JPH0450528B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0450528B2
JPH0450528B2 JP5393283A JP5393283A JPH0450528B2 JP H0450528 B2 JPH0450528 B2 JP H0450528B2 JP 5393283 A JP5393283 A JP 5393283A JP 5393283 A JP5393283 A JP 5393283A JP H0450528 B2 JPH0450528 B2 JP H0450528B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flaw
circuit
output
signal
representative
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP5393283A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59180346A (en
Inventor
Chiaki Fukazawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP5393283A priority Critical patent/JPS59180346A/en
Publication of JPS59180346A publication Critical patent/JPS59180346A/en
Publication of JPH0450528B2 publication Critical patent/JPH0450528B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、帯状鋼板等の被検体表面の汚れを含
む疵を光学的に検出する装置に係り、特に疵種を
判定する機能を有する表面検査装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an apparatus for optically detecting flaws containing dirt on the surface of an object to be inspected such as a strip steel plate, and particularly to a surface inspection device having a function of determining the type of flaw. Regarding equipment.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

従来、光学的に被検体の表面疵を検出するよう
表面検査装置としては、その表面の状態により反
射光量が変化することを利用し、例えばレーザー
光を被検体表面の幅方向に走査し、その幅方向毎
の反射光信号を被検体のある長さ分積算して表面
疵を検出するものが知られている。
Conventionally, surface inspection devices that optically detect surface flaws on a test object take advantage of the fact that the amount of reflected light changes depending on the condition of the surface. For example, a laser beam is scanned in the width direction of the surface of the test object. It is known to detect surface flaws by integrating reflected light signals in each width direction over a certain length of the object.

このような装置においては、主として検出され
た表面疵の形状により、その疵の種類を判定して
いる。
In such an apparatus, the type of a surface flaw is determined mainly based on the shape of the detected surface flaw.

しかしながら、同じ形状の疵であつても、全く
異なつた種類の疵であることも多い。例えば、鋼
板においては、すり疵と、混入された異物が引延
され表面に表われるスリーバと呼ばれる疵とは、
ともに線状疵として検出され、また、かき疵とス
ケールとはともに細かな点状疵の集合体として検
出される。
However, even if the flaws have the same shape, they are often completely different types of flaws. For example, in steel plates, scratches and defects called slivers, where mixed foreign matter is stretched and appear on the surface, are:
Both are detected as linear flaws, and both scratches and scale are detected as a collection of fine dot-like flaws.

そこで、このような同一形状として検出される
表面疵の種類をも識別できる機能を有する表面検
査装置が要望されている。
Therefore, there is a need for a surface inspection apparatus having a function of identifying types of surface flaws that are detected as having the same shape.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、同一形状として検出される表面疵の
種類を識別する機能を有する表面検査装置を提供
するものである。
The present invention provides a surface inspection device having a function of identifying types of surface flaws detected as having the same shape.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、同一形状の疵においても、反射吸収
特性が異なることに着目し、検出された疵の形状
すなわち疵の全面積に対する反射あるいは吸収部
分の面積の割合を算出することにより、同一形状
の表面疵の種類を識別する機能を有する表面検査
装置である。
The present invention focuses on the fact that even flaws with the same shape have different reflection/absorption characteristics, and calculates the shape of the detected flaw, that is, the ratio of the area of the reflective or absorbing portion to the total area of the flaw. This is a surface inspection device that has the function of identifying types of surface flaws.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の一実施例を第1図を参照して説
明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

10は矢印A方向に搬送される帯状鋼板等の被
検体である。この被検体10の表面上方には、回
転ミラー11を介して被検体10表面にレーザー
光を照射するレーザー光源12が配置されてい
る。このレーザー光源12からのレーザー光は、
回転ミラ11により、矢印Bで示すように、被検
体10表面をその幅方向に走査するように照射さ
れる。このレーザー光の反射方向には、検出ヘツ
ド13が配置されている。この検出ヘツド13
は、被検体10の表面からの反射光を受光し、電
気信号に変換するものである。すなわち、この検
出ヘツド13では、レーザー光の被検体10の幅
方向走査と、被検体10の走行とにより、被検体
10の幅方向毎の疵信号が順次検出される。ま
た、この検出ヘツド13は、増幅器14を介して
波高弁別回路群15に接続されている。
Reference numeral 10 indicates an object to be inspected, such as a strip-shaped steel plate, which is conveyed in the direction of arrow A. A laser light source 12 is arranged above the surface of the subject 10 to irradiate the surface of the subject 10 with laser light via a rotating mirror 11. The laser light from this laser light source 12 is
The rotating mirror 11 irradiates the surface of the subject 10 so as to scan it in its width direction, as shown by arrow B. A detection head 13 is arranged in the direction in which this laser light is reflected. This detection head 13
receives reflected light from the surface of the subject 10 and converts it into an electrical signal. That is, the detection head 13 sequentially detects flaw signals in each width direction of the object 10 by scanning the object 10 with the laser beam in the width direction and by moving the object 10 . Further, this detection head 13 is connected to a pulse height discrimination circuit group 15 via an amplifier 14.

