates and the like.

また、放射線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンエ
ラストマーのアクリル変性体、あるいはこれらのものに
COOH等の官能基が導入されたもの等が挙げられる。
As the radiation-curable oligomer, an acrylic modified urethane elastomer, or these materials may be used.
Examples include those into which a functional group such as COOH has been introduced.

また、上記の化合物に加えて、あるいはこれにかえて
熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによって得られ
る放射線硬化型化合物を用いてもよい。
Further, a radiation-curable compound obtained by subjecting a thermoplastic resin to radiation-sensitive modification in addition to or instead of the above-mentioned compounds may be used.

このような放射線硬化性樹脂の具体例としては、ラジ
カル重合性を示す不飽和二重結合を有するアクリル酸、
メタクリル酸、あるいはそれらのエステル化合物のよう
なアクリル系二重結合、ジアリルフタノールのようなア
リル系二重結合、マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不
飽和結合等の、放射線照射による架橋あるいは重合する
基を熱可塑性樹脂の分子中に含有、または導入した樹脂
である。
Specific examples of such a radiation-curable resin include acrylic acid having an unsaturated double bond showing radical polymerizability,
Crosslinking or polymerizing by radiation irradiation such as acrylic double bonds such as methacrylic acid or their ester compounds, allyl double bonds such as diallyl phthalanol, unsaturated bonds such as maleic acid and maleic acid derivatives It is a resin in which a group is contained or introduced into a molecule of a thermoplastic resin.

放射線硬化性樹脂に変性できる熱可塑性樹脂の例とし
ては、塩化ビニル系共重合体、飽和ポリエスルテル樹
脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エポキシ系樹脂、フ
ェノキシ系樹脂、繊維素誘導体等を挙げることができ
る。
Examples of the thermoplastic resin that can be modified into a radiation-curable resin include a vinyl chloride copolymer, a saturated polyester resin, a polyvinyl alcohol resin, an epoxy resin, a phenoxy resin, and a cellulose derivative.

その他、放射線感応変性に用いることのできる樹脂と
しては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステ
ル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂および誘導体(PVP
オレフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹
脂、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を
含有するアクリルエステルおよびメタクリルエステルを
重合成分として少くとも一種含むアクリル系樹脂等も有
効である。
Other resins that can be used for radiation-sensitive modification include polyfunctional polyester resins, polyetherester resins, polyvinylpyrrolidone resins and derivatives (PVP
An olefin copolymer), a polyamide resin, a polyimide resin, a phenol resin, a spiro acetal resin, an acrylic resin containing at least one hydroxyl-containing acrylic ester and methacrylic ester as a polymerization component are also effective.

このような放射線硬化型化合物の保護コート8の膜厚
は0.1〜100μm、より好ましくは5〜30μm程度とする
ことが好ましい。
The thickness of the protective coating 8 of such a radiation-curable compound is preferably 0.1 to 100 μm, more preferably about 5 to 30 μm.

この膜厚が0.1μm未満になると、一様な膜を形成で
きず、湿度が高い雰囲気中での防湿効果が十分でなく、
記録層の耐久性が向上しない。また、100μmをこえる
と、樹脂膜の硬化の際に伴う収縮により記録媒体の反り
や保護膜中のクラックが生じることになる。
If this film thickness is less than 0.1 μm, a uniform film cannot be formed, and the moisture-proof effect in an atmosphere with high humidity is not sufficient,
The durability of the recording layer does not improve. On the other hand, when the thickness exceeds 100 μm, warpage of the recording medium and cracks in the protective film occur due to shrinkage caused when the resin film is cured.

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビ
ア塗布、スプレーコート、デッィピング等、種々の公知
の方法を組み合わせて設層すればよい。この時の塗膜の
設層条件は、塗膜組成の混合物の粘度、目的とする塗膜
厚さ等を考慮して適宜決定すればよい。
Such a coating film may be usually formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping. The conditions for forming the coating film at this time may be appropriately determined in consideration of the viscosity of the mixture of the coating film composition, the desired thickness of the coating film, and the like.

本発明において塗膜に照射する放射線としては、紫外
線、電子線等が挙げられるが、紫外線が好ましい。
In the present invention, examples of the radiation applied to the coating film include an ultraviolet ray and an electron beam, and an ultraviolet ray is preferable.

