JPH046851A - マスクパターンの基準寸法確認方法 - Google Patents

マスクパターンの基準寸法確認方法

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JPH046851A
JPH046851A JP2108362A JP10836290A JPH046851A JP H046851 A JPH046851 A JP H046851A JP 2108362 A JP2108362 A JP 2108362A JP 10836290 A JP10836290 A JP 10836290A JP H046851 A JPH046851 A JP H046851A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
data
error
mask pattern
error data
original
Prior art date
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Pending
Application number
JP2108362A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinori Endo
遠藤 喜則
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP2108362A priority Critical patent/JPH046851A/ja
Publication of JPH046851A publication Critical patent/JPH046851A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、集積回路設計のマスクパターンの確認処理(
Design Ru1e Check)に関し、特にD
esignRule Checkで発生するエラーデー
タの真のエラーと擬似的なエラーとを区別する確認方法
に関する。
〔従来の技術〕
Design Ru1e Checkを実行する為の処
理の流れは、第4図で示す様にマスクデータ作画装置よ
り出力されたオリジナルデータをDesign Ru1
e Checkに入力し、その結果として出力されるエ
ラーデータを図面やマスクデータ作画装置の画面で確認
するという方法を行なっているが、従来、この結果とし
て出力されるエラーデータには、オリジナル特有のエラ
ーデータ(真のエラー)と、既にチェック済で問題の無
いエラーデータ(擬似エラー)とが混在したものとなっ
ていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のマスクパターンの基準寸法確認方法では
Design Ru1e Check結果のエラーデー
タが、真のエラーと擬似エラーとが混在したものとなっ
ているので、この混在したエラーデータを人手によって
判別し、真のエラーのみを確認するといった方法をとっ
ていた。この為、真のエラーと擬似エラーとの判別を間
違えて、真のエラーを見のがしてしまうという欠点や、
圧力されるエラーデータの量が多い為に、エラー発生の
原因となった部分を見つけ出す事が出来ないという欠点
があった。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、マスクパターンにおける各々の図形の内部寸
法、外部寸法が基準の寸法以上あるかを確認する処理(
Design Ru1e Check)において、あら
かじめ設計済の旧マスクパターンで発生したエラーデー
タを登録するステップと、必要データの入力ステップ、
共通セルエラーデータと照合するステップ、エラーデー
タで構成されたマスクパターンを作成するステップの3
つのステップで構成されたマスクパターンデータの幅付
けを行なうステップ、オリジナルデータの基準寸法チェ
ック後のエラーデータに対する幅付けを行なうステップ
、論理演算を行なうステップの3つのステップで構成さ
れるオリジナルのDesign Ru1e Check
結果の中から、確認済のエラーの差し引きを行なうステ
ップを有する。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第6図は、擬似エラー発生原因の大部分である、45度
単位でおり曲った線分について説明した図面である。X
、Y軸に各々平行な線分5は、一定の格子11を必ず通
過する様に引かれており、常に間隔8は一定となる。し
かし、45度に曲った線分7が間隔8と同一間隔1oを
保持する場合、45度に曲った線分7は格子11の上を
通過出来ない為、45度に曲った線分7は最も近い格子
に平行移動し、線分6の位置に置かれる。これにより、
線分60間隔は、間隔8と同一な間隔1oの寸法にはな
らず、間隔1oの寸法とは一致しない、間隔9の寸法と
なる。この間隔10の寸法と、間隔9の寸法との差は微
少な誤差であるが、絶対値で指定される基準寸法とは一
致しない為、擬似エラーとして出力される。この擬似エ
ラーについて、設計直後は全て確認しなければならない
が、1度確認してしまえば、2度目以降は確認せずとも
済むものである。そこで、共通に利用する図形データの