この波高弁別回路群15は、前記検出ヘツド1
3からの幅方向毎の疵信号を所定レベルで弁別し
2値化した疵信号として出力するもので、第1、
第2の波高弁別回路16,17から構成されてい
る。この第1の波高弁別回路16は、前記検出ヘ
ツド13からの反射光信号から反射性の疵信号を
抽出するためのもので、検出ヘツド13の出力と
は別に適切な正レベルの弁別信号が入力されてい
る。
This wave height discrimination circuit group 15 is connected to the detection head 1.
The first,
It is composed of second wave height discrimination circuits 16 and 17. This first wave height discrimination circuit 16 is for extracting a reflective flaw signal from the reflected light signal from the detection head 13, and receives an appropriate positive level discrimination signal in addition to the output of the detection head 13. has been done.

また、第2の波高弁別回路17は、第1の波高
弁別回路16とは反対に吸収性の疵信号を抽出す
るためのもので、適切な負レベルの弁別信号が入
力されている。
Further, the second pulse height discrimination circuit 17 is for extracting an absorbing flaw signal in contrast to the first pulse height discrimination circuit 16, and is inputted with an appropriate negative level discrimination signal.

この両波高弁別回路16,17は、オア回路1
8を介し、また、第1の波高弁別回路16は、直
接ヒストグラム作成回路群20に接続されてい
る。
The two wave height discrimination circuits 16 and 17 are connected to the OR circuit 1
8, the first pulse height discrimination circuit 16 is also directly connected to a histogram generation circuit group 20.

このヒストグラム作成回路群20は、各波高弁
別回路16,17から出力される幅方向毎の疵信
号を被検体10の所定長さ毎に積算してヒストグ
ラムを作成するもので、第1、第2のヒストグラ
ム作成回路21,22から構成されている。この
第1のヒストグラム作成回路21は、前記第1の
波高弁別回路16に接続されており、また第2の
ヒストグラム作成回路22は、オア回路18を介
して両波高弁別回路16,17に接続されてい
る。
This histogram creation circuit group 20 creates a histogram by integrating the flaw signals in each width direction output from the respective wave height discrimination circuits 16 and 17 for each predetermined length of the object 10. It is composed of histogram creation circuits 21 and 22. This first histogram creation circuit 21 is connected to the first pulse height discrimination circuit 16, and the second histogram creation circuit 22 is connected to both pulse height discrimination circuits 16 and 17 via an OR circuit 18. ing.

また、この第2のヒストグラム作成回路22
は、疵部切出し回路23に接続されている。この
疵部切出し回路23は、例えば作成されたヒスト
グラム中ピーク値を示す部分を代表疵として抽出
するものである。
In addition, this second histogram creation circuit 22
is connected to the flaw cutting circuit 23. The flaw extraction circuit 23 extracts, for example, a portion of the created histogram showing a peak value as a representative flaw.

また、前記両ヒストグラム作成回路21,22
は、カウンタ群24に接続されている。このカウ
ンタ群24は、夫々前記疵部切出し回路23から
の信号がゲート信号として入力される第1、第2
のカウンタ25,26から構成されている。この
第1のカウンタ25には、前記第1のヒストグラ
ム作成回路21が、第2のカウンタ26には第2
のヒストグラム作成回路22が夫々接続されてい
る。
Further, both the histogram creation circuits 21 and 22
is connected to the counter group 24. This counter group 24 has first and second counters each receiving a signal from the flaw cutting circuit 23 as a gate signal.
It consists of counters 25 and 26. The first histogram creation circuit 21 is connected to the first counter 25, and the second histogram creation circuit 21 is connected to the second counter 26.
Histogram creation circuits 22 are connected to each.

