JPH04709A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH04709A JPH04709A JP10046890A JP10046890A JPH04709A JP H04709 A JPH04709 A JP H04709A JP 10046890 A JP10046890 A JP 10046890A JP 10046890 A JP10046890 A JP 10046890A JP H04709 A JPH04709 A JP H04709A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はスパッタリング法による磁気記録媒体の製造方
法に関し、特に高い保持力を有し、安定した良質の磁気
特性を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
法に関し、特に高い保持力を有し、安定した良質の磁気
特性を有する磁気記録媒体の製造方法に関する。
（従来の技術）
近年、情報量の増大に伴い、記録密度の高い磁気記録媒
体の要望が高く、スパッタリング法による合金磁性薄膜
を有する磁気記録媒体の開発が活発である。
体の要望が高く、スパッタリング法による合金磁性薄膜
を有する磁気記録媒体の開発が活発である。
ところで、従来、スパッタリングにより磁気記録媒体を
製造する場合には、まず非磁性基板上に下地Ｃｒ層を形
成した後、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の磁性合金をスパッタリ
ングすることにより前記下地層上に磁性層を形成してい
る。スパッタリング方法にはリング状のターゲントと基
板とをその中心を一致させて配置する静止対向型のもの
と、多数の基板を収納した支持台をターゲット間を通過
させる間に磁性膜を基板上にスパツクする通過型又はイ
ンライン型といわれるものとがある。
製造する場合には、まず非磁性基板上に下地Ｃｒ層を形
成した後、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の磁性合金をスパッタリ
ングすることにより前記下地層上に磁性層を形成してい
る。スパッタリング方法にはリング状のターゲントと基
板とをその中心を一致させて配置する静止対向型のもの
と、多数の基板を収納した支持台をターゲット間を通過
させる間に磁性膜を基板上にスパツクする通過型又はイ
ンライン型といわれるものとがある。
いずれの製造法の場合でもスパッタリング条件として、
基板の温度、雰囲気圧力等が重要であり、厳密な制御が
必要とされる。特にスパッタリング時の基板の温度管理
は重要であり、その特性に及ぼす影響は大きい。
基板の温度、雰囲気圧力等が重要であり、厳密な制御が
必要とされる。特にスパッタリング時の基板の温度管理
は重要であり、その特性に及ぼす影響は大きい。
従来、その温度管理は各スパッタリング室の壁部の温度
を測定し、これを所定の温度に維持していたが、スパッ
タリング室の壁温度の管理だけでは実際の基板の温度は
必ずしも均一に所定の温度に維持することができず、安
定して良好な磁気特性を有するものが得られなかった。
を測定し、これを所定の温度に維持していたが、スパッ
タリング室の壁温度の管理だけでは実際の基板の温度は
必ずしも均一に所定の温度に維持することができず、安
定して良好な磁気特性を有するものが得られなかった。
特に連続装置において、その影響が顕著であり基板を収
納する支持台の熱容量が大きいため、基板を収納してい
る支持台の保持部を通して支持台に熱が伝導するため、
基板の温度管理が困難であった。
納する支持台の熱容量が大きいため、基板を収納してい
る支持台の保持部を通して支持台に熱が伝導するため、
基板の温度管理が困難であった。
従来、一般にインライン型製造法の場合、支持台に多数
の非磁性基板（以下、基板という）を収納して、スパッ
タリング装置内を移動させることによって、下地Ｃｒ層
、磁性層、保護層を形成して、磁気記録媒体としている
。第１図に示す保持部３は支持台と同一の材質で、一体
構造をなしているが、基板が挿入される基板装入部５で
ある溝を有し、その長さは基板の円周の１／２〜１７５
程度であ（発明が解決しようとする課題） 前述したように従来技術に於いては基板に比べ、支持台
の熱容量がきわめて大きいので、一定速度で移動しなが
らスパッタリングしていく間に支持台の温度は基板に比
