JPH04505371A - パーフルオロポリマーでコートされているペリクル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 パーフルオロポリマーでコートされているペリクル発明の背景 感光性基質もしくはウェーハ上に画像を生じさせるための引き伸ばしシステムは 、集積回路製造においてフォトレジストでコートされている半導体ウェーハの露 光を行うために特に適切である。これらのシステムは、通常、それらの１つの表 面に形成された不透明および透明領域から成るパターンと共に透明基質を有する フォトマスクもしくは焦点板（以後「マスク」と呼ぶ）、このマスクを通して光 または紫外線の如き放射エネルギーを有する光線を該ウェーハに向けるための照 射システム、該ウェーハ上に焦点を合わせた該マスクパターンの画像を形成する ための光学手段、並びにいかなる埃の粒子の画像も該マスクの表面上で焦点が合 わないようにしておくためのペリクル、を含んでいる。

ペリクルは、フレーム上に支持されている自立性の薄い光学フィルムである。通 常、このフレームは該マスクに取り付けられており、そして該光学フィルムは、 与えられた距離で該マスク表面から離れて位置している。該マスク上に止められ るかさもなければ該ウェーハ上に投射されるところの埃の粒子は、代わりに該ペ リクル上に止められれそして脱焦点される。その結果、ペリクルが通常の引き伸 ばしシステムで用いられている場合、１個以上の埃の粒子が存在していても、与 えられたウェーハの収率に影響を与えることなく、収率は有意に改良され得る。

理想的には、ペリクルは、該引き伸ばしシステムの放射エネルギーが当てられた とき見えるようであってはならない。即ち、透明で明確なパターンを製造するた めには、該ペリクルの光学フィルムは、この引き伸ばし工程中に用いられる放射 エネルギーの全てを、反射させることなく透過させるべきである。

過去において、典型的にはニトロセルロースから製造された単層ペリクルが用い られてきた。縮小化が進行するにつれて、このパターン素子は益々小さくなり、 そしてこのペリクルフィルムの光学的透過性が益々不充分になってきた。ペリク ルフィルムの光学的透過性を上昇させるため、即ちそれらの光学的反射性もしく は表面の輝きを減少させるため、即ち透明で明確なパターンを製造するため、種 々の抗反射性コーティングを用いた多層ペリクルが以前に提案された。このよう なコーティングには、良好な光学特性を与えるフルオロポリマー類が含まれてい た。しかしながら、光学的特性と、ペリクルに用いられるコア材料に対する接着 性と、の最も可能性のある組み合わせを示すところの、抗反射コーティングの製 造に対して一定した努力が向けられてきた。

発明の要約 本発明は、優れた光学特性とペリクルのコアに対する接着性とを有するコーティ ングの備わっている改良されたペリクルを提供するものである。

この直ぐに利用できる発明は、詳細には、密封支持フレームの端に密着している 光学的に透明なフィルムから成るペリクルにおいて、屈折率が約１．３５〜１． ８０でありそして厚さが約０．３〜２０ミクロンのコア層から成るフィルムを提 供することにあり、この改良は、該フィルムが更に、テトラフルオロエチレン、 パーフルオロ（アルキルビニル）エーテル、そしてパーフルオロポリマーの少な くとも約０．０５重量％のヨード部分、をランダム共重合させた単位を有するパ ーフルオロポリマーから成る少な（とも１層の抗反射層を含むことから成る。

図の簡単な説明 図１は、マスク上に位置させた本発明のペリクルに関する図式的断面図である。

図２Ａ、２Ｂおよび２Ｃは、本発明のペリクルに使用できるフィルムの断面図で ある。

発明の詳細な説明 本発明のペリクルには、コア層と、このコア層の少なくとも１つの表面上の少な くとも１層のパーフルオロポリマーフィルムと、が含まれている。

このペリクルフィルムの該コア層は、約１．３５〜１．８０の屈折率を有しそし て約０．３〜２０ミクロンの厚さを有している。好適には、このコア層は約１． ５１の屈折率と約０．８〜３．０ミクロンの厚さを有している。コートされてい ないペリクルの製造において、本発明のコア層として本分野の公知の材料が使用 できる。これらの材料から、低レベルの粒子および低い入射光吸収を有するとこ ろの、本質的に均一な厚さを有する自立性の単離可能フィルムが製造され得る。