また、このカウンタ群24は、除算回路27に
接続されている。この除算回路27は、第1のカ
ウンタ25の出力を第2のカウンタ26の出力で
除算し、代表疵の全面積に対する前記第1の波高
弁別回路16で弁別された反射性の疵信号のうち
代表疵に相当する面積の割合を算出するものであ
る。
Further, this counter group 24 is connected to a division circuit 27. This division circuit 27 divides the output of the first counter 25 by the output of the second counter 26, and divides the reflective flaw signal discriminated by the first wave height discrimination circuit 16 with respect to the total area of the representative flaw. This is to calculate the area ratio corresponding to the representative flaw.

また、この除算回路27は、比較判定回路28
に接続されている。この比較判定回路28は、こ
の除算回路27の出力と設定回路30からの設定
値Sとを比較して反射あるいは吸収性の疵かを判
定し、その結果と疵形状判定回路31からの疵形
状信号とから、その代表疵の種類を識別するため
のものである。
Further, this division circuit 27 is connected to a comparison judgment circuit 28.
It is connected to the. The comparison/determination circuit 28 compares the output of the division circuit 27 with the set value S from the setting circuit 30 to determine whether the flaw is reflective or absorbent, and compares the result with the flaw shape from the flaw shape determination circuit 31. This is to identify the type of typical flaw from the signal.

すなわち、疵形状判定回路31からは同種形状
として認識されるすり疵とスリーバ、あるいはか
き疵とスケールを、比較判定回路28から得られ
たその疵の反射性により識別する。また、この比
較判定回路28には、その代表疵が前記被検体1
0のどの位置に存在するのかを知るために、前記
被検体10の走行位置信号を出力する同期パルス
発生器32が接続されている。なお、33はこの
同期パルス発生器22に連結されたロールであ
る。
That is, a scratch and a sliver, or a scratch and a scale, which are recognized as having the same shape by the flaw shape determination circuit 31, are identified based on the reflectivity of the flaw obtained from the comparison and determination circuit 28. In addition, this comparison/determination circuit 28 determines that the representative flaw is
In order to know at which position of 0, a synchronous pulse generator 32 is connected which outputs a signal of the traveling position of the subject 10. Note that 33 is a roll connected to this synchronous pulse generator 22.

次に、このように構成された一実施例の作用を
第2図乃至第5図も参照して説明する。
Next, the operation of one embodiment configured as described above will be explained with reference also to FIGS. 2 to 5.

レーザー光源12からのレーザー光は、回転ミ
ラ11を介して被検体10の幅方向へ走査され
る。このレーザー光は、被検体10の表面で反射
され検出ヘツド13へ供給される。このヘツド1
3では、被検体10の表面状態に応じた電気信号
が得られる。このとき、信号の極性は、その表面
の疵の光学的特性すなわち反射吸収特性により正
負いずれの場合もある。この検出ヘツド13から
の信号は、増幅器14を介して波高弁別回路群1
5で弁別され2値化される。ここで、その信号の
うち正極性の信号すなわち反射性の信号は第1の
波高弁別回路16で、また負極性の信号すなわち
吸収性の信号は第2の波高弁別回路17で夫々2
値化される。さらに、この波高弁別回路群15に
より、同期パルス発生器32からの同期パルスを
用い適当な大きさの画素で量子化される。
Laser light from the laser light source 12 is scanned in the width direction of the subject 10 via the rotating mirror 11. This laser light is reflected by the surface of the subject 10 and supplied to the detection head 13. This head 1
3, an electrical signal corresponding to the surface condition of the subject 10 is obtained. At this time, the polarity of the signal may be either positive or negative depending on the optical characteristics, that is, the reflection and absorption characteristics of the flaw on the surface. The signal from this detection head 13 is passed through an amplifier 14 to a pulse height discrimination circuit group 1.
5 and is binarized. Here, among the signals, a signal of positive polarity, that is, a reflective signal, is sent to the first pulse height discrimination circuit 16, and a signal of negative polarity, that is, an absorbing signal, is passed to the second pulse height discrimination circuit 17, respectively.
Valued. Furthermore, this pulse height discrimination circuit group 15 uses the synchronization pulse from the synchronization pulse generator 32 to perform quantization into pixels of an appropriate size.

