JPH0466604A - 金属フレークとその製造方法 - Google Patents
金属フレークとその製造方法Info
- Publication number
- JPH0466604A JPH0466604A JP2178421A JP17842190A JPH0466604A JP H0466604 A JPH0466604 A JP H0466604A JP 2178421 A JP2178421 A JP 2178421A JP 17842190 A JP17842190 A JP 17842190A JP H0466604 A JPH0466604 A JP H0466604A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- film
- metallic
- basis plate
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 39
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 abstract description 2
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 abstract 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical compound C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N ethoxide Chemical compound CC[O-] HHFAWKCIHAUFRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- CRNJBCMSTRNIOX-UHFFFAOYSA-N methanolate silicon(4+) Chemical compound [Si+4].[O-]C.[O-]C.[O-]C.[O-]C CRNJBCMSTRNIOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate Chemical compound CCC[O-] IKNCGYCHMGNBCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 propatool Chemical compound 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、耐久性の高い金属フレーク、特に有機金属化
合物を含む溶液を出発原料とし、簡単かつ効率よく金属
フレークを製造する技術を提供するものである。
合物を含む溶液を出発原料とし、簡単かつ効率よく金属
フレークを製造する技術を提供するものである。
現在、金属フレークは主として装飾用充填材、耐食ライ
ニングあるいは塗料に使用されている。 このような金属フレークは、金属を圧延して製造されて
いる。産業の発展に伴い、より薄くかつ耐久性に優れた
金属フレークが求められている。 しかしながら、元来金属は酸化される傾向にあり、特に
、フレークのように単位表面積が大きな状態では、その
傾向が著しく、製品としての寿命が短くその耐久性の向
上が求められている。このような金属フレークの耐久性
を向上させる手段として、金属フレークを、無機物質が
生成するような溶液に浸漬し、表面を無機質で覆う方法
が知られている。
ニングあるいは塗料に使用されている。 このような金属フレークは、金属を圧延して製造されて
いる。産業の発展に伴い、より薄くかつ耐久性に優れた
金属フレークが求められている。 しかしながら、元来金属は酸化される傾向にあり、特に
、フレークのように単位表面積が大きな状態では、その
傾向が著しく、製品としての寿命が短くその耐久性の向
上が求められている。このような金属フレークの耐久性
を向上させる手段として、金属フレークを、無機物質が
生成するような溶液に浸漬し、表面を無機質で覆う方法
が知られている。
しかし、この方法は、■無機質層の厚さが一定になりに
くい、■金属フレークが積層した状態でコートされる可
能性がある、等の欠点がある。 本発明は上記の従来技術に鑑み、耐久性の高い金属フレ
ークを、簡単かつ効率的に製造することのできる方法を
提供するものである。
くい、■金属フレークが積層した状態でコートされる可
能性がある、等の欠点がある。 本発明は上記の従来技術に鑑み、耐久性の高い金属フレ
ークを、簡単かつ効率的に製造することのできる方法を
提供するものである。
本課題を解決するため、本発明では、有機金属化合物を
含む溶液を出発原料とした層で、金属層を挟み込んだ積
層構造を、基板上に作製し、これを剥離、焼結して金属
フレークとするものである。この方法により、従来技術
と比較して、耐久性の高い金属フレークを、簡単かつ効
率的に量産できる。 本発明に用いる有機金属化合物は、加水分解、脱水縮合