較し温度があがりにくい。
の非磁性基板（以下、基板という）を収納して、スパッ
タリング装置内を移動させることによって、下地Ｃｒ層
、磁性層、保護層を形成して、磁気記録媒体としている
。第１図に示す保持部３は支持台と同一の材質で、一体
構造をなしているが、基板が挿入される基板装入部５で
ある溝を有し、その長さは基板の円周の１／２〜１７５
程度であ（発明が解決しようとする課題） 前述したように従来技術に於いては基板に比べ、支持台
の熱容量がきわめて大きいので、一定速度で移動しなが
らスパッタリングしていく間に支持台の温度は基板に比
較し温度があがりにくい。
力支持台の保持部が大きく、かつその熱伝導率が良好で
あるので基板の熱は保持部を通して支持台に伝導する。
あるので基板の熱は保持部を通して支持台に伝導する。
そのため基板の温度は低くなり、経時変化の影響をうけ
安定した品質を維持することがむずかしく、又支持台の
温度が高くなると支持台に吸着している不純物を放出す
るため、磁気特性に悪影響を及ぼすという問題があった
。
安定した品質を維持することがむずかしく、又支持台の
温度が高くなると支持台に吸着している不純物を放出す
るため、磁気特性に悪影響を及ぼすという問題があった
。
本発明はかかる問題点に鑑み、基板の保持方法、保持部
の材質及び保持部の長さについて鋭意検討した結果、な
されたものであって、基板温度を所定の温度に管理する
ことができ、保持力が高く磁気特性のすぐれた磁気記録
媒体の製造方法を提供することを目的とする。
の材質及び保持部の長さについて鋭意検討した結果、な
されたものであって、基板温度を所定の温度に管理する
ことができ、保持力が高く磁気特性のすぐれた磁気記録
媒体の製造方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
すなわち本発明は以下を要旨とするものである。
（１）支持台の保持部に保持された基板にスパッタリン
グして、磁気記録媒体を製造する方法において、該保持
部が低熱伝導性材料で構成され、その長さが非磁性基板
円周の１７２以下である支持台を用いることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
グして、磁気記録媒体を製造する方法において、該保持
部が低熱伝導性材料で構成され、その長さが非磁性基板
円周の１７２以下である支持台を用いることを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
（２）支持台の保持部に保持された基板にスパッタリン
グして、磁気記録媒体を製造する方法において、該保持
部が高熱伝導性材料で構成され、その長さが非磁性基板
円周の１７１０以下である支持台を用いることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
グして、磁気記録媒体を製造する方法において、該保持
部が高熱伝導性材料で構成され、その長さが非磁性基板
円周の１７１０以下である支持台を用いることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
以下、さらに本発明について詳しく説明する。
まず、第１の発明について説明する。
本発明に使用する支持台ｌ及びその保持部３の一例を第
１図に示す。本発明の製造方法に於いて、基板はアルミ
−ニウム合金、ガラス、セラミックスなど強度と平滑性
が出せるものを使用できる。アルミニウム合金の場合に
はＮ１−Ｐのメツキを施し、その表面をボリンシングし
、さらに磁気の配向性を促すためにテキスチャリング処
理を施す。
１図に示す。本発明の製造方法に於いて、基板はアルミ
−ニウム合金、ガラス、セラミックスなど強度と平滑性
が出せるものを使用できる。アルミニウム合金の場合に
はＮ１−Ｐのメツキを施し、その表面をボリンシングし
、さらに磁気の配向性を促すためにテキスチャリング処
理を施す。
二の基材を本発明に使用する支持台に保持して、減圧下
で基板の温度をあげて下地Ｃｒ層、磁性層、保護層をス
パッタリングによって形成する。磁性層としてはＣ０−
Ｃｒ−Ｎｉ、 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｈ，
Ｃｏ−ＣｒＺｒなどの合金とすることができる。保護層
としてはカーボンやジルコニア、窒化ケイ素などのセラ
ミックとすることができる。通常、支持台の材質として
