JPH0463819A - アクリル酸エステル系ブロック共重合体 - Google Patents
アクリル酸エステル系ブロック共重合体Info
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- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 9
- -1 Acrylic ester Chemical class 0.000 title abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 7
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 abstract description 7
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 3
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 abstract 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 abstract 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 abstract 1
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 84
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 53
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- 229920003056 polybromostyrene Polymers 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003708 ampul Substances 0.000 description 10
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 8
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 7
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 4
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 4
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 4
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 4
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 4
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 4
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- CKESHWQHGBKZBB-UHFFFAOYSA-N [4-(diethylcarbamothioylsulfanylmethyl)phenyl]methyl n,n-diethylcarbamodithioate Chemical compound CCN(CC)C(=S)SCC1=CC=C(CSC(=S)N(CC)CC)C=C1 CKESHWQHGBKZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 2
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVPKLOPETWVKQD-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-tribromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=C(Br)C1=CC=CC=C1 JVPKLOPETWVKQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-UHFFFAOYSA-N 2-bromoethenylbenzene Chemical compound BrC=CC1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical class C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- YSTDSWVFMNLAHU-UHFFFAOYSA-N methoxymethanedithioic acid Chemical compound COC(S)=S YSTDSWVFMNLAHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N p-quinodimethane Chemical group C=C1C=CC(=C)C=C1 NRNFFDZCBYOZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Graft Or Block Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は樹脂改質剤及び弾性を有する熱可塑性エラスト
マーとして利用できるブロック共重合体に関するもので
あり、具体的にはホース、パツキン、ンーラント、接着
剤、粘着剤、樹脂改質剤、成形体へ加工することにより
弾性を必要とする汎用弾性材料、及び工業用弾性材料と
して利用することが出来る。
マーとして利用できるブロック共重合体に関するもので
あり、具体的にはホース、パツキン、ンーラント、接着
剤、粘着剤、樹脂改質剤、成形体へ加工することにより
弾性を必要とする汎用弾性材料、及び工業用弾性材料と
して利用することが出来る。
[従来の技術]