この種類のフィルムは、その厚さが１インチ当たり露光周波数の約２波長以内で 変化する場合、均一であると考えられる。「低レベルの粒子」は、該フィルムが ペリクル当たり２０個以内の可視粒子を有しておりそして２０ミクロンより大き い粒子を含有していていないことを意味している。「低吸収」は、約１％未満の 入射光が該フィルムによって吸収されることを意味している。

好適には、このコア層は、ポリカーボネート類、ポリアクリレート類、ポリビニ ルブチラード類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、並びにセルロース 誘導体、例えば酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロースまたはニトロセルロースか ら成る群から選択されるポリマーから成っている。ニトロセルロースフィルムが 特に満足できるものであり、従って好適であることが見いだされた。

本発明の中心となる特徴は、該コア層の少な（とも１つの表面上の、少なくとも 約０．０５重量％のヨード部分を有する〕く−フルオロポリマーのコーティング である。このパーフルオロポリマー類、テトラフルオロエチレン（Ｔ　Ｆ　Ｅ） およびパーフルオロ（アルキルビニル）エーテルの基本的成分そしてそれらの重 合は、ｌ１ａｒｒｉｓ他の米国特許番号３．１３２．１２３（これはここでは参 照にいれられる）中に記述されている。７〜フルオロ（アルキルビニル）エーテ ル類の中で、パーフルオロ（メチルビニル）エーテル（ＰＭＶＥ）が特に満足で きることが見いだされた。本発明で使用できる他のパーフルオロ（アルキルビニ ル）エーテル類番二は、パーフルオロ（アルコキシアルキルビニル）エーテル類 、例えばＦｒ１ｔｚ他の米国特許番号３．２９１．８４３　（これもまたここで は参照にいれられる）中に記述されているものが含まれる。これらのノ（−フル オロ（アルコキシアルキルビニル）エーテル類の中で、パーフルオロ（５−メチ ル−３゜６−シオキサー１−ノネン）が特に満足できるものがことが見いだされ た。

Ｂｒｅａｚｅａｌｅの米国特許番号４．２８１．０９２中に記述されているシア ノ置換ノく一フルオロビニルエーテル類、並びにＡｐｏｔｈｅｋｅｒ他の米国特 許番号４．０３５゜５６５（これらの両方共二二では参照にいれられる）中に記 述されているブロモ置換モノマー類を含む幅広い種類の他のモノマー類を、これ らのポリマー類中に組み込むことができる。該ペリクルコアのコーティング用と して用いられるパーフルオロポリマー類は、好適には、該パーフルオロポリマー のバックボーンに沿ってランダムに分配されている上記追加的モノマー類を含有 している。

本発明の中心となる点は、このパーフルオロポリマーがヨウ素部分を含むことで ある。式ＲＩＸ［式中、Ｒは、炭化水素、或は１〜８個の炭素原子を有する飽和 フルオロカーボンもしくはクロロフルオロカーボン残基であり、そしてＸは、該 残基Ｒの原子価に相当して、１または２の整数であるコで表されるヨウ素含有化 合物の存在下、上記基本的モノマー類をラジカル共重合させることによって、本 組成物中のこのヨード部分を組み込むことができる。

このラジカル開始させた共重合過程において、該ヨード化合物は連鎖移動剤とし て働き、その結果、テロメリゼーション重合過程をもたらし、ここで、不安定な ヨウ素含有鎖末端が生成し、そしてこのヨード化合物の残基が該ポリマー饋の他 の末端に付着する。このヨード化合物が２つのヨード基を有している場合、この フルオロポリマー鎖は、その結果、各々の末端にヨウ素基を有し、そしてこのテ ロメリゼーション重合過程が該ポリマー鎖の各々の端で生じる。