は金属アルミ５０５２、ＳＵＳ ３０４などの金属を使
用するが、ポリイミドなどの耐熱樹脂でもよく、さらに
はアルミナ、石英ガラス、カーボランダムなどのセラミ
ックでもよい。
で基板の温度をあげて下地Ｃｒ層、磁性層、保護層をス
パッタリングによって形成する。磁性層としてはＣ０−
Ｃｒ−Ｎｉ、 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｈ，
Ｃｏ−ＣｒＺｒなどの合金とすることができる。保護層
としてはカーボンやジルコニア、窒化ケイ素などのセラ
ミックとすることができる。通常、支持台の材質として
は金属アルミ５０５２、ＳＵＳ ３０４などの金属を使
用するが、ポリイミドなどの耐熱樹脂でもよく、さらに
はアルミナ、石英ガラス、カーボランダムなどのセラミ
ックでもよい。
その保持部は低熱伝導性材料でつくられ、第３図、第４
図、第５図に示すような形状のものが使用でき、基板を
挿入できる基板装入部５を有している。この挿入部の形
状はＶ字型でも凹形でもよい。基板をロボットで挿入す
る際に挿入しやすい形状が好ましい。
図、第５図に示すような形状のものが使用でき、基板を
挿入できる基板装入部５を有している。この挿入部の形
状はＶ字型でも凹形でもよい。基板をロボットで挿入す
る際に挿入しやすい形状が好ましい。
ここでいう低熱伝導性材料とは熱伝導率が０．０１ｃａ
ｆ ７ｃｍ ・ｓｅｃ ・”Ｃ以下のものをいうが０．
００５ｃａ １． ／ ｃｍ−ｓｅｃ・°Ｃ以下であれ
ばさらに好ましい。
ｆ ７ｃｍ ・ｓｅｃ ・”Ｃ以下のものをいうが０．
００５ｃａ １． ／ ｃｍ−ｓｅｃ・°Ｃ以下であれ
ばさらに好ましい。
たとえば、マシナブルセラミ・ンク（商品名マコル：コ
ーニンググラスワークス社製）、結晶化ガラス、石英ガ
ラスなどの低熱伝導性セラミックスやポリイミドなどの
耐熱樹脂が使用できる。
ーニンググラスワークス社製）、結晶化ガラス、石英ガ
ラスなどの低熱伝導性セラミックスやポリイミドなどの
耐熱樹脂が使用できる。
このように保持部の材質として、低熱伝導性のものを使
用し、かつその保持部の長さは基板円周の１７２以下に
する。その理由は１／２をこえると基板の挿入がむずか
しくなるからである。一方、保持部の長さの下限につい
ては特に制限はなく基板の保持が可能であれば可及的に
小さ（でよいが、通常１／３００００以上、好ましくは
１／１００００以上がよい。
用し、かつその保持部の長さは基板円周の１７２以下に
する。その理由は１／２をこえると基板の挿入がむずか
しくなるからである。一方、保持部の長さの下限につい
ては特に制限はなく基板の保持が可能であれば可及的に
小さ（でよいが、通常１／３００００以上、好ましくは
１／１００００以上がよい。
１／３００００より小さいと保持部の製作がむずかしい
上に、たとえ製作できたとしても基板の保持がむずかし
い。
上に、たとえ製作できたとしても基板の保持がむずかし
い。
ここでいう保持部の長さと保持部と基板の接触部は必ず
しも一致しないが、通常、支持台の穴は必要最小限の大
きさであるのでほぼ一致すると考えてよい。又保持部は
連続していてもよいし、途中にカットを入れてもよい。
しも一致しないが、通常、支持台の穴は必要最小限の大
きさであるのでほぼ一致すると考えてよい。又保持部は
連続していてもよいし、途中にカットを入れてもよい。
第４図、第５図のように長さの極端に小さいものは複数
個とりつけて、基板の保持を安定させる。
個とりつけて、基板の保持を安定させる。
保持部は別に製作して支持台にとりつけることもできる
が、はじめから支持台と同じ材質で一体のものとして製
作し第２図のような形としてもよい。
が、はじめから支持台と同じ材質で一体のものとして製
作し第２図のような形としてもよい。
このようにして、基板を保持した支持台をスパッタリン
グにより下地Ｃｒ層、磁性層、保護層を減圧、加熱下で
順次形成してゆくが、前述したように、保持部が低熱伝
導性材料であるので基板と保持部の長さすなわち接触部
が大きくても基板から支持台への熱伝導が悪く、基板の
温度を高くかつ安定に維持することができ、良好な磁気
記録媒体が得られる。
グにより下地Ｃｒ層、磁性層、保護層を減圧、加熱下で
順次形成してゆくが、前述したように、保持部が低熱伝
導性材料であるので基板と保持部の長さすなわち接触部
が大きくても基板から支持台への熱伝導が悪く、基板の
温度を高くかつ安定に維持することができ、良好な磁気
記録媒体が得られる。