この状態を第3図に示す。第2図は被検体10
の表面の疵そのものの画像の例を示すものであ
り、40,50,60は疵形状を示し、40a,
50aは反射性疵部を、40b,50b,60b
は吸収性疵部を夫々示している。この反射性疵部
40a,50aは第3図において正極となり、逆
に吸収性疵部40b,50b,60bは負極とな
る。
This state is shown in FIG. Figure 2 shows the subject 10.
This shows an example of an image of the flaw itself on the surface of , 40, 50, and 60 indicate the flaw shape,
50a is a reflective flaw, 40b, 50b, 60b
indicate absorbable flaws. The reflective scratches 40a, 50a serve as positive electrodes in FIG. 3, and the absorbent scratches 40b, 50b, 60b serve as negative poles.

次にこのようにして正負別々に2値化された信
号は、オア回路18を介して、また正極信号は直
接後段のヒストグラム作成回路群20に供給され
る。オア回路18を経て供給された正負の信号
は、第2のヒストグラム作成回路22により検査
対象長手方向一定の長さの範囲の疵の数を集計し
第4図に示すようなヒストグラムを得る。
Next, the signals thus binarized into positive and negative signals are supplied via the OR circuit 18, and the positive polarity signal is directly supplied to the subsequent histogram generation circuit group 20. The positive and negative signals supplied through the OR circuit 18 are used by a second histogram creation circuit 22 to total the number of flaws within a certain length range in the longitudinal direction of the object to be inspected, thereby obtaining a histogram as shown in FIG.

一方、第1の波高弁別回路16からの正極信号
が供給された第1のヒストグラム作成回路21で
は、第2のヒストグラム作成回路22と同様にし
て第5図に示すようなヒストグラムを得る。
On the other hand, the first histogram creation circuit 21 to which the positive signal from the first pulse height discrimination circuit 16 is supplied obtains a histogram as shown in FIG. 5 in the same manner as the second histogram creation circuit 22.

すなわち、この第1のヒストグラム作成回路2
1においては、反射性の疵を、第2のヒストグラ
ム作成回路22においては、反射性の疵および吸
収性の疵を合せた疵全体のヒストグラムを作成す
る。
That is, this first histogram creation circuit 2
1, the second histogram creation circuit 22 creates a histogram of the entire flaw, which is a combination of the reflective flaw and the absorptive flaw.

また、第2のヒストグラム作成回路22の出力
は、疵部切出し回路23に供給され、代表疵部位
50′が抽出される。この選定は、例えばヒスト
グラムの最高値から1/3の高さに含まれる部分を
代表疵部位として行なわれる(プロフイル法と呼
ばれている)。
Further, the output of the second histogram creation circuit 22 is supplied to a flaw extraction circuit 23, and a representative flaw area 50' is extracted. This selection is performed, for example, by using a portion within one third of the height from the highest value of the histogram as a representative flaw site (referred to as the profile method).

この選定された代表疵50′の信号は、カウン
タ群24の各カウンタ25,26へゲート信号と
して供給される。したがつて、この第1のカウン
タ25へ供給された反射性のヒストグラム中代表
疵部位50の画素数を計数する。すなわち、代表
疵部位50の中の正極(反射性)の画素数を計数
する。一方第2のカウンタ26では、代表疵部位
の正負両極の、すなわち代表疵部位全体の画素数
を計数する。
The signal of the selected representative flaw 50' is supplied to each counter 25, 26 of the counter group 24 as a gate signal. Therefore, the number of pixels of the representative flaw site 50 in the reflective histogram supplied to the first counter 25 is counted. That is, the number of positive electrode (reflective) pixels in the representative flaw site 50 is counted. On the other hand, the second counter 26 counts the number of pixels of both positive and negative polarities of the representative flaw area, that is, the number of pixels of the entire representative flaw area.

