JPH0474192A - 2,2′―ビス(ジシクロペンチルホスフィノ)―1,1′―ビナフチル及びこれれを配位子とする遷移金属錯体 - Google Patents
2,2′―ビス(ジシクロペンチルホスフィノ)―1,1′―ビナフチル及びこれれを配位子とする遷移金属錯体Info
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- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
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- C07D295/14—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D295/145—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals with the ring nitrogen atoms and the carbon atoms with three bonds to hetero atoms attached to the same carbon chain, which is not interrupted by carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
- C07C29/17—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrogenation of carbon-to-carbon double or triple bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System compounds of the platinum group
- C07F15/0013—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System compounds of the platinum group without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System compounds of the platinum group
- C07F15/0046—Ruthenium compounds
- C07F15/0053—Ruthenium compounds without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System compounds of the platinum group
- C07F15/0073—Rhodium compounds
- C07F15/008—Rhodium compounds without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5027—Polyphosphines
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は新規ホスフィン化合物に関し、更に詳細にはロ
ジウム、パラジウム、ルテニウム、イリジウム、ニッケ
ル等の遷移金属と錯体を形成することによって種々の不
斉合成反応における有用な触媒となり得る新規なホスフ
ィン化合物に関する。
ジウム、パラジウム、ルテニウム、イリジウム、ニッケ
ル等の遷移金属と錯体を形成することによって種々の不
斉合成反応における有用な触媒となり得る新規なホスフ
ィン化合物に関する。
従来、有機合成反応に利用できる遷移金属錯体、例えば
、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反応
等の不斉合成反応に用いられる触媒について数多くの報
告がなされている。中でもロジウム、パラジウム、ルテ
ニウム、イリジウム、ニッケル等の遷移金属に、光学活
性な第三級ホスフィン化合物を配位させた錯体は、不斉
合成反応の触媒として優れた性能を有するものが多く、
この触媒の性能を更に高めるた約に、特殊な構造のホス
フィン化合物がこれまでに多数開発されてきた(日本化
学全編 化学総説32「有機金属錯体の化学j p23
7〜238、昭和57年)。とりわけ、22′−ビス(
ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(以下
、単にr BINAPJという)は優れた配位子の一つ
であり、このBINAPを配位子としたロジウム錯体く
特開昭55−61937号公報)、及びルテニウム錯体
(特開昭61−63690号公報)がすでに報告されて
いる。また、2.2′−ビス〔ジ(p−トリル)ホスフ
ィノ:]−1,1’ −ビナフチル(以下、r p−T
−BINAP」という)を配位子さしたロジウム錯体(
特開昭60−199898号公報)及びルテニウム錯体
く特開昭61−63690号公報)についても、不斉水
素化反応及び不斉異性化反応において良好な結果を与え
ることが報告されている。更に、2.2’ −ビス(ジ
シクロへキシルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(
以下、「CyBINAP」という)を配位子としたロジ
ウム錯体を触媒として用いたネロールの不斉水素化反応
において、光学純度66%eeのシトロネロールが得ら
れたとの報告があるC5. INDUEら ; “C
HEMISTRY LBTT日R3” 、 p10
07〜1008(1985)]。
、不斉水素化反応、不斉異性化反応、不斉シリル化反応
等の不斉合成反応に用いられる触媒について数多くの報
告がなされている。中でもロジウム、パラジウム、ルテ
ニウム、イリジウム、ニッケル等の遷移金属に、光学活
