JPH0423244A - Production of substrate for optical disk and optical disk - Google Patents

Production of substrate for optical disk and optical disk

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JPH0423244A
JPH0423244A JP2128431A JP12843190A JPH0423244A JP H0423244 A JPH0423244 A JP H0423244A JP 2128431 A JP2128431 A JP 2128431A JP 12843190 A JP12843190 A JP 12843190A JP H0423244 A JPH0423244 A JP H0423244A
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optical disc
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Hiroshi Tanabe
田辺 宏
Hideki Hirata
秀樹 平田
Toru Shimozawa
下沢 徹
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Abstract

PURPOSE:To prevent the splashing of a radiation curing type resin at the time of peeling a substrate by developing the resin on a stamper of the outside diameter smaller than the outside diameter of the substrate and pressurizing the resin by the substrate, then irradiating the resin with radiations in a specific quantity of an oxygen atmosphere to cure the resin. CONSTITUTION:A lining member 21 adhered with the stamper 25 of the outside diameter smaller than the outside diameter of the substrate 3 is imposed on a mounting base 1 and is fixed by a clamp 11. The anaerobic radiation curing type resin 40 is then developed between the substrate 3 and the stamper 25 and the stamper 25 is pressurized by the substrate 3. The resin 40 is irradiated with the radiations in the atmosphere contg. 0 to 5vol.% oxygen and is thereby cured. The resin 40 in the outer peripheral part of the substrate 3 exposed to the outdoor air is sufficiently cured by regulating the oxygen concn. The splashing of the resin in the outer peripheral part of the substrate and the filling of the grooves and pits at the time of peeling of the stamper from the substrate are prevented in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光磁気記録ディスク等の書き換え可能型光記
録ディスク、ビット形成型光記録ディスク等の追記型光
記録ディスク、光学式ビデオディスク等の再生専用型光
ディスクなどの光ディスク用基板の製造方法と、光ディ
スクとに関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention is applicable to rewritable optical recording disks such as magneto-optical recording disks, write-once optical recording disks such as bit-forming optical recording disks, optical video disks, etc. The present invention relates to a method of manufacturing a substrate for an optical disc, such as a read-only optical disc, and the optical disc.

〈従来の技術〉 光ディスク用基板の表面には、トラッキング用のグルー
プやビット、あるいは記録ビットなどのパターンが形成
される。
<Prior Art> Patterns such as tracking groups, bits, or recording bits are formed on the surface of an optical disc substrate.

熱可塑性樹脂基板を用いる場合、このようなパターンは
、基板の射出成形時に直接形成することができる。
When using a thermoplastic resin substrate, such a pattern can be formed directly during injection molding of the substrate.

ガラス基板あるいは熱硬化性樹脂基板を用いる場合は、
いわゆる2P法が用いられることが多い。
When using a glass substrate or thermosetting resin substrate,
The so-called 2P method is often used.

2P法では、まず、前記パターンの母型パターンを有す
るスタンパ表面に放射線硬化型樹脂を展着し、この放射
線硬化型樹脂上にディスク状基板を圧接する。 次いで
樹脂を放射線硬化した後、スタンパと樹脂とを剥離する
。 これにより母型パターンが転写された樹脂層を基板
上に形成することができる。
In the 2P method, first, a radiation-curable resin is spread on the surface of a stamper having a master pattern of the pattern described above, and a disk-shaped substrate is pressed onto the radiation-curable resin. Next, after curing the resin with radiation, the stamper and the resin are separated. As a result, a resin layer to which the master pattern has been transferred can be formed on the substrate.

2P法では基板の外周部を治具により保持できる点で、
基板より外径が小さいスタンパを用いることが有利であ
るが、スタンパ上に展着されている樹脂に基板を圧接し
た際、スタンパから樹脂がはみ出し、スタンパ表面に樹
脂が流れてくる。
The 2P method has the advantage that the outer periphery of the board can be held with a jig.
Although it is advantageous to use a stamper with an outer diameter smaller than the substrate, when the substrate is pressed against the resin spread on the stamper, the resin protrudes from the stamper and flows onto the surface of the stamper.

また、スタンパと樹脂とを剥離するには、通常、第8図
に示されるように、付き上げ部71を有する治具を用い
て、基板3の内周部を突き上げる。
Furthermore, in order to separate the stamper from the resin, as shown in FIG. 8, a jig having a raised portion 71 is usually used to push up the inner peripheral portion of the substrate 3.

しかし、基板3の内周部を突き上げて剥離する場合、基
板3は図示されるように反り返り、基板外周部と樹脂と
が剥離する際、基板3の外周部がはね上がる。
However, when the inner circumferential portion of the substrate 3 is pushed up and peeled off, the substrate 3 is warped as shown in the figure, and when the outer circumferential portion of the substrate and the resin are separated, the outer circumferential portion of the substrate 3 springs up.

このため、基板外周部からスタンパ4の外側面に垂れた
樹脂が飛び散り、形成された樹脂層4上に付着し、グル
ープ、ビット等を埋めてしまい、光ディスクとした場合
、グループ抜は等が生じる。
For this reason, the resin dripping from the outer periphery of the substrate onto the outer surface of the stamper 4 scatters, adheres to the formed resin layer 4, and buries groups, bits, etc., resulting in omission of groups etc. when used as an optical disc. .

特に、2P法ではスタンパと基板の狭いクリアランス(
10〜100Q程度)の間に樹脂を充填し、基板を通し
て放射線を照射するため、嫌気硬化性を備えた紫外線硬
化型樹脂を用いることが有利であるが、基板外周部の樹
脂は空気に曝露されているため、嫌気性樹脂を用いる場
合、放射線を照射しても基板外周部の樹脂は硬化しにく
い。
In particular, in the 2P method, the narrow clearance between the stamper and the substrate (
It is advantageous to use an ultraviolet curable resin with anaerobic curability because the resin is filled between 10 and 100 Q) and radiation is irradiated through the substrate, but the resin on the outer periphery of the substrate is exposed to air. Therefore, when using an anaerobic resin, the resin on the outer periphery of the substrate is difficult to harden even when irradiated with radiation.

このため、嫌気性樹脂を用いる場合は、前記基板外周部
の樹脂の飛び敗りゃ飛び敗った樹脂の付着がより一層顕
著である。
Therefore, when an anaerobic resin is used, if the resin on the outer periphery of the substrate is blown off, the adhesion of the blown off resin is even more noticeable.

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の目的は、2P法においてスタンパから基板を剥
離する際、樹脂が飛び敗らず、グループ抜は等の欠陥の
少ない光ディスク用基板の製造方法と、このような方法
にて製造した光ディスク用基板を用いた光ディスクとを
提供することにある。
<Problems to be Solved by the Invention> The purpose of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical disc substrate in which the resin does not fly off and there are fewer defects such as group removal when the substrate is peeled off from a stamper in the 2P method, and An object of the present invention is to provide an optical disc using an optical disc substrate manufactured by such a method.

く課題を解決するための手段〉 このような目的は、下記(1)〜(5)の本発明によっ
て達成される。
Means for Solving the Problems> Such objects are achieved by the following inventions (1) to (5).