を行なうものであれば基本的にはどんな化合物でもよい
が、アルコキシル基を有する金属アルコキシドが好まし
い。更に具体的には、シリコン、チタン、アルミニウム
、ジルコニウム等のメトキシド、エトキシド、プロポキ
シド、ブトキシド等が、単体あるいは混合体として用い
られる。 上記有機金属化合物を含む溶液の溶媒は、実
質的に上記有機金属化合物を溶解すれば基本的に何でも
よいが、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール等のアルコール類が最も好ましい。 上記有機金属化合物の加水分解には水分が必要である。 これは、酸性、塩基性の何れでもよいが、加水分解を促
進するためには、塩酸、硝酸、硫酸等で酸性にした水を
用いるのが好ましい。 その他、上記液体の特性を変化させるために、有機増粘
剤等を添加してもよい。しかし、この添加量が多いと最
終段階の加熱で炭化することかあるので、10%以下に
しておくべきである。 本発明で使用する基板は金属、ガラスあるいはプラスチ
ックなどの材質で、表面が平滑なものを用いる。このよ
うな基板に、上記有機金属化合物を含む液体を塗布し、
薄い膜とする。この膜が乾燥すると収縮するが、基板は
収縮しないので、膜に亀裂が発生し、フレーク状となる
。基板と膜との剥離が起こるためには、基板と膜との間
の結合ができない状態が好ましい。 上記基板に膜を形成する技術は、公知の技術を用いれば
よく、例えば、上記有機金属化合物を含む溶液に基板を
浸漬した後引き上げる方法や、基板上に上記溶液を滴下
し、基板を高速で回転させる方法などが用いられる。 本発明で製造される金属フレークの厚さは、金属膜自身
の厚さ、有機金属を含む溶液の特性あるいは製膜時の条
件によって変化するが、概ね5ミクロンから 0.05
ミクロンの間である。ただし、中心部になる金属の厚さ
が余りにも厚いと、金属層自身の強度が高くなりすぎ、
乾燥中にうまく均一にフレーク状に剥離しない。金属の
種類にもよるが、金属の厚さは好ましくは0.01ミク
ロンから2ミクロンである。そして金属フレークの寸法
は、縦横がそれぞれ5mm以下のものが得られる。この
金属膜は、例えば鍍金、蒸着等の、通常の金属膜作製技
術により、金、銀、白金、銅、ニッケル、クロムなどの
膜が作製される。この金属膜の組成は、その製膜方法に
よって限定される場合があるが、基本的にはどんな組成
でも可能である。 本発明で製造される金属フレークの両表面に被覆される
ガラス層の各々の厚さは、概ね2ミクロンから0.02
ミクロンの間である。ガラス層の厚さが0.02ミクロ
ンよりも小さいと、充分な耐久性か得られない。 焼結に関しては、その方法に特に制限はない。 焼結温度および時間は、金属が酸化せず、ゲルからガラ
スへの転移を考慮して決定することが望ましい。使用す
る目的によっては、乾燥後の焼結を行わなくてもよい場
合がある。
含む溶液を出発原料とした層で、金属層を挟み込んだ積
層構造を、基板上に作製し、これを剥離、焼結して金属
フレークとするものである。この方法により、従来技術
と比較して、耐久性の高い金属フレークを、簡単かつ効
率的に量産できる。 本発明に用いる有機金属化合物は、加水分解、脱水縮合
を行なうものであれば基本的にはどんな化合物でもよい
が、アルコキシル基を有する金属アルコキシドが好まし
い。更に具体的には、シリコン、チタン、アルミニウム
、ジルコニウム等のメトキシド、エトキシド、プロポキ
シド、ブトキシド等が、単体あるいは混合体として用い
られる。 上記有機金属化合物を含む溶液の溶媒は、実
質的に上記有機金属化合物を溶解すれば基本的に何でも
よいが、メタノール、エタノール、プロパツール、ブタ
ノール等のアルコール類が最も好ましい。 上記有機金属化合物の加水分解には水分が必要である。 これは、酸性、塩基性の何れでもよいが、加水分解を促
進するためには、塩酸、硝酸、硫酸等で酸性にした水を
用いるのが好ましい。 その他、上記液体の特性を変化させるために、有機増粘
剤等を添加してもよい。しかし、この添加量が多いと最
終段階の加熱で炭化することかあるので、10%以下に
しておくべきである。 本発明で使用する基板は金属、ガラスあるいはプラスチ
ックなどの材質で、表面が平滑なものを用いる。このよ
うな基板に、上記有機金属化合物を含む液体を塗布し、
薄い膜とする。この膜が乾燥すると収縮するが、基板は
収縮しないので、膜に亀裂が発生し、フレーク状となる
。基板と膜との剥離が起こるためには、基板と膜との間
の結合ができない状態が好ましい。 上記基板に膜を形成する技術は、公知の技術を用いれば
よく、例えば、上記有機金属化合物を含む溶液に基板を
浸漬した後引き上げる方法や、基板上に上記溶液を滴下
し、基板を高速で回転させる方法などが用いられる。 本発明で製造される金属フレークの厚さは、金属膜自身
の厚さ、有機金属を含む溶液の特性あるいは製膜時の条
件によって変化するが、概ね5ミクロンから 0.05
ミクロンの間である。ただし、中心部になる金属の厚さ
が余りにも厚いと、金属層自身の強度が高くなりすぎ、