性な第三級ホスフィン化合物を配位させた錯体は、不斉
合成反応の触媒として優れた性能を有するものが多く、
この触媒の性能を更に高めるた約に、特殊な構造のホス
フィン化合物がこれまでに多数開発されてきた(日本化
学全編 化学総説32「有機金属錯体の化学j p23
7〜238、昭和57年)。とりわけ、22′−ビス(
ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(以下
、単にr BINAPJという)は優れた配位子の一つ
であり、このBINAPを配位子としたロジウム錯体く
特開昭55−61937号公報)、及びルテニウム錯体
(特開昭61−63690号公報)がすでに報告されて
いる。また、2.2′−ビス〔ジ(p−トリル)ホスフ
ィノ:]−1,1’ −ビナフチル(以下、r p−T
−BINAP」という)を配位子さしたロジウム錯体(
特開昭60−199898号公報)及びルテニウム錯体
く特開昭61−63690号公報)についても、不斉水
素化反応及び不斉異性化反応において良好な結果を与え
ることが報告されている。更に、2.2’ −ビス(ジ
シクロへキシルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル(
以下、「CyBINAP」という)を配位子としたロジ
ウム錯体を触媒として用いたネロールの不斉水素化反応
において、光学純度66%eeのシトロネロールが得ら
れたとの報告があるC5. INDUEら ; “C
HEMISTRY LBTT日R3” 、 p10
07〜1008(1985)]。
上述のように、不斉合成反応の触媒としてより高い性能
を有する錯体を提供するために、特殊なホスフィン化合
物が多数開発されているが、対象とする反応や基質によ
っては、選択住、転化率、持続性等の面で未だ充分に満
足できない場合があり、従来の触媒に比べ、画期的に高
い触媒性能を有する錯体を与える新しいホスフィン化合
物の開発が望まれていた。
を有する錯体を提供するために、特殊なホスフィン化合
物が多数開発されているが、対象とする反応や基質によ
っては、選択住、転化率、持続性等の面で未だ充分に満
足できない場合があり、従来の触媒に比べ、画期的に高
い触媒性能を有する錯体を与える新しいホスフィン化合
物の開発が望まれていた。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、多くのホスフィ
ン化合物について鋭意研究を重ねた結果、BINAPの
フェニル基の代わりにシクロペンチル基を導入した新規
ホスフィン化合物を配位子とする遷移金属錯体が、BI
NAP、 p−T−BINAP及びCyBINAPを配
位子とする錯体に比べて、不斉合成における選択率なら
びに転化率を著しく高めることを見いだし、この知見に
基づいて本発明を完成した。
ン化合物について鋭意研究を重ねた結果、BINAPの
フェニル基の代わりにシクロペンチル基を導入した新規
ホスフィン化合物を配位子とする遷移金属錯体が、BI
NAP、 p−T−BINAP及びCyBINAPを配
位子とする錯体に比べて、不斉合成における選択率なら
びに転化率を著しく高めることを見いだし、この知見に
基づいて本発明を完成した。
即ち、本発明は次式(I)
で表わされる新規なホスフィン化合物、2.2′ビス(
ジシクロペンチルホスフィノ)−1゜ビービナフチル(
以下、r CPBINAPJという)に係るものである
。
ジシクロペンチルホスフィノ)−1゜ビービナフチル(
以下、r CPBINAPJという)に係るものである
。
本発明はまた、cPBINAPを配位子とする新規な遷
移金属錯体に係るものである。
移金属錯体に係るものである。
本発明に係るcPBINAPには(+)体及び(−)体
の光学活性体が存在し、本発明はこれらの(+)体、(
=)体及びラセミ体のいずれをも含むものである。
の光学活性体が存在し、本発明はこれらの(+)体、(
=)体及びラセミ体のいずれをも含むものである。
本発明に係るcPBINAPは、例えば次の反応式(1
)及び(2)に従って製造される。
)及び(2)に従って製造される。
以下余白
即ち、シクロペンチルクロリド(II)と金属マグネシ
ウムを反応させ、グリニヤール試薬(II[)を調製し
、これに三塩化リン(IV)を縮合せしめ、ジシクロペ
ンチルホスフィンクロリド(V)とする。更に化合物(
V)にジメチルスルホキシドを反応させ、反応後過剰の
ジメチルスルホキシド及び溶媒を減圧留去して、ジシク
ロペンチルホスホニルクロリド(VI)を得る。
ウムを反応させ、グリニヤール試薬(II[)を調製し
、これに三塩化リン(IV)を縮合せしめ、ジシクロペ
ンチルホスフィンクロリド(V)とする。更に化合物(
V)にジメチルスルホキシドを反応させ、反応後過剰の
ジメチルスルホキシド及び溶媒を減圧留去して、ジシク
ロペンチルホスホニルクロリド(VI)を得る。
一方、特開昭55−61937号公報に開示されている
方法によって得られる2、2′−ジブロム−1゜1′−
ビナフチル(■)に金属マグネシウムを反応させグリニ
ヤール試薬(■)とし、これに先に合成した化合物(V
I)を反応させて、2,2′ビス(ジシクロペンチルホ
スホリル)−1,1’ビナフチル(IX)を合成する。
方法によって得られる2、2′−ジブロム−1゜1′−
ビナフチル(■)に金属マグネシウムを反応させグリニ
ヤール試薬(■)とし、これに先に合成した化合物(V
I)を反応させて、2,2′ビス(ジシクロペンチルホ
スホリル)−1,1’ビナフチル(IX)を合成する。
このラセミ体化合物を酢酸エチルに加熱溶解し、(+)
−ジベンゾイル酒石酸の酢酸エチル溶液を加え、室温に
放置し、結晶を析出させる。この結晶物を少量サンプリ
ングしてクロロホルム下に懸濁し、IN−水酸化ナトリ
ウムを加えた後クロロホルムを留去し、(−)−(IX
)の粗結晶を得る。この粗結晶の旋光度を測定し、測定