紫外線を用いる場合には、前述したような放射線硬化
型化合物の中には、通常、光重合増感剤を加えることが
好ましい。
When ultraviolet rays are used, it is usually preferable to add a photopolymerization sensitizer to the above-mentioned radiation-curable compound.

本発明に用いる光重合増感剤としては、特願昭62−07
2888号等に記載されている化合物が好適である。
As the photopolymerization sensitizer used in the present invention, Japanese Patent Application No. 62-07
Compounds described in 2888 and the like are preferred.

保護基板10は、記録層6の損傷等を有効に防止するた
めに設けられるものである。
The protection substrate 10 is provided to effectively prevent the recording layer 6 from being damaged or the like.

そして、熱膨張による影響を少なくするため、ガラス
製の基板2に用いる保護基板10はガラス製とし、樹脂製
の基板2に用いる保護基板10は樹脂製とする。
In order to reduce the influence of thermal expansion, the protection substrate 10 used for the glass substrate 2 is made of glass, and the protection substrate 10 used for the resin substrate 2 is made of resin.

本発明の保護基板10に用いるガラスや樹脂に制限はな
く、例えば不透明なものであってもよい。
The glass or resin used for the protective substrate 10 of the present invention is not limited, and may be opaque, for example.

なお、記録・再生は通常基板2側から行われるが、保
護基板10として、透明なガラスや樹脂を用いれば、保護
基板10側から記録・再生を行うこともできる。
Note that recording / reproduction is usually performed from the substrate 2 side, but if transparent glass or resin is used as the protection substrate 10, recording / reproduction can also be performed from the protection substrate 10 side.

ガラス製保護基板10には、例えば、前述のガラス製基
板2に用いることができるガラス等を用いることができ
る。そして、この場合も強化ガラス、特に化学強化ガラ
スが好ましい。
As the glass protective substrate 10, for example, glass that can be used for the above-described glass substrate 2 can be used. And also in this case, tempered glass, especially chemically strengthened glass is preferable.

また、樹脂製保護基板10には、剛性の樹脂例えば、ポ
リカーボネート、アクリル樹脂、ポリオレフィン、等が
好適である。
The resin protective substrate 10 is preferably made of a rigid resin, for example, polycarbonate, acrylic resin, polyolefin, or the like.

保護基板10の厚さは、剛性を保護するために、0.5〜
2.0mm程度とする。
The thickness of the protection substrate 10 should be 0.5 to 0.5 to protect the rigidity.
It should be about 2.0mm.

そして、保護基板10の形状は、ガラス基板2の形状に
合わせればよい。
Then, the shape of the protection substrate 10 may be adjusted to the shape of the glass substrate 2.

本発明では保護基板10は、接着剤層9により基板2と
一体化される。
In the present invention, the protection substrate 10 is integrated with the substrate 2 by the adhesive layer 9.

接着剤層9にはガラス転移温度Tgが−60〜−10℃、好
ましくは−40〜−15℃の接着剤を用いる。
For the adhesive layer 9, an adhesive having a glass transition temperature Tg of -60 to -10C, preferably -40 to -15C is used.

前記範囲未満では、フローポイト(FP)が低く、高
温、例えば45〜60℃程度で接着剤が流出してしまう。
Below the range, the flow point (FP) is low, and the adhesive flows out at a high temperature, for example, about 45 to 60 ° C.

前記範囲をこえると、低温、例えば−10℃以下で接着
力が消失してしまう。
If it exceeds the above range, the adhesive strength will be lost at a low temperature, for example, -10 ° C or lower.

ここにフローポイント(FP)とは、接着剤が流動する
温度である。これらガラス転移温度Tgおよびフローポイ
ント(FP)の測定は粘弾性測定装置を用い、強制振動法
により、加振周波数10Hz(正弦波)で行う。この場合、
Tgは損失弾性率E″のピークを生じる温度より求め、FP
は、Tg以上の温度側でのヤング率E′が急激に減少する
温度より求める。
Here, the flow point (FP) is a temperature at which the adhesive flows. The measurement of the glass transition temperature Tg and the flow point (FP) is performed at a vibration frequency of 10 Hz (sine wave) by a forced vibration method using a viscoelasticity measuring device. in this case,
Tg is obtained from the temperature at which the peak of the loss elastic modulus E ″ is obtained.
Is determined from the temperature at which the Young's modulus E 'on the temperature side above Tg sharply decreases.

このようなガラス転移温度Tgを有する接着剤のフロー
ポイント(FP)は、通常60〜70℃程度である。
The flow point (FP) of the adhesive having such a glass transition temperature Tg is usually about 60 to 70 ° C.