(1)基板より小さい外径のスタンパを用いて、基板上
にスタンパ表面の母型パターンを有する樹脂層を形成す
る方法であって、 前記基板とスタンパ間に嫌気硬化性を備えた放射線硬化
型樹脂を展開し、基板を加圧した後、酸素を0〜5体積
%含有する雰囲気中で放射線を照射して、前記樹脂を硬
化させることを特徴とする光ディスク用基板の製造方法
(1) A method of forming a resin layer having a matrix pattern on the surface of the stamper on a substrate using a stamper having an outer diameter smaller than that of the substrate, the method comprising a radiation curing type having anaerobic curing properties between the substrate and the stamper. 1. A method for manufacturing an optical disc substrate, which comprises spreading a resin, pressurizing the substrate, and then irradiating the resin with radiation in an atmosphere containing 0 to 5% by volume of oxygen to cure the resin.

(2)基板より小さい外径のスタンパを用いて、基板上
にスタンパ表面の母型パターンを有する樹脂層を形成す
る方法であって、 前記基板とスタンパ間に放射線硬化型樹脂を展開し、基
板を加圧した後、放射線を照射して前記樹脂を硬化させ
、 次いで前記スタンパから樹脂層と共に基板を剥離する際
に、前記基板の外周部または内周部をスタンパ側に押圧
しながら、前記基板の内周部または外周部を突き上げて
剥離することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法
(2) A method of forming a resin layer having a matrix pattern on the surface of the stamper on a substrate using a stamper having an outer diameter smaller than that of the substrate, the method comprising: spreading a radiation-curable resin between the substrate and the stamper; After pressurizing, the resin is cured by irradiation with radiation, and then when peeling the substrate together with the resin layer from the stamper, press the outer or inner circumference of the substrate toward the stamper while pressing the substrate. 1. A method for manufacturing an optical disc substrate, which comprises pushing up and peeling off an inner peripheral portion or an outer peripheral portion of the substrate.

(3)基板より小さい外径のスタンパを用いて、基板上
にスタンパ表面の母型パターンを有する樹脂層を形成す
る方法であって、 前記基板とスタンパ間に嫌気硬化性を備えた放射線硬化
型樹脂を展開し、基板を加圧した後、酸素を0〜5体積
%含有する雰囲気中で放射線を照射して前記樹脂を硬化
させ。
(3) A method of forming a resin layer having a matrix pattern on the surface of the stamper on a substrate using a stamper having an outer diameter smaller than that of the substrate, the method comprising a radiation curing type having anaerobic curing properties between the substrate and the stamper. After the resin is developed and the substrate is pressurized, the resin is cured by irradiation with radiation in an atmosphere containing 0 to 5% by volume of oxygen.

次いで前記スタンパから樹脂層と共に基板を剥離する際
に、前記基板の外周部または内周部をスタンパ側に押圧
しながら、前記基板の内周部または外周部を突き上げて
剥離することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法
Next, when peeling the substrate together with the resin layer from the stamper, the substrate is peeled off by pushing up the inner or outer circumference of the substrate while pressing the outer or inner circumference of the substrate toward the stamper. A method for manufacturing an optical disc substrate.

(4)基板をとおして放射線を照射するとともに、放射
線を反射させ、前記基板の外周部に放射線を照射する上
記(1)ないしく3)のいずれかに記載の光ディスク用
基板の製造方法。
(4) The method for manufacturing an optical disc substrate according to any one of (1) to 3) above, wherein radiation is irradiated through the substrate, the radiation is reflected, and the outer peripheral portion of the substrate is irradiated with radiation.

(5)上記(1)ないしく4)のいずれかに記載の方法
により製造された光ディスク用基板を有することを特徴
とする光ディスク。
(5) An optical disc characterized by having an optical disc substrate manufactured by the method described in any one of (1) to 4) above.

〈作用〉 第1の本発明は、酸素をO〜5体積%含有する雰囲気中
で放射線を照射し、嫌気性樹脂を硬化させる。
<Function> In the first aspect of the present invention, an anaerobic resin is cured by irradiating radiation in an atmosphere containing 0 to 5% by volume of oxygen.

このため基板外周部の樹脂が十分硬化し、スタンパから
基板を剥離する際、基板外周部の樹脂が飛び敗り、グル
ープやビットを埋めてしまうのを防止できる。
Therefore, the resin on the outer periphery of the substrate is sufficiently cured, and when the substrate is peeled off from the stamper, the resin on the outer periphery of the substrate can be prevented from flying off and burying the groups and bits.

第2の本発明は、スタンパから基板を剥離する際、基板
の外周部をスタンパ側に押圧する。
In the second aspect of the present invention, when peeling the substrate from the stamper, the outer peripheral portion of the substrate is pressed toward the stamper.

このため、剥離する際の基板外周部のはね上りを防止で
き、基板外周部の樹脂が飛び散るのを防止できる。
Therefore, it is possible to prevent the outer circumferential portion of the substrate from springing up when the substrate is peeled off, and it is possible to prevent the resin on the outer circumferential portion of the substrate from scattering.

この結果、基板上に形成された樹脂層上に樹脂が付着す
る従来の問題点が解決される。
As a result, the conventional problem of resin adhering to the resin layer formed on the substrate is solved.

そして、このような方法によって製造した光ディスク用
基板を用いた本発明の光ディスクは、グループ抜けがな
く、良好な記録ないし再生特性を有する。
The optical disc of the present invention using the optical disc substrate manufactured by such a method has no group omissions and has good recording and reproducing characteristics.

〈発明の具体的構成〉 以下、本発明の具体的構成を詳細に説明する。<Specific structure of the invention> Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be explained in detail.

本発明では、いわゆる2P法により、基板上にトラッキ
ング用、アドレス用等のために、ビットあるいはグルー
プ等の所定のパターンを有する樹脂層を形成し、光ディ
スク用基板を製造する。
In the present invention, a resin layer having a predetermined pattern such as bits or groups for tracking, addressing, etc. is formed on a substrate by the so-called 2P method, and an optical disk substrate is manufactured.

用いる基板はディスク状であり、径、厚み等の寸法は光
ディスクの種類等に応じて適宜選択されるが、通常外径
80〜300mm程度、厚さ1〜1.5mm程度である
The substrate used is disk-shaped, and dimensions such as diameter and thickness are appropriately selected depending on the type of optical disk, but usually have an outer diameter of about 80 to 300 mm and a thickness of about 1 to 1.5 mm.

基板の材質は、従来光ディスクの基板材質として公知の
ガラスや樹脂を用いればよく、用途等に応じて適宜選択
される。
The material of the substrate may be glass or resin, which is conventionally known as a substrate material for optical discs, and is appropriately selected depending on the purpose and the like.

なお、樹脂性基板の場合、例えばアクリル樹脂、ポリカ
ーボネート、エポキシ樹脂、ポリメチルペンテン、ポリ
オレフィン、等が好適である。
In the case of a resin substrate, for example, acrylic resin, polycarbonate, epoxy resin, polymethylpentene, polyolefin, etc. are suitable.