値が一定の値を示すようになるまで酢酸エチルによる再
結晶及びサンプリングによる旋光度の測定を繰り返す。
−ジベンゾイル酒石酸の酢酸エチル溶液を加え、室温に
放置し、結晶を析出させる。この結晶物を少量サンプリ
ングしてクロロホルム下に懸濁し、IN−水酸化ナトリ
ウムを加えた後クロロホルムを留去し、(−)−(IX
)の粗結晶を得る。この粗結晶の旋光度を測定し、測定
値が一定の値を示すようになるまで酢酸エチルによる再
結晶及びサンプリングによる旋光度の測定を繰り返す。
一定の旋光度を示すようになったら、結晶物全量を前記
と同様にクロロホルム下でIN−水酸化ナトリウムにて
処理し、(−)体の遊離のホスフィンオキシト(−)−
(IX)を得る。
と同様にクロロホルム下でIN−水酸化ナトリウムにて
処理し、(−)体の遊離のホスフィンオキシト(−)−
(IX)を得る。
また、(=)−ジベンゾイル酒石酸を用いて上記と同様
の光学分割を行なうと、(+)体の遊離のホスフィンオ
キシト(+)−(IX)が得られる。更に、この化合物
(IX)の(+)体又は(−)体をトリクロロシランに
よって還元すれば、本発明に係るcPBINAPの(+
)体又は(−)体を得ることができる。
の光学分割を行なうと、(+)体の遊離のホスフィンオ
キシト(+)−(IX)が得られる。更に、この化合物
(IX)の(+)体又は(−)体をトリクロロシランに
よって還元すれば、本発明に係るcPBINAPの(+
)体又は(−)体を得ることができる。
本発明に係るcPBINAPは、配位子として遷移金属
と共に錯体を形成する。この錯体を形成する遷移金属と
しては、ロジウム、パラジウム、ルテニウム、4’Jジ
ウム、ニッケル等が挙げられ、形成される錯体としては
、 [Rh (COD) (cPBINAP) ]CII
O。
と共に錯体を形成する。この錯体を形成する遷移金属と
しては、ロジウム、パラジウム、ルテニウム、4’Jジ
ウム、ニッケル等が挙げられ、形成される錯体としては
、 [Rh (COD) (cPBINAP) ]CII
O。
(CODは1.5−シクロオクタジエンを意味する。
以下同様。)、
Rh(COD) (cPBINAP)Cj! 。
Rh(Co)Cj! (cPBINAP)、PdCj’
2(cPBINAP)、 Ru2Cj! 4(CPBINAP)z(NBt3)、
(Etはエチル基を意味する。以下同様。)、[1r(
COD)(cPBINAP)コBF、、[1r(COD
) (cPBINAP)]CA [1,、[1r (C
OD) (cPBINAP) PFs、N1Cj! 2
(cPBINAP)等が挙げられる。
2(cPBINAP)、 Ru2Cj! 4(CPBINAP)z(NBt3)、
(Etはエチル基を意味する。以下同様。)、[1r(
COD)(cPBINAP)コBF、、[1r(COD
) (cPBINAP)]CA [1,、[1r (C
OD) (cPBINAP) PFs、N1Cj! 2
(cPBINAP)等が挙げられる。
本発明に係る遷移金属錯体を製造する方法としては、例
えば、J、 A、 0sbornら; “J、 Am、
Chem。
えば、J、 A、 0sbornら; “J、 Am、
Chem。
Soc、”、93. p2397〜240?(1971
)に報告されている[Rh(COD) (dppe)]
Cl1O,(dppeは1.2−ビス (ジフェニルホ
スフィノ)エタンを意味する)の合成法と同様の方法が
挙げられる。即ち、[Rh (CD[]) 2]CA
O,と本発明に係るcPBINAPを反応せしめること
により、[Rh (COD) (cPBINAP) ]
Cj! 0゜が得られる。
)に報告されている[Rh(COD) (dppe)]
Cl1O,(dppeは1.2−ビス (ジフェニルホ
スフィノ)エタンを意味する)の合成法と同様の方法が
挙げられる。即ち、[Rh (CD[]) 2]CA
O,と本発明に係るcPBINAPを反応せしめること
により、[Rh (COD) (cPBINAP) ]
Cj! 0゜が得られる。
また、市販品の[Rh (CUD) C1] 2と本発
明に係るcPBINAPを塩化メチレン中で反応させる
ことにより、Rh(Con) (cPBINAP)Cj
!が得られる。
明に係るcPBINAPを塩化メチレン中で反応させる
ことにより、Rh(Con) (cPBINAP)Cj
!が得られる。
また、G、 WIIkinSOn; ”lnorg、
5ynth、−8p214〜217(1966)に報
告されているRh (CO) CA (PPh、) 2
(Phはフェニル基を意味する)の合成法と同様にして
、市販品の[Rh (Co) 2Cf ] 。と本発明
に係るcPBINAPを塩化メチレン中室温で反応せし
めることにより、Rh (CD) Cβ(cPBINA
P)が得られる。
5ynth、−8p214〜217(1966)に報
告されているRh (CO) CA (PPh、) 2
(Phはフェニル基を意味する)の合成法と同様にして
、市販品の[Rh (Co) 2Cf ] 。と本発明
に係るcPBINAPを塩化メチレン中室温で反応せし
めることにより、Rh (CD) Cβ(cPBINA
P)が得られる。
また、T、 Ikariyaら; “J、 Chem、
Soc、、 ChemCommun、 、 p、9
22(1985)に開示されているRu、C124(B
INAP) (NBt3)の合成法と同様にして、ルテ
ニウムクロライドとCODをエタノ ル溶液中で反応させることにより容易に得ることができ
る[RuC12(COD) ]−と、本発明に係るcP
BINAPを、トリエチルアミンの存在下でトルエン溶
媒中で加熱反応させることにより、Ru、Cj! 、
(cPBINAP) 2 (NBt、)を得ることがで
きる。
Soc、、 ChemCommun、 、 p、9
22(1985)に開示されているRu、C124(B
INAP) (NBt3)の合成法と同様にして、ルテ