アクリル酸エステル系のエラストマーは耐熱性、耐薬品
性、耐候性に優れており、種々の産業分野で広範な用途
に使用されている。しかしながら、近年、エラストマー
の成形加工においては、加工性の向上、及び省エネルギ
ー化か求められてきている。現状のエラストマーの加硫
工程はこのような産業的要請に対してエネルギー多消費
型であり、加工性も優れているとは言えず解決すべき多
くの課題を抱えている。このような背景の中で、コンパ
ウンディング及び加硫工程か簡略化或いは不要である省
エネルギー型の熱可塑性エラストマーの需要が大幅に伸
びている。現在、5IS(スチレン−ブタジェントリブ
ロック共重合体)或いは5BS(スチレン−ブタジェン
トリブロック共重合体)をはじめとして種々のブロック
共重合体が製造、利用されている。また、産業界の熱可
塑性エラストマーに対する耐熱性の向上及び耐薬品性の
向上の要請があり、現在、新規な熱可塑性エラストマー
の製造研究が活発に行なわれている。しかしながら、現
在アクリル系の熱可塑性エラストマーとしては、ポリア
クリル酸エステルを軟質セグメントとし、ポリ(メタク
リル酸エステル/N置換−マレイミド)を硬質セグメン
トとするもの、及びアクリル酸エステル軟質セグメント
とし、アクリロニトリルを硬質セグメントとするものが
知られているたけである(特開昭64−26619)。
性、耐候性に優れており、種々の産業分野で広範な用途
に使用されている。しかしながら、近年、エラストマー
の成形加工においては、加工性の向上、及び省エネルギ
ー化か求められてきている。現状のエラストマーの加硫
工程はこのような産業的要請に対してエネルギー多消費
型であり、加工性も優れているとは言えず解決すべき多
くの課題を抱えている。このような背景の中で、コンパ
ウンディング及び加硫工程か簡略化或いは不要である省
エネルギー型の熱可塑性エラストマーの需要が大幅に伸
びている。現在、5IS(スチレン−ブタジェントリブ
ロック共重合体)或いは5BS(スチレン−ブタジェン
トリブロック共重合体)をはじめとして種々のブロック
共重合体が製造、利用されている。また、産業界の熱可
塑性エラストマーに対する耐熱性の向上及び耐薬品性の
向上の要請があり、現在、新規な熱可塑性エラストマー
の製造研究が活発に行なわれている。しかしながら、現
在アクリル系の熱可塑性エラストマーとしては、ポリア
クリル酸エステルを軟質セグメントとし、ポリ(メタク
リル酸エステル/N置換−マレイミド)を硬質セグメン
トとするもの、及びアクリル酸エステル軟質セグメント
とし、アクリロニトリルを硬質セグメントとするものが
知られているたけである(特開昭64−26619)。
従来技術においては、軟質セグメントに用いられるポリ
アクリル酸エステルと、硬質セグメントの主成分である
ポリメチルメタクリレート等のアクリル系重合体との極
性が近い。その為、成形後の重合体において、硬質セグ
メントドメイン及び軟質セグメントドメイン間の非相溶
性が低下し物性上好ましくない。一般に、硬質セグメン
トの凝集により形成される硬質ドメインは引張り強度及
び破断強度等の物性に大きく影響する為、該硬質ドメイ
ン及び軟質ドメイン間の極性の差はある程度大きい方が
好ましい。
アクリル酸エステルと、硬質セグメントの主成分である
ポリメチルメタクリレート等のアクリル系重合体との極
性が近い。その為、成形後の重合体において、硬質セグ
メントドメイン及び軟質セグメントドメイン間の非相溶
性が低下し物性上好ましくない。一般に、硬質セグメン
トの凝集により形成される硬質ドメインは引張り強度及
び破断強度等の物性に大きく影響する為、該硬質ドメイ
ン及び軟質ドメイン間の極性の差はある程度大きい方が
好ましい。
以上のように、現在検討されているアクリル系トリブロ
ック共重合体は依然として問題点を有しており新規な重
合体の開発が求められている。
ック共重合体は依然として問題点を有しており新規な重
合体の開発が求められている。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は硬質ドメインを非アクリル系重合体とすること
により重合体中のミクロ相分離状態を改良するものであ
る。
により重合体中のミクロ相分離状態を改良するものであ
る。
[課題を解決するための手段]
即ち、本発明は下記の一般式[I]
で表されるアクリル酸エステル系トリブロック共重合体
に関するものである。
に関するものである。
[但し、Aは下記の一般式[Ia]
(ここで、R2は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
で表されるアクリル酸エステル単量体残基を表し、Bは
下記の一般式[I b] (ここで、kは臭素数を表し、kの平均値は1.6から
3.0の範囲にある。)で表される臭素化スチレン単量
体残基を表す。R1は炭素数1〜6のアルキル基を有す
るアルキルアミノ基、或いは炭素数1〜8のアルコキシ
基を表し、nは50〜2000の自然数であり、mは5
〜200の自然数である。] 本発明のブロック共重合体は、下記の一般式[11] %式% [但し、R1は炭素数1〜6のアルキル基を有するアル
キルアミノ基、或いは炭素数1〜8のアルコキシ基を表
す。Aは下記の一般式[1a](ここで、R2は炭素数
1〜4のアルキル基を表す。)で表されるアクリル酸エ
ステル単量体残基を表す。nは50〜2000の自然数
である。コで表される末端に光重合性の官能基を有する
重合体を用いて、下記の一般式[1b−] (ここで、kは臭素数を表し、kの平均値は1.6から
3.0の範囲にある。)゛で表される臭素化スチレン単
量体を、紫外線照射重合することによって合成される。
で表されるアクリル酸エステル単量体残基を表し、Bは
下記の一般式[I b] (ここで、kは臭素数を表し、kの平均値は1.6から
3.0の範囲にある。)で表される臭素化スチレン単量
体残基を表す。R1は炭素数1〜6のアルキル基を有す
るアルキルアミノ基、或いは炭素数1〜8のアルコキシ
基を表し、nは50〜2000の自然数であり、mは5
〜200の自然数である。] 本発明のブロック共重合体は、下記の一般式[11] %式% [但し、R1は炭素数1〜6のアルキル基を有するアル