そして、代表疵部位全体の画素数及び正極の画
素数は、除算回路27へ供給され、後者を前者で
除算し、疵全体に対する反射性疵部位の割合いを
求める。この除算回路27の出力は、比較判定回
路28により、設定回路30からの設定信号Sと
比較され、その代表疵部位50の反射吸収の度合
を得る。疵の反射吸収特性は、同一形状でも異な
つており、予めその特性を知ることにより設定信
号Sを決定することができる。
The number of pixels of the entire representative flaw site and the number of positive pixels are then supplied to a division circuit 27, where the latter is divided by the former to determine the ratio of the reflective flaw site to the entire flaw. The output of the division circuit 27 is compared with the setting signal S from the setting circuit 30 by the comparison/judgment circuit 28 to obtain the degree of reflection/absorption of the representative flaw site 50. The reflection/absorption characteristics of flaws are different even for the same shape, and the setting signal S can be determined by knowing the characteristics in advance.

また、この比較判定回路28には、代表疵部位
の形状信号が疵形状判定回路31から、また同期
パルス発生器32から疵位置信号が夫々供給され
ている。
Further, the comparison and determination circuit 28 is supplied with a shape signal of a representative flaw portion from a flaw shape determination circuit 31 and a flaw position signal from a synchronization pulse generator 32, respectively.

したがつて、この比較判定回路28によつて、
被検体10のどの位置に、どのような形状でどの
ような反射吸収特性をもつた疵が存在するかが判
明する。すなわち、従来と異なり形状による疵種
判定よりさらに細かい疵種を判別することが可能
となる。
Therefore, by this comparison judgment circuit 28,
It becomes clear at what position, what shape, and what kind of reflection/absorption characteristics the flaw exists on the subject 10. That is, unlike the conventional method, it is possible to determine a finer type of flaw than by determining the type of flaw based on shape.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明はこのように構成したので、同一形状の
疵においても、その疵の反射吸収特性を利用し、
その反射吸収度合を検知することにより、さらに
細かく疵種を判別することが可能となる。
Since the present invention is configured in this way, even if the flaw has the same shape, the reflection and absorption characteristics of the flaw are utilized,
By detecting the degree of reflection and absorption, it becomes possible to discriminate the type of flaw more precisely.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図は本発明の一実施例を説明するためのもの
で、第1図は回路構成図、第2図は被検体表面の
疵の状態を示す図、第3図は疵を量子化した状態
を示す図、第4図及び第5図は夫々ヒストグラム
を示す図である。 10……被検体、12……レーザー光源、13
……検出ヘツド、15……波高弁別回路群、16
……第1の波高弁別回路群、17……第2の波高
弁別回路群、18……オア回路、20……ヒスト
グラム作成回路、21……第1のヒストグラム作
成回路、22……第2のヒストグラム作成回路、
23……疵部切出し回路、24……カウンタ群、
25……第1のカウンタ、26……第2のカウン
タ、27……除算回路、28……比較判定回路、
30……設定回路、31……疵形状判定回路。
The figures are for explaining one embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a circuit configuration diagram, FIG. 2 is a diagram showing the state of a flaw on the surface of an object to be inspected, and FIG. 3 is a state in which the flaw is quantized. The figures shown in FIG. 4 and FIG. 5 are diagrams showing histograms, respectively. 10... Subject, 12... Laser light source, 13
... Detection head, 15 ... Wave height discrimination circuit group, 16
...First wave height discrimination circuit group, 17... Second wave height discrimination circuit group, 18... OR circuit, 20... Histogram creation circuit, 21... First histogram creation circuit, 22... Second histogram creation circuit,
23...Flaw cutting circuit, 24...Counter group,
25... first counter, 26... second counter, 27... division circuit, 28... comparison judgment circuit,
30...setting circuit, 31...flaw shape determination circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 走行する被検体表面を幅方向に光学的に走査
し、その表面からの反射光を受光して被検体表面
の疵を検出する表面検査装置において、被検体か
らの反射光を受光する検出ヘツドと、この検出ヘ
ツドからの被検体表面幅方向毎の検出信号を所定
の正レベルで弁別し2値化した疵信号として出力
する第1の波高弁別回路と、前記検出ヘツドから
の前記検出信号を所定の負レベルで弁別し2値化
した疵信号として出力する第2の波高弁別回路
と、この第1あるいは第2の波高弁別回路のどち
らか一方からの幅方向毎の疵信号を前記被検体の
所定長さ毎に加算し、ヒストグラムを作成する第
1のヒストグラム作成回路と、前記第1及び第2
の波高弁別回路からの幅方向毎の両疵信号を前記
被検体の所定長さ毎に加算し、ヒストグラムを作
成する第2のヒストグラム作成回路と、この回路
出力から代表疵信号を選択する疵部切出し回路
と、この回路出力をゲート信号として前記第1の
ヒストグラム作成回路出力の代表疵部の面積を計
数する第1のカウンタと、前記疵部切出し回路出
力をゲート信号として前記第2のヒストグラム作
成回路出力の代表疵部の面積を計数する第2のカ
ウンタと、このカウンタ出力で前記第1のカウン
タ出力を除算して、代表疵部の全面積に対する前
記第1あるいは第2の波高弁別回路からの代表疵
部に相当する疵部の面積の割合を算出する除算回
路と、この除算回路からの出力を所定値と比較
し、代表疵の疵種を判定する比較判定回路とを具
備したことを特徴とする表面検査装置。
1. In a surface inspection device that optically scans the surface of a moving object in the width direction and detects flaws on the surface of the object by receiving reflected light from the surface, a detection head that receives reflected light from the object. and a first pulse height discriminator circuit that discriminates the detection signal from the detection head in each width direction of the surface of the object to be inspected at a predetermined positive level and outputs it as a binary flaw signal; A second pulse height discriminator circuit discriminates at a predetermined negative level and outputs a binary flaw signal, and a flaw signal for each width direction from either the first or second pulse height discriminator circuit is output to the test object. a first histogram creation circuit that creates a histogram by adding each predetermined length of the first and second histograms;
a second histogram creation circuit that adds both flaw signals in each width direction from the wave height discrimination circuit for each predetermined length of the object to create a histogram; and a flaw section that selects a representative flaw signal from the output of this circuit. an extraction circuit; a first counter that counts the area of a representative flaw in the output of the first histogram creation circuit using the output of the circuit as a gate signal; and creation of the second histogram using the output of the flaw extraction circuit as a gate signal. a second counter that counts the area of the representative flaw as a circuit output; and the first or second pulse height discriminator circuit that divides the first counter output by the output of this counter to calculate the total area of the representative flaw. A division circuit that calculates the area ratio of a flaw corresponding to a representative flaw, and a comparison judgment circuit that compares the output from this division circuit with a predetermined value and determines the type of flaw of the representative flaw. Features of surface inspection equipment.
JP5393283A 1983-03-31 1983-03-31 Surface inspecting device Granted JPS59180346A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5393283A JPS59180346A (en) 1983-03-31 1983-03-31 Surface inspecting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5393283A JPS59180346A (en) 1983-03-31 1983-03-31 Surface inspecting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59180346A JPS59180346A (en) 1984-10-13
JPH0450528B2 true JPH0450528B2 (en) 1992-08-14