次に第２の発明について説明する。
ここでいう高熱伝導性材料とは熱伝導率が０．０１ｃａ
ｌ ／ ｃｍ −ｓｅｃ・°Ｃより、大きいものをい
う。たとえば、金属アルミニウム、ＳＯＳなどの金属材
料、アルミナ、アルミナアルミニウム、カーボランダム
などが使用できる。保持部の形状は第１の発明と同様で
あるがその接触部の長さは基板の円周のｌ／１０以下と
する。１／１０より大きいと基板から支持台への熱伝導
率が大きく、基板温度を高く、所定の温度に維持するこ
とがむずかしい。但し、保持部の下限は基板の保持が可
能であれば可及的に小さくてよいが通常１／３００００
以上好ましくは１／１００００以上がよい。又１／３０
０００より小さいと保持部の製作がむずかしい上に、た
とえ製作できたとしても基板の保持がむずかしい。この
ようにして、基板を保持した支持台をスパッタリングに
より、下地Ｃｒ層、磁性層、保護層を減圧、加熱下で順
次形成してゆくが、前述したように保持部の熱伝導率が
小さいので基板から支持台への熱伝導が悪いので基板の
温度を高く、かつ安定に維持することができ、良好な磁
気記録媒体が得られる。
ｌ ／ ｃｍ −ｓｅｃ・°Ｃより、大きいものをい
う。たとえば、金属アルミニウム、ＳＯＳなどの金属材
料、アルミナ、アルミナアルミニウム、カーボランダム
などが使用できる。保持部の形状は第１の発明と同様で
あるがその接触部の長さは基板の円周のｌ／１０以下と
する。１／１０より大きいと基板から支持台への熱伝導
率が大きく、基板温度を高く、所定の温度に維持するこ
とがむずかしい。但し、保持部の下限は基板の保持が可
能であれば可及的に小さくてよいが通常１／３００００
以上好ましくは１／１００００以上がよい。又１／３０
０００より小さいと保持部の製作がむずかしい上に、た
とえ製作できたとしても基板の保持がむずかしい。この
ようにして、基板を保持した支持台をスパッタリングに
より、下地Ｃｒ層、磁性層、保護層を減圧、加熱下で順
次形成してゆくが、前述したように保持部の熱伝導率が
小さいので基板から支持台への熱伝導が悪いので基板の
温度を高く、かつ安定に維持することができ、良好な磁
気記録媒体が得られる。
（実施例）
以下、本発明について実施例をあげて具体的に説明する
。
。
〈実施例１〜２〉〈比較例１〜２〉
Ｎ１−Ｐメツキしたアルミニウム合金基板（外径９５圓
、内径２５ａｎｎ、厚さ１．３ｍｍ）の表面を精密研摩
した後、テキスチャリング処理を施して、基板を準備し
た。
、内径２５ａｎｎ、厚さ１．３ｍｍ）の表面を精密研摩
した後、テキスチャリング処理を施して、基板を準備し
た。
一方、マシナブルセラミック（商品名：マコール：コー
ニンググラスワークス社製）ポリイミド、金属アルミニ
ウム５０５２、Ｓ［ｌ５３０４を用いて、第３図に示す
形状の保持部を作成し、第１図に示す金属アルミニウム
５０５２製支持台１の基板収納用穴部２の下部の保持部
３に固定し、各々の支持台を準備した。この保持部の長
さは基板円周の１７２の長さとした。
ニンググラスワークス社製）ポリイミド、金属アルミニ
ウム５０５２、Ｓ［ｌ５３０４を用いて、第３図に示す
形状の保持部を作成し、第１図に示す金属アルミニウム
５０５２製支持台１の基板収納用穴部２の下部の保持部
３に固定し、各々の支持台を準備した。この保持部の長
さは基板円周の１７２の長さとした。
上述したあらかしめ準備した支持台に保持部３に基板４
を第２図示すように装着した。この支持台を下地Ｃｒ層
、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉ磁性層、カーボン保護層をスパッタ
リング室に順次、半連続的に通過させ、各々所定の析出
条件下で各スパッタリング層を形成した。すなわち、磁
性膜のスパッタリングはＡｒガス圧力５ Ｘｌ０−’ｔ
ｏｒｒで約１．５分処理した。このとき、実施例１．２
では各々、基板の温度は２４７”Ｃ１２４９°Ｃであり
、その支持台の温度は２０５°Ｃ１２０３°Ｃであった
。又比較例３．４では各々、基板の温度は２１３°Ｃ１
２２７°Ｃであり、その支持台の温度は２０６’Ｃ１２
０９°Ｃであった。
を第２図示すように装着した。この支持台を下地Ｃｒ層
、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉ磁性層、カーボン保護層をスパッタ
リング室に順次、半連続的に通過させ、各々所定の析出
条件下で各スパッタリング層を形成した。すなわち、磁
性膜のスパッタリングはＡｒガス圧力５ Ｘｌ０−’ｔ