ニウムクロライドとCODをエタノ ル溶液中で反応させることにより容易に得ることができ
る[RuC12(COD) ]−と、本発明に係るcP
BINAPを、トリエチルアミンの存在下でトルエン溶
媒中で加熱反応させることにより、Ru、Cj! 、
(cPBINAP) 2 (NBt、)を得ることがで
きる。
このようにして得られた遷移金属錯体は、不斉合成反応
、例えば、J、 J、 Plattnerら; −J、
Med。
、例えば、J、 J、 Plattnerら; −J、
Med。
Chem、 、 31. p2277〜2288(19
88)に報告されているレニン阻害剤の合成原料である
(El−2〔(4−モルホリニルカルボニル)メチル〕
桂皮酸の不斉水素化反応、ゲラニオールあるいはネロー
ルの不斉水素化反応等の触媒として用いると、高い触媒
活性を示し、高い不斉収率かつ高い光学純度の還元体を
得ることができる。また、本発明に係るcPBINAP
の(杓体又は(−)体のいずれか方を選択し、これを配
位子とした遷移金属錯体を触媒として用いることにより
、不斉合成反応において所望する絶対配置の目的物を得
ることができる。
88)に報告されているレニン阻害剤の合成原料である
(El−2〔(4−モルホリニルカルボニル)メチル〕
桂皮酸の不斉水素化反応、ゲラニオールあるいはネロー
ルの不斉水素化反応等の触媒として用いると、高い触媒
活性を示し、高い不斉収率かつ高い光学純度の還元体を
得ることができる。また、本発明に係るcPBINAP
の(杓体又は(−)体のいずれか方を選択し、これを配
位子とした遷移金属錯体を触媒として用いることにより
、不斉合成反応において所望する絶対配置の目的物を得
ることができる。
次にに実施例を挙げて、本発明を更に詳細に説明するが
、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以
下の測定には次の機器を用いた。
、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以
下の測定には次の機器を用いた。
NMR: AM−400型装置(400MHz)(プル
ツカ−社製) 内部標準物質: ’)I−NMR・・・テトラメチルシ
ラン 外部標準物質: ”P−NMR・・・85%リン酸 旋光度: DIP−4型装置(日本分光工業■製)光学
純度゛高速液体クロマトグラフィ L−6000([日立製作新製) 検出器:Uv検出器L−400011V (MS立製作
所製) 化学純度:高速液体クロマトグラフィーL−6000(
■日立製作新製) 検出器:[IV検出器L−4000[IV (H日立製
作新製) 実施例1 ■ジシクロペンチルホスフィンクロリド(■)の合成ニ ジクロペンチルクロリド73.05g (0,699モ
ル)を脱水したジエチルエーテル500−中で金属マグ
ネシウム17.28g (0,72モル)と反応させて
、グリニヤール試薬を調製した。このグリニヤール試薬
を三塩化リン36.94g (0,27モル)のジエチ
ルエーテル200mj!溶液に−30〜−40℃で滴下
した。
ツカ−社製) 内部標準物質: ’)I−NMR・・・テトラメチルシ
ラン 外部標準物質: ”P−NMR・・・85%リン酸 旋光度: DIP−4型装置(日本分光工業■製)光学
純度゛高速液体クロマトグラフィ L−6000([日立製作新製) 検出器:Uv検出器L−400011V (MS立製作
所製) 化学純度:高速液体クロマトグラフィーL−6000(
■日立製作新製) 検出器:[IV検出器L−4000[IV (H日立製
作新製) 実施例1 ■ジシクロペンチルホスフィンクロリド(■)の合成ニ ジクロペンチルクロリド73.05g (0,699モ
ル)を脱水したジエチルエーテル500−中で金属マグ
ネシウム17.28g (0,72モル)と反応させて
、グリニヤール試薬を調製した。このグリニヤール試薬
を三塩化リン36.94g (0,27モル)のジエチ
ルエーテル200mj!溶液に−30〜−40℃で滴下
した。
更に室温で2時間、35℃で1時間反応せしめた後、反
応溶液を濾過し、濾液を減圧蒸留して、ジシクロペンチ
ルホスフィンクロ’J ト(V) 31.25g(0,
1527モル、収率56.5%、b、 p、105℃/
3mmHg)を得た。
応溶液を濾過し、濾液を減圧蒸留して、ジシクロペンチ
ルホスフィンクロ’J ト(V) 31.25g(0,
1527モル、収率56.5%、b、 p、105℃/
3mmHg)を得た。
■ジシクロペンチルホスホニルクロリド(VI)の合成
: ■で得たジシクロペンチルホスフィンクロリド46、6
g (0,2284モル)の塩化メチレン10〇−溶
液を−15〜−20℃に冷却し、ジメチルスルホキシド
17、82g (0,2284モル)を30分かけて滴
下した。
: ■で得たジシクロペンチルホスフィンクロリド46、6
g (0,2284モル)の塩化メチレン10〇−溶
液を−15〜−20℃に冷却し、ジメチルスルホキシド
17、82g (0,2284モル)を30分かけて滴
下した。
室温にした後、2時間攪拌した。塩化メチレンを減圧留
去した後、80℃/3mmH1Bで3時間残渣を乾燥し
、無色の固体ジシクロペンチルホスホニルクロリド(V
I) 49.9g (収率99.3%)を得た。
去した後、80℃/3mmH1Bで3時間残渣を乾燥し
、無色の固体ジシクロペンチルホスホニルクロリド(V
I) 49.9g (収率99.3%)を得た。
■2,2′−ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1
1’−ビナフチル(IX)の合成:2.2′−ジブロム
−1,1′−ビナフチル48g (0,117モル)と
金属マグネシウム7、0g (0,29モル)をトルエ
ン500d及びテトラヒドロフラン80mn中で反応さ
せ、グリニヤール試薬を調製した。