また、本発明に用いる接着剤は、ヤング率が−20℃、
10Hzにて100Kgf/mm2以下、好ましくは3〜100Kgf/mm2
ものを用いる。
The adhesive used in the present invention has a Young's modulus of -20 ° C,
At 10 Hz, 100 kgf / mm 2 or less, preferably 3 to 100 kgf / mm 2 is used.

前記範囲をこえると、基板2と保護基板10間、まるい
は、これらと保護コート8等の各構成層間、さらには構
成層と構成層間に生じる応力や歪を接着剤層9により吸
収あるいは緩和することが困難である。
Beyond the above range, the adhesive layer 9 absorbs or relaxes the stress and strain between the substrate 2 and the protective substrate 10 or between the constituent layers such as the protective coat 8 and between the constituent layers. It is difficult.

例えば、−30〜65℃、20℃/秒で温度が変化する苛酷
な条件下に置くと、保護コート8等の構成層が基板2あ
るいは他の構成層から剥離してしまう。
For example, under severe conditions in which the temperature changes at -30 to 65 [deg.] C. and 20 [deg.] C./sec, the constituent layers such as the protective coat 8 peel off from the substrate 2 or other constituent layers.

また、ヤング率があまり低いと高温側でのヤング率が
さらに減少し、接着力が低下してしまう。
On the other hand, if the Young's modulus is too low, the Young's modulus on the high temperature side is further reduced, and the adhesive strength is reduced.

このためヤング率は、前記のとおり3〜100Kgf/mm2
あることが好ましい。
For this reason, the Young's modulus is preferably 3 to 100 kgf / mm 2 as described above.

さらに接着剤は、力学的損失係数tanδが−20℃、10H
zにて0.1以上、好ましくは0.2〜1.5のものを用いる。
Further, the adhesive has a mechanical loss coefficient tan δ of -20 ° C, 10H
The value of z is 0.1 or more, preferably 0.2 to 1.5.

前記範囲未満では粘着性が低く、十分な接着強度を得
ることが困難である。例えば、−30〜65℃、20℃/秒で
温度が変化する苛酷な条件下に置くと、接着剤層9が、
保護基板10、基板2あるいは保護コート8等の構成層か
ら剥離してしまう。
If it is less than the above range, the tackiness is low and it is difficult to obtain a sufficient adhesive strength. For example, under severe conditions in which the temperature changes at −30 to 65 ° C. and 20 ° C./sec, the adhesive layer 9 becomes
It will peel off from the constituent layers such as the protective substrate 10, the substrate 2, or the protective coat 8.

また、tanδがあまり高いと基板2の反り、あるいは
衝撃等の外部応力が働いた場合に、保護基板10のずれが
起こる可能性がある。
If tan δ is too high, the protective substrate 10 may be displaced when the substrate 2 is warped or an external stress such as an impact is applied.

このためtanδは、前記のとおり0.2〜1.5であること
が好ましい。
Therefore, tan δ is preferably 0.2 to 1.5 as described above.

この場合、ヤング率および力学的損失係数tanδは以
下のようにして測定される。
In this case, the Young's modulus and the mechanical loss coefficient tan δ are measured as follows.

接着剤を例えば離型紙上にロールコータ等を用い、厚
さ100〜500μmとなるように塗布する。乾燥後、離型紙
から剥離し、粘弾性測定装置を用い、強制振動法により
加振周波数10Hz(正弦波)にて、−50〜80℃間で測定す
る。
The adhesive is applied on a release paper using a roll coater or the like so as to have a thickness of 100 to 500 μm. After drying, it is peeled off from the release paper, and is measured at a vibration frequency of 10 Hz (sine wave) at -50 to 80 ° C. by a forced vibration method using a viscoelasticity measuring device.

このような特性の接着剤としては、ホットメルト系接
着剤が好ましい。
As an adhesive having such characteristics, a hot melt adhesive is preferable.

ホットメルト系接着剤は一般に、ベースポリマーを主
体とし、これに粘着付与剤、軟化剤、可塑性、ワックス
等の添加剤を加えて構成される。
A hot-melt adhesive generally comprises a base polymer as a main component, and additives such as a tackifier, a softener, plasticity, and wax added thereto.