キルアミノ基、或いは炭素数1〜8のアルコキシ基を表
す。Aは下記の一般式[1a](ここで、R2は炭素数
1〜4のアルキル基を表す。)で表されるアクリル酸エ
ステル単量体残基を表す。nは50〜2000の自然数
である。コで表される末端に光重合性の官能基を有する
重合体を用いて、下記の一般式[1b−] (ここで、kは臭素数を表し、kの平均値は1.6から
3.0の範囲にある。)゛で表される臭素化スチレン単
量体を、紫外線照射重合することによって合成される。
以下、本発明について詳細に説明する。本発明で用いる
ことの出来るアクリル酸エステル単量体としては、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルア
クリレート、n−ブチルアクリレート等が例示され、こ
れらを2つ以上組合せて用いることも可能である。臭素
化スチレン単量体としては、モノブロモスチレン、ジプ
ロモスチレン、トリブロモスチレン、或いはこれらの混
合物を用いることが出来る。
ことの出来るアクリル酸エステル単量体としては、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルア
クリレート、n−ブチルアクリレート等が例示され、こ
れらを2つ以上組合せて用いることも可能である。臭素
化スチレン単量体としては、モノブロモスチレン、ジプ
ロモスチレン、トリブロモスチレン、或いはこれらの混
合物を用いることが出来る。
重合溶媒としては、連鎖移動定数の小さいベンゼン、ト
ルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒が好適に
用いられる。重合温度としては5〜100℃を設定出来
るが、5〜60℃の範囲が好適に用いられる。
ルエン、及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒が好適に
用いられる。重合温度としては5〜100℃を設定出来
るが、5〜60℃の範囲が好適に用いられる。
紫外線源としては具体的に例示すれば低圧水銀灯、高圧
水銀灯、或いは超高圧水銀灯等の種々のものを用いるこ
とが可能である。
水銀灯、或いは超高圧水銀灯等の種々のものを用いるこ
とが可能である。
重合時間は6時間〜30時間とするのが好ましく、常法
に従った単量体の転化率の追跡によって、任意の転化率
で重合を停止することが出来る。
に従った単量体の転化率の追跡によって、任意の転化率
で重合を停止することが出来る。
臭素化スチレンセグメントの鎖長は、該アクリル系重合
体(中間ブロック)の分子量から算出した末端官能基数
(モル)に対する単量体のモル数を変化させるか、或い
は重合時の単量体の転化率の追跡により所望の転化率で
重合を停止することにより容易に制御出来る。
体(中間ブロック)の分子量から算出した末端官能基数
(モル)に対する単量体のモル数を変化させるか、或い
は重合時の単量体の転化率の追跡により所望の転化率で
重合を停止することにより容易に制御出来る。
重合の停止は、紫外線の照射を中止し、反応器にt−ブ
チルカテコール等の汎用のラジカル重合禁止剤を添加す
ることにより行われる。重合体の単離は、常法に従い反
応溶液を多量のメタノール或いはエタノール等の共重合
体の貧溶媒に注ぐことにより行われる。ポリブロモスチ
レン(単独重合体)は、得られた重合体中のベンゼン不
溶分を取除くことにより容易に分離出来る。
チルカテコール等の汎用のラジカル重合禁止剤を添加す
ることにより行われる。重合体の単離は、常法に従い反
応溶液を多量のメタノール或いはエタノール等の共重合
体の貧溶媒に注ぐことにより行われる。ポリブロモスチ
レン(単独重合体)は、得られた重合体中のベンゼン不
溶分を取除くことにより容易に分離出来る。
[発明の効果]
本発明によれば新規なアクリル系のブロック共重合体を
提供出来、該ブロック共重合体はブロモスチレンを含有
している為、高い難燃性を有している。
提供出来、該ブロック共重合体はブロモスチレンを含有
している為、高い難燃性を有している。
[実施例]
以下、実施例により本発明の詳細な説明するカミこれは
同等本発明を制限するものではな0゜尚、本発明の重合
体の分析は下記の測定機器及び測定条件により行なった
。
同等本発明を制限するものではな0゜尚、本発明の重合
体の分析は下記の測定機器及び測定条件により行なった
。
(1)GPC
東ソー(株)製 HLC−802A
カラム TSK−GEL G70ロOH6/GBOO
OH[i/G3000H8 検出器 示差屈折計 溶離液 テトラヒドロフラン 流速 1.8ml/win 圧力 38Kg /c履2 温度 38℃ (2)’ H−NMR パリアン社製 EM−380NMRスペクトロメーター 溶媒 重水素化クロロホルム 内部標準 TMS (3) DSC セイコー電子工業社製5SC5000TAステーシヨン
/DSC200 昇温速度 10℃/ m i n また、以下の参考例、及び実施例において、光重合反応
は、ウシオ電機(株)社製UM453B高圧水銀灯を用
いて行った。
OH[i/G3000H8 検出器 示差屈折計 溶離液 テトラヒドロフラン 流速 1.8ml/win 圧力 38Kg /c履2 温度 38℃ (2)’ H−NMR パリアン社製 EM−380NMRスペクトロメーター 溶媒 重水素化クロロホルム 内部標準 TMS (3) DSC セイコー電子工業社製5SC5000TAステーシヨン
/DSC200 昇温速度 10℃/ m i n また、以下の参考例、及び実施例において、光重合反応
は、ウシオ電機(株)社製UM453B高圧水銀灯を用
いて行った。
光重合性ポリエチルアクリレートの製造例参考例1
500ミリリツトルのパイレックスガラス製アンプルに
エチルアクリレート100.0g、ベンゼン300m1
、p−キシリレンビス(ジエチルジチオカルバメート)
1.0gを仕込み、十分に脱気した後封管した。恒温水
槽中、10cmの距離から14℃で19時間、紫外線照
射を行った。重合終了後、アンプルを開管し内容物を2
す・ントルのヘキサンに注ぎ、重合体84g(収率84
