JPH0454877Y2 - - Google Patents
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- JPH0454877Y2 JPH0454877Y2 JP1987087606U JP8760687U JPH0454877Y2 JP H0454877 Y2 JPH0454877 Y2 JP H0454877Y2 JP 1987087606 U JP1987087606 U JP 1987087606U JP 8760687 U JP8760687 U JP 8760687U JP H0454877 Y2 JPH0454877 Y2 JP H0454877Y2
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- ultraviolet irradiation
- irradiation device
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本考案は工業用水や上下水道水及び純水や各種
排水等の処理ライン中に付設する紫外線照射装置
に関するものである。 〔考案の背景〕 原水中に含まれている細菌類を殺菌したり、あ
るいは原水中に含まれている有機物を化学的に分
解するため、工業用水、冷却水、純水、超純水、
パイロジエンフリー水や上下水道水、各種排水処
理に対して従来から一段式の紫外線照射装置が用
いられている。特に、純水処理ラインにおいて
は、逆浸透膜や限外濾過膜あるいは精密濾過膜の
ような膜分離装置の前処理として用いられてい
て、それなりに膜面への細菌類の付着や繁殖を防
いでおり、また被処理水の含有有機物による負荷
を低減する作用を有している。 しかしながら、近年における純水製造装置等で
は、システム内での水循環運転が行われることが
多くなつてきており、従来からの一段式紫外線照
射装置では細菌が不充分となり、抵抗力の強い菌
類が循環系路内に残存して水質を害するという問
題点があつた。特に、LSIの洗浄向け超純水の処
理系においては、有機物成分の一層の低減化が極
めて重要な課題となっているが、従来の一段式紫
外線照射装置ではこれら分野の要求に応えるまで
には至つていないのが実情である。 本考案者は従来からの一段式紫外線照射装置に
検討を加え、鋭意実験・研究を重ねた結果、原水
の処理ライン中に二段階の紫外線照射装置を付設
し、第一段目の紫外線照射装置にて185nm付近の
波長域、好ましくは、184.9nmの波長を有する紫
外線を原水に照射することによつて原水中の有機
物成分を酸化分解し、さらに次段の紫外線照射装
置にて255nm付近の波長域、好ましくは253.7nm
の波長を有する紫外線を照射することによつて主
に殺菌を行い、前記したLSIの分野でも充分循環
使用に応え得る無菌で且つ有機物濃度の極めて低
い処理水を得ることを見出し本考案をなすに至つ
たものである。 〔考案の構成〕 本考案の構成を詳述すれば、細菌類及び有機物
を含んだ原水を処理する処理ラインの給水側に付
設した原水に酸素含有気体を混合するミキサー装
置と、このミキサー装置によつて酸素を多量に含
んだ原水に紫外線照射を行う前記処理ライン中に
付設した第一段目の紫外線照射装置と、この第一
段目の紫外線照射装置を経た原水に再度紫外線照
射を行う前記処理ライン中に付設した第二段目の
紫外線照射装置とからなり、前記第一段目の紫外
線照射装置では185nm付近の波長域を有する紫外
線を照射し、前記第二段目の紫外線照射装置では
255nm付近の波長域を有する紫外線を照射するよ
うに構成したことを特徴とする原水の処理ライン
における二段式紫外線照射装置であり、本考案者
による実験の結果、185nm付近の波長域を有する
紫外線を原水に照射する紫外線照射装置と、
255nm付近の波長域を有する紫外線を原水に照射
する紫外線照射装置とをそれぞれ単独に処理ライ
ン中に付設した場合と較べて、本考案装置によつ
た場合の方が格段の無菌化及び有機物濃度の低下
が図れることが確認された。 なお、これは波長を事にする二種類の紫外線を
同一の処理ライン中で時間を少しくずらして照射
することにより、単独照射では得られなかつた相
乗作用が発揮されるためと考えられる。 以下、本考案の具体的構成を図示の実施例に基
づいき詳細に説明する。 〔実施例〕 図面は本考案装置の一例を示すフロー図であ
り、図中１は原水の処理ラインを示す。 原水は図面左方の給水弁２を経由して処理ライ
ン１を図面右方へと通流していく。３は処理ライ
ン１の給水弁２側に近い位置に付設したラインミ
キサーのようなミキサー装置、４は185nm付近の
波長域を有する紫外線を照射する第一段目の紫外
線照射装置であり、５はこの第一段目の紫外線照
射装置４より少しく離して処理ライン１中に付設
した255nm付近の波長域を有する紫外線を照射す
る第二段目の紫外線照射装置である。 第一段目の紫外線照射装置４では原水中に含ま
れている有機物成分を酸化分解させるため、この
反応分解に要する時間を確保する必要上、密閉型
の滞留槽内に185nm付近の波長域を有する紫外線
を照射するUVランプを配置してある。 なお、酸化分解に必要な酸素を原水に加える必
要があるため、処理ライン１に付設してあるミキ
サー装置３の直前で、処理ライン１を流れる原水
中に無菌空気のような酸素含有気体を加え、原水
とこの酸素含有気体とをミキサー装置３で混合し
て、酸素を多量に含有した原水を第一段目の紫外
線照射装置をなす滞留槽内へ供給するものであ
る。そして、滞留槽内で185nm付近の波長域、好
ましくは184.9nmの波長を有する紫外線が原水に