本発明に用いられる接着剤の各構成成分に制限はない
が、ベースポリマーとしては、ポリオレフィン系樹脂、
例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン
やこれらを含む共重合体等の1種または2種以上の混合
物等、さらに、これらに他のポリオレフィン、ポリオレ
フィン系共重合体、合成ゴム等を加えたものを用いれば
よい。
Although there is no limitation on each component of the adhesive used in the present invention, as the base polymer, a polyolefin resin,
For example, polyethylene, polypropylene, polystyrene or a mixture of two or more of such copolymers and the like, and further, a mixture of these with other polyolefins, polyolefin-based copolymers, synthetic rubbers, etc. Good.

これらのうち、ポリスチレン−ポリプロピレン共重合
体、ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体、ポリスチ
レン−ポリグタジエン共重合体等、 特にポリスチレン−アタクチックポリプロピレン共重
合体、ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体等が好適
である。
Among these, a polystyrene-polypropylene copolymer, a polystyrene-polyisoprene copolymer, a polystyrene-polybutadiene copolymer, and the like, particularly, a polystyrene-atactic polypropylene copolymer, a polystyrene-polyisoprene copolymer, and the like are preferable.

この場合、ベースポリマーの分子量は、10万〜30万程
度が好ましい。
In this case, the molecular weight of the base polymer is preferably about 100,000 to 300,000.

本発明に用いる接着剤は、ベースポリマー100重量部
に対し、粘着付与剤を100〜600重量部程度添加したもの
が好ましい。
The adhesive used in the present invention is preferably one in which about 100 to 600 parts by weight of a tackifier is added to 100 parts by weight of the base polymer.

粘着付与剤としては、各種天然樹脂やその変成品ある
いは各種合成樹脂等が挙げられ、これらのうち、ロジ
ン、ロジン誘導体、ピネン系油脂、石油樹脂等が好適で
ある。
Examples of the tackifier include various natural resins, modified products thereof, various synthetic resins, and the like. Of these, rosin, rosin derivatives, pinene-based fats and oils, and petroleum resins are preferable.

用いる接着剤は、さらに、ベースポリマー100重量部
に対し、軟化剤を0〜100重量部程度添加したものが好
ましい。
The adhesive used is preferably one in which a softener is added in an amount of about 0 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the base polymer.

軟化剤としては、公知の各種軟化剤が用いられる。 As the softener, various known softeners are used.

また、可塑剤、ワックスは必要に応じ添加される。 Further, a plasticizer and a wax are added as needed.

可塑剤としてはフタル酸エステル系、リン酸エステル
系、樹脂酸エステル系、アジピン酸エステル系、多価ア
ルコールエステル系、エポキシ系等が挙げられる。
Examples of the plasticizer include a phthalate ester type, a phosphate ester type, a resin acid ester type, an adipate ester type, a polyhydric alcohol ester type, and an epoxy type.

ワックスとしては、パラフィンワックス、低分子量ポ
リエチレンワックス等を用いればよい。
As the wax, paraffin wax, low molecular weight polyethylene wax, or the like may be used.

そして、必要に応じて紫外線吸収剤、充填剤、老化防
止剤等が添加されてもよい。
And an ultraviolet absorber, a filler, an antioxidant, etc. may be added as needed.

接着に際しては、例えばホットメルト系接着剤を用い
るときには、ロールコータ等を用いれはよい。
When bonding, for example, when using a hot melt adhesive, a roll coater or the like may be used.

接着剤層9の厚さは、10〜100μm、特に50〜80μm
とすることが好ましい。
The thickness of the adhesive layer 9 is 10 to 100 μm, particularly 50 to 80 μm.
It is preferable that

この場合、層厚が前記範囲未満であると接着力が不十
分であり、前記範囲をこえると耐久性が低下する。
In this case, if the layer thickness is less than the above range, the adhesive strength is insufficient, and if it exceeds the above range, the durability is reduced.

本発明ではこのような特性の接着剤を用いることによ
り、情報担持部としての記録層6や保護コート8等の各
構成層が形成されている基板2と、保護基板10との強固
な接着が可能となる。
In the present invention, by using an adhesive having such characteristics, a strong adhesion between the substrate 2 on which the constituent layers such as the recording layer 6 and the protective coat 8 as the information carrying portion are formed and the protective substrate 10 can be obtained. It becomes possible.

つまり、接着剤層9が熱膨張等によって生じる基板
2、保護基板10および各構成層相互間の応力や歪を吸収
ないし緩和する。
That is, the adhesive layer 9 absorbs or reduces the stress and strain between the substrate 2, the protective substrate 10, and each of the constituent layers caused by thermal expansion or the like.

