JPH0452617Y2 - - Google Patents

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JPH0452617Y2
JPH0452617Y2 JP19600086U JP19600086U JPH0452617Y2 JP H0452617 Y2 JPH0452617 Y2 JP H0452617Y2 JP 19600086 U JP19600086 U JP 19600086U JP 19600086 U JP19600086 U JP 19600086U JP H0452617 Y2 JPH0452617 Y2 JP H0452617Y2
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chamber
piston
displacer
gas
helium gas
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JP19600086U
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  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Mechanically-Actuated Valves (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案はシリンダ内のデイスプレーサが往復運
動時に発生する振動・騒音の低減及び往復運動の
制御が容易に得られるガスサイクル冷凍機に関す
る。
〔従来の技術〕
第4図は冷媒ガスにヘリウムを使用した従来の
ギフオードマクマホン型蓄冷器式冷凍機の原理図
である。1は高圧ヘリウムガスを供給する圧縮
機、2は圧縮機1によつて高圧にされた高圧ヘリ
ウムガスを後述するロータリバルブ4に導く配
管、3は前記ロータリバルブ4内の低圧ヘリウム
ガスを前記圧縮機1に導く配管、4はヘリウムガ
スの流れを制御するためのロータリバルブ、5,
6はこのロータリバルブ4の高圧ヘリウムガス入
口及び低圧ヘリウムガス出口、10はデイスプレ
ーサ、9はデイスプレーサ10の往復動を制御す
るために設けられた小ピストン(第一ピストン)、
14は第一ピストン9の上部に設けられた可変容
量上部空間(以後、第一室と呼ぶ)、7はこの第
一室14にヘリウムガスを供給排出する配管、1
1は例えば銅製の金網を多数重ねた蓄冷器、15
はデイスプレーサ10の上部に設けられた可変容
量中間部空間(以後、第二室と呼ぶ)、8は第二
室15と蓄冷器11にヘリウムガスを供給・排出
する配管、16は前記デイスプレーサ10の下部
に設けられた可変容量下部空間(以後、第三室と
呼ぶ)、12は前記第一ピストン9のシール、1
3はデイスプレーサ10のシール、17は第三室
16と蓄冷器11を連通するヘリウムガス配管で
ある。
このような構成のものにおいてデイスプレーサ
10が上下に往復動する場合、第二室15の容積
が増加する場合、第三室16の容積は減少し、ま
た逆に、第二室15の容積が減少する場合、第三
室16の容積は増加する。
第5図は第4図の具体的な構成を示す断面図
で、デイスプレーサ10(以後、第一段デイスプ
レーサと呼ぶ)に第二段デイスプレーサ30を連
結して第4図よりさらに低温が得られる構造とな
つている。例えば、一段構造、二段構造の場合の
使用温度は各々80k,20k程度である。次に第5図
について説明するが、第4図と同一部分に同一符
号を付し、その説明を省略し、異る部分のみを説
明する。18,19は前記配管2,3とのコネク
タ、20はモータハウジング、21は高圧ヘリウ
ムガス空間、22はモータ、23はモータ軸、2
4はモータハウジング20の支持台、25はヘリ
ウムガスの流れをロータリバルブ4と組合せて制
御する制御板、26は低圧ヘリウムガスの通路、
27は第二室15を蓄冷器11に連通し、ヘリウ
ムガスが出入する通路、28は第一段シリンダで
ある。29は被冷却物を取りつける第一段ヒート
ステーシヨン、31は第二段蓄冷器で、通常、直
径1mm以下の鉛球が充てんされている。32は第
二段シリンダ、33は第二段シール、34は第二
段の寒冷発生空間で第三室16の容積が増加する
場合は増加し、逆に第三室16の容積が減少する
場合は減少する。第三室16と第二段寒冷発生空
間34は内部のヘリウムガス温度が異なるのみ
で、機構的、機能的には同一の役割を果す。35
は蓄冷器31と第二段寒冷発生空間34を連通す
るヘリウムガスの通路、36は被冷却物を取り付
ける第二段ヒートステーシヨンである。
第4図及び第5図のように構成したものにおい