1’−ビナフチル(IX)の合成:2.2′−ジブロム
−1,1′−ビナフチル48g (0,117モル)と
金属マグネシウム7、0g (0,29モル)をトルエ
ン500d及びテトラヒドロフラン80mn中で反応さ
せ、グリニヤール試薬を調製した。
このものに■で得たジシクロペンチルホスホニルクロリ
ド48g (0,218モル)のトルエン溶液(25〇
−)を0℃1時間かけて滴下し、60〜80℃で4時間
反応せしめた。このものに室温で水100−を加えた後
80℃で10分間攪拌した。有機層を分液し濃縮した後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィ=(展開溶媒はア
セトン:ヘキサン=14)により精製し、無色の固体2
,2′−ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1,,
1’ −ビナフチル(IX) 15.0g (収率20
.6%、融点測定において300℃まで加熱しても液化
しなかった)を得た。
ド48g (0,218モル)のトルエン溶液(25〇
−)を0℃1時間かけて滴下し、60〜80℃で4時間
反応せしめた。このものに室温で水100−を加えた後
80℃で10分間攪拌した。有機層を分液し濃縮した後
、シリカゲルカラムクロマトグラフィ=(展開溶媒はア
セトン:ヘキサン=14)により精製し、無色の固体2
,2′−ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1,,
1’ −ビナフチル(IX) 15.0g (収率20
.6%、融点測定において300℃まで加熱しても液化
しなかった)を得た。
”P−NMR(CD2fJ 2)δppm :46、9
(s) ■2.2′−ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1
,1’−ビナフチル(IX>の光学分割: ■で得たラセミ体である2、2′−ビス(ジシクロペン
チルホスホリル)−1,1’ −ビナフチル10.97
g (0,0176モル)を酢酸エチル2950m1
にて、70〜80℃で溶解させた。次に(+)−ジベン
ゾイル酒石酸6.33 g (0,0176モル)を酢
酸エチル50m1に溶解させた物を加え、室温まで冷却
し沈澱を析出させた。この沈澱を濾過したものを少量サ
ンプリングしてクロロホルム下に懸濁し、IN−水酸化
す) IJウム水溶液を加えた後クロロホルムを留去し
、(−)−(IX)の粗結晶を得た。この粗結晶の旋光
度を測定し、測定値が後記の数値と大差がなくなるまで
、前記沈澱の酢酸エチルによる再結晶、及びサンプリン
グによる旋光度の測定を繰り返し、難溶性ジアステレオ
マー[異符号塩、(〜)(+)塩]7.79gを得た。
(s) ■2.2′−ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1
,1’−ビナフチル(IX>の光学分割: ■で得たラセミ体である2、2′−ビス(ジシクロペン
チルホスホリル)−1,1’ −ビナフチル10.97
g (0,0176モル)を酢酸エチル2950m1
にて、70〜80℃で溶解させた。次に(+)−ジベン
ゾイル酒石酸6.33 g (0,0176モル)を酢
酸エチル50m1に溶解させた物を加え、室温まで冷却
し沈澱を析出させた。この沈澱を濾過したものを少量サ
ンプリングしてクロロホルム下に懸濁し、IN−水酸化
す) IJウム水溶液を加えた後クロロホルムを留去し
、(−)−(IX)の粗結晶を得た。この粗結晶の旋光
度を測定し、測定値が後記の数値と大差がなくなるまで
、前記沈澱の酢酸エチルによる再結晶、及びサンプリン
グによる旋光度の測定を繰り返し、難溶性ジアステレオ
マー[異符号塩、(〜)(+)塩]7.79gを得た。
このものに、前記サンプリングと同様に、1N−水酸化
す)IJウム水溶液12−とクロロホルム350−を加
えて中和し、攪拌してよく溶かした。これを分液し、ク
ロロホルム層を水を用いて各々700m1!で3回洗浄
し、更にクロロホルム層に硫酸す) IJウムを適宜加
えて乾燥させた。
す)IJウム水溶液12−とクロロホルム350−を加
えて中和し、攪拌してよく溶かした。これを分液し、ク
ロロホルム層を水を用いて各々700m1!で3回洗浄
し、更にクロロホルム層に硫酸す) IJウムを適宜加
えて乾燥させた。
濾過した後、溶媒を減圧留去し、再度酢酸エチル200
−を用いて再結晶を行ない、(−)−2,2’ビス(ジ
シクロペンチルホスホリル)−1,1’−ビナフチル(
−)−(IX) 4.5g (0,00723モル、ラ
セミ体に対する収率41.1%)を得た。
−を用いて再結晶を行ない、(−)−2,2’ビス(ジ
シクロペンチルホスホリル)−1,1’−ビナフチル(
−)−(IX) 4.5g (0,00723モル、ラ
セミ体に対する収率41.1%)を得た。
また(−)−ジベンゾイル酒石酸を使用した以外は上述
と同様の操作を行なって、(+)−2,2’ −ビス(
ジシクロペンチルホスホリル)−1,1’ビナフチル(
+)−(IX)を得た。
と同様の操作を行なって、(+)−2,2’ −ビス(
ジシクロペンチルホスホリル)−1,1’ビナフチル(
+)−(IX)を得た。
(十)体〔αG5:+32.4°(C・1.0.クロロ
ホルム) (−)体〔α〕:5ニー30.8°(c=1.0.りo
ロホルム) (+)あるいはく−)体の光学純度は、下記条件の高速
液体クロマトグラフィーで検定した結果、(+)体は1
00%ee、 (−)体は99,2%eeであった。
ホルム) (−)体〔α〕:5ニー30.8°(c=1.0.りo
ロホルム) (+)あるいはく−)体の光学純度は、下記条件の高速
液体クロマトグラフィーで検定した結果、(+)体は1
00%ee、 (−)体は99,2%eeであった。
カラム:キラルセルOGφ0.46cm X 25cm