また、ガラス製基板の場合は、強化ガラスから構成する
ことが好ましい。 強化ガラスを用いることにより、よ
り高い剛性やより優れた耐候性、耐久性が得られる。
Further, in the case of a glass substrate, it is preferably made of tempered glass. By using tempered glass, higher rigidity, better weather resistance, and durability can be obtained.

強化ガラスには、その強化法から物理強化ガラスと化学
強化ガラスとがあり、用途に応じて使用されている。
There are two types of tempered glass, physically strengthened glass and chemically strengthened glass, which are used depending on the purpose.

本発明で用いる強化ガラスに特に制限はな(、通常の強
化法を用いて強化したガラスが使用されるが、好ましく
は化学強化ガラスを使用する。
There are no particular limitations on the tempered glass used in the present invention (glass tempered using a normal strengthening method is used, but chemically strengthened glass is preferably used).

また、表面に所定のパターンが形成される樹脂層に用い
る樹脂は、いわゆる2P法に用いられる放射線硬化型樹
脂であれば特に制限はない。
Furthermore, the resin used for the resin layer on which a predetermined pattern is formed is not particularly limited as long as it is a radiation-curable resin used in the so-called 2P method.

ただし本発明ではスタンバと基板の狭いクリアランス(
10〜100−程度)の間に樹脂を充填し、基板を通し
て放射線を照射するため、嫌気硬化性を備えた放射線硬
化型樹脂、特にアクリル系樹脂が好ましい。
However, in the present invention, the narrow clearance between the standber and the board (
Since the substrate is filled with a resin of about 10 to 100% and irradiated with radiation through the substrate, radiation-curable resins with anaerobic curing properties, particularly acrylic resins, are preferable.

例えば、アクリル系樹脂としては、多官能エステルアク
リレート、多官能ウレタンアクリレート、多官能エポキ
シアクリレート等に属するモノマーを2〜3成分混合し
て、あるいはこれらモノマーにポリエステルアクリレー
ト、オリゴエステルアクリレート、ポリウレタンアクリ
レート、オリゴウレタンアクリレート等を混合し、光重
合開始剤を加えたものを好適に用いることができる。
For example, as an acrylic resin, two to three components of monomers belonging to polyfunctional ester acrylate, polyfunctional urethane acrylate, polyfunctional epoxy acrylate, etc. are mixed, or these monomers are mixed with polyester acrylate, oligoester acrylate, polyurethane acrylate, oligomer, etc. A mixture of urethane acrylate and the like and a photopolymerization initiator can be suitably used.

このほか放射線硬化型の非嫌気硬化性樹脂としては、カ
チオン重合型のエポキシ系樹脂等を使用することができ
る。
In addition, as the radiation-curable non-anaerobic curable resin, a cationic polymerizable epoxy resin or the like can be used.

本発明で樹脂層のパターン形成に使用するスタンパの外
径は、基板の外径より小さいものとする。
In the present invention, the outer diameter of the stamper used to pattern the resin layer is smaller than the outer diameter of the substrate.

このようなスタンバを用いることにより、基板の外周部
を保持することが可能になる。
By using such a stand bar, it becomes possible to hold the outer peripheral portion of the substrate.

なお、基板とスタンパとの外径の差は直径で1.0〜4
.0mm程度とすればよい。
Note that the difference in outer diameter between the substrate and the stamper is 1.0 to 4 in diameter.
.. It may be about 0 mm.

また、スタンバの内径は、通常基板の内径より15〜3
5mm程度大きい。
Also, the inner diameter of the stand bar is usually 15 to 3 mm larger than the inner diameter of the board.
About 5mm larger.

径以外の諸条件には特に制限はなく、通常のスタンパを
用いればよいが、例えば、第1図に示されるように裏打
ち部材21を接着して補強したスタンパ25が好ましい
There are no particular restrictions on the conditions other than the diameter, and a normal stamper may be used, but for example, a stamper 25 reinforced by bonding a backing member 21 as shown in FIG. 1 is preferable.

この場合、裏打ち部材21は、通常、青板ガラス等の各
種ガラスや、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の各種
樹脂で構成される。
In this case, the backing member 21 is usually made of various glasses such as blue plate glass, and various resins such as acrylic resin and epoxy resin.

そして、スタンバ25は、通常、Ni電鋳膜等で構成さ
れ、表面に所定のパターンが形成されている。
The stand bar 25 is usually made of a Ni electroformed film or the like, and has a predetermined pattern formed on its surface.

以下、第1図〜第7図に従って本発明の光ディスク用基
板の製造方法を説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing an optical disk substrate according to the present invention will be explained with reference to FIGS. 1 to 7.

まず、第1図に示されるようにスタンバ25が接着され
ている裏打ち部材21を取付台1上に載置する。
First, as shown in FIG. 1, the backing member 21 to which the stand bar 25 is adhered is placed on the mounting base 1.

この場合、好ましくは、取付クランプ11にてスタンパ
25を固定する。
In this case, the stamper 25 is preferably fixed using the mounting clamp 11.

そして、スタンパ25表面に樹脂40を展開し、樹脂4
0を展着させる。
Then, the resin 40 is spread on the surface of the stamper 25, and the resin 40 is
Expand 0.

樹脂40の展着方法に特に制限はな(、例えば、ノズル
61から樹脂40を吐出する方法などが好ましい。 こ
の場合、ノズルの径は0.2〜1.0mm程度とすれば
よい。
There is no particular restriction on the method of spreading the resin 40 (for example, a method of discharging the resin 40 from the nozzle 61 is preferred. In this case, the diameter of the nozzle may be about 0.2 to 1.0 mm.

また、使用するノズルの数は、1であっても複数であっ
てもよいが、装置の構成を簡易にするため、通常、ノズ
ル数は1程度である。
Further, the number of nozzles used may be one or more, but in order to simplify the configuration of the device, the number of nozzles is usually about one.

そして、より好ましくは、図示されるように、基板3を
スタンバ25と平行に所定の間隙に保持し、基板3、ス
タンパ25の双方に樹脂40を接触させながら樹脂40
を展開する。
More preferably, as shown in the figure, the substrate 3 is held parallel to the stand bar 25 at a predetermined gap, and the resin 40 is held in contact with both the substrate 3 and the stamper 25.
Expand.

この場合、通常、スタンバ25を回転させて樹脂40を
展開するが、基板3を回転させても、あるいは双方を相
対的に回転させてもよい。
In this case, normally the stand bar 25 is rotated to develop the resin 40, but the substrate 3 may be rotated or both may be rotated relatively.

このような方法で樹脂40を展開すると樹脂の発泡が防
止できる。
When the resin 40 is expanded in this manner, foaming of the resin can be prevented.

基板3とスタンバ25間の距離は0.3〜1.0mm程
度、スタンパ25の回転速度は10〜50 rpm程度
、樹脂40の吐出速度は1〜10cc/分、樹脂40の
吐出量は、プレスして硬化後に厚さ10〜50−程度の
層になる程度であることが好ましい。
The distance between the substrate 3 and the standber 25 is approximately 0.3 to 1.0 mm, the rotation speed of the stamper 25 is approximately 10 to 50 rpm, the discharge rate of the resin 40 is 1 to 10 cc/min, and the discharge amount of the resin 40 is approximately 0.3 to 1.0 mm. It is preferable that the layer has a thickness of about 10 to 50 mm after curing.