集まり(セルと呼ぶ)で擬似エラー確認法のデータをフ
ンピユータの補助記憶装置に登録し登録されたエラーデ
ータを使って、オリジナルのDesign Ru1e 
Checkzラーから確認済の擬似エラーを取り除く。
この作業を説明したのが、第1図のシステムフローであ
る。
マスクパターン作画装置で作成された、擬似エラーが確
認済の共通セルデータをDesign Ru1eChe
ckに入力し、発生した全てのエラーをコンピュータの
補助記憶装置に登録する。この登録された共通セルのエ
ラーデータに対し、個々に作成されたオリジナルデータ
の座標データをもとにデータの入れ替えを行なう。この
処理を行なう為のプログラムが、第2図のフローチャー
トである。
このプロクラムは3つの部分に大キく分かレテおり、必
要データの入力ステップ、共通セルエラーデータと照合
するステップ、エラーデータで構成すしたマスクパター
ンを作成するステップがある。
必要データの入力ステップでは、補助記憶装置に登録さ
れた共通セルのエラーデータを作業用のファイルに読み
込む。次に読み込まれたデータの中から、セル単位で検
索し、セル名(セルに付けられた独自の名前)のみを抽
出する。
次に、共通セルエラーデータと照合するステップでは、
オリジナルデータを先頭がら読み込み、読み込まれたデ
ータがセルのデータが否かを判定する。ここでセルのデ
ータでないと判定された場合には、次のオリジナルデー
タを読み込みに行き、セルデータと判定された場合には
、オリジナルセルノセル名ヲ見て、既に検索された共通
セルのエラーデータのセル名と比較する。比較時に同一
のセル名が存在しない場合には、次のオリジナルデータ
を読込みに行く。エラーデータで構成されたマスクパタ
ーンの作成ステップでは、オリジナルデータの中からセ
ルの原点座標と、セルが配置された時に回転して配置さ
れた時に発生する回転角度の2つのデータを抽出する。
次に抽出された原点座標と回転角度を同一のセル名をも
つ共通セルのエラーデータ中のセルデータに代入する。
代入されたセルデータは、新しいファイルに蓄積され、
オリジナルデータの同じ位置に共通セルのエラーデータ
が配置される。この処理をオリジナルデータの終わりま
で続ける。
次に、オリジナルデータのDesign Ru1e C
heck結果の中から確認済のエラーの差し引きを行な
う。この処理を行なう為のプログラムが第3図のフロー
チャートである。本プログラムは始めに、線分に対する
幅付は寸法を設定する。これは差し引き可能となる図形
は幅を持つ図形が対象となる為、Design Ru1
e Checkで出力される線分を幅を持つ図形に変更
する為に用いられる。
次に、第2図のプログラムで作成された、共通セルのエ
ラーデータで構成されたマスクパターンデータを読込む
。読込まれたデータは、幅の有るデータか、幅の無いデ
ータかの判定が行なわれる。
この場合、幅の有るデータと、幅の無いデータとでは、
図形を構成する座標の格納方法が異なる為、この違いを
もって判定する。判定時に幅の有るデータの場合は、次
のデータを読込みにゆくが、幅の無いデータと判定され
た場合は、線分データの頂点座標を抽出する。次に抽出
された座標データの前に、幅付は寸法を付加する。次に
線分データ時は幅の無いデータとしてのフラグが設定さ
れている為、幅の有るデータとしてのフラグに変更し、
線分データが格納されていた領域に変更後のデータと入
れ替える。この処理をエラーデータで構成されたマスク
パターンデータが終了するまで繰り返し処理される。次
に、オリジナルデータに対し、基準寸法チェックされた
後のエラーデータを読込む。読込まれたデータは、幅の
有るデータか、幅の無いデータかの判定が行なわれる。
判定時に幅の有るデータの場合は、次のデータを読込み
にゆくが、幅の無いデータと判定された場合は、線分デ
ータの頂点座標を抽出する。次に抽出された座標データ
の前に、幅付は寸法を付加する。次に線分データ時は幅
の無いデータのフラグが設定されている為、幅の有るデ
ータとしてのフラグに変更し、線分データが格納されて
いた領域に変更後のデータと入れ替える。この処理をオ
リジナルデータに対し、基準寸法チェックされた後のエ
ラーデータが終了するまで繰り返し処理される。
次に上述で幅付は処理された2つのデータ間で図形同志
が論理演算処理される。この論理演算の中では、幅付け
されたオリジナルデータのエラーデータから、幅付けさ
れたエラーデータで構成されたマスクパターンデータを
差し弓く。この処理により、既に確認済のエラーデータ
は全て除かれ、オリジナルデータ特有のエラーデータの
みが抽出される。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、オリジナルデータに対し
、基準寸法チェックされた後のエラーデータから、既に
確認済のエラーデータを差し引き処理することにより、
処理結果として出力されるエラーデータには、セルとセ
ルとを結ぶ配線図形のエラーと、セルとセルとの重ね合
わせに関スるエラーと、新規に作成したセルのエラーの
みとなる為、擬似エラーで発生する確認済のエラーとの
判別は全く不用となり、判別の為に要していた確認時間
は不用とする事ができる効果がある。
第2点として、確認済のエラーが全く出力されない事に