%)を単離した。得られた重合体の数平均分子ffi(
Mn)はGPCで測定した結果、29,700であった
。
エチルアクリレート100.0g、ベンゼン300m1
、p−キシリレンビス(ジエチルジチオカルバメート)
1.0gを仕込み、十分に脱気した後封管した。恒温水
槽中、10cmの距離から14℃で19時間、紫外線照
射を行った。重合終了後、アンプルを開管し内容物を2
す・ントルのヘキサンに注ぎ、重合体84g(収率84
%)を単離した。得られた重合体の数平均分子ffi(
Mn)はGPCで測定した結果、29,700であった
。
参考例2
500ミリリツトルのパイレックスガラス製アンプルに
エチルアクリレート100.0g、ベンゼン300m1
.p−キシリレンビス(ジエチルジチオカルバメート)
0.5gを仕込み、十分に脱気した後封管した。恒温水
槽中、10cmの距離から14℃で30時間、紫外線照
射を行った。重合終了後、アンプルを開管し内容物を2
リツトルのへキサンに注ぎ、重合体95g(収率95%
)を単離した。得られた重合体の数平均分子量(Mn)
はGPCで測定した結果、79,000であった。
エチルアクリレート100.0g、ベンゼン300m1
.p−キシリレンビス(ジエチルジチオカルバメート)
0.5gを仕込み、十分に脱気した後封管した。恒温水
槽中、10cmの距離から14℃で30時間、紫外線照
射を行った。重合終了後、アンプルを開管し内容物を2
リツトルのへキサンに注ぎ、重合体95g(収率95%
)を単離した。得られた重合体の数平均分子量(Mn)
はGPCで測定した結果、79,000であった。
参考例3
500ミリリツトルのパイレックスガラス製アンプルに
エチルアクリレート100.7g、ベンゼン400m1
、p−キシリレンビス(メチルキサンテート)0.22
gを仕込み、十分に脱気した後封管した。恒温水槽中、
10cmの距離から30℃で25時間、紫外線照射を行
った。重合終了後、アンプルを開管し内容物を2リツト
ルのへキサンに注ぎ、重合体91.3g (収率90,
706)を単離した。得られた重合体の数平均分子量(
M n )はGPCで測定した結果、145000であ
った。
エチルアクリレート100.7g、ベンゼン400m1
、p−キシリレンビス(メチルキサンテート)0.22
gを仕込み、十分に脱気した後封管した。恒温水槽中、
10cmの距離から30℃で25時間、紫外線照射を行
った。重合終了後、アンプルを開管し内容物を2リツト
ルのへキサンに注ぎ、重合体91.3g (収率90,
706)を単離した。得られた重合体の数平均分子量(
M n )はGPCで測定した結果、145000であ
った。
(エチルアクリレート−ブロモスチレン)共重合体の製
造例 実施例1 100mlのパイレックスガラス製アンプルに参考例1
て製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト5.0グラム、ブロモスチレン(平均臭素化率2.0
)5.1g、ベンゼン50m1を仕込み、10cmの距
離から30℃で14時間紫外線照射を行った。重合終了
後、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を単
離し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3度
再沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍結
乾燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、再
度ベンゼンにより凍結乾燥して9.2g(収率91%)
の重合体を得た。得られた重合体を1H−NMRにより
分析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を行い、
分子量及び重合体の構造を推定した。図1に得られた重
合体の1H−NMR測定結果を示した。更に、得られた
重合体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキャス
トした結果、強度を有するフィルムか得られ、このこと
から得られた重合体はブロモスチレンセグメントが硬質
相を形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造を有
することを示していた。またDSCの測定から、得られ
た重合体はポリエチルアクリレートセグメントの分子運
動に起因する一20℃の吸熱ピーク(Tgl)及びポリ
ブロモスチレンセグメントの分子運動に起因する180
〜198℃の吸熱ピーク(Tg2)の2つのガラス転移
点を有しておりポリエチルアクリレート相及びポリブロ
モスチレン相が相分離した状態にあることを示していた
。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエチルアク
リレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレンを両末
端プロ・ツクにもつトリブロック共重合体であると推定
される。
造例 実施例1 100mlのパイレックスガラス製アンプルに参考例1
て製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト5.0グラム、ブロモスチレン(平均臭素化率2.0
)5.1g、ベンゼン50m1を仕込み、10cmの距
離から30℃で14時間紫外線照射を行った。重合終了
後、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を単
離し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3度
再沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍結
乾燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、再
度ベンゼンにより凍結乾燥して9.2g(収率91%)
の重合体を得た。得られた重合体を1H−NMRにより