(ダイセル化学工業■製) KM溶媒:へキサン:イソプロピルアルコール95:5
(容量比、以下溶媒比はす べて容量比を表わす) 流速:1ml’/分 検出波長二υV−254nm ■(−)−cPBINAP(−)−(1)及び(+)−
cPBINAP b) −N)の合成: ■で得た光学活性な化合物(−)−2,2’ −ビス(
ジシクロペンチルホスホリル)−1,1’ −ビナフチ
ル(−)−(IXン2.56 g (4,26ミリモル
)にキシレン200−及びト リエチルアミ ン8.6
g(85,2ミIJモル)を加え、攪拌溶解後、トリク
ロロシラン11.4g (85,2ミリモル)を30分
間かけて滴下した。室温で10分間、80℃で30分間
、100tで1時間、120℃で1時間、更に130t
:で−晩反応させた後、室温まで冷却して3N=水酸化
ナトリウム水溶液100−を加えた。60℃で30分間
攪拌した後、分液し、油層を水洗、硫酸マグネシウムで
乾燥させた。溶液を減圧濃縮し約3mj!とじた後、メ
タノール20−をゆっくり加えて、粗還元体を得た。こ
の粗還元体をトルエン:メタノール=1=10の混合溶
媒で再結晶して無色の固体(−)cPBINAP(−)
−(I ) 1.2g (収率47.7%、m、 p。
(ダイセル化学工業■製) KM溶媒:へキサン:イソプロピルアルコール95:5
(容量比、以下溶媒比はす べて容量比を表わす) 流速:1ml’/分 検出波長二υV−254nm ■(−)−cPBINAP(−)−(1)及び(+)−
cPBINAP b) −N)の合成: ■で得た光学活性な化合物(−)−2,2’ −ビス(
ジシクロペンチルホスホリル)−1,1’ −ビナフチ
ル(−)−(IXン2.56 g (4,26ミリモル
)にキシレン200−及びト リエチルアミ ン8.6
g(85,2ミIJモル)を加え、攪拌溶解後、トリク
ロロシラン11.4g (85,2ミリモル)を30分
間かけて滴下した。室温で10分間、80℃で30分間
、100tで1時間、120℃で1時間、更に130t
:で−晩反応させた後、室温まで冷却して3N=水酸化
ナトリウム水溶液100−を加えた。60℃で30分間
攪拌した後、分液し、油層を水洗、硫酸マグネシウムで
乾燥させた。溶液を減圧濃縮し約3mj!とじた後、メ
タノール20−をゆっくり加えて、粗還元体を得た。こ
の粗還元体をトルエン:メタノール=1=10の混合溶
媒で再結晶して無色の固体(−)cPBINAP(−)
−(I ) 1.2g (収率47.7%、m、 p。
195〜197℃)を得た。
また、実施例4で得た光学活性な化合物(+)−2,2
′〜ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1,l’−
ビナフチル(+)−(IX)を使用した以外は上述と同
様の操作を行なって、(+) −cPB I NAP(
+)−(1) 1.3g (収率47.7%、m、L
195〜197℃)を得た。
′〜ビス(ジシクロペンチルホスホリル)−1,l’−
ビナフチル(+)−(IX)を使用した以外は上述と同
様の操作を行なって、(+) −cPB I NAP(
+)−(1) 1.3g (収率47.7%、m、L
195〜197℃)を得た。
(+)体〔αG5: +24.5°(C・0.51.ク
ロロホルム) (−)体[αl:5ニー23.9°(c=0.66、り
DOホルム) If−NMR(CIICl 3)δppm :0、7(
1−2,45(m、 36)1)6、87 (d、 2
)f、 J=8.4)1z)7、11 (d−d−d、
2)1. J=8.4.6.8.1.3Hz)7、3
9 (d−d−d、 2)f、 J=8.2.6.8.
1.1Hz)7、84 (d−d、 2H,J=8.5
.1.2)tz)7、87 (d、 2H,J=8.2
)1z)7、93 (6,2H,J=8.5)1z)”
P−NMR(1:D2CJ ff)δpprn ニー
14.2 (s) 実施例2 CRh(Cf:IO) ((+)−cPBINAP)
ECI D、の合成CRh(COD)2icf O,0
,108g (0,26ミリモル)と実施例1の■で得
た(+)−cPBINAP O,1658g (0,2
8ミリモル)を塩化メチレン1.0rn1に溶かし、室
温で3時間反応せしめた。反応液を0.5−に濃縮した
後、ジエチルエーテル2. Oml及びヘキサン1.
Omlを加えて沈澱を生成させ濾過、乾燥して標題の錯
体0.231g (収率85%、m、 11.175〜
190℃)を得た。
ロロホルム) (−)体[αl:5ニー23.9°(c=0.66、り
DOホルム) If−NMR(CIICl 3)δppm :0、7(
1−2,45(m、 36)1)6、87 (d、 2
)f、 J=8.4)1z)7、11 (d−d−d、
2)1. J=8.4.6.8.1.3Hz)7、3
9 (d−d−d、 2)f、 J=8.2.6.8.
1.1Hz)7、84 (d−d、 2H,J=8.5
.1.2)tz)7、87 (d、 2H,J=8.2
)1z)7、93 (6,2H,J=8.5)1z)”
P−NMR(1:D2CJ ff)δpprn ニー
14.2 (s) 実施例2 CRh(Cf:IO) ((+)−cPBINAP)
ECI D、の合成CRh(COD)2icf O,0
,108g (0,26ミリモル)と実施例1の■で得
た(+)−cPBINAP O,1658g (0,2
8ミリモル)を塩化メチレン1.0rn1に溶かし、室
温で3時間反応せしめた。反応液を0.5−に濃縮した
後、ジエチルエーテル2. Oml及びヘキサン1.
Omlを加えて沈澱を生成させ濾過、乾燥して標題の錯
体0.231g (収率85%、m、 11.175〜
190℃)を得た。
” P−NMR(CD2Cj22)δppm22、15
(d、 J=108.6Hz)実施例3 [Rh(COD) ((−)−cPBINAP)′JB
F、+17)合成二[Rh(口0D)Cf ]、 0.