本発明で使用されるパーフルオロポリマーの製造に使用できるヨード化合物には 、例えば、炭化水素残基を基とするもの、例えばヨウ化メチレン、１，４−ショ ートブタン、およびヨウ化ブチル、そして飽和フルオロカーボンもしくはクロロ フルオロカーボン残基を基とするもの、例えばモノヨードパーフルオロメタン、 ショートメタン、モノヨードパーフルオロエタン、モノヨードパーフルオロプロ パン、モノヨードプロパン、１，３−ショートパーフルオロ−〇−プロパン、１ ．４−ショート−ｎ−ブタン、１．４−ショートパーフルオロ−ｎ−ブタン、１ ．３−ショート−２−クロロパーフルオロ−ｎ−プロパンおよび１．５−ショー ト−２，４−ジクロロ−パーフルオロ−ｎ−ペンタンなどが含まれる。

使用できる他のヨード化合物には、米国特許番号４．２４３．７７０　（これは ここでは参照にいれられる）中に記述されているものが含まれる。

使用されるヨード化合物の量は、幅広い連鎖移動を生じさせ、その結果、少なく とも約０．０５重量％のヨウ素を該パーフルオロポリマー中に組み込むに充分な 程高くあるべきである。該ヨウ化アルキルによる高い連鎖移動効率により、所望 の流動性および加工特性のための、より低い化合物粘度、そして典型的には約２ 〜３のＭｗ／Ｍｎ値を有する比較的狭い分子量分布を有するパーフルオロポリマ ーが得られる。

一般に、このポリマー中のヨウ素濃度は、該パーフルオロポリマー組成物を基準 にして約０．０５〜１．０重量％、好適には０．　１〜０．　５重量％であるべ きである。このフルオロポリマー中の濃度は、該重合媒体中のヨウ化アルキルの 濃度、並びに連鎖移動効率に影響を与える重合条件に依存している。ヨウ素含有 量に関する上限は、おおよそ、ポリマー粘度に関する実際的な下方限度に相当し ている、というのは、ヨウ素濃度が高すぎると、より低い分子量と粘度を有する ポリマーが生じるからである。このパーフルオロポリマー中のヨウ素濃度は、通 常の分析技術、例えば元素分析で測定され得る。

このコーティング中で用いられるパーフルオロポリマー類の成分は、例えば前記 米国特許番号４．２８１．０９２および４．０３５．５６５中に記述されている ように、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ（アルキルビニル）エーテルお よび硬化部位の七ツマ−から成る共重合体の製造で一般的に用いられている量で 存在している。このポリマー鎖に沿ってランダムに位置しているブロモ−もしく はシアノ−硬化部位と一緒に、該ヨード部分が存在しているのが特に好適である 。約０．　１〜０．　５重量％の臭素、或は約０．１〜０．　５重量％のシアノ 基から成る濃度のとき、特に良好な加工特性が得られることが見いだされた。

本発明で使用されるパーフルオロポリマー類は、例えば前記米国特許番号４．２ ８１．０９２および４．０３５．５６５中に記述されているように、連続して撹 拌されているタンク反応槽中、パーフルオロポリマー類製造に以前がら用いられ ている一般的反応条件下で、フリーラジカル乳化重合することによって製造でき る。特に、約２〜８ＭＰａの圧力および１０〜２４０分の滞留時間における重合 温度は、約４０〜１３０℃、好適には約７０〜１１５℃の範囲であり得る。フリ ーラジカルの発生は、水溶性開始剤、例えば過硫酸アンモニウムを用い、熱分解 によるか、或は亜硫酸ナトリウムの如き還元剤との反応によって生じさせる。該 ヨウ化アルキルは、反応槽に直接か或は溶液として送り込むことができる。開始 剤のレベルは、開始剤断片から生じる基よりもヨウ素末端基が多くなるように、 充分に低く押える。これにより、所望の低いポリマー粘度と高い溶解性がもたら される。通常、ｐＨを３〜７の範囲に調節するため、水酸化ナトリウムの如き塩 基、或は燐酸二ナトリウムの如き緩衝剤を添加すると共に、不活性な界面活性剤 、例えばパーフルオロカプリル酸アンモニウムを用いて、該ポリマーの分散を安 定化させる。