照射されると、原水中の酸素からオゾン（O3）
が生成され、このオゾン及び紫外線直接の作用に
より有機物成分が酸化分解される。 第一段目の紫外線照射装置４を経て有機物成分
の減少した原水は、次段の紫外線照射装置５に送
られ、ここでは255nm付近の波長域、好ましくは
253.7nmの波長を有する紫外線が照射されて、原
水中の細菌類が殺菌される。なお、この第二段目
の紫外線照射装置５においても残留有機物成分が
ある程度分解処理される。 次表は本考案二段式紫外線照射装置を経たとき
の原水中の全有機体炭素量（TOC）及び生菌数
を、有機物の分解を主とした紫外線照射装置のみ
を経たときの場合及び殺菌を主とした紫外線照射
装置のみを経たときの場合とそれぞれ比較したも
のである。 なお、原水の水質は共にTOC500μgC／、生
菌数15000個／mlのものを用いた。
排水等の処理ライン中に付設する紫外線照射装置
に関するものである。 〔考案の背景〕 原水中に含まれている細菌類を殺菌したり、あ
るいは原水中に含まれている有機物を化学的に分
解するため、工業用水、冷却水、純水、超純水、
パイロジエンフリー水や上下水道水、各種排水処
理に対して従来から一段式の紫外線照射装置が用
いられている。特に、純水処理ラインにおいて
は、逆浸透膜や限外濾過膜あるいは精密濾過膜の
ような膜分離装置の前処理として用いられてい
て、それなりに膜面への細菌類の付着や繁殖を防
いでおり、また被処理水の含有有機物による負荷
を低減する作用を有している。 しかしながら、近年における純水製造装置等で
は、システム内での水循環運転が行われることが
多くなつてきており、従来からの一段式紫外線照
射装置では細菌が不充分となり、抵抗力の強い菌
類が循環系路内に残存して水質を害するという問
題点があつた。特に、LSIの洗浄向け超純水の処
理系においては、有機物成分の一層の低減化が極
めて重要な課題となっているが、従来の一段式紫
外線照射装置ではこれら分野の要求に応えるまで
には至つていないのが実情である。 本考案者は従来からの一段式紫外線照射装置に
検討を加え、鋭意実験・研究を重ねた結果、原水
の処理ライン中に二段階の紫外線照射装置を付設
し、第一段目の紫外線照射装置にて185nm付近の
波長域、好ましくは、184.9nmの波長を有する紫
外線を原水に照射することによつて原水中の有機
物成分を酸化分解し、さらに次段の紫外線照射装
置にて255nm付近の波長域、好ましくは253.7nm
の波長を有する紫外線を照射することによつて主
に殺菌を行い、前記したLSIの分野でも充分循環
使用に応え得る無菌で且つ有機物濃度の極めて低
い処理水を得ることを見出し本考案をなすに至つ
たものである。 〔考案の構成〕 本考案の構成を詳述すれば、細菌類及び有機物
を含んだ原水を処理する処理ラインの給水側に付
設した原水に酸素含有気体を混合するミキサー装
置と、このミキサー装置によつて酸素を多量に含
んだ原水に紫外線照射を行う前記処理ライン中に
付設した第一段目の紫外線照射装置と、この第一
段目の紫外線照射装置を経た原水に再度紫外線照
射を行う前記処理ライン中に付設した第二段目の
紫外線照射装置とからなり、前記第一段目の紫外
線照射装置では185nm付近の波長域を有する紫外
線を照射し、前記第二段目の紫外線照射装置では
255nm付近の波長域を有する紫外線を照射するよ
うに構成したことを特徴とする原水の処理ライン
における二段式紫外線照射装置であり、本考案者
による実験の結果、185nm付近の波長域を有する
紫外線を原水に照射する紫外線照射装置と、
255nm付近の波長域を有する紫外線を原水に照射
する紫外線照射装置とをそれぞれ単独に処理ライ
ン中に付設した場合と較べて、本考案装置によつ
た場合の方が格段の無菌化及び有機物濃度の低下
が図れることが確認された。 なお、これは波長を事にする二種類の紫外線を
同一の処理ライン中で時間を少しくずらして照射
することにより、単独照射では得られなかつた相
乗作用が発揮されるためと考えられる。 以下、本考案の具体的構成を図示の実施例に基
づいき詳細に説明する。 〔実施例〕 図面は本考案装置の一例を示すフロー図であ
り、図中１は原水の処理ラインを示す。 原水は図面左方の給水弁２を経由して処理ライ
ン１を図面右方へと通流していく。３は処理ライ
ン１の給水弁２側に近い位置に付設したラインミ
キサーのようなミキサー装置、４は185nm付近の
波長域を有する紫外線を照射する第一段目の紫外
線照射装置であり、５はこの第一段目の紫外線照
射装置４より少しく離して処理ライン１中に付設
した255nm付近の波長域を有する紫外線を照射す
る第二段目の紫外線照射装置である。 第一段目の紫外線照射装置４では原水中に含ま
れている有機物成分を酸化分解させるため、この
反応分解に要する時間を確保する必要上、密閉型
の滞留槽内に185nm付近の波長域を有する紫外線
を照射するUVランプを配置してある。 なお、酸化分解に必要な酸素を原水に加える必
要があるため、処理ライン１に付設してあるミキ
サー装置３の直前で、処理ライン１を流れる原水
中に無菌空気のような酸素含有気体を加え、原水
とこの酸素含有気体とをミキサー装置３で混合し
て、酸素を多量に含有した原水を第一段目の紫外
線照射装置をなす滞留槽内へ供給するものであ
る。そして、滞留槽内で185nm付近の波長域、好
ましくは184.9nmの波長を有する紫外線が原水に
照射されると、原水中の酸素からオゾン（O3）
が生成され、このオゾン及び紫外線直接の作用に
より有機物成分が酸化分解される。 第一段目の紫外線照射装置４を経て有機物成分
の減少した原水は、次段の紫外線照射装置５に送