なお、スタンパ25を回転する場合は、図示されるよう
に保持爪6にて基板3の外周部を保持すればよく、同時
に保持爪6により粗いセンター位置出しを行なうことが
好ましい。
When rotating the stamper 25, it is sufficient to hold the outer circumferential portion of the substrate 3 with the holding claws 6 as shown in the figure, and it is preferable to use the holding claws 6 at the same time to perform rough center positioning.

スタンパ25の表面に樹脂4oを展開した後、保持爪6
により粗いセンター位置出しをしつつ、基板3を樹脂4
o上に降ろす。
After spreading the resin 4o on the surface of the stamper 25, the holding claw 6
While roughly positioning the center, place the board 3 on the resin 4.
Lower it onto o.

そして、第2図に示されるように、位置出し軸53を基
板3の孔部から取付台1の位置出し用孔部15へ挿入し
て位置出しを行なう。
Then, as shown in FIG. 2, positioning is performed by inserting the positioning shaft 53 from the hole of the substrate 3 into the positioning hole 15 of the mounting base 1.

次いで、基板3をスタンパ25方向に加圧する。Next, the substrate 3 is pressed in the direction of the stamper 25.

プレス圧力は、通常2〜20 gf/cmz程度である
Press pressure is usually about 2 to 20 gf/cmz.

この場合、加圧方法に特に制限はな(、例えば、図示さ
れるように、基板3上に重り55を載置すればよい。
In this case, there is no particular restriction on the pressurizing method (for example, a weight 55 may be placed on the substrate 3 as shown in the figure).

加圧後は、第3図に示されるように基板3を加圧した際
、スタンパ25外周部から外側面に流れた樹脂40を外
周部吸引用ノズル63等により吸引することが好ましい
After pressurizing, it is preferable that the resin 40 that flows from the outer periphery of the stamper 25 to the outer surface when the substrate 3 is pressurized as shown in FIG. 3 be sucked by the outer periphery suction nozzle 63 or the like.

これにより樹脂40の硬化後に基板3を剥離する際、基
板3外周部の樹脂の飛び敗りが防止でき、本発明の効果
がより一層向上する。
As a result, when the substrate 3 is peeled off after the resin 40 has hardened, the resin on the outer periphery of the substrate 3 can be prevented from flying off, and the effects of the present invention can be further improved.

また、スタンパ25の内周部から内周面に流れた樹脂4
0を内周部吸引用ノズル65等により吸引することが好
ましい。
In addition, the resin 4 flowing from the inner peripheral part of the stamper 25 to the inner peripheral surface
0 is preferably sucked by the inner peripheral suction nozzle 65 or the like.

なお、スタンパ25の内外周部からはみ出した樹脂を、
ノズル等により吸引する際は、スタンパ25を回転させ
て行なってもノズル63を回転させて行なってもよい。
Note that the resin protruding from the inner and outer peripheries of the stamper 25 is
When sucking with a nozzle or the like, the stamper 25 may be rotated or the nozzle 63 may be rotated.

 また、ノズル数は、lであっても2以上であってもよ
い。 ノズル数が2以上の場合は、円周上に等間隔に配
設することが望ましい。
Moreover, the number of nozzles may be 1 or 2 or more. When the number of nozzles is two or more, it is desirable to arrange them at equal intervals on the circumference.

次いで、第4図に示されるように放射線、通常紫外線を
照射して、樹脂40を硬化し、スタンパ25表面の母型
パターンが転写された樹脂層4を形成する。
Next, as shown in FIG. 4, the resin 40 is cured by irradiation with radiation, usually ultraviolet rays, to form a resin layer 4 on which the matrix pattern on the surface of the stamper 25 is transferred.

そして、放射線硬化型の嫌気性樹脂を用いる場合は、酸
素を0〜5体積%含有する雰囲気中にて放射線硬化を行
なう。
When using a radiation-curable anaerobic resin, radiation curing is performed in an atmosphere containing 0 to 5% by volume of oxygen.

酸素濃度を前記のように規制することにより、外気に曝
されている基板3外周部の樹脂40を十分に硬化させる
ことができ、基板3を剥離する際の樹脂の飛び散すを防
止できる。
By regulating the oxygen concentration as described above, the resin 40 on the outer periphery of the substrate 3 exposed to the outside air can be sufficiently cured, and the resin can be prevented from scattering when the substrate 3 is peeled off.

この場合酸素濃度を零にするのは困難であるため、通常
、2〜5体積%酸素を含有する雰囲気中にて行なえばよ
い。
In this case, since it is difficult to reduce the oxygen concentration to zero, it is usually carried out in an atmosphere containing 2 to 5% by volume of oxygen.

なお、雰囲気は、Ar等の不活性ガス雰囲気、N2ガス
雰囲気等を用いればよい。
Note that the atmosphere may be an inert gas atmosphere such as Ar, a N2 gas atmosphere, or the like.

また、放射線硬化型の非嫌気硬化性樹脂を用いる場合は
、放射線照射の際の雰囲気には特に制限がなく、例えば
大気中にて行なえばよい。
Further, when using a radiation-curable non-anaerobic curable resin, there is no particular restriction on the atmosphere during radiation irradiation, and the irradiation may be carried out, for example, in the air.

なお、図示例では、配置の容易さがら、基板3側から放
射線を照射しているが、必ずしもこれに限定されるもの
ではなく、場合によっては例えば、スタンパ25側から
照射してもよく、あるいは双方から照射してもよい。
In the illustrated example, the radiation is emitted from the substrate 3 side for ease of arrangement, but the radiation is not necessarily limited to this, and in some cases, for example, the radiation may be emitted from the stamper 25 side, or from both sides. It may be irradiated from

ただし、本発明では基板3外周部の樹脂40をより一層
十分に硬化させるため、放射線を反射させて、基板外周
部へ照射し、基板外周部の放射線照射量をそのほかの部
分より大、通常15〜20倍程度とすることが好まし い。
However, in the present invention, in order to cure the resin 40 on the outer periphery of the substrate 3 more fully, the radiation is reflected and irradiated to the outer periphery of the substrate, so that the amount of radiation irradiated on the outer periphery of the substrate is higher than on other parts, usually 15 It is preferable to set it to about 20 times.

このようにすると、基板3を剥離する際、基板外周部の
樹脂の飛び敗りが防止でき、本発明の効果がより一層向
上する。
In this way, when the substrate 3 is peeled off, the resin on the outer periphery of the substrate can be prevented from flying off, and the effects of the present invention are further improved.

この場合、放射線を反射させて照射する方法に特に制限
はないが、例えば図示されるように鏡57等を用いて反
射させればよい。
In this case, there is no particular restriction on the method of reflecting and irradiating the radiation, but for example, as shown in the figure, a mirror 57 or the like may be used to reflect the radiation.

なお、基板内周部も同様にして放射線照射量を増加させ
てもよい。
Note that the radiation dose may be increased in the same manner for the inner peripheral portion of the substrate.

放射線硬化を行なった後、位置出し軸53を抜き取り、
樹脂層4を表面に有する基板3をスタンパ25から剥離
する。
After radiation curing, the positioning shaft 53 is removed,
The substrate 3 having the resin layer 4 on its surface is peeled off from the stamper 25.