Family

ID=12956505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5393283A Granted JPS59180346A (en) 1983-03-31 1983-03-31 Surface inspecting device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59180346A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0623646B2 (en) * 1986-03-10 1994-03-30 工業技術院長 Imaging type groundwork treatment surface grade determination device

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59180346A (en) 1984-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR850000855B1 (en) The inspection device of hurt
JPH01143945A (en) Detecting method for defect in tape
US3779649A (en) Method of and an electro-optical system for inspecting material
JPH0450528B2 (en)
EP0423794B1 (en) Surface inspecting apparatus
JP3218908B2 (en) Surface flaw inspection method and apparatus
JPH09113465A (en) Detection apparatus for surface fault for galvanized steel plate
JPH079403B2 (en) Surface defect inspection method for objects
JPH0829145A (en) Inspection of surface defect
JPS61260147A (en) Device for inspecting surface defect
US5402228A (en) On-line dirt counter
JPS6344151A (en) Appearance inspector
JP3523945B2 (en) Surface inspection method
JPS6321857B2 (en)
JPS6142221B2 (en)
JPS593245A (en) Deficiency inspector
JPH04238207A (en) Defect inspecting device
JPH0749314A (en) Surface defect inspection instrument
JPH09133639A (en) Method for detecting surface defect
JPH0266446A (en) Method for inspecting surface defect
CA2080587C (en) On-line dirt counter
JPH0610658B2 (en) Surface defect detector
JPH06294758A (en) Defect detecting equipment
JPS5892936A (en) Flaw inspecting device
JPH01253641A (en) Circuit for discriminating streak-like defect