重合後、減圧下で蒸発させることにより未反応のモノマーを反応槽流出ラテック スから除去する。凝固、例えば酸を添加することによりｐＨを約３に下げた後、 塩溶液、例えば水中の硝酸カルシウム、硫酸マグネシウム、または硫酸カリウム アルミニウムを加え、そしてポリマーからしよう液を分離し、水で洗浄した後、 湿ったポリマーを乾燥することによって、ラテックスからポリマーを回収するこ とができる。

本発明の好適な抗反射層は、約０．０８〜０．５重量％のヨード部分で改質され ているところの、４０〜６０重量％のＴＦＥ、３５〜５５重量％のパーフルオロ （メチルビニル）エーテル（ＰＭＶＥ）および０〜５重量％のパーフルオロ−（ ８−シアノ−５−メチル−３，６−シオキサー１−オクテン）（８−ＣＮＶＥ） の非晶質ポリマーから成り、そして約１．３２の屈折率を有する。

物理学の確立された法則に従って、この抗反射層の最適な厚さは、この抗反射層 材料の屈折率および使用されるエネルギーの波長に応じて変化する。例えば、単 一透明層は、この層の屈折率がそれが施工されている基質の屈折率よりも小さく そしてこの層が適当な厚さのものである場合、表面反射を減少させる。この層材 料の屈折率が該基質の屈折率の平方根と全く同じである場合、光の全ての表面反 射は、屈折率と厚さの積がその波長の１／４と同じである波長に関して消失する 。他の波長に関しては、該抗反射層の上面から反射される光と底面から反射され る光との間の破壊的干渉は完全でないが、しかしながら、全体的反射の減少は有 る。

該パーフルオロポリマー類は、該コア層の片側もしくは画側上にコートされて、 ペリクルフィルムを生じさせる。これらのパーフルオロポリマー類は、その基本 となる層に不相溶性でありそして施工後蒸発して均一な抗反射層を生じさせる溶 媒を用いて施工することができる。不相溶性の溶媒は、いかなる基本層も溶解さ せないか或は劣化させないものである。上記溶媒には、フルオロカーボン類、例 えばＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ”　ＦＣ−４０Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄ として市販されているもの、パーフルオロトリアルキルアミン類、例えば３Ｍ　 Ｃｏｍｐａｎｙ、　Ｓｔ、　Ｐａｕｌ、關からＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔＲＦＣ−７ ５Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄとして市販されているもの、３Ｍ　Ｃｏ ｍｐａｎｙＳＳｔ、　Ｐａｕｌ、ＭＮが市販しているパーフルオロ（２−ブチル テトラヒドロフラン）、並びに３００〜１０００の典型的な分子量範囲を有しそ して３Ｍ　Ｃｏｍｐａｎｙ、Ｓｔ、　Ｐａｕｌ、ＭＮからＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ ’　ＦＣ−７７Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌｉｑｕｉｄとして市販されているとこ ろの、完全フッ素置換されている有機化合物が含まれる。

本発明のコートされたペリクルフィルムは、従来技術、例えば日本特許公開番号 ６０−２３７４５０で公知の方法により製造できる。

好適な方法において、該コア層は、溶媒にコア層生成材料を溶解した後、ガラス 製の基質上にその溶液をスピンコーティングすることによって製造される。スピ ンコーティングに適切な溶液は、その基質を湿らせ、この基質上に均一なコーテ ィングを生じ、そして均一に乾燥するものであるべきである。この溶液を該スピ ニング用基質上にコートした後、スピニングを停止させ、そしてこのコーティン グを加熱して溶媒を蒸発させることで、均一なコア層が生じる。引き上げ用フレ ーム上の該基質からこの均一なコア層を単離する。この引き上げ用フレームをス ピンコーター上に乗せ、そして該パーフルオロポリマーの適切な溶液をスピンコ ーティングすることによって、該コア層上に抗反射コーティングが得られる。こ のパーフルオロポリマーの適切なスピンコーティング溶液は、該コア層に対して 不相溶性（即ち、溶解させないかさもなければ劣化させない）の溶媒に非晶質ポ リマーを溶解させることによって製造される。