基板3の剥離は、第5図に示されるように、基板剥離用
治具7を用いて、スタンパ25側がら基板3を突き上げ
て行なう。
The substrate 3 is peeled off by pushing up the substrate 3 from the stamper 25 side using a substrate peeling jig 7, as shown in FIG.

この場合、基板3と、治具7の突き上げ部71とが広い
面積で接触し、しかも突き上げ中に多少のずれが生じて
もこれに対応できるだけの余裕が必要なため、図示され
るように基板3の内周部を突き上げる。
In this case, the substrate 3 and the pushing-up portion 71 of the jig 7 are in contact over a wide area, and there needs to be enough room to accommodate even if some deviation occurs during pushing-up, so the substrate is Push up the inner circumference of 3.

基板3の突き上げ方法に制限はな(、例えば、突き上げ
部71をシリンダ75にて所定の力で突き上げればよい
There is no limit to the method of pushing up the substrate 3 (for example, the pushing up portion 71 may be pushed up with a predetermined force using the cylinder 75).

突き上げ力は一定であることが好ましく、通常20〜1
00 kgf程度とする。
It is preferable that the thrusting force is constant, usually 20 to 1
00 kgf.

本発明では、前記のようにして基板3を剥離する際、基
板3の外周部を押圧して基板3の外周部の急激なはね上
がりを防止する。
In the present invention, when the substrate 3 is peeled off as described above, the outer periphery of the substrate 3 is pressed to prevent the outer periphery of the substrate 3 from suddenly springing up.

基板外周部の抑圧方法には特に制限はないが、好適例と
して、スプリング81を有する外周押え部8を用いる方
法を説明する。
Although there is no particular restriction on the method of suppressing the outer circumferential portion of the substrate, a method using the outer circumferential holding portion 8 having a spring 81 will be described as a preferred example.

まず、第5図に示されるように、外周押え部8にて基板
3の外周部を押圧する。
First, as shown in FIG. 5, the outer periphery of the substrate 3 is pressed by the outer periphery presser 8. As shown in FIG.

この場合の押圧力は、基板3の径等にもよるが、通常5
〜20 kgf程度とする。
The pressing force in this case depends on the diameter of the substrate 3, etc., but is usually 5.
~20 kgf.

また、用いる外周押え部8の数は通常3〜8程度である
Further, the number of outer circumferential pressing parts 8 to be used is usually about 3 to 8.

このように基板3の外周部を押圧しながら基板内周部を
突き上げて剥離を行なうと、第6図に示されるように内
周部から基板3が反り返り、最後に基板外周部が剥離し
てはね上がる際の衝撃をスプリング81が吸収する。
When peeling is performed by pushing up the inner circumference of the substrate while pressing the outer circumference of the substrate 3 in this way, the substrate 3 is warped from the inner circumference as shown in FIG. 6, and finally the outer circumference of the substrate is peeled off. The spring 81 absorbs the impact when it bounces up.

このため、基板外周部を、内周部とほぼ同様に剥離する
ことができ、樹脂の飛び散り等がない樹脂層4を有する
光ディスク用基板を製造することができる。
Therefore, the outer circumferential portion of the substrate can be peeled off in substantially the same manner as the inner circumferential portion, and an optical disk substrate having the resin layer 4 without resin scattering can be manufactured.

基板3が完全に剥離した後、第7図に示されるように外
周押え部8を基板3から取り外して、光ディスク用基板
が得られる。
After the substrate 3 is completely peeled off, the outer periphery holding part 8 is removed from the substrate 3 as shown in FIG. 7, and an optical disc substrate is obtained.

なお、基板3の損傷等を防止するため、外周押工部8の
先端部や突き上げ部71の先端部には例えばウレタン製
のゴム等を取り付けてお(ことが好ましい。
In order to prevent damage to the substrate 3, it is preferable to attach, for example, urethane rubber to the tip of the outer circumferential pressing portion 8 and the tip of the push-up portion 71.

このほか、基板3の外周部を突き上げて基板3を剥離す
る場合は、前記と同様に、基板3の内周部を押圧すれば
よい。
In addition, if the substrate 3 is to be peeled off by pushing up the outer circumferential portion of the substrate 3, the inner circumferential portion of the substrate 3 may be pressed in the same manner as described above.

このようにして得られた光ディスク用基板は、各種光デ
ィスク、例えば、光磁気記録ディスク、相変化型記録層
を有する光記録ディスクなどの書き換え可能型光ディス
ク、あるいはビット形成型光記録ディスクなどの追記型
光ディスク、さらに、光学式ビデオディスク、光学式デ
ジタルオーディオディスクなどの再生専用型光ディスク
等の基板として好適に用いられる。
The optical disc substrate thus obtained can be used for various optical discs, such as rewritable optical discs such as magneto-optical recording discs and optical recording discs having a phase change recording layer, or write-once optical discs such as bit-forming optical recording discs. It is suitably used as a substrate for optical discs, as well as read-only optical discs such as optical video discs and optical digital audio discs.

また、本発明の光ディスクは、前記の光ディスク用基板
を有するものであり、樹脂層4上に記録層等の情報担持
部が形成され、このほか光ディスクの種類に応じた各層
が形成されている。
Further, the optical disc of the present invention has the above-described optical disc substrate, and an information carrying portion such as a recording layer is formed on the resin layer 4, and other layers depending on the type of optical disc are formed.

なお、本発明における情報担持部とは、再生専用ディス
クにおけるように、情報を予め担持しているもの、およ
び記録・再生ディスクにおけるように情報を担持させつ
る記録層の双方を指すものである。
Note that the information carrying section in the present invention refers to both a section that carries information in advance, as in a read-only disk, and a recording layer that carries information, as in a recording/playback disk.

第9図に、本発明の光ディスクの好適実施例として、光
磁気記録ディスクの1例を示す。
FIG. 9 shows an example of a magneto-optical recording disk as a preferred embodiment of the optical disk of the present invention.

第9図に示される光磁気記録ディスク1は、基板3上に
、樹脂層4が形成されている前記光ディスク用基板上に
、保護層91.中間層92、情報担持部としての記録層
93、保護層94、保護コート95、接着剤層96、保
護基板97を順次有する。
The magneto-optical recording disk 1 shown in FIG. 9 has a protective layer 91.on the optical disk substrate in which the resin layer 4 is formed on the substrate 3. It has an intermediate layer 92, a recording layer 93 as an information carrying section, a protective layer 94, a protective coat 95, an adhesive layer 96, and a protective substrate 97 in this order.

中間層92は、C/N比を向上させるために設けられ、
各種誘電体物質から形成されることが好ましく、その層
厚は通常30〜150nm程度である。 また、設層方
法は、スパッタ法等の気相成膜法を用いることが好まし
い。
The intermediate layer 92 is provided to improve the C/N ratio,
It is preferably formed from various dielectric materials, and the layer thickness is usually about 30 to 150 nm. Further, as the layer forming method, it is preferable to use a vapor phase film forming method such as a sputtering method.