て、圧縮機1で高圧にされた常温のヘリウムガス
は高圧ヘリウムガス配管2、コネクタ18を通つ
て高圧ヘリウムガス空間21に入る。さらにモー
タ22の回転に伴いロータリバルブ4と制御板2
5の働きにより、高圧のヘリウムガスが配管7を
通つて第一室14に給排気され、その結果、第一
ピストン9の上部に働くガス圧力によりデイスプ
レーサ10,30の往復動が制御される。
第6図は第4図、第5図のガスサイクル冷凍機
における冷凍サイクルに従つて第一段デイスプレ
ーサ10の動きを示したものであり、第一室1
4、第二室15、第三室16において斜線部は高
圧ガス、例えば21Kg/cm2Gが充てんされ、また、
白地は低圧ガス例えば7Kg/cm2Gが充てんされて
いることを示している。
まず第6図bのようにデイスプレーサ10が下
死点にある場合、第一室14は高圧ヘリウムガス
が充てんされており、高圧ヘリウムガスは第5図
の通路8、第二室15、通路27を通り、蓄冷器
11で冷却され、通路17を通つて一部は第三室
16に貯えられる。残りのヘリウムガスは第二段
蓄冷器31を通つてさらに冷却され通路35を通
つて、第二段寒冷発生空間34に貯えられる。次
に第一室14がロータリバルブ4の働きにより低
圧ヘリウムガス通路を連絡すると、デイスプレー
サ10の上下面の圧力差によりデイスプレーサ1
0が上部に動く。第5図はデイスプレーサ10が
上死点にある場合で、第二室15にあつたヘリウ
ムガスは通路27を通つて第三室16及び第二段
寒冷発生空間34に移動する。この状態が第6図
cに対応する。
次に第5図の通路8はロータリバルブ4の働き
により低圧ヘリウムガスの通路26と連なり、そ
の結果、第三室16、第二段寒冷発生空間34内
部の高圧ヘリウムガスは断熱膨張を行ないさらに
低温となつて寒冷を発生する。この状態を第6図
dに示す。次にロータリバルブ4の働きにより、
第一室14に高圧ヘリウムガスが充てんされ、デ
イスプレーサ10は下降する。この時、第三室1
6、第二段寒冷発生空間34にある低温ヘリウム
ガスの寒冷を蓄冷器11,31で回収する。この
状態を第6図aに示す。
第6図aの状態から、第二室15、第三室16
及び第二段寒冷発生空間34に高圧ヘリウムガス
を導入するために、ロータリバルブ4の働きによ
り、高圧ヘリウムガス空間21と通路8が連な
り、第6図bの状態に戻る。このサイクルを繰り
返すことにより、冷凍機は間欠的に低温を発生で
きる。
〔考案が解決しようとする問題点〕
ところが、デイスプレーサ10は第6図に示す
ようにガス駆動式であり、いわゆるフリーピスト
ン運動となるため、往復運動の制御が難しく、従
つてシリンダ28の上下端にデイスプレーサ10
が衝突して第6図b→c及びd→aの場合振動・
騒音が発生し易い問題点がある。
そこで、本考案はデイスプレーサの往復運動の
制御が容易に得られ、往復動時に発生する振動・
騒音を低減できるガスサイクル冷凍機を提供する
ことを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本考案は前記目的を達成するために、シリンダ
28内で往復動するデイスプレーサ10を駆動す
るために連結されたガス駆動式第一ピストン9を
具備したガスサイクル冷凍機において、前記第一
ピストン9にピン46を設け、このピン46を案
内するガイド溝41を保有する第二ピストン40
を、前記第一ピストン9に対して直角方向に摺動
自在に設けると共に前記第二ピストン40の両端
に形成される2つの室42,43を各々ガス給排
気通路47,48を介して給排気制御用ロータリ
バルブ4に接続したことを特徴とするものであ
る。
〔作用〕
前記のように構成することにより、第一ピスト
ンのピン及び第二ピストンのガイド溝の働きによ
りデイスプレーサの往復運動の制御が容易とな
り、かつデイスプレーサが直接シリンダに衝突す
ることを防止できるので、振動・騒音が低減でき
る。
〔実施例〕
以下、本考案の実施例について、第1図〜第3
図を参照して説明する。はじめに第1図の原理図
および第2図の具体的な構成図により従来のガス
サイクル冷凍機と異る点を説明する。図において
40は第二ピストンで、シリンダ28内に設けら
れ、この内部を第四室42、第五室43とに区分
し、第一ピストン9に対して直角方向に摺動自在
に設けられており、第二ピストン40にはガイド
溝41が形成され、このガイド溝41は第一ピス
トン9に設けられたピン46を案内するためのも
のである。44,45は前記第二ピストン40の
外周面と前記シリンダ28の内周面に設けられた
シールである。47は前記第四室42に高圧ヘリ
ウムガスを供給・排出するためのガス給排気通
路、48は前記第五室43に高圧ヘリウムガスを