15g (0,6ミリモル)、実施例1の■で得た(−
)−cPBINAP OJ60g (0,6ミリモル)
、NaBF、0.200g (1,8ミリモル)、
(口=Hs) 4NBr 0.013 g (0,06
ミリモル)、塩化メチレン30社及び水20mfを5〜
10℃で1.5時間反応せしめた。塩化メチレン層を分
液し、水を用いて各々20rn1で3回洗浄した。塩化
メチレン溶液を濃縮乾固して標題の錯体0.350g
(収率94,5%、m、p。230℃分解)を得た。
(d、 J=108.6Hz)実施例3 [Rh(COD) ((−)−cPBINAP)′JB
F、+17)合成二[Rh(口0D)Cf ]、 0.
15g (0,6ミリモル)、実施例1の■で得た(−
)−cPBINAP OJ60g (0,6ミリモル)
、NaBF、0.200g (1,8ミリモル)、
(口=Hs) 4NBr 0.013 g (0,06
ミリモル)、塩化メチレン30社及び水20mfを5〜
10℃で1.5時間反応せしめた。塩化メチレン層を分
液し、水を用いて各々20rn1で3回洗浄した。塩化
メチレン溶液を濃縮乾固して標題の錯体0.350g
(収率94,5%、m、p。230℃分解)を得た。
”P−NMR(CD、CA 2)δppm12.15(
d、J=176.7Hz)31.19(d、J=122
.2Hz)実施例4 rRh(Con) ((+)−cPBINAP)]Cj
!の合成:[Rh(COD)Cβ]、0.0573g
(0,233ミ リモル)、実施例1の■で得た(+)
−cPBINAP O,1374g (0,233ミリ
モル)及び塩化メチレン1.Omfを45℃で1時間反
応させ、反応後溶媒を減圧留去して標題の錯体0.19
5g (収率100%)を得た。
d、J=176.7Hz)31.19(d、J=122
.2Hz)実施例4 rRh(Con) ((+)−cPBINAP)]Cj
!の合成:[Rh(COD)Cβ]、0.0573g
(0,233ミ リモル)、実施例1の■で得た(+)
−cPBINAP O,1374g (0,233ミリ
モル)及び塩化メチレン1.Omfを45℃で1時間反
応させ、反応後溶媒を減圧留去して標題の錯体0.19
5g (収率100%)を得た。
31P−NMR(CD、Cf 、)δppm46、55
(d、 J=230.6Hz)64、13 (d、
J=192.6Hz)実施例5 Rh (CO) Cj! ((+)−cPBINAP)
の合成:[Rh (COン2C1]229.(1■(0
,075ミリモル)と実施例1の■で得た(+)−cP
BINAP 88.4g (0,15ミリモル)を塩化
メチレン30−に溶かし、室温で30分間放置し反応せ
しめた。反応液を濃縮乾固して標題の錯体113.6m
g(m、p、 220℃分解)を定量的に得た。
(d、 J=230.6Hz)64、13 (d、
J=192.6Hz)実施例5 Rh (CO) Cj! ((+)−cPBINAP)
の合成:[Rh (COン2C1]229.(1■(0
,075ミリモル)と実施例1の■で得た(+)−cP
BINAP 88.4g (0,15ミリモル)を塩化
メチレン30−に溶かし、室温で30分間放置し反応せ
しめた。反応液を濃縮乾固して標題の錯体113.6m
g(m、p、 220℃分解)を定量的に得た。
31P−NMR(CD2Cβ2)δppm :16.6
5 (d−d、 J=123.9.36.3Hz)53
、21(d−d、 J=151゜6.36.3Hz)実
施例6 Ru2Cj! −((+) cPBINAP)z(NE
t3)の合成:[RuCf 2(COD)]、、0.0
82 g (0,289ミ リモル)、実施例1の■
で得た(+)−cPBINAP O,207g (0,
352ミリモル)、トリエチルアミン0.23g (
2,27ミリモル)及びトルエン20m1を50℃で1
時間攪拌した後、110℃で10時間反応せしめた。反
応後、溶液を室温に冷却し、約5mlに減圧濃縮し、ジ
エチルエーテル5dを加えた。生成した沈澱を濾過した
後、40℃で4時間減圧乾燥し、標題の錯体0.24g
(収率8・4%、融点測定において300℃まで加熱し
ても液化しなかった)を得た。
5 (d−d、 J=123.9.36.3Hz)53
、21(d−d、 J=151゜6.36.3Hz)実
施例6 Ru2Cj! −((+) cPBINAP)z(NE
t3)の合成:[RuCf 2(COD)]、、0.0
82 g (0,289ミ リモル)、実施例1の■
で得た(+)−cPBINAP O,207g (0,
352ミリモル)、トリエチルアミン0.23g (
2,27ミリモル)及びトルエン20m1を50℃で1
時間攪拌した後、110℃で10時間反応せしめた。反
応後、溶液を室温に冷却し、約5mlに減圧濃縮し、ジ
エチルエーテル5dを加えた。生成した沈澱を濾過した
後、40℃で4時間減圧乾燥し、標題の錯体0.24g
(収率8・4%、融点測定において300℃まで加熱し
ても液化しなかった)を得た。
”P−NMR(CD、Cu2 、)δppm46、73
(s) 51 06(s) 使用例1 (E)−2−C(4−モルホリニルカルボニル)メチル
〕桂皮酸の不斉水素化反応: 予約窒素置換を行なった100−のステンレス製オート
クレーブに、(E)−2−[(4モルホリルカルボニル
)メチル〕桂皮酸0.5 g (1,8ミIJモル)及
び実施例6で得た[Rh(COD) ((+)−cPB
INAP)]Ci O,0,0162g (0,018
ミリモル)を仕込み、水素圧5 kg / cffl
、室温の条件で20時間水素化反応を行なった。水素化
物は(R)−2−C(4−モルホリニルカルボニル)メ
チル〕−3−フェニルプロピオン酸であった。このもの
をジアゾメタンを用いてメチルエステルに導いた後、下
記条件の高速液体クロマトグラフィーにより分析した。
(s) 51 06(s) 使用例1 (E)−2−C(4−モルホリニルカルボニル)メチル
〕桂皮酸の不斉水素化反応: 予約窒素置換を行なった100−のステンレス製オート
クレーブに、(E)−2−[(4モルホリルカルボニル
)メチル〕桂皮酸0.5 g (1,8ミIJモル)及
び実施例6で得た[Rh(COD) ((+)−cPB
INAP)]Ci O,0,0162g (0,018
ミリモル)を仕込み、水素圧5 kg / cffl
、室温の条件で20時間水素化反応を行なった。水素化