抗反射層を該コア層の両側上に存在させることが望まれている場合、該引き上げ 用フレームをそのスピンコーターから持ち上げて外し、１８０度回転させて、そ のコア層の反対側を暴露した後、該スピンコーター上に再び乗せる。その後、こ のコア層の反対側に該ポリマー溶液を上述したのと同様にコートする。

この抗反射層の最適な厚さは、この抗反射層材料の屈折率および使用エネルギー の波長に応じて変化する。例えば、単一透明層は、この層の屈折率がそれが施工 されている基質の屈折率よりも小さくそしてこの層が適当な厚さのものである場 合、表面反射を減少させる。この層材料の屈折率が該基質の屈折率の平方根と全 く同じである場合、光の全ての表面反射は、屈折率と厚さの積がその波長の１／ ４と同じである波長に関して消失する。他の波長に関しては、該抗反射層の上面 から反射される光と底面から反射される光との間の破壊的干渉は完全でないが、 しかしながら、全体的反射の減少は有る。

このコートされたコア層と、それが取り付けられてる引き上げ用フレームとを、 該スピンコーターから取り外した後、加熱して溶媒を蒸発させる。この得られる フィルムを、次に、適切な接着剤により密封支持フレームに適度に接着させた後 、該引き上げ用フレームよりも小さい該支持フレームに交差させてぴったりと引 き伸ばす。この接着させたフィルムの反対側にある該支持フレームの側を、マス クの表面にしっかりと取り付け、そしてこのマスクの表面上のパターンの上に該 ペリクルフィルムを浮かせて置く。このコア層の片側の上のみに抗反射層が存在 している場合、この反射層の無い側を、好適には該支持フレームに接着させる。

もしこのペリクルフィルムの両側に抗反射層が有る場合、どちらかの側を該支持 フレームに接着させてもよい。

通常のにかわおよび接着剤がこのフィルムを該フレームに接着させるために使用 できるが、但しこのにかわもしくは接着剤が該コア層用の溶媒を含有していない ことを条件とする。二者択一的に、加熱圧縮積層によりこのフィルムを該フレー ムに接着させることができる。好適には、本発明において、ＵＶ硬化可能（即ち 、紫外線光に暴露したとき硬化）液状接着剤、例えばＮｏｒｌａｎｄ　Ｐｒｏｄ ｕｃｔｓ、　Ｉｎｃ、からＮｏｒｌａｎｄ　０ｐｔｉｑａｌ＾ｄｈｅｓｉｖｅ　 ８１として市販されているものが使用される。

本発明の該密封支持フレームは、該ペリクルフィルムが触れないように、そして 該フレームがこのマスクもしくは焦点板の表面加工を妨害しないような、フォト マスクもしくは焦点板への付着に適切ないかなる形もしくは大きさのものでもあ り得る。典型的には、この支持フレームは、直径が１〜６インチの円形であるか 、或は１〜６インチの辺を有する四角形である。この支持フレームの材料は、高 強度を有し、埃が付きづらく、そして軽量であるべきである。硬質プラスチック 、およびアルミニウムの如き金属、並びにアルミニウム合金は全て、この支持フ レームに使用され得る。アルミニウム合金、特に、機械加工された陽極酸化アル ミニウムが特に満足できるものであることが見いだされ、従って好適である。

本発明は、図を参照することによって更に良く理解されるであろう。

ここで、図１はペリクルを付けたマスクを示している。マスク３は透明であり、 典型的にはシリカから成っている。パターン４は、マスク３の上面上にコートさ れている。このパターンは、支持フレーム２に含まれており、そしてペリクルフ ィルム１でカバーされている。このペリクルフィルム１は、図２Ａ中により詳細 に示されており、そしてその両側に抗反射層１１を有するコア層１０から成って いる。本発明の他の具体例が図２Ｂおよび図２０に示されている。図２Ｂ中、抗 反射層１１はコアの上側上にのみ存在しており、一方、図２Ｃ中、抗反射層１１ はコアの底側にのみ存在している。放射エネルギーは、このペリクルフィルムの 上にある光源から、このフィルム、パターンおよびマスクを通して、フォトレジ ストがコートされているウェーハ上に投射されて、集積回路が製造される。