乾燥中にうまく均一にフレーク状に剥離しない。金属の
種類にもよるが、金属の厚さは好ましくは0.01ミク
ロンから2ミクロンである。そして金属フレークの寸法
は、縦横がそれぞれ5mm以下のものが得られる。この
金属膜は、例えば鍍金、蒸着等の、通常の金属膜作製技
術により、金、銀、白金、銅、ニッケル、クロムなどの
膜が作製される。この金属膜の組成は、その製膜方法に
よって限定される場合があるが、基本的にはどんな組成
でも可能である。 本発明で製造される金属フレークの両表面に被覆される
ガラス層の各々の厚さは、概ね2ミクロンから0.02
ミクロンの間である。ガラス層の厚さが0.02ミクロ
ンよりも小さいと、充分な耐久性か得られない。 焼結に関しては、その方法に特に制限はない。 焼結温度および時間は、金属が酸化せず、ゲルからガラ
スへの転移を考慮して決定することが望ましい。使用す
る目的によっては、乾燥後の焼結を行わなくてもよい場
合がある。
本発明によれば、耐久性の高い金属フレークが容易に製
造できる。また、耐久性に乏しく、従来製造できなかっ
た種類の金属フレークの製造も可能となる。 以下に実施例を示す。 実施例−1 市販のシリコンテトラメトキシド1ooIn1、エタノ
ール10100Oを混合し、これに0. 1規定の塩酸
50m1を徐々に滴下した。この液をA液とする。表面
を研磨して平滑にした、200mX20cmで厚さ1ミ
リのステンレス板をA液に浸漬し、 20 am/mi
nで垂直に引き上げて薄膜を形成し、大気中に放置して
10分間乾燥した。次に、これを市販の全鍍金液(高純
度化学製、K−24N)に浸漬し、金の製膜を行った。 これを純水で洗浄後、室温で30分間乾燥した。更に、
これを再度A液に浸漬し、同様の条件で第3層を製膜し
た。こうして得た、3層構造の膜を、ステンレス基板ご
と 80℃の乾燥器に入れ、 1時間乾燥した。この乾
燥で、ゲル膜は3層が一体となって基板から剥離し、フ
レーク状となった。これを400℃で1時間焼結した。 電子顕微鏡でこれを観察したところ、このフレークは膜
厚が約09ミクロンのガラス被覆金フレークであった。 また、ESCAによる厚さ方向の組成分析から、A液に
より得られた第1層および第3層のシリカ組成の層は、
それぞれ約0.4ミクロンであり、中間の全鍍金層は約
0.1ミクロンであることが判明した。 実施例−2 市販の硝酸銀50gを水10100Oに溶解した溶液を
用意した。これをC液とする。実施例−1のA液を用い
て、実施例−1と同様の条件で、3層mガラス基板上に
製膜した後、このガラス基板にC液をスプレーした。こ
の時、製膜されたのは酸化銀であった。更に、A液をス
プレーし、全体を80℃で乾燥した。1時間後、このゲ
ル膜は3層か一体となって剥離していた。これをアルミ
ナ坩堝に入れ、水素雰囲気400℃で30分処理後、昇
温して700℃で1時間処理した。 得られたフレークをESCAで組成分析した結果、A液
により得られた第1層および第3層は、それぞれ約0.
4ミクロンのシリカ層であり、中間層は約0.1ミクロ
ンの銀の金属であることが判明した。
造できる。また、耐久性に乏しく、従来製造できなかっ
た種類の金属フレークの製造も可能となる。 以下に実施例を示す。 実施例−1 市販のシリコンテトラメトキシド1ooIn1、エタノ
ール10100Oを混合し、これに0. 1規定の塩酸
50m1を徐々に滴下した。この液をA液とする。表面
を研磨して平滑にした、200mX20cmで厚さ1ミ
リのステンレス板をA液に浸漬し、 20 am/mi
nで垂直に引き上げて薄膜を形成し、大気中に放置して
10分間乾燥した。次に、これを市販の全鍍金液(高純
度化学製、K−24N)に浸漬し、金の製膜を行った。 これを純水で洗浄後、室温で30分間乾燥した。更に、
これを再度A液に浸漬し、同様の条件で第3層を製膜し
た。こうして得た、3層構造の膜を、ステンレス基板ご
と 80℃の乾燥器に入れ、 1時間乾燥した。この乾
燥で、ゲル膜は3層が一体となって基板から剥離し、フ
レーク状となった。これを400℃で1時間焼結した。 電子顕微鏡でこれを観察したところ、このフレークは膜
厚が約09ミクロンのガラス被覆金フレークであった。 また、ESCAによる厚さ方向の組成分析から、A液に
より得られた第1層および第3層のシリカ組成の層は、
それぞれ約0.4ミクロンであり、中間の全鍍金層は約
0.1ミクロンであることが判明した。 実施例−2 市販の硝酸銀50gを水10100Oに溶解した溶液を
用意した。これをC液とする。実施例−1のA液を用い
て、実施例−1と同様の条件で、3層mガラス基板上に
製膜した後、このガラス基板にC液をスプレーした。こ
の時、製膜されたのは酸化銀であった。更に、A液をス
プレーし、全体を80℃で乾燥した。1時間後、このゲ
ル膜は3層か一体となって剥離していた。これをアルミ
ナ坩堝に入れ、水素雰囲気400℃で30分処理後、昇
温して700℃で1時間処理した。 得られたフレークをESCAで組成分析した結果、A液
により得られた第1層および第3層は、それぞれ約0.