ｏｒｒで約１．５分処理した。このとき、実施例１．２
では各々、基板の温度は２４７”Ｃ１２４９°Ｃであり
、その支持台の温度は２０５°Ｃ１２０３°Ｃであった
。又比較例３．４では各々、基板の温度は２１３°Ｃ１
２２７°Ｃであり、その支持台の温度は２０６’Ｃ１２
０９°Ｃであった。
このようにして得られた磁気記録媒体の磁気特性を試料
振動型磁力計を用いて測定した。保持部の材質とスパッ
タリング時の基板の温度、支持体の温度、磁気特性の測
定値をまとめて第１表に示した。実施例１．２では基板
の温度は高く、高い保持力の磁気記録媒体が得られた。
振動型磁力計を用いて測定した。保持部の材質とスパッ
タリング時の基板の温度、支持体の温度、磁気特性の測
定値をまとめて第１表に示した。実施例１．２では基板
の温度は高く、高い保持力の磁気記録媒体が得られた。
〈実施例３〜６〉〈比較例３〜６〉
実施例１〜２と同様の処理を施して、基板を準備した。
一方、金属アルミニウム５０５２、アルミナを用いて第
３図に示す形状で保持部の長さが基板の円周の１７１０
を有する支持台を準備した（実施例３．５）。又第４図
に示す形状を有し、保持部の長さが０．５ ａｍである
保持用治具を支持台の穴の下方に第６図に示すように３
ケ所（保持部の長さは基板の円周の１／２００）に設置
し保持部とした支持台を準備した（実施例４，６）
この場合、第６図に示すように保持具固定部を支持台に
固定し基板を基板装入部に設置した。
３図に示す形状で保持部の長さが基板の円周の１７１０
を有する支持台を準備した（実施例３．５）。又第４図
に示す形状を有し、保持部の長さが０．５ ａｍである
保持用治具を支持台の穴の下方に第６図に示すように３
ケ所（保持部の長さは基板の円周の１／２００）に設置
し保持部とした支持台を準備した（実施例４，６）
この場合、第６図に示すように保持具固定部を支持台に
固定し基板を基板装入部に設置した。
同様に比較例３〜４として、金属アルミニウム５０５２
で保持部の長さを基板の円周の１／８．１１５とした支
持台、又比較例５〜６としてアルミナで保持部の長さを
基板の円周の１／８．１１５とした支持台を準備した。
で保持部の長さを基板の円周の１／８．１１５とした支
持台、又比較例５〜６としてアルミナで保持部の長さを
基板の円周の１／８．１１５とした支持台を準備した。
各々の支持台を実施例１〜２と同様、下地Ｃｒ層、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｎｉ磁性層、カーボン保護層をスパッタリング
するスパッタリング室に順次、半連続的に通過させ、各
々の条件下で各スパッタリングを行い、各膜を形成した
。磁性膜のスパッタリングは什ガス圧力５ｍ ｔｏｒｒ
で約１．５分行った。実施例３〜６ではそのときの基板
温度は２３６°Ｃ〜２４１°Ｃ１支持台の温度は１８３
°Ｃ〜１９５°Ｃであった。又比較例３〜６では基板温
度は２１０°Ｃ〜２３０°Ｃ１支持台の温度は１８３’
Ｃ〜１９５°Ｃであった。このようにして得られた磁気
記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力計を用いて測定し
た。保持部の材質とスパッタリング時の基板の温度、支
持体の温度、磁気特性の測定値をまとめて第２表に示し
た。実施例３〜６では非磁性基板の温度は高く、高い保
持力の磁気記録媒体が得られた。
−Ｃｒ−Ｎｉ磁性層、カーボン保護層をスパッタリング
するスパッタリング室に順次、半連続的に通過させ、各
々の条件下で各スパッタリングを行い、各膜を形成した
。磁性膜のスパッタリングは什ガス圧力５ｍ ｔｏｒｒ
で約１．５分行った。実施例３〜６ではそのときの基板
温度は２３６°Ｃ〜２４１°Ｃ１支持台の温度は１８３
°Ｃ〜１９５°Ｃであった。又比較例３〜６では基板温
度は２１０°Ｃ〜２３０°Ｃ１支持台の温度は１８３’
Ｃ〜１９５°Ｃであった。このようにして得られた磁気
記録媒体の磁気特性を試料振動型磁力計を用いて測定し
た。保持部の材質とスパッタリング時の基板の温度、支
持体の温度、磁気特性の測定値をまとめて第２表に示し
た。実施例３〜６では非磁性基板の温度は高く、高い保
持力の磁気記録媒体が得られた。
第２図
＃ＡＩ図
第３図
（発明の効果）
本発明によれば、磁気記録媒体をスパッタリング法で作
成する方法において、非磁性基板の保持部からの熱伝導
を極力少くすることにより基板の温度を高く、安定に維