分析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を行い、
分子量及び重合体の構造を推定した。図1に得られた重
合体の1H−NMR測定結果を示した。更に、得られた
重合体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキャス
トした結果、強度を有するフィルムか得られ、このこと
から得られた重合体はブロモスチレンセグメントが硬質
相を形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造を有
することを示していた。またDSCの測定から、得られ
た重合体はポリエチルアクリレートセグメントの分子運
動に起因する一20℃の吸熱ピーク(Tgl)及びポリ
ブロモスチレンセグメントの分子運動に起因する180
〜198℃の吸熱ピーク(Tg2)の2つのガラス転移
点を有しておりポリエチルアクリレート相及びポリブロ
モスチレン相が相分離した状態にあることを示していた
。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエチルアク
リレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレンを両末
端プロ・ツクにもつトリブロック共重合体であると推定
される。
実施例2
100m1のパイレックスガラス製アンプルに参考例2
で製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト5.0グラム、ブロモスチレン(平均臭素化率2.0
)2.14g、ベンゼン50m1を仕込み、10cmの
距離から30℃で23時間紫外線を照射した。重合終了
後、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を単
離し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3度
再沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍結
乾燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、再
度ベンゼンにより凍結乾燥して6.84g (収率86
%)の重合体を得た。得られた重合体を’ H−NMR
により分析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を
行い、分子量及び重合体の構造を推定した。更に、得ら
れた重合体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキ
ャストした結果、強度を有するフィルムが得られ、この
ことから得られた重合体はブロモスチレンセグメントが
硬質相を形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造
を有することを示していた。またDSCの測定から、得
られた重合体はポリエチルアクリレートセグメントの分
子運動に起因する一20℃の吸熱ピーク(Tgl)及び
ポリブロモスチレンセグメントの分子運動に起因する1
80〜198℃の吸熱ピーク(T g 2)の2つのガ
ラス転移点を有しておりポリエチルアクリレート相及び
ポリブロモスチレン相か相分離した状態にあることを示
していた。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエ
チルアクリレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレ
ンを両末端ブロックにもつトリブロック共重合体である
と推定される。
で製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト5.0グラム、ブロモスチレン(平均臭素化率2.0
)2.14g、ベンゼン50m1を仕込み、10cmの
距離から30℃で23時間紫外線を照射した。重合終了
後、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を単
離し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3度
再沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍結
乾燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、再
度ベンゼンにより凍結乾燥して6.84g (収率86
%)の重合体を得た。得られた重合体を’ H−NMR
により分析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を
行い、分子量及び重合体の構造を推定した。更に、得ら
れた重合体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキ
ャストした結果、強度を有するフィルムが得られ、この
ことから得られた重合体はブロモスチレンセグメントが
硬質相を形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造
を有することを示していた。またDSCの測定から、得
られた重合体はポリエチルアクリレートセグメントの分
子運動に起因する一20℃の吸熱ピーク(Tgl)及び
ポリブロモスチレンセグメントの分子運動に起因する1
80〜198℃の吸熱ピーク(T g 2)の2つのガ
ラス転移点を有しておりポリエチルアクリレート相及び
ポリブロモスチレン相か相分離した状態にあることを示
していた。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエ
チルアクリレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレ
ンを両末端ブロックにもつトリブロック共重合体である
と推定される。
実施例3