供給・排出するためのガス給排気通路、49は第
二ピストン40の端部すなわち第四室42、第五
室43と対向する部分に設けられたゴム等で作ら
れた緩衝材である。
以下、このように構成した本考案によるガスサ
イクル冷凍機の動作について第1図〜第3図を参
照して説明する。第3図(動作説明図すなわちデ
イスプレーサ10の往復動を示す図)において、
aは第四室42に高圧ガス(例えば21Kg/cm2G)、
第五室43に低圧ガス(例えば7Kg/cm2)が充填
されている状態からロータリバルブ4の働きによ
り、第四室42に低圧ガス、第五室43に高圧ガ
スが充填開始された時を示す。このときデイスプ
レーサ10は下死点にあり、第一段シリンダ28
とデイスプレーサ10の下部は互いに接触(衝
突)しないようにクリアランスを保有している。
同様に上死点においても制御板25とデイスプレ
ーサ10の上部は互いに接触(衝突)しないよう
にクリアランスを保有している。第四室42と第
五室43のガス圧力差により第二ピストン40は
第3図において左方向へ移動し、ピン46、ガイ
ド溝41の働きにより、デイスプレーサ10は上
死点方向へ動き始める。第3図bはデイスプレー
サ10が下死点から上死点へ移動する途中を示す
図である。第3図cはデイスプレーサ10が上死
点に到達した場合を示す図である。ガイド溝41
の形状を適当に設定することにより、上死点(ま
たは下死点)付近でデイスプレーサ10の移動速
度を減速することができるので、振動・騒音が低
減できる。また、上死点(または下死点)で第一
ピストン40が第五室(または第四室)と衝突す
る際、ゴム等の緩衝材49により、第一ピストン
40で発生する振動・騒音はさらに低減できる。
第3図においてa→b→cとなることによりデ
イスプレーサ10は下死点から上死点に移動し、
次に第四室42に高圧ガス、第五室43に低圧ガ
スが充填されることによりc→b→aとなり、デ
イスプレーサ10は上死点から下死点へ移動す
る。これを繰り返すことにより、デイスプレーサ
10は往復運動を行ない寒冷を発生する。
〔考案の効果〕
以上述べた本考案によれば、第一ピストンのピ
ン及び第二ピストンのガイド溝の働きによりデイ
スプレーサの往復運動の制御が容易となり、かつ
その往復運動の上下限を設定できるので、デイス
プレーサがシリンダに直接衝突することを防止で
きることから、振動・騒音を低減できるガスサイ
クル冷凍機を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案によるガスサイクル冷凍機の原
理図、第2図は第1図の具体的な構成を示す断面
図、第3図は第1図、第2図の動作説明図、第4
図は従来のガスサイクル冷凍機の原理図、第5図
は第4図の具体的な構成を示す断面図、第6図は
第5図のガスサイクル冷凍機の冷凍サイクル図で
ある。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 シリンダ28内で往復動するデイスプレーサ1
    0を駆動するために連結されたガス駆動式の第一
    ピストン9を具備したガスサイクル冷凍機におい
    て、 前記第一ピストン9にピン46を設け、このピ
    ン46を案内する中間部分が傾斜し、両端部が漸
    次傾斜が緩やかになつたガイド溝41を保有する
    第二ピストン40を、前記第一ピストン9に対し
    て直角方向に摺動自在に設けると共に、前記第二
    ピストン40の両端に形成される2つの室42,
    43を各々ガス給排気通路47,48を介して給
    排気制御用ロータリバルブ4に接続したことを特
    徴とするガスサイクル冷凍機。
JP19600086U 1986-12-20 1986-12-20 Expired JPH0452617Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP19600086U JPH0452617Y2 (ja) 1986-12-20 1986-12-20

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JP19600086U JPH0452617Y2 (ja) 1986-12-20 1986-12-20

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Publication Number Publication Date
JPS63101756U JPS63101756U (ja) 1988-07-02
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