持することができるので高い保持力を有する良質の磁気
記録媒体を安定して製造することができる。
成する方法において、非磁性基板の保持部からの熱伝導
を極力少くすることにより基板の温度を高く、安定に維
持することができるので高い保持力を有する良質の磁気
記録媒体を安定して製造することができる。
第１図は本発明に使用する支持台の構造を示す模式図、
第２図はその穴部の拡大図、第３図は保持部−例の斜視
図、第４図は保持部の一例の斜視図、第５図は保持部の
一例の斜視図、第６図は保持部の巾のせまい治具（第４
図、第５図）を用いたときの基板の設置方法を示す図で
ある。 １：支持台、２：穴、３：保持部、 ４：基板、５：基板装入部、６：保持部固定部特許出願
人 電気化学工業株式会社 第４図 第５図 第６図
第２図はその穴部の拡大図、第３図は保持部−例の斜視
図、第４図は保持部の一例の斜視図、第５図は保持部の
一例の斜視図、第６図は保持部の巾のせまい治具（第４
図、第５図）を用いたときの基板の設置方法を示す図で
ある。 １：支持台、２：穴、３：保持部、 ４：基板、５：基板装入部、６：保持部固定部特許出願
人 電気化学工業株式会社 第４図 第５図 第６図
Claims (2)
- （１）支持台の保持部に保持された非磁性基板にスパッ
タリングして、磁気記録媒体を製造する方法において、
該保持部が低熱伝導性材料で構成され、その長さが該非
磁性基板円周の１／２以下である支持台を用いることを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - （２）支持台の保持部に保持された非磁性基板にスパッ
タリングして、磁気記録媒体を製造する方法において、
該保持部が高熱伝導性材料で構成され、その長さが該非
磁性基板円周の１／１０以下である支持台を用いること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10046890A JP2929662B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10046890A JP2929662B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04709A true JPH04709A (ja) | 1992-01-06 |
| JP2929662B2 JP2929662B2 (ja) | 1999-08-03 |
Family
ID=14274743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10046890A Expired - Fee Related JP2929662B2 (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2929662B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009043324A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Toshiba Corp | 複製スタンパ、その製造方法、そのスタンパを用いて製造された磁気記録媒体が搭載される磁気記録装置、およびそのスタンパを用いて製造された光ディスク |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10046890A patent/JP2929662B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009043324A (ja) * | 2007-08-08 | 2009-02-26 | Toshiba Corp | 複製スタンパ、その製造方法、そのスタンパを用いて製造された磁気記録媒体が搭載される磁気記録装置、およびそのスタンパを用いて製造された光ディスク |
| JP4653787B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2011-03-16 | 株式会社東芝 | 複製スタンパおよびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2929662B2 (ja) | 1999-08-03 |
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