なお、このような中間層材質を後述する記録層93の上
に保護層94として設けて、前記中間層92と併用する
こともできる。 併用する場合には、中間層92と保護
層94の組成は同であっても異なっていてもよい。
Note that such an intermediate layer material may be provided as a protective layer 94 on a recording layer 93, which will be described later, and used in combination with the intermediate layer 92. When used together, the compositions of the intermediate layer 92 and the protective layer 94 may be the same or different.

保護層91および保護層94は、記録層93の耐食性向
上のために設けられるものであり、これらは少な(とも
一方、好ましくは両方が設けられることが好ましい。 
これら保護層は、各種酸化物、炭化物、窒化物、硫化物
あるいはこれらの混合物からなる無機薄膜から構成され
ることが好ましい。 また、前述したように、上記の中
間層材質で形成してもよい。 保護層の層厚は30〜3
00 nm程度であることが耐食性向上の点から好まし
い。
The protective layer 91 and the protective layer 94 are provided to improve the corrosion resistance of the recording layer 93, and it is preferable that the number of these layers is small (one, preferably both).
These protective layers are preferably composed of inorganic thin films made of various oxides, carbides, nitrides, sulfides, or mixtures thereof. Further, as described above, the intermediate layer may be formed of the above-mentioned materials. The thickness of the protective layer is 30-3
A thickness of about 0.00 nm is preferable from the viewpoint of improving corrosion resistance.

このような保護層は、スパッタ法等の各種気相成膜法等
によって形成されることが好ましい。
Such a protective layer is preferably formed by various vapor phase deposition methods such as sputtering.

記録層93は、変調された熱ビームあるいは変調された
磁界により、情報が磁気的に記録されるものであり、記
録情報は磁気−光変換して再生されるものである。
Information is magnetically recorded in the recording layer 93 using a modulated heat beam or a modulated magnetic field, and the recorded information is reproduced by magneto-optical conversion.

記録層93は、光磁気記録が行なえるものであればその
材質に特に制限はないが、希土類金属元素を含有する合
金、特に希土類金属と遷移金属との合金を、スパッタ、
蒸着法、イオンブレーティング法等により、非晶質膜と
して形成したものであることが好ましい。
The material of the recording layer 93 is not particularly limited as long as magneto-optical recording can be performed, but an alloy containing a rare earth metal element, particularly an alloy of a rare earth metal and a transition metal, is used by sputtering,
It is preferable that the film be formed as an amorphous film by a vapor deposition method, an ion blating method, or the like.

このような記録層93の層厚は、通常、lO〜500 
nm程度である。
The thickness of such a recording layer 93 is usually 10 to 500
It is about nm.

保護コー1〜95は耐食性や、耐擦傷性の向上のために
設けられるものであり、種々の有機系の物質から構成さ
れることが好ましいが、特に、電子線、紫外線等の放射
線により硬化させた物質から構成されることが好ましい
Protective coats 1 to 95 are provided to improve corrosion resistance and scratch resistance, and are preferably composed of various organic substances, but especially those that are hardened by radiation such as electron beams and ultraviolet rays. Preferably, it is made of a material that is

そしてこのような保護コート95の形成に用いる放射線
硬化型化合物には、オリゴエステルアクリレートが含ま
れることが好ましい。
The radiation-curable compound used to form the protective coat 95 preferably contains oligoester acrylate.

このような放射線硬化型化合物の保護コート95の膜厚
は通常0.1〜100−程度とする。
The thickness of the protective coat 95 made of such a radiation-curable compound is usually about 0.1 to 100 mm.

このような塗膜は、通常、スピンナーコート、グラビア
塗布、スプレーコート、ディッピング等、種々の公知の
方法を組み合わせて設層すればよい。
Such a coating film may usually be formed by combining various known methods such as spinner coating, gravure coating, spray coating, and dipping.

保護基板97は、記録層93の損傷等を有効に防止する
ために設けられるものであり、通常ガラス製ないし樹脂
製である。
The protective substrate 97 is provided to effectively prevent damage to the recording layer 93, and is usually made of glass or resin.

保護基板97の厚さは、剛性を確保するために、通常、
0.5〜2.0mm程度とする。
The thickness of the protective substrate 97 is usually set to a certain value in order to ensure rigidity.
The thickness should be approximately 0.5 to 2.0 mm.

保護基板97は、例えば、図示のように接着剤層96に
より接着され、基板2と一体化される。
The protective substrate 97 is bonded, for example, with an adhesive layer 96 as shown in the figure, and is integrated with the substrate 2.

用いる接着剤に、特に制限はないが、ホットメルト系接
着剤が好ましい。
There are no particular restrictions on the adhesive used, but hot melt adhesives are preferred.

ホットメルト系接着剤は一般に、ベースポリマーを主体
とし、これに粘着付与剤、軟化剤、可塑剤、ワックス等
の添加剤を加えて構成される。
Hot melt adhesives are generally composed of a base polymer, to which additives such as tackifiers, softeners, plasticizers, and waxes are added.

接着剤層96の厚さは、通常10〜100μ程度とする
The thickness of the adhesive layer 96 is usually about 10 to 100 microns.

以上では1本発明の光ディスクを片面記録型の光磁気記
録ディスクに適用する場合を説明したが、両面記録型の
光磁気記録ディスクにも適用することができる。
Although the case where the optical disk of the present invention is applied to a single-sided recording type magneto-optical recording disk has been described above, it can also be applied to a double-sided recording type magneto-optical recording disk.

両面記録型の光磁気配録ディスクは、前述した各構成層
を有する基板3を2枚用い、情報担持部としての記録層
93が内封されるように、例えば、接着剤層96により
接着して得られる。
A double-sided recording type magneto-optical recording disk uses two substrates 3 having each of the above-mentioned constituent layers, and is bonded with, for example, an adhesive layer 96 so that a recording layer 93 as an information-bearing portion is enclosed. can be obtained.

また本発明は、この他、いわゆる相変化型等の記録層を
有し、反射率変化により記録・再生を行なう光記録ディ
スクにも適用することができる。
Furthermore, the present invention can also be applied to optical recording disks that have a so-called phase change type recording layer and perform recording and reproduction by changing reflectance.

このような記録層としては、例えば、特公昭54−41
902号、特許第1004835号などに記載のTe、
Se系合金、特開昭58−54338号、特許第974
257号、特許第974258号、特許第974257
号記載のTe酸化物系、その他各種Te、Seを主体と
するカルコゲン系、 Ge−3n、5i−5n等の非晶質−結晶質転移を生じ
る合金 Ag−Zn、Ag−Al−Cu、Cu−AA等の結晶構
造変化によって色変化を生じる合金、In−3b等の結
晶粒径の変化を生じる合金などがある。
As such a recording layer, for example,
Te described in No. 902, Patent No. 1004835, etc.
Se-based alloy, JP-A-58-54338, Patent No. 974
No. 257, Patent No. 974258, Patent No. 974257
Te oxide system described in the No. 1, various other chalcogen systems mainly composed of Te and Se, alloys that cause amorphous-crystalline transition such as Ge-3n and 5i-5n, Ag-Zn, Ag-Al-Cu, Cu. -Alloys that change color due to changes in crystal structure, such as -AA, and alloys that change crystal grain size, such as In-3b.