100mlのパイレックスガラス製アンプルに参考例3
て製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト5.0グラム、ブロモスチレン(平均臭素化率2.0
)2.5g、ベンゼン50m1を仕込み、10cmの距
離から30℃で23時間紫外線を照射した。重合終了後
、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を単離
し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3度再
沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍結乾
燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、再度
ベンゼンにより凍結乾燥して6.1g(収率81%)の
重合体を得た。得られた重合体を1H−NMRにより分
析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を行い、分
子量及び重合体の構造を推定した。更に、得られた重合
体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキャストし
た結果、強度を有するフィルムか得られ、このことから
得られた重合体はブロモスチレンセグメントが硬質相を
形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造を有する
ことを示していた。またDSCの測定から、得られた重
合体はポリエチルアクリレートセグメントの分子運動に
起因する=20℃の吸熱ピーク(Tgl)及びポリブロ
モスチレンセグメントの分子運動に起因する180〜1
98℃の吸熱ピーク(T g 2)の2つのガラス転移
点を有しておりポリエチルアクリレート相及びポリブロ
モスチレン相が相分離した状態にあることを示していた
。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエチルアク
リレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレンを両末
端ブロックにもつトリブロック共重合体であると推定さ
れる。
て製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト5.0グラム、ブロモスチレン(平均臭素化率2.0
)2.5g、ベンゼン50m1を仕込み、10cmの距
離から30℃で23時間紫外線を照射した。重合終了後
、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を単離
し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3度再
沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍結乾
燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、再度
ベンゼンにより凍結乾燥して6.1g(収率81%)の
重合体を得た。得られた重合体を1H−NMRにより分
析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を行い、分
子量及び重合体の構造を推定した。更に、得られた重合
体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキャストし
た結果、強度を有するフィルムか得られ、このことから
得られた重合体はブロモスチレンセグメントが硬質相を
形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造を有する
ことを示していた。またDSCの測定から、得られた重
合体はポリエチルアクリレートセグメントの分子運動に
起因する=20℃の吸熱ピーク(Tgl)及びポリブロ
モスチレンセグメントの分子運動に起因する180〜1
98℃の吸熱ピーク(T g 2)の2つのガラス転移
点を有しておりポリエチルアクリレート相及びポリブロ
モスチレン相が相分離した状態にあることを示していた
。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエチルアク
リレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレンを両末
端ブロックにもつトリブロック共重合体であると推定さ
れる。
実施例4
100m1のパイレックスガラス製アンプルに参考例3
で製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト3,5グラム、トリブロモスチレン(平均臭素化率2
.0)3.7g、ベンゼン60m1を仕込み、10cm
の距離から30℃で21時間紫外線を照射した。重合終
了後、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を
単離し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3
度再沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍
結乾燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、
再度ベンゼンにより凍結乾燥して6.5g(収率90%
)の重合体を得た。得られた重合体を’ H−NMRに
より分析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を行
い、分子量及び重合体の構造を推定した。更に、得られ
た重合体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキャ
ストした結果、強度を有するフィルムが得られ、このこ
とから得られた重合体はブロモスチレンセグメントか硬