4ミクロンのシリカ層であり、中間層は約0.1ミクロ
ンの銀の金属であることが判明した。
本発明によれば、耐久性に優れた金属フレークが、簡単
かつ効率的に製造できる。
かつ効率的に製造できる。
Claims (2)
- (1)両表面がガラス質の層で被覆され、0.05μm
〜5μmの全厚さを有する金属フレーク。 - (2)有機金属化合物を含む溶液を表面が平滑な基板上
に塗布し、これを乾燥した後その上に金属の層を形成し
、更にその上に、有機金属化合物を含む溶液を塗布し、
それを焼結することを特徴とする両表面がガラス質の層
で被覆された金属フレークの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2178421A JPH0466604A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 金属フレークとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2178421A JPH0466604A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 金属フレークとその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0466604A true JPH0466604A (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=16048209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2178421A Pending JPH0466604A (ja) | 1990-07-05 | 1990-07-05 | 金属フレークとその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0466604A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06198610A (ja) * | 1993-01-08 | 1994-07-19 | Yamaha Corp | 木質繊維材の製法 |
JP2014222654A (ja) * | 2008-08-25 | 2014-11-27 | インクテック カンパニー リミテッド | 金属薄片の製造方法 |
-
1990
- 1990-07-05 JP JP2178421A patent/JPH0466604A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06198610A (ja) * | 1993-01-08 | 1994-07-19 | Yamaha Corp | 木質繊維材の製法 |
JP2014222654A (ja) * | 2008-08-25 | 2014-11-27 | インクテック カンパニー リミテッド | 金属薄片の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100563799C (zh) | 一种多孔不锈钢—陶瓷复合膜的制备工艺 | |
Masuda et al. | Selective deposition and micropatterning of titanium dioxide on self-assembled monolayers from a gas phase | |
KR830005067A (ko) | 영구적인 세라믹 열차단피막을 가진 금속제품 제조방법 | |
Yu et al. | Influence of embedded particles on microstructure, corrosion resistance and thermal conductivity of CuO/SiO2 and NiO/SiO2 nanocomposite coatings | |
JPH0466604A (ja) | 金属フレークとその製造方法 | |
CN115985580B (zh) | 银纳米线透明导电薄膜及其制备方法和应用 | |
CN116334554A (zh) | 一种铂电阻温度传感器芯片的生产工艺 | |
JPS6358706A (ja) | 電気皮膜 | |
JPS62216979A (ja) | ガラス層を有する窒化アルミニウム焼結体並びにその製造方法 | |
JPS63256460A (ja) | サ−マルヘツド用基板およびその製造方法 | |
CN115819118B (zh) | 抗氧化涂层和含有抗氧化涂层的石墨模具及其制备方法 | |
CN104834134B (zh) | 一种电致变色玻璃 | |
JPH04139005A (ja) | 無機化合物薄膜の製造方法 | |
JPH0477326A (ja) | フレーク状ガラスとその製造方法 | |
CN1287418C (zh) | 一种金刚石涂层Al2O3电子陶瓷基片制备方法 | |
JPH05151829A (ja) | 無機材料被覆部材 | |
JPH03285838A (ja) | フレーク状ガラスの製造方法 | |
JPH0492832A (ja) | 微粒子分散フレーク状ガラスとその製造方法 | |
JPH0437622A (ja) | フレーク状ガラスの製造方法 | |
CN112225467A (zh) | 一种超光滑氧化铝薄膜的制备方法 | |
JPS5948865B2 (ja) | 金属表面の多色着色法 | |
JPWO2023089804A5 (ja) | ||
JPH04295023A (ja) | フレーク状ガラスの製造装置 | |
JPH0238964A (ja) | 薄膜酸素センサの製造方法 | |
JPS5978491A (ja) | 薄膜elの製造方法 |