本発明中のペリクルフィルムをコートするために用いられる非晶質パーフルオロ ポリマー類は、ペリクルの抗反射層に特に望ましい特性を示す。上記特性には、 幅広い範囲の波長を有する光の低い吸収性および分散性、たるみを減少させる低 い水吸収性、露光の繰り返しを可能にするより高い持続性、低い反射率、粒子接 着を減少させる低い表面エネルギー、並びに溶媒および洗浄剤に対する良好な耐 化学薬品性が含まれる。

加うるに、これらのパーフルオロポリマー類は、ペリクル構成に典型的に用いら れる該コアフィルムに対して際だった接着性を示し、そして同様に、ペリクルの アセンブリに用いられる接着剤との相溶性を示す。

前記考察および下記の実施例は主に、コア層と、この片側もしくは両側上にパー フルオロポリマーの抗反射層と、を有する薄い光学フィルムを意図したものであ るが、本発明はそれによって限定されるものではない。通常の技術者は、追加的 層、例えば静電防止層および共同して働く抗反射層もまた、本発明のこの薄い光 学フィルムの一部と成り得ることを理解するであろう。スピンコーティングの如 き通常の方法が、追加的層を有するこれらのフィルムの製造に使用されてもよい 。

以下の実施例において、上述したペリクルフィルム製造のための好適な方法を用 い、コートされたペリクルフィルムを製造した。

実施例１ ニトロセルロース溶液（８１を量％の酢酸ｎ−ブチルに溶解した、３０重量％の ｎ−ブタノールを有する１９．２重量％のニトロセルロース湿潤物）からコアフ ィルムを製造し、ここで、ガラス製基質上にスピンコードした後、加熱して溶媒 を蒸発させた。得られる均一な、厚さが２゜８５ミクロンのニトロセルロースフ ィルムは、３００〜８００ナノメーターの波長を有する入射光の約８２％〜約９ ９％を透過させた。３５０〜４６０ナノ′メーターの波長に関しては、このフィ ルムを透過する入射光量は約８３〜約９８％で変化した。

このニトロセルロースフィルムのコアに引き上げ用フレームを接着剤で取り付け ることで、このコアを該スピンコーター基質から取り外した。

その後、この引き上げ用フレームをスピンコーター上に乗せた。適当なモノマー 類を重合して、５５．４重量％のＴＦＥ、４３．５重量％のＰＭＶＥ、１．１重 １％（７）８−ＣＮＶＥおよび０．２４重量％ノヨウ素、を基とする共重合され た単位を有するポリマーを生じさせることによって、パーフルオロポリマーを製 造した。このパーフルオロポリマーを、３Ｍ　Ｃｏｍｐａｎｙ、　Ｓｔ、　Ｐａ ｕｌ、ＭＮからＦｌｕｏｒｉｎｅｒｔ’　ＦＣ−４０Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　Ｌ ｉｑｕｉｄとして市販されているパーフルオロトリアルキルアミン類中に溶解し て、１．５重量％の溶液が得られた。この溶液を、０．２ミクロンのシリンジ盤 フィルターを通して濾過した後、該ニトロセルロース層上にスピンニートした。

このニトロセルロース層の１番目の側に該溶液をコートした後、該引き上げ用フ レームを１８０度回転させ、該方法を繰り返すことにより、このニトロセルロー ス層の反対側にコートした。このターポリマーで両側がコートされたニトロセル ロース層を加熱して溶媒を除去した。この得られるフィルムは、３５０〜４６０ ナノメーターの波長を有する入射光の９６％以上を透過させた。標準的光学接着 剤で接看させたフィルムは、このシールに３０秒間１／４インチの距離から当て たところ、試験で用いられる通常の３Ｑｐｓｉの空気の流れに持ちこたえた。