このため、例えば本発明の光磁気記録ディスク1を−
30〜65℃、20℃/秒で温度変化する苛酷な熱的条件下に
保存しても基板2、保護基板10および各構成層相互間の
剥離を防止することができる。
Therefore, for example, the magneto-optical recording disk 1 of the present invention is
Even when stored under severe thermal conditions in which the temperature changes at 30 to 65 ° C. and 20 ° C./sec, peeling between the substrate 2, the protective substrate 10, and each constituent layer can be prevented.

この場合、ガラス製の基板に比べ熱膨張率の高い樹脂
製の基板2を用いる場合は、特に有効である。
In this case, it is particularly effective to use a resin substrate 2 having a higher coefficient of thermal expansion than a glass substrate.

なお、ガラスの熱膨張率は8〜9×10-6deg-1程度で
あり、樹脂の熱膨張率は5〜6×10-6deg-1程度であ
る。
The coefficient of thermal expansion of glass is about 8 to 9 × 10 −6 deg −1 , and the coefficient of thermal expansion of resin is about 5 to 6 × 10 −6 deg −1 .

以上では、本発明の光ディスクを片面記録型の光磁気
記録ディスクに適用する場合を説明したが、両面記録型
の光磁気記録ディスクにも適用することができる。
In the above, the case where the optical disk of the present invention is applied to a single-sided recording type magneto-optical recording disk has been described, but the present invention can also be applied to a double-sided recording type magneto-optical recording disk.

両面記録型の光磁気記録ディスクは、前述した各構成
層を有するガラス製の基板2を2枚用いて、あるいは樹
脂製の基板2を2枚用いて、情報担持部としての記録層
7が内封されるように、接着剤層9により接着して得ら
れる。
The double-sided recording type magneto-optical recording disk uses two glass substrates 2 having the above-described respective constituent layers, or uses two resin substrates 2 so that the recording layer 7 serving as an information carrying unit has an inner surface. It is obtained by bonding with an adhesive layer 9 so as to be sealed.

この場合も、前述した片面記録型の光磁気記録ディス
クと同様の構成を得ることができる。
Also in this case, the same configuration as the above-described single-sided recording type magneto-optical recording disk can be obtained.

また本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層
を有し、反射率変化により記録・再生を行なう光記録デ
ィスクにも適用することができる。
In addition, the present invention can be applied to an optical recording disk having a recording layer of a so-called phase-change type or the like and performing recording / reproduction by changing the reflectance.

このような記録層としては、例えば、特公昭54−4190
2号、特許第1004835号などに記録のTe、Se系合金、特開
昭58−54338号、特許第974257号、特許第974258号、特
許第974257号記載のTe酸化物系、その他各種Te、Seを主
体とするカルコゲン系、 Ge−Sn、Si−Sn等の非晶質−結晶質転移を生じる合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−Al等の結晶構造変化によっ
て色変化を生じる合金、In−Sb等の結晶粒径の変化を生
じる合金などがある。
As such a recording layer, for example, Japanese Patent Publication No. 54-4190
No. 2, Te 100435, such as Te, Se-based alloys, JP-A-58-54338, Patent No. 974257, Patent No. 974258, Te oxide system described in Patent No. 974257, various other Te, Se-based chalcogen-based, Ge-Sn, Si-Sn, etc., alloys that produce amorphous-crystalline transitions. Color changes occur due to crystal structure changes of Ag-Zn, Ag-Al-Cu, Cu-Al, etc. Alloys, such as alloys, such as In-Sb, which cause a change in the crystal grain size, may be used.

また、ピット形成により反射率変化を生じるいわゆる
ピット型成型の記録層を有する光記録ディスクにも適用
することができる。
Further, the present invention can be applied to an optical recording disk having a recording layer of a so-called pit type in which a change in reflectance occurs due to pit formation.

ピット形成型の記録層には、シアニン系、フラロシア
ニン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ
系、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリ
リウム塩系等の色素系、あるいはTeを主体とするTe系等
の材料が用いられる。
Pit-forming recording layers include dyes such as cyanine-based, furocyanine-based, naphthalocyanine-based, anthraquinone-based, azo-based, triphenylmethane-based, pyrylium or thiapyrylium salt-based, or Te-based such as Te-based. Materials are used.