物は(R)−2−C(4−モルホリニルカルボニル)メ
チル〕−3−フェニルプロピオン酸であった。このもの
をジアゾメタンを用いてメチルエステルに導いた後、下
記条件の高速液体クロマトグラフィーにより分析した。
結果は転化率77.7%、光学収率は76.4%eeで
あった。
あった。
カラム:キラルセルODφ0.46cm X 25cm
(ダイセル化学工業■製) 展開溶媒:ヘキサン:イソブ口ピルアルコール=9.1 流速=1−/分 検出波長: LIV−254nm 使用例2 ネロールの不斉水素化反応: 予め窒素置換を行った100m1のステンレス製のオー
トクレーブにネロール1.54g (10ミリモル)、
実施例4で得たRh(COD) ((+)−cPBIN
AP)Cj!0、0837g (0,1ミリモル)及び
ベンゼン10dを仕込み、水素圧30kg / crl
、室温で17時間水素化反応を行った。転化率99%、
選択率99%で(S) −(−)−シトロネロールが1
46g得られた。〔α封53865° (c=10.1
.クロロホルム)より、光学収率は70%eeであった
。
(ダイセル化学工業■製) 展開溶媒:ヘキサン:イソブ口ピルアルコール=9.1 流速=1−/分 検出波長: LIV−254nm 使用例2 ネロールの不斉水素化反応: 予め窒素置換を行った100m1のステンレス製のオー
トクレーブにネロール1.54g (10ミリモル)、
実施例4で得たRh(COD) ((+)−cPBIN
AP)Cj!0、0837g (0,1ミリモル)及び
ベンゼン10dを仕込み、水素圧30kg / crl
、室温で17時間水素化反応を行った。転化率99%、
選択率99%で(S) −(−)−シトロネロールが1
46g得られた。〔α封53865° (c=10.1
.クロロホルム)より、光学収率は70%eeであった
。
本発明に係る新規ホスフィン化合物(1)は、ロジウム
、パラジウム、ルテニウム、イリジウム、ニッケル等の
遷移金属と錯体を形成し、種々の不斉合成反応の極めて
重要な触媒となり、工業的利用価値の高いものである。
、パラジウム、ルテニウム、イリジウム、ニッケル等の
遷移金属と錯体を形成し、種々の不斉合成反応の極めて
重要な触媒となり、工業的利用価値の高いものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で表わされる2,2′−ビス(ジシクロペンチルホスフ
ィノ)−1,1′−ビナフチル。2、請求項1記載の2
,2′−ビス(ジシクロペンチルホスフィノ)−1,1
′−ビナフチルを配位子とする遷移金属錯体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184535A JPH0474192A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 2,2′―ビス(ジシクロペンチルホスフィノ)―1,1′―ビナフチル及びこれれを配位子とする遷移金属錯体 |
EP91306109A EP0466405B1 (en) | 1990-07-12 | 1991-07-04 | 2,2'-Bis(dicyclopenthylphosphino)-1-1'-binaphthyl and metal complexes thereof |
DE1991607533 DE69107533T2 (de) | 1990-07-12 | 1991-07-04 | 2,2'-Bis(dicyclopentylphosphino)-1,1'-binaphthyl und Metallkomplexe davon. |
US07/727,709 US5312939A (en) | 1990-07-12 | 1991-07-10 | 2,2'-bis (dicyclopentylphosphino)-1,1'-binaphthyl and transition metal complex using the same as ligand |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2184535A JPH0474192A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 2,2′―ビス(ジシクロペンチルホスフィノ)―1,1′―ビナフチル及びこれれを配位子とする遷移金属錯体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0474192A true JPH0474192A (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=16154901
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2184535A Pending JPH0474192A (ja) | 1990-07-12 | 1990-07-12 | 2,2′―ビス(ジシクロペンチルホスフィノ)―1,1′―ビナフチル及びこれれを配位子とする遷移金属錯体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5312939A (ja) |
EP (1) | EP0466405B1 (ja) |
JP (1) | JPH0474192A (ja) |
DE (1) | DE69107533T2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008524288A (ja) * | 2004-12-22 | 2008-07-10 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. | キラルイリジウム錯体を使用するアルケンの不斉水素化 |
JP2009051747A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nippon Chem Ind Co Ltd | ビアリールホスフィン化合物の製造方法 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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