実施例２ 該パーフルオロポリマーが、０，０８重量％のヨウ素で改質されたとコロノ、５ ８．４重量％１７）ＴＦＥ、４０．Ｏ重Ｊ１％１７）ＰＭＶＥおよび１゜６重量 ％のターポリマーから成る共重合された単位を有する以外は、実施例１の一般的 操作を繰り返した。このニトロセルロース層の１番目の側に該ターポリマー溶液 をコートした後、該引き上げ用フレームを１８０度回転させ、該方法を繰り返す ことにより、その反対側にコートした。

両側がコートされたニトロセルロース層を加熱して溶媒を除去した。この得られ るフィルムは、３６０〜４５０ナノメーターの波長を有する入射光の９６％以上 を透過させた。標準的光学接着剤で接看させたフィルムは、このシールに３０秒 間１／４インチの距離から当てたところ、試験で用いられる通常の３０ｐｓｉの 空気の流れに持ちこたえた。

実施例３ 該パーフルオロポリマーが、５６．７重量％のＴＦＥおよび４３．３重量％のＰ ＭＶＥから成る共重合された単位を有しそして０．４重量％のヨウ素で改質され ている以外は、実施例１の一般的操作を繰り返した。

前記と同じ（、このパーフルオロポリマーをニトロセルロースのコア上にコート し、試験したところ、この得られるフィルムは３６０〜４５０ナノメーターの波 長を有する入射光の９６％以上を透過させた。標準的光学接着剤で接着させたフ ィルムは、このシールに３０秒間１／４インチの距離から当てたところ、試験で 用いられる通常の３０ｐｓ　ｉの空気の流れに持ちこたえた。

国際調査報告

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. １．　フィルムが更に、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ（アルキルビニ ル）エーテル、そしてパーフルオロポリマーの少なくとも約０．０５重量％のヨ ード部分、をランダム共重合させた単位を有するパーフルオロポリマーから構成 されている少なくとも１層の抗反射層を含むことにより改良された、密封支持フ レームの１つの端に密着している薄い光学フィルム（このフィルムは、約１．３ ５〜１．８０の屈折率を有しそして約０．３〜約２０ミクロンの厚さを有するコ ア層よりなる）から成るペリクル。
2. ２．　該コア層がポリカーボネート類、ポリアクリレート類、ポリビニルブチラ ート類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類およびセルロース誘導体から 成る群から選択されるポリマーから成る請求の範囲１のペリクル。
3. ３．　該コア層が本質的にニトロセルロースから成る請求の範囲２のペリクル。
4. ４．　該フィルムが３５０ナノメーター〜４６０ナノメーターの帯の入射光の９ ６％以上を透過させる請求の範囲３のペリクル。
5. ５．　該フィルムがコア層とこのコア層の１つの側上の抗反射層とから成る請求 の範囲１のペリクル。
6. ６．　該フィルムがコア層とこのコア層の両側上の抗反射層とから成る請求の範 囲１のペリクル。
7. ７．　該パーフルオロポリマーが更に、このパーフルオロポリマーのの少なくと も約０．３重量％から成る、このパーフルオロポリマーのバックボーンに沿って ランダムに分配されている臭素部分を含む請求の範囲１のペリクル。
8. ８．　該臭素部分が該パーフルオロポリマーの約０．１〜０．５重量％から成る 請求の範囲７のペリクル。
9. ９．　該パーフルオロポリマーが更に、このパーフルオロポリマーのの少なくと も約０．１重量％から成る、このパーフルオロポリマーのバックボーンに沿って ランダムに分配されているシアノ部分を含む請求の範囲１のペリクル。
10. １０．　該シアノ部分が該パーフルオロポリマーの約０．１〜２重量％から成る 請求の範囲９のペリクル。
11. １１．　各々の抗反射層が、約０．１〜０．５重量％のヨード部分で改質されて いるところの、約４０〜６０重量％のＴＦＥ、約３５〜５５重量％のＰＭＶＥお よび約５重量％以下の８−ＣＮＶＥを共重合した単位を有する非晶質ターポリマ ーから成る請求の範囲９のペリクル。
12. １２．　該ヨード部分が本質的に全て該パーフルオロポリマー鎖の末端に位置し ている請求の範囲１のペリクル。