この他、本発明は、再生専用の光ディスクであっても
よい。ただ、好ましくは、上記のうち情報担持部が記録
層である光記録ディスクであり、最も好ましいのは、希
土類金属元素等の腐食性を有する金属を含有する記録層
を有する光記録ディスクである。
In addition, the present invention may be a read-only optical disc. However, among the above, an optical recording disk in which the information bearing portion is a recording layer is most preferable, and an optical recording disk having a recording layer containing a corrosive metal such as a rare earth metal element is most preferable.

このときには、保護基板10として樹脂を用いても、前
記の保護コート8を設層することにより、樹脂をおして
の酸素や水分の透過を阻止でき、本発明の効果に加え、
高い信頼性が得られるからである。
At this time, even if a resin is used as the protective substrate 10, by providing the protective coat 8, the permeation of oxygen and moisture through the resin can be prevented, and in addition to the effects of the present invention,
This is because high reliability can be obtained.

この場合、前記保護コート8の厚さ範囲にて、保護基
板10の厚さ0.5〜2.0mmの範囲において十分な効果を発揮
する。
In this case, a sufficient effect is exhibited in the thickness range of the protective coat 10 and the thickness range of 0.5 to 2.0 mm of the protective substrate 10.

加えて、保護コート8を介して基板2と保護基板10を
接着するときには、発生する応力や歪を接着剤層9に加
えて、保護コート8も吸収するので、高温および低温に
おける保存性はきわめて高いものとなるという効果が発
現する。
In addition, when the substrate 2 and the protective substrate 10 are bonded via the protective coat 8, the generated stress and strain are added to the adhesive layer 9 and the protective coat 8 is also absorbed. The effect of becoming high is exhibited.

本発明の光ディスクは、100rpm以上の回転速度にて駆
動されて記録および再生を行う。この際、記録・再生は
公知の方式に従えばよい。
The optical disk of the present invention is driven at a rotation speed of 100 rpm or more to perform recording and reproduction. At this time, recording and reproduction may be performed according to a known method.

<実施例> 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに
詳細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples of the present invention.

[実施例1] 樹脂製基板2に、順次ガラス保護層4、SiNxの中間層
5、TbFeCo記録層6、SiNx保護層7、および保護コート
8を形成し、最後に接着剤層9により樹脂製保護基板10
を接着して第1図に示される片面記録型の光磁気記録デ
ィスクを製造した。
Example 1 A glass protective layer 4, an intermediate layer 5 of SiNx, a TbFeCo recording layer 6, a SiNx protective layer 7, and a protective coat 8 were sequentially formed on a resin substrate 2, and finally, a resin layer was formed using an adhesive layer 9. Protection board 10
To produce a single-sided recording type magneto-optical recording disk shown in FIG.

樹脂製基板2は、材料にポリカーボネートを用い、外
径200mm、厚さ1.2mmのディスク状とした。
The resin substrate 2 was made of a polycarbonate material, and was formed into a disk shape having an outer diameter of 200 mm and a thickness of 1.2 mm.

基板2の製造は射出成形により行い、同時にその表面
にはトラッキング用グルーブを形成した。
The substrate 2 was manufactured by injection molding, and at the same time, a tracking groove was formed on the surface thereof.

樹脂製保護基板10も、材料にポリカーボネートを用
い、射出成形により基板2と同一サイズのディスク状と
した。
The resin protective substrate 10 was also made of polycarbonate as a material, and was formed into a disk having the same size as the substrate 2 by injection molding.

また、保護層4、中間層5、記録層6および保護層7
の形成にはスパッタ法を用いた。
Further, the protective layer 4, the intermediate layer 5, the recording layer 6, and the protective layer 7
Was formed by a sputtering method.

また、保護コート8は、オリゴエステルアクリレート
を塗布後、紫外線照射して架橋硬化させることにより、
10μmに設層した。
Further, the protective coat 8 is formed by applying an oligoester acrylate and then irradiating ultraviolet rays to crosslink and cure.
The layer was set to 10 μm.

接着剤層9は、ロールコータにより設層し、その厚さ
を80μmとした。
The adhesive layer 9 was formed by a roll coater and had a thickness of 80 μm.

そして、それぞれ組成の異なる接着剤を用いた光磁気
記録ディスクサンプルNo.1〜No.3を製造した。
Then, magneto-optical recording disk samples No. 1 to No. 3 using adhesives having different compositions were manufactured.