また、ビット形成により反射率変化を生じるいわゆるビ
ット形成型の記録層を有する光記録ディスクにも適用す
ることができる。
Furthermore, the present invention can also be applied to an optical recording disk having a so-called bit-forming type recording layer in which the reflectance changes due to bit formation.

ビット形成型の記録層には、シアニン系、フタロシアニ
ン系、ナフタロシアニン系、アントラキノン系、アゾ系
、トリフェニルメタン系、ピリリウムないしチアピリリ
ウム塩系等の色素系、あるいはTeを主体とするTe系
等の材料が用いられる。
The bit-forming recording layer may contain pigments such as cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, anthraquinone, azo, triphenylmethane, pyrylium or thiapyrylium salts, or Te-based pigments mainly containing Te. material is used.

この他、本発明は、再生専用の光ディスクであってもよ
い。
In addition, the present invention may be a read-only optical disc.

〈実施例〉 以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in further detail by giving specific examples of the present invention.

[実施例1] 基板3上にトラッキング用の1.6μmピッチのスパイ
ラルグループを有する樹脂層4を下記のようにして形成
し本発明の光ディスク用基板Aを製造した。
[Example 1] A resin layer 4 having spiral groups with a pitch of 1.6 μm for tracking was formed on a substrate 3 in the following manner to manufacture an optical disc substrate A of the present invention.

基板3は、アルミナケイ酸系の化学強化ガラスとし、外
径200mm、厚さ1.2mmのディスク状とした。
The substrate 3 was made of alumina-silicate-based chemically strengthened glass, and was in the shape of a disk with an outer diameter of 200 mm and a thickness of 1.2 mm.

また、樹脂層4にはエステルアクリレート系樹脂を用い
、厚さ20戸とした。
Further, the resin layer 4 was made of ester acrylate resin and had a thickness of 20 units.

まず、第1図に示されるように、基板3とスタンバ25
間に、ノズル61から樹脂40を吐出し、スタンバ25
を回転させながら樹脂40を展開した。
First, as shown in FIG.
In the meantime, the resin 40 is discharged from the nozzle 61 and the standby bar 25 is
The resin 40 was developed while rotating.

次いで第2図に示されるように、位置出し軸を挿入した
後、1.600 gの重りを用いて基板3を加圧した。
Then, as shown in FIG. 2, after inserting the positioning shaft, pressure was applied to the substrate 3 using a 1.600 g weight.

次いで第3図に示されるように、基板3の内外周部の余
分な樹脂を吸引ノズル63.6Sにより吸引した。
Next, as shown in FIG. 3, excess resin on the inner and outer peripheries of the substrate 3 was sucked out by a suction nozzle 63.6S.

次いで第4図に示されるように、基板3側から紫外線を
照射して樹脂40を硬化させ、樹脂層4を形成した。
Next, as shown in FIG. 4, the resin 40 was cured by irradiating ultraviolet rays from the substrate 3 side to form the resin layer 4.

放射線照射の際の雰囲気は、酸素を3〜4体積%含有す
るN2と0□の混合ガスとした。
The atmosphere during radiation irradiation was a mixed gas of N2 and 0□ containing 3 to 4% by volume of oxygen.

また、基板外周部へは、鏡57を用いて紫外線を反射さ
せて照射を行なった。
Further, the outer peripheral portion of the substrate was irradiated with ultraviolet light by reflecting it using a mirror 57.

次いで第5図に示されるように、スプリング81を有す
る外周部え部8を用いて、基板外周部を押圧した。
Next, as shown in FIG. 5, the outer peripheral part of the substrate was pressed using the outer peripheral part 8 having a spring 81.

圧力は、lokgfとし、基板3の4ケ所を押圧した。The pressure was set to lokgf, and the substrate 3 was pressed at four locations.

そして、突き上げ部71を用いて基板3の内周部を突き
上げて、樹脂H4を有する基板3とスタンバ25とを剥
離した。
Then, the inner peripheral portion of the substrate 3 was pushed up using the push-up portion 71, and the stand bar 25 was separated from the substrate 3 having the resin H4.

得られた本発明の光ディスク用基板Aの樹脂層4を暗い
室内で目視用光源を用いて観察したところ樹脂の付着等
は確認されなかった。
When the resin layer 4 of the obtained optical disc substrate A of the present invention was observed in a dark room using a visual light source, no resin adhesion was observed.

また、大気中にて紫外線照射を行ない、第8図に示され
るように、基板3とスタンバ25とを剥離する際、基板
3の外周部を押圧しないほかは、前記と同様にして、比
較用の光ディスク用基扱Bを製造した。
In addition, a comparison sample was prepared in the same manner as described above except that when the substrate 3 and the stand bar 25 were separated from each other by irradiation with ultraviolet rays in the atmosphere as shown in FIG. A standard material B for optical discs was manufactured.

得られた光ディスク用基扱Bの樹脂層4を暗い室内で目
視用光源を用いて観察したところ樹脂の付着が確認され
た。
When the resin layer 4 of the obtained optical disc material B was observed in a dark room using a visual light source, adhesion of the resin was confirmed.

次に光ディスク用基板A、Bそれぞれを用い、光ディス
ク用基板上にガラス保護層91、SiNxの中間層92
、TbFeCo記録層93、SiNx保護層94、およ
び保護コート95を形成し、最後に接着剤層96により
樹脂製保護基板97を接着して第9図に示される片面記
録型の光磁気記録ディスクサンプルNo、  1(本発
明) 、 No、  2 (比較)をそれぞれ製造した
Next, using the optical disk substrates A and B, a glass protective layer 91 and a SiNx intermediate layer 92 are placed on the optical disk substrates.
, a TbFeCo recording layer 93, a SiNx protective layer 94, and a protective coat 95, and finally a resin protective substrate 97 is bonded with an adhesive layer 96 to obtain a single-sided recording type magneto-optical recording disk sample shown in FIG. No. 1 (invention) and No. 2 (comparison) were manufactured, respectively.

この場合、保護層91、中間層92、記録層93および
保護層94の形成にはスパッタ法を用いた。
In this case, a sputtering method was used to form the protective layer 91, intermediate layer 92, recording layer 93, and protective layer 94.

また、保護コート95は、オリゴエステルアクリレート
を塗布後、紫外線照射して架橋硬化させることにより、
10−に設層し、た。
In addition, the protective coat 95 is formed by coating oligoester acrylate and then cross-linking and curing it by irradiating it with ultraviolet rays.
10- was installed.

接着剤層96には、ホットメルト系接着剤を用い、ロー
ルコータにより設層し、その厚さを80−とした。
The adhesive layer 96 was formed using a hot melt adhesive using a roll coater, and had a thickness of 80 mm.

樹脂製保護基板97には、ポリカーボネートを用い、射
出成形により製造し、基板3と同一サイズのディスク状
とした。
The resin protective substrate 97 is made of polycarbonate, manufactured by injection molding, and has a disk shape having the same size as the substrate 3.

そして、両サンプルに対し、グループ抜けの評価を行な
った。
Both samples were then evaluated for group omissions.