られ、ここでは255nm付近の波長域、好ましくは
253.7nmの波長を有する紫外線が照射されて、原
水中の細菌類が殺菌される。なお、この第二段目
の紫外線照射装置５においても残留有機物成分が
ある程度分解処理される。 次表は本考案二段式紫外線照射装置を経たとき
の原水中の全有機体炭素量（TOC）及び生菌数
を、有機物の分解を主とした紫外線照射装置のみ
を経たときの場合及び殺菌を主とした紫外線照射
装置のみを経たときの場合とそれぞれ比較したも
のである。 なお、原水の水質は共にTOC500μgC／、生
菌数15000個／mlのものを用いた。
【表】
このように、本考案装置によればLSIの洗浄向
けの超純水の処理系でも充分循環使用に応え得る
無菌で且つ有機物濃度の極めて低い処理水を得る
ことができ、処理ライン中に付設されている膜分
離装置に対する負荷を大幅に軽減することがで
き、これら膜分離装置の耐久性向上にも多大な効
果がある。
けの超純水の処理系でも充分循環使用に応え得る
無菌で且つ有機物濃度の極めて低い処理水を得る
ことができ、処理ライン中に付設されている膜分
離装置に対する負荷を大幅に軽減することがで
き、これら膜分離装置の耐久性向上にも多大な効
果がある。
図面は本考案装置の一例を示すフローの説明図
である。 １……処理ライン、２……給水弁、３……ミキ
サー装置、４……紫外線照射装置、５……紫外線
照射装置。
である。 １……処理ライン、２……給水弁、３……ミキ
サー装置、４……紫外線照射装置、５……紫外線
照射装置。
Claims (1)
- 細菌類及び有機物を含んだ原水を処理する処理
ラインの給水側に付設した原水に酸素含有気体を
混合するミキサー装置と、このミキサー装置によ
つて酸素を多量に含んだ原水に紫外線照射を行う
前記処理ライン中に付設した第一段目の紫外線照
射装置と、この第一段目の紫外線照射装置を経た
原水に再度紫外線照射を行う前記処理ライン中に
付設した第二段目の紫外線照射装置とからなり、
前記第一段目の紫外線照射装置では185nm付近の
波長域を有する紫外線を照射し、前記第二段目の
紫外線照射装置では255nm付近の波長域を有する
紫外線を照射するように構成したことを特徴とす
る原水の処理ラインにおける二段式紫外線照射装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987087606U JPH0454877Y2 (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987087606U JPH0454877Y2 (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63197697U JPS63197697U (ja) | 1988-12-20 |
| JPH0454877Y2 true JPH0454877Y2 (ja) | 1992-12-22 |
Family
ID=30944973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987087606U Expired JPH0454877Y2 (ja) | 1987-06-08 | 1987-06-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0454877Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5097933B2 (ja) * | 2008-02-29 | 2012-12-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 紫外線と微細気泡を併用した難分解性有機物質の分解方法及び分解装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49126166A (ja) * | 1973-04-05 | 1974-12-03 | ||
| JPS541964A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | Complex cyanide treating apparatus |
| JPS60114393A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-20 | Samuson Eng Kk | 廃水処理装置 |
-
1987
- 1987-06-08 JP JP1987087606U patent/JPH0454877Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS49126166A (ja) * | 1973-04-05 | 1974-12-03 | ||
| JPS541964A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-09 | Mitsubishi Electric Corp | Complex cyanide treating apparatus |
| JPS60114393A (ja) * | 1983-11-22 | 1985-06-20 | Samuson Eng Kk | 廃水処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63197697U (ja) | 1988-12-20 |
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