各サンプルの接着剤層9には、下記に示されるベース
ポルマーおよび添加剤として石油樹脂、ピネン系樹脂等
を含有するホットメルト系接着剤を用いた。
For the adhesive layer 9 of each sample, a hot melt adhesive containing a petroleum resin, a pinene-based resin, or the like as an additive and a base polymer shown below was used.

サンプルNo.1(本発明)のベースポルマー ポリスチレン−アタクチックポリプロピレン共重合体
(分子量10万):100重量% サンプルNo.2(本発明)のベースポリマー ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体(分子量12
万):15重量% ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体(分子量23
万):85重量% サンプルNo.3(比較)のベースポリマー スチレン−アタクチックポリプロピレン共重合体(分
子量7万):20重量% スチレン−アタクチックポリプロピレン共重合体(分
子量13万):80重量% また各サンプルの接着剤層9のガラス転移温度Tg、フ
ローポイント(FP)、−20℃、10Hzでのヤング率および
力学的損失係数tanδは表1に示されるとおりである。
Sample No. 1 (the present invention) base polmer polystyrene-atactic polypropylene copolymer (molecular weight 100,000): 100% by weight Sample No. 2 (the present invention) base polymer polystyrene-polyisoprene copolymer (molecular weight 12)
10,000): 15% by weight polystyrene-polyisoprene copolymer (molecular weight 23
10,000): 85% by weight Sample No. 3 (comparative) base polymer Styrene-atactic polypropylene copolymer (molecular weight 70,000): 20% by weight Styrene-atactic polypropylene copolymer (molecular weight 130,000): 80% by weight Table 1 shows the glass transition temperature Tg, flow point (FP), Young's modulus at -20 ° C, and 10 Hz and the mechanical loss coefficient tan δ of the adhesive layer 9 of each sample.

なお、ガラス転移温度Tgおよびフローポイント(FP)
の測定は岩本製作所製粘弾性スペークトロメータを用
い、強制振動法により加振周波数(正弦波10Hz)で行っ
た。
In addition, glass transition temperature Tg and flow point (FP)
Was measured at an excitation frequency (sine wave: 10 Hz) by a forced vibration method using a viscoelastic spectrometer manufactured by Iwamoto Seisakusho.

また、ヤング率および力学的損失係数tanδの測定は
以下のようにして測定した。
In addition, the measurement of the Young's modulus and the mechanical loss coefficient tanδ were measured as follows.

接着剤を離型紙上にロールコータを用いて厚さ100〜5
00μmとなるように塗布し、乾燥させた。得られた接着
剤層を離型紙から剥離し、岩本製作所製粘弾性スペクト
ロメータにより、加振周波数(正弦波)10Hzにて、−50
〜80℃間で測定した。
Adhesive on release paper using roll coater, thickness 100 ~ 5
It was applied to a thickness of 00 μm and dried. The obtained adhesive layer was peeled off from the release paper, and was applied with a viscoelastic spectrometer manufactured by Iwamoto Seisakusho at an excitation frequency (sine wave) of 10 Hz to −50.
Measured between 8080 ° C.

これらの各サンプルに対し、下記の試験を行った。 The following tests were performed on each of these samples.

(熱衝撃試験) サンプルを−30℃の雰囲気中に入れ30分間保存し、そ
の後、サンプルを入れたまま雰囲気の温度を5秒間で65
℃に昇温する。そして、65℃の雰囲気中に30分間保存
後、5秒間で−30℃に冷却する。
(Thermal shock test) The sample was placed in an atmosphere of -30 ° C and stored for 30 minutes.
Heat to ° C. Then, after storing in an atmosphere of 65 ° C. for 30 minutes, it is cooled to −30 ° C. in 5 seconds.

以上を1サイクルとし、20サイクル行った。 The above was regarded as one cycle, and 20 cycles were performed.

(サイクル試験) サンプルを温度−30℃の雰囲気中に入れ、4.5時間保
存する。その後サンプルを入れたまま雰囲気の温度を速
度10℃/時間で65度に昇温し、室温を80%RHに保つ。そ
して、65℃、80%RHの雰囲気中に4.5時間保存後、速度1
0℃/時間で−30℃に冷却する。
(Cycle test) The sample is placed in an atmosphere at a temperature of -30 ° C and stored for 4.5 hours. Thereafter, the temperature of the atmosphere is raised to 65 ° C. at a rate of 10 ° C./hour while the sample is kept, and the room temperature is maintained at 80% RH. Then, after storing in an atmosphere of 65 ° C. and 80% RH for 4.5 hours, the speed 1
Cool to -30 ° C at 0 ° C / hour.