より、本来確認しなければならないエラーを見のがす事
が無いという効果がある。
第3点として、出力されるエラーデータの数が削減され
た為に、エラー箇所の検索が速く出来る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のシステムフローチャートで
ある。第2図は、共通セルのエラーデータで構成された
マスクパターンを作成する一実施例のフローチャートで
ある。第3図は、オリジナルデータの基準寸法エラーデ
ータから、既に確認法の共通セルエラーデータで構成さ
れたマスクパターンを差し引く処理の一実施例のフロー
チャートである。第4図は、従来行なっていたマスクパ
ターンにおける基準寸法確認方法の一実施例のシステム
フローチャートである。第5図はX、Y軸に各々平行な
図形と45度に曲った図形に対してDesign Ru
1e Checkを実旅した時の入力図形とその出力結
果である。 1・・・・・・マスクパターンの図形、2・・・・・・
垂直・水平方向のチェック間隔、3・・・・・・45度
方向のチェック間隔、4−−−・Design Ru1
e Check後のエラー出力図形であり、基準寸法と
しては2のチェック間隔を指定した場合である。尚、マ
スクパターン作画装置では、2の間隔と、3の間隔寸法
は同じ値で指定したものとする。 第6図は、垂直・水平方向の図形間隔と、45度に曲り
だ図形間隔の不一致を表わした一例である。 5・・・・・・垂直・水平方向の図形、6・・・・・・
45度に曲った時の図形、7・・・・・・45度に曲っ
た時に垂直・水平方向時の間隔を守った時の図形、8・
・・・・・垂直・水平方向の図形間隔、9・・・・・・
45度に曲りだ時の図形間隔、lO・・・・・・45度
に曲った時に垂直・水平方向時の間隔、11・・印・X
−Y方向に一律の間隔で設定された格子。 代理人 弁理士  内 原   晋 循 図 ト 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  マスクパターンにおける各々の図形の内部寸法、外部
    寸法が基準の寸法以上あるかを確認する処理において、
    あらかじめ、設計済の旧マスクパターンで発生したエラ
    ーデータを登録するステップと、必要データの入力ステ
    ップ、共通セルエラーデータと照合するステップ、エラ
    ーデータで構成されたマスク・パターンを作成するステ
    ップの3ステップで構成される登録データの入れ替えス
    テップと、エラーデータで構成されたマスクパターンデ
    ータの幅付けを行なうステップ、オリジナル・データの
    基準寸法チェック後のエラーデータに対する幅付けを行
    なうステップ、論理演算を行なうステップの3ステップ
    で構成されるオリジナルの確認結果の中から、確認済の
    エラーの差し引きを行なうステップを有することを特徴
    とするマスクパターンの基準寸法確認方法。
JP2108362A 1990-04-24 1990-04-24 マスクパターンの基準寸法確認方法 Pending JPH046851A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7047538B2 (en) 2000-11-17 2006-05-16 Sony Corporation Recording and/or reproducing device for disk
JP2006227407A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Toshiba Microelectronics Corp マスク製造システム及びマスクパターン補正方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63119244A (ja) * 1986-11-06 1988-05-23 Nec Corp Icレイアウト設計システム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63119244A (ja) * 1986-11-06 1988-05-23 Nec Corp Icレイアウト設計システム

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7047538B2 (en) 2000-11-17 2006-05-16 Sony Corporation Recording and/or reproducing device for disk
JP2006227407A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Toshiba Microelectronics Corp マスク製造システム及びマスクパターン補正方法
JP4653515B2 (ja) * 2005-02-18 2011-03-16 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 マスク製造システム及びマスクパターン補正方法

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