11去丑 サンプルNo、  1およびNO12を、それぞれ、3
0枚用意し、トラッキングエラー信号の計測を行なった
11 Samples No. 1 and No. 12 were added to 3
0 sheets were prepared and the tracking error signal was measured.

この場合、トラッキングエラー信号が、トラックジャン
プ信号ピーク値の絶対値の60%以上プラス側あるいは
マイナス側へ変動した場合、グループ抜け1個としてカ
ウントし、ディスク全面を測定した。
In this case, if the tracking error signal fluctuated to the plus or minus side by 60% or more of the absolute value of the track jump signal peak value, it was counted as one missing group, and the entire surface of the disk was measured.

そして、グループ抜けのカウント数の平均値Xと、標準
偏差Cとを求めた。
Then, the average value X and standard deviation C of the counts of group dropouts were determined.

結果は表1に示されるとおりである。The results are shown in Table 1.

表 1(本発明) 2(比 較) 表1に示される結果から本発明の効果が明らかである。table 1 (present invention) 2 (comparison) The effects of the present invention are clear from the results shown in Table 1.

〈発明の効果〉 本発明の光ディスク用基板の製造方法によれば、基板上
に、樹脂の付着等がなく、スタンパ表面の母型パターン
が正確に転写された樹脂層を形成できる。
<Effects of the Invention> According to the method for manufacturing an optical disk substrate of the present invention, a resin layer can be formed on the substrate without resin adhesion, and in which the master pattern on the stamper surface is accurately transferred.

このため、グループ抜は等の欠陥がない光ディスクが実
現する。
Therefore, an optical disc without defects such as group omissions can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第7図は、それぞれ、本発明の光ディスク用基
扱の製造方法を説明するための断面図である。 第8図は、従来の光ディスク用基板の製造方法を説明す
るための断面図である。 第9図は、本発明の光ディスクの1例が示される断面図
である。 符号の説明 1・・・取付台 1・・・取付クランプ 15・・・位置出し用孔部 17・・・孔部 21・・・裏打ち部材 25・・・スタンバ 3 ・・ 基1反 4・樹脂層 40・・樹脂 51・・保持爪 53・・・位置出し軸 55・・・重り 57・・・鏡 61・・・ノズル 63・・・外周部吸引用ノズル 65・・内周部吸引用ノズル 7・・・基板剥離用治具 71・・・突き上げ部 75・・・シリンダ 8・・・外周押え部 81・・・スプリング 91・・・保護層 92・・・中間層 93・・・記録M 94・・・保護層 95・・・保護コート 96・・・接着剤層 97・・・保護基板 出 代 願 理 同 人 人 ティーデイ−ケイ株式会社
FIGS. 1 to 7 are cross-sectional views for explaining the method of manufacturing an optical disc according to the present invention. FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a conventional method of manufacturing an optical disc substrate. FIG. 9 is a sectional view showing an example of the optical disc of the present invention. Explanation of symbols 1...Mounting stand 1...Mounting clamp 15...Positioning hole 17...Hole 21...Backing member 25...Stambar 3...Base 1 anti-4 Resin Layer 40...Resin 51...Holding claw 53...Positioning shaft 55...Weight 57...Mirror 61...Nozzle 63...Outer circumference suction nozzle 65...Inner circumference suction nozzle 7... Substrate peeling jig 71... Push-up part 75... Cylinder 8... Outer periphery pressing part 81... Spring 91... Protective layer 92... Intermediate layer 93... Recording M 94...Protective layer 95...Protective coat 96...Adhesive layer 97...Protective board application agency Doujin TDC Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)基板より小さい外径のスタンパを用いて、基板上
にスタンパ表面の母型パターンを有する樹脂層を形成す
る方法であつて、 前記基板とスタンパ間に嫌気硬化性を備えた放射線硬化
型樹脂を展開し、基板を加圧した後、酸素を0〜5体積
%含有する雰囲気中で放射線を照射して、前記樹脂を硬
化させることを特徴とする光ディスク用基板の製造方 法。
(1) A method of forming a resin layer having a matrix pattern on the surface of the stamper on a substrate using a stamper having an outer diameter smaller than that of the substrate, the radiation curing type having an anaerobic curing property between the substrate and the stamper. 1. A method for manufacturing an optical disc substrate, which comprises spreading a resin, pressurizing the substrate, and then irradiating the resin with radiation in an atmosphere containing 0 to 5% by volume of oxygen to cure the resin.
(2)基板より小さい外径のスタンパを用いて、基板上
にスタンパ表面の母型パターンを有する樹脂層を形成す
る方法であって、 前記基板とスタンパ間に放射線硬化型樹脂 を展開し、基板を加圧した後、放射線を照射して前記樹
脂を硬化させ、 次いで前記スタンパから樹脂層と共に基板を剥離する際
に、前記基板の外周部または内周部をスタンパ側に押圧
しながら、前記基板の内周部または外周部を突き上げて
剥離することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法
(2) A method of forming a resin layer having a matrix pattern on the surface of the stamper on a substrate using a stamper having an outer diameter smaller than that of the substrate, the method comprising: spreading a radiation-curable resin between the substrate and the stamper; After pressurizing, the resin is cured by irradiation with radiation, and then when peeling the substrate together with the resin layer from the stamper, press the outer or inner circumference of the substrate toward the stamper while pressing the substrate. 1. A method for manufacturing an optical disc substrate, which comprises pushing up and peeling off an inner peripheral portion or an outer peripheral portion of the substrate.
(3)基板より小さい外径のスタンパを用いて、基板上
にスタンパ表面の母型パターンを有する樹脂層を形成す
る方法であって、 前記基板とスタンパ間に嫌気硬化性を備えた放射線硬化
型樹脂を展開し、基板を加圧した後、酸素を0〜5体積
%含有する雰囲気中で放射線を照射して前記樹脂を硬化
させ、 次いで前記スタンパから樹脂層と共に基板を剥離する際
に、前記基板の外周部または内周部をスタンパ側に押圧
しながら、前記基板の内周部または外周部を突き上げて
剥離することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法
(3) A method of forming a resin layer having a matrix pattern on the surface of the stamper on a substrate using a stamper having an outer diameter smaller than that of the substrate, the method comprising a radiation curing type having anaerobic curing properties between the substrate and the stamper. After developing the resin and pressurizing the substrate, the resin is cured by irradiation with radiation in an atmosphere containing 0 to 5% by volume of oxygen, and then when the substrate is peeled together with the resin layer from the stamper, the A method for manufacturing an optical disc substrate, which comprises pushing up and peeling an inner or outer peripheral part of the substrate while pressing the outer or inner peripheral part of the substrate toward a stamper.
(4)基板をとおして放射線を照射するとともに、放射
線を反射させ、前記基板の外周部に放射線を照射する請
求項1ないし3のいずれかに記載の光ディスク用基板の
製造方法。(5)請求項1ないし4のいずれかに記載の
方法により製造された光ディスク用基板を有することを
特徴とする光ディスク。
(4) The method for manufacturing an optical disc substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein radiation is irradiated through the substrate, and the radiation is reflected to irradiate the outer peripheral portion of the substrate. (5) An optical disc comprising an optical disc substrate manufactured by the method according to any one of claims 1 to 4.
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