以上を1サイクルとし、14サイクル行った。 The above was regarded as one cycle, and 14 cycles were performed.

結果は表1に示されるとおりである。 The results are as shown in Table 1.

表1の結果より本発明の効果が明らかである。 The effect of the present invention is clear from the results in Table 1.

なお、ガラス製の基板2と、ガラス製の保護基板10と
を一体化した光磁気記録ディスクについても試験を行っ
たところ、前記実施例と同様の結果が得られた。
A test was also performed on a magneto-optical recording disk in which the glass substrate 2 and the glass protection substrate 10 were integrated, and the same results as in the above-described example were obtained.

<発明の効果> 本発明の光ディスクでは、情報担持部が内封されるよ
うに一対の基板が一体化されるため、情報担持部、例え
ば記録層の損傷を十分に防止することができる。
<Effect of the Invention> In the optical disc of the present invention, since the pair of substrates are integrated so that the information carrier is enclosed, damage to the information carrier, for example, the recording layer can be sufficiently prevented.

そして、基板と基板とが所定のガラス転移温度Tg、ヤ
ング率および力学的損失係数tanδを有する接着剤によ
り一体化される。
Then, the substrate and the substrate are integrated by an adhesive having a predetermined glass transition temperature Tg, a Young's modulus, and a mechanical loss coefficient tanδ.

このため、例えば−30〜65℃、20℃/秒で温度変化す
る苛酷な熱的条件下に保存する場合であっても、基板と
基板間、あるいはこれらと保護コート等の各構成層間、
さらには構成層と構成層間に生じる応力や歪み等が接着
剤層により吸収あるいは緩和され、相互間での剥離を防
止することができる。
Therefore, for example, even when stored under severe thermal conditions in which the temperature changes at −30 to 65 ° C. and 20 ° C./sec, between the substrates, or between these and each constituent layer such as a protective coat,
Furthermore, stress and strain generated between the constituent layers are absorbed or reduced by the adhesive layer, and peeling between the constituent layers can be prevented.

従って、光ディスクとして信頼性の高い製品を得るこ
とができる。
Therefore, a highly reliable product can be obtained as an optical disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明の光ディスクの1例を示す断面図であ
る。 符号の説明 1…光磁気記録ディスク 2…基板 3…樹脂層 4…保護層 5…中間層 6…記録層 7…保護層 8…保護コート 9…接着剤層 10…保護基板
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the optical disk of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Magneto-optical recording disk 2 ... Substrate 3 ... Resin layer 4 ... Protective layer 5 ... Intermediate layer 6 ... Recording layer 7 ... Protective layer 8 ... Protective coat 9 ... Adhesive layer 10 ... Protective substrate

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一対の基板を有し、少なくとも一方の基板
に情報担持部を形成し、この情報担持部が内封されるよ
うに、前記一対の基板を接着剤により一体化した光ディ
スクであって、 前記一対の基板が、ともに樹脂製であるか、あるいはと
もにガラス製であり、 前記接着剤のガラス転移温度Tgが−60〜−10℃であり、
ヤング率が−20℃、10Hzにて100kgf/mm2以下であり、力
学的損失係数tanδが−20℃、10Hzにて0.1以上であるこ
とを特徴とする光ディスク。
An optical disc having a pair of substrates, wherein an information carrying portion is formed on at least one of the substrates, and the pair of substrates are integrated with an adhesive so that the information carrying portion is enclosed. The pair of substrates are both made of resin or both made of glass, and the glass transition temperature Tg of the adhesive is −60 to −10 ° C.,
An optical disc having a Young's modulus of not more than 100 kgf / mm 2 at -20 ° C and 10 Hz, and a mechanical loss coefficient tanδ of not less than 0.1 at -20 ° C and 10 Hz.
【請求項2】前記情報担持部が記録層である請求項1に
記載の光ディスク。
2. The optical disk according to claim 1, wherein said information carrying section is a recording layer.
【請求項3】前記記録層が希土類金属元素を含有し、こ
の記録層上に樹脂製の保護コートが設層されている請求
項2に記載の光ディスク。
3. The optical disk according to claim 2, wherein the recording layer contains a rare earth metal element, and a protective coat made of resin is provided on the recording layer.
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