JPH04501479A - Eprom用プログラミング電圧制御回路 - Google Patents

Eprom用プログラミング電圧制御回路

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JPH04501479A
JPH04501479A JP2508527A JP50852790A JPH04501479A JP H04501479 A JPH04501479 A JP H04501479A JP 2508527 A JP2508527 A JP 2508527A JP 50852790 A JP50852790 A JP 50852790A JP H04501479 A JPH04501479 A JP H04501479A
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サイプレス・セミコンダクタ・コーポレーション
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 EPROM用プログラミング電圧制御回路発明の背景 本発明は、浮動ゲート消去可能プログラム可能記憶装置(EFROM)の分野に 関する。EFROMは、そのデータをその浮動ゲートに電荷か存在するか存在し ないかに従って保持する浮動ゲー)MO5装置の7レイである。浮動ゲート・ア レイは電気的にプログラムされる。プログラミング電圧Vpaw はその制御ゲ ートおよびドレインに加えられるが、その意義は浮動ゲートに電荷を蓄積するこ とである。
セルのドレインに加えられるこのプログラミング電圧V PGM の振幅は正確 に制御されなければならない。プログラミングを確実にするKは、その値はほぼ 、高い側での浮動ゲート装置の電子なだれ降伏電圧と低い側でのセルのプログラ ミング破壊電圧との間釦なければならない。VPGMが高すぎれば、装置がプロ グラミング中破壊する可能性があり、低すぎれば、セルが正しくプログラムされ ない。
外部プログラミング電圧VPPは普通アレイが入っているパッケージの一つのピ ンを通して加えられる。多数のシステム用途においては、この外部電圧VPPは 変ることがある。時にはこのVPPの変動がプログラミング・エラーを生ずるの に、または