質相を形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造を
有することを示していた。またDSCの測定から、得ら
れた重合体はポリエチルアクリレートセグメントの分子
運動に起因する=20℃の吸熱ピーク(Tgl)及びポ
リブロモスチレンセグメントの分子運動に起因する18
0〜198℃の吸熱ピーク(Tg2)の2つのガラス転
移点を有しておりポリエチルアクリレート相及びポリブ
ロモスチレン相が相分離した状態にあることを示してい
た。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエチルア
クリレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレンを両
末端ブロックにもつトリブロック共重合体であると推定
される。
で製造した光重合性末端を有するポリエチルアクリレー
ト3,5グラム、トリブロモスチレン(平均臭素化率2
.0)3.7g、ベンゼン60m1を仕込み、10cm
の距離から30℃で21時間紫外線を照射した。重合終
了後、内容物を500m1のメタノールに注ぎ重合体を
単離し、該重合体をベンゼン及びエタノールを用いて3
度再沈精製した。得られた重合体をベンゼンを用いて凍
結乾燥後、ベンゼンを用いてソックスレー抽出を行い、
再度ベンゼンにより凍結乾燥して6.5g(収率90%
)の重合体を得た。得られた重合体を’ H−NMRに
より分析して重合体の組成分析、及びピークの帰属を行
い、分子量及び重合体の構造を推定した。更に、得られ
た重合体をベンゼンを用いてテフロンモールド上でキャ
ストした結果、強度を有するフィルムが得られ、このこ
とから得られた重合体はブロモスチレンセグメントか硬
質相を形成して物理架橋状態にあるトリブロック構造を
有することを示していた。またDSCの測定から、得ら
れた重合体はポリエチルアクリレートセグメントの分子
運動に起因する=20℃の吸熱ピーク(Tgl)及びポ
リブロモスチレンセグメントの分子運動に起因する18
0〜198℃の吸熱ピーク(Tg2)の2つのガラス転
移点を有しておりポリエチルアクリレート相及びポリブ
ロモスチレン相が相分離した状態にあることを示してい
た。以上の結果から、得られた重合体は、ポリエチルア
クリレートを中間ブロックに、ポリブロモスチレンを両
末端ブロックにもつトリブロック共重合体であると推定
される。
第1図は、本発明の実施例1て得られたポリマーのプロ
トン核磁気共鳴スペクトルを示す。
トン核磁気共鳴スペクトルを示す。
Claims (1)
- (1)下記の一般式[ I ] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I ] で表されるアクリル酸エステル系ブロック共重合体。 [但し、Aは下記の一般式[ I a] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I a] (ここで、R^2は炭素数1〜4のアルキル基を表す。 )で表されるアクリル酸エステル単量体残基を表し、B
は下記の一般式[ I b] ▲数式、化学式、表等があります▼[ I b] (ここで、kは臭素数を表し、kの平均値は1.6から
3.0の範囲にある。)で表される臭素化スチレン単量
体残基を表す。R^1は炭素数1〜6のアルキル基を有
するアルキルアミノ基、或いは炭素数1〜8のアルコキ
シ基を表し、nは50〜2000の自然数であり、mは
5〜200の自然数である。]
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17528390A JP2913488B2 (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | アクリル酸エステル系ブロック共重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17528390A JP2913488B2 (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | アクリル酸エステル系ブロック共重合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0463819A true JPH0463819A (ja) | 1992-02-28 |
JP2913488B2 JP2913488B2 (ja) | 1999-06-28 |
Family
ID=15993419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17528390A Expired - Fee Related JP2913488B2 (ja) | 1990-07-04 | 1990-07-04 | アクリル酸エステル系ブロック共重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2913488B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007279672A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-10-25 | Ricoh Co Ltd | 定着部材、定着装置及び画像形成装置 |
-
1990
- 1990-07-04 JP JP17528390A patent/JP2913488B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007279672A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-10-25 | Ricoh Co Ltd | 定着部材、定着装置及び画像形成装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2913488B2 (ja) | 1999-06-28 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |