JPH0450801A - 導電性反射防止コートを有する光学部品 - Google Patents
導電性反射防止コートを有する光学部品Info
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- JPH0450801A JPH0450801A JP2156745A JP15674590A JPH0450801A JP H0450801 A JPH0450801 A JP H0450801A JP 2156745 A JP2156745 A JP 2156745A JP 15674590 A JP15674590 A JP 15674590A JP H0450801 A JPH0450801 A JP H0450801A
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザプリンタ、ファクシミリ、光ディスク
や光磁気ディスクの記録再生装置等におけるレンズ、ミ
ラー プリズム等として特に好適に用いられる導電性反
射防止コートを有する光学部品に関する。
や光磁気ディスクの記録再生装置等におけるレンズ、ミ
ラー プリズム等として特に好適に用いられる導電性反
射防止コートを有する光学部品に関する。
従来、光学部品の透明基体上の第1層が設計入射光波長
をλ。とじて光学的膜厚λ。/4の酸化インジューム層
、その上の第2層が同様の光学的膜厚のMgF、層の2
層から成る導電性反射防止コートを有する光学部品が、
400〜700nmの範囲にある波より知られており、
また同じく第1層が光学的膜厚λ。/4のhQxo、ま
たはCeF、層、その上の第2層が適当な光学的膜厚の
5i02乃至Si0層、その上の第3層が光学的膜厚λ
。/2のインジューム乃至酸化インジューム層、その上
の第4層が第2層と同様の酸化シリコン層、その上の第
5層が光学的膜厚λ。/4のMgF 、層の5層から成
る導電性反射防止コートを有する光学部品か、同様の効
果を有する光学部品として、特公昭53−28214号
公報により知られている。
をλ。とじて光学的膜厚λ。/4の酸化インジューム層
、その上の第2層が同様の光学的膜厚のMgF、層の2
層から成る導電性反射防止コートを有する光学部品が、
400〜700nmの範囲にある波より知られており、
また同じく第1層が光学的膜厚λ。/4のhQxo、ま
たはCeF、層、その上の第2層が適当な光学的膜厚の
5i02乃至Si0層、その上の第3層が光学的膜厚λ
。/2のインジューム乃至酸化インジューム層、その上
の第4層が第2層と同様の酸化シリコン層、その上の第
5層が光学的膜厚λ。/4のMgF 、層の5層から成
る導電性反射防止コートを有する光学部品か、同様の効
果を有する光学部品として、特公昭53−28214号
公報により知られている。
しかし、実公昭49−12614号公報に記載の導電性
反射防止コートは、光学部品の透明基体がアクリル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂等の
高分子物質から成る場合、基体の耐熱性が低いことから
、第1層や第2層を蒸着する際の基体温度を200℃以
下にしなくてはならず、そのために耐環墳性特J二、耐
湿性に優れたMgF2層を形成することが困難であり、
導電性反射防止コートの耐湿性が低いと言う問題がある
。また、特公昭53−28214号公報に記載の導電性
反射防止コートは、上述の問題のほか、構成層数が多く
て生産性が低いと言う問題、および第3層がイ)ジュー
ム層の場合、吸収成分が生じるために、その成分波長の
光を入射する光学部品は光学特性が劣ったものになると
言う問題もある。
反射防止コートは、光学部品の透明基体がアクリル系樹
脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂等の
高分子物質から成る場合、基体の耐熱性が低いことから
、第1層や第2層を蒸着する際の基体温度を200℃以
下にしなくてはならず、そのために耐環墳性特J二、耐
湿性に優れたMgF2層を形成することが困難であり、
導電性反射防止コートの耐湿性が低いと言う問題がある
。また、特公昭53−28214号公報に記載の導電性
反射防止コートは、上述の問題のほか、構成層数が多く
て生産性が低いと言う問題、および第3層がイ)ジュー
ム層の場合、吸収成分が生じるために、その成分波長の
光を入射する光学部品は光学特性が劣ったものになると
言う問題もある。
なお、設計入射光波長λ。は、反射防止コートの設計波
長で、光反射率が極小になる波長を意味する。また以下
、光学的膜厚を単+:g厚とも言う。
長で、光反射率が極小になる波長を意味する。また以下
、光学的膜厚を単+:g厚とも言う。
本発明は、上述のような導電性反射防止コートの問題を
解消するためになされたものであり、導電性反射防止コ
ートの構成層数か少なくて、生産性が高く、しかも光学
部品の透明基体が高分子物質から成るものであっても耐
湿性に優れ又、剥かれが生じ難く、吸収成分の生じるこ
とがなくて、少なくとも400〜800nmの範囲にあ
る任意の波長を設計入射光波長λ。に設定することがで
きて、λ。
解消するためになされたものであり、導電性反射防止コ
ートの構成層数か少なくて、生産性が高く、しかも光学
部品の透明基体が高分子物質から成るものであっても耐
湿性に優れ又、剥かれが生じ難く、吸収成分の生じるこ
とがなくて、少なくとも400〜800nmの範囲にあ
る任意の波長を設計入射光波長λ。に設定することがで
きて、λ。
の波長の入射光に対し安定して高い透光性すなわち反射
防出効果を与え、帯電による埃等の付着も効果的に防止
する導電性反射防止コートを有する光学部品の提供を目
的とする。
防出効果を与え、帯電による埃等の付着も効果的に防止
する導電性反射防止コートを有する光学部品の提供を目
的とする。
本発明は、基体温度が低くても蒸着により容易に耐湿性
に優れて剥がれにくい薄膜を形成し得て、比抵抗が10
12Ω・cm程度と冨ったように高いSiO□でも、こ
れを導電性と透光性の高い適当な膜厚の酸化インジュー
ムと酸化錫との混合物層・:170層)又は屈折率が2
.0〜1.9である170層と略等に形成すれば、表層
をMgF2層にした場合に優るとも劣らない、帯電によ
る埃等の付着の防止効果と高い透光性を与える導電性反
射防止コートが得られることを本発明者らが見出した結
果なされたものであり、導電性反射防止コートを有する
光学部品において、導電性反射防止コートが、設計入射
光波長をλ0として、光学部品の透明基体上の第1層の
膜厚d1がλ。/70≦d工≦λ。/20を満足する酸
化インジュームと酸化錫の混合物層又(=酸化錫と酸化
アンチモンの混合物層又は酸化イ)・ジューム層又は酸
化錫層と、その上の第2層の71*厚d2がλ、15≦
d2≦λ。72.5を満足する酸化シリコン層とから成
ることを特徴とする導電性反射防止コートを有する光学
部品にあり、この構成によって前記目的を達成する。
に優れて剥がれにくい薄膜を形成し得て、比抵抗が10
12Ω・cm程度と冨ったように高いSiO□でも、こ
れを導電性と透光性の高い適当な膜厚の酸化インジュー
ムと酸化錫との混合物層・:170層)又は屈折率が2
.0〜1.9である170層と略等に形成すれば、表層
をMgF2層にした場合に優るとも劣らない、帯電によ
る埃等の付着の防止効果と高い透光性を与える導電性反
射防止コートが得られることを本発明者らが見出した結
果なされたものであり、導電性反射防止コートを有する
光学部品において、導電性反射防止コートが、設計入射
光波長をλ0として、光学部品の透明基体上の第1層の
膜厚d1がλ。/70≦d工≦λ。/20を満足する酸
化インジュームと酸化錫の混合物層又(=酸化錫と酸化
アンチモンの混合物層又は酸化イ)・ジューム層又は酸
化錫層と、その上の第2層の71*厚d2がλ、15≦
d2≦λ。72.5を満足する酸化シリコン層とから成
ることを特徴とする導電性反射防止コートを有する光学
部品にあり、この構成によって前記目的を達成する。
すなわち本発明の光学部品は、上述の2′層構成の導電
性反射防止コートを有することによって、生産性か高く
、少なくとも400〜800nmの範囲にある波長λ。
性反射防止コートを有することによって、生産性か高く
、少なくとも400〜800nmの範囲にある波長λ。
の入射光に対して透光性に優れ、帯電により埃等の付着
することも少なく、導電性反射防止コートが耐湿性に優
れて剥がれにくし・。
することも少なく、導電性反射防止コートが耐湿性に優
れて剥がれにくし・。
以下、本発明を実施例によって説明する。
′M1図は本発明の光学部品の模式的断面図であり、1
はアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチ
レン系樹脂等の高分子物質、あるいは各種ガラス、弗化
リチウムや弗化カルシウム等の無機物質から成るレンズ
、プリズム、ミラー等の光学部品形状を有する透明な基
体、2は第1層の酸化インジューム(Into、、)と
酸化錫(Sn、O□)の混合物から成る170層又は酸
化錫と酸化アンチモンの混合物層又は酸化インジューム
層又は酸化錫層、3は第2層のSiO2を主体とした酸
化シリコンすなわち5inx層である。第1層2はIT
o層又は酸化錫と酸化アンチモンの混合物層であること
が好ましい。第1層がITo層の場合、In、O。
はアクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチ
レン系樹脂等の高分子物質、あるいは各種ガラス、弗化
リチウムや弗化カルシウム等の無機物質から成るレンズ
、プリズム、ミラー等の光学部品形状を有する透明な基
体、2は第1層の酸化インジューム(Into、、)と
酸化錫(Sn、O□)の混合物から成る170層又は酸
化錫と酸化アンチモンの混合物層又は酸化インジューム
層又は酸化錫層、3は第2層のSiO2を主体とした酸
化シリコンすなわち5inx層である。第1層2はIT
o層又は酸化錫と酸化アンチモンの混合物層であること
が好ましい。第1層がITo層の場合、In、O。
とSnO□の混合割合は、蒸着時の基体温度に対して安
定して高い導電性が得られる点から、SnO2の含有量
を50重量%以下好ましくは5〜10重量%とするのが
よい。SnO□の含有量が5重量%より少ないと、蒸着
時の基体温度を100℃以上にしたとき導電性が低下傾
向を示し、50重量%より多くなると、基体温度がi
o o ’c以下においても導電性が低下傾向を示して
、Sin、層である第2層3の表面電気抵抗が高くなり
、埃等の付着防止効果が得にくくなる。第1層2が酸化
錫と酸化アンチモンの混合物層の場合は酸化アンチモン
の含有量が5〜lO重量%であることが同様に好ましい
。
定して高い導電性が得られる点から、SnO2の含有量
を50重量%以下好ましくは5〜10重量%とするのが
よい。SnO□の含有量が5重量%より少ないと、蒸着
時の基体温度を100℃以上にしたとき導電性が低下傾
向を示し、50重量%より多くなると、基体温度がi
o o ’c以下においても導電性が低下傾向を示して
、Sin、層である第2層3の表面電気抵抗が高くなり
、埃等の付着防止効果が得にくくなる。第1層2が酸化
錫と酸化アンチモンの混合物層の場合は酸化アンチモン
の含有量が5〜lO重量%であることが同様に好ましい
。
以上の第1層2の膜厚d+は、入射光りの波長をλ。と
すると、λ。/70〜λ。/20の範囲にあることが必
要であり、λ0/50〜λ。/25の範囲にあることが
好ましい。また、第2層3の膜厚d、は、λ。
すると、λ。/70〜λ。/20の範囲にあることが必
要であり、λ0/50〜λ。/25の範囲にあることが
好ましい。また、第2層3の膜厚d、は、λ。
15〜λ。/2,5の範囲にあることが必要であり、λ
′。
′。
73〜λ。72.7の範囲にあることが好ましい。膜厚
d1とd2の反射防止効果および帯電防止効果に及ぼす
影響は以下述べる通りである。
d1とd2の反射防止効果および帯電防止効果に及ぼす
影響は以下述べる通りである。
基体1として透明なアクリル系機脂板を用い、基体温度
を25〜30℃に保って、例えばSn含有量か5−10
重量%、25mm l、厚さ5mmのITOタブレット
を蒸着材料とし、特公昭56−40449号公報に記載
の電子銃加熱と高周波放電を用いた反応蒸着法により酸
素ガスを導入しながらガス圧力2〜3X 10−’To
rr、蒸漕速度5−3OA /secの条件で170層
の第1層2を蒸着する。次に同様に基体温度を保って、
粒状5108を蒸着材料とし、同様の反応蒸着法により
酸素ガスを導入しながらガス圧力1〜2 X 10−’
Torr、蒸着速度20−30人/secの条件でwE
1層2上にSin、層の第2層3を蒸着する。これによ
り第1層2の膜II dsと第2層3の膜厚d2が種々
異なる組合わせの多数の光学部品を作り、それを表1の
ように分類した。そして、波長λ。の入射光りに対する
反射率、表面の帯電防止効果、70℃、90%RHの雰
囲気に1週間放置した後の膜剥離と光学特性の劣化の有
無によって判定し、た耐環・境性を分類別に第1表に合
わせて示した。
を25〜30℃に保って、例えばSn含有量か5−10
重量%、25mm l、厚さ5mmのITOタブレット
を蒸着材料とし、特公昭56−40449号公報に記載
の電子銃加熱と高周波放電を用いた反応蒸着法により酸
素ガスを導入しながらガス圧力2〜3X 10−’To
rr、蒸漕速度5−3OA /secの条件で170層
の第1層2を蒸着する。次に同様に基体温度を保って、
粒状5108を蒸着材料とし、同様の反応蒸着法により
酸素ガスを導入しながらガス圧力1〜2 X 10−’
Torr、蒸着速度20−30人/secの条件でwE
1層2上にSin、層の第2層3を蒸着する。これによ
り第1層2の膜II dsと第2層3の膜厚d2が種々
異なる組合わせの多数の光学部品を作り、それを表1の
ように分類した。そして、波長λ。の入射光りに対する
反射率、表面の帯電防止効果、70℃、90%RHの雰
囲気に1週間放置した後の膜剥離と光学特性の劣化の有
無によって判定し、た耐環・境性を分類別に第1表に合
わせて示した。
なお、反射率を測定した波長λ0は設計波長であり、反
射率R%は2≧Rを非常に良好の0.2くR≦3を良好
の△、3<Rを不十分の×とした。
射率R%は2≧Rを非常に良好の0.2くR≦3を良好
の△、3<Rを不十分の×とした。
帯電防止効果は、東亜電機製表面電気抵抗測定器5M−
10Eを用いて中央電極と周囲電極間に100OVの電
圧を印加する条件で表面電気抵抗を測定し、その値が、
同じ基体l上に170層をλ。/4の膜厚に形成し、そ
の上にMgF 2ペレツトを蒸着材料として電子銃加熱
を用いた真空蒸着法によりλ。/4の膜厚のMgF、層
を形成した、参考例の光学部品の同じ条件で測定した表
面電気抵抗と同オーダ以下のものを良好の01それより
高オーダのものを不十分の×として示した。また耐環境
性は、膜剥離も光学特性の劣化も認められないものを良
好の01認められたものを不良のXで示した。
10Eを用いて中央電極と周囲電極間に100OVの電
圧を印加する条件で表面電気抵抗を測定し、その値が、
同じ基体l上に170層をλ。/4の膜厚に形成し、そ
の上にMgF 2ペレツトを蒸着材料として電子銃加熱
を用いた真空蒸着法によりλ。/4の膜厚のMgF、層
を形成した、参考例の光学部品の同じ条件で測定した表
面電気抵抗と同オーダ以下のものを良好の01それより
高オーダのものを不十分の×として示した。また耐環境
性は、膜剥離も光学特性の劣化も認められないものを良
好の01認められたものを不良のXで示した。
第1表は、設計波長λ。が500層mについての結果で
あるが、400〜800nmの範囲の他の波長を設計波
長λ0としてもこれと殆ど変わらない。すなわち、17
0層の第1層2の膜厚d1がλ。/70〜λ。/20の
範囲から外れてもSiOx層の第2層3の膜厚d。
あるが、400〜800nmの範囲の他の波長を設計波
長λ0としてもこれと殆ど変わらない。すなわち、17
0層の第1層2の膜厚d1がλ。/70〜λ。/20の
範囲から外れてもSiOx層の第2層3の膜厚d。
がλ0/5〜λ。72.5の範囲から外れても反射率が
大きくなって、導電性反射防止コートの逆光性が悪くな
るし、また第1層2の膜厚d、が薄くなり過ぎると帯電
防止効果が得られなくなる。そして、Sin、層を表層
の第2層とした導電性反射防止コートは耐環境性は良好
である。特に、分類N008の範囲が反射率が低くて良
い特性の導電性反射防止コートを与える。
大きくなって、導電性反射防止コートの逆光性が悪くな
るし、また第1層2の膜厚d、が薄くなり過ぎると帯電
防止効果が得られなくなる。そして、Sin、層を表層
の第2層とした導電性反射防止コートは耐環境性は良好
である。特に、分類N008の範囲が反射率が低くて良
い特性の導電性反射防止コートを与える。
500層mの設計波長λ。に対して分類No、12に属
する第1層2の膜厚d、が21nm、第2層3の膜厚d
2が172r+a+の光学部品実施例1と、同じく分類
N008に属する第1層2の膜厚d、がlOnm、第2
層3の膜厚d2が172層mの光学部品実施例2と、同
じく分類N024に属する第1層2の膜厚d、が9nm
、第2層3の膜厚d、が98nmの光学部品比較f11
の入射光りの波長λを400〜700nmの領域で変化
させた場合の反射率の変化を第2図に示した。この第2
図から、分類N078に属する実施例2は設計波長50
0nmで最少の反射率を示し、分類NO,12に属する
実施例1は設計波長で通常使用し得る反射率2〜3%を
達成していること、および入射光の波長が設計波長から
多少ずれても帯電反射防止コートの透光性は余り低下し
ないことが分かる。実施例Iと同様な反射率の傾向は分
類No、3.7.9でも得′られる。
する第1層2の膜厚d、が21nm、第2層3の膜厚d
2が172r+a+の光学部品実施例1と、同じく分類
N008に属する第1層2の膜厚d、がlOnm、第2
層3の膜厚d2が172層mの光学部品実施例2と、同
じく分類N024に属する第1層2の膜厚d、が9nm
、第2層3の膜厚d、が98nmの光学部品比較f11
の入射光りの波長λを400〜700nmの領域で変化
させた場合の反射率の変化を第2図に示した。この第2
図から、分類N078に属する実施例2は設計波長50
0nmで最少の反射率を示し、分類NO,12に属する
実施例1は設計波長で通常使用し得る反射率2〜3%を
達成していること、および入射光の波長が設計波長から
多少ずれても帯電反射防止コートの透光性は余り低下し
ないことが分かる。実施例Iと同様な反射率の傾向は分
類No、3.7.9でも得′られる。
また、前述と同様の基体1上に、酸化錫と酸化アンチモ
ンの混合物、例えば酸化アンチモンの含有量が5重量%
の混合物を用いて170層の形成と同様の方法で第1層
2を蒸着し、その上に前述と同様に810、層の第2層
3を蒸着して、第1層2の膜厚d1及び第2層3の膜厚
d2か種々異なる光学部品を得、それらについて同様に
反対案、帯電防止効果、耐環境性を測定したところ、第
1層2に170層を用いた表1と同様な軸条が得られた
。
ンの混合物、例えば酸化アンチモンの含有量が5重量%
の混合物を用いて170層の形成と同様の方法で第1層
2を蒸着し、その上に前述と同様に810、層の第2層
3を蒸着して、第1層2の膜厚d1及び第2層3の膜厚
d2か種々異なる光学部品を得、それらについて同様に
反対案、帯電防止効果、耐環境性を測定したところ、第
1層2に170層を用いた表1と同様な軸条が得られた
。
本発明の導電性反射防止コートを有する光学部品は、生
産性が高く、光学部品の透明基体が高分子物質から成る
ものであっても導電性反射防止コートの耐湿性が優れて
、剥離が生じ難く、導電性反射防止コートが設計波長の
入射光に対して安定した高い透光性を与え、帯電による
択等の付着も少ないと言う優れた特長を有する。
産性が高く、光学部品の透明基体が高分子物質から成る
ものであっても導電性反射防止コートの耐湿性が優れて
、剥離が生じ難く、導電性反射防止コートが設計波長の
入射光に対して安定した高い透光性を与え、帯電による
択等の付着も少ないと言う優れた特長を有する。
第1図は本発明の光学部品の模式的断面図、第2図は本
発明の光学部品と比較部品の反射率スペクトルグラフで
ある。
発明の光学部品と比較部品の反射率スペクトルグラフで
ある。
Claims (2)
- (1)導電性反射防止コートを有する光学部品において
、導電性反射防止コートが、設計入射光波長をλ_0と
して、光学部品の透明基体上の第1層の光学的膜厚d_
1がλ_0/70≦d_1≦λ_0/20を満足する酸
化インジュームと酸化錫の混合物層又は酸化錫と酸化ア
ンチモンの混合物層又は酸化インジューム層又は酸化錫
層と、その上の第2層の光学的膜厚d_2がλ_0/5
≦d_2≦λ_0/2.5を満足する酸化シリコン層と
から成ることを特徴とする導電性反射防止コートを有す
る光学部品。 - (2)前記第1層の膜厚d_1がλ_0/50≦d_1
≦λ_0/25を満足し、前記第2層の膜厚d_2がλ
/3≦d_2≦λ/2.7を満足する特許請求の範囲第
1項記載の導電性反射防止コートを有する光学部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2156745A JPH0450801A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 導電性反射防止コートを有する光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2156745A JPH0450801A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 導電性反射防止コートを有する光学部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0450801A true JPH0450801A (ja) | 1992-02-19 |
Family
ID=15634390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2156745A Pending JPH0450801A (ja) | 1990-06-14 | 1990-06-14 | 導電性反射防止コートを有する光学部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0450801A (ja) |
-
1990
- 1990-06-14 JP JP2156745A patent/JPH0450801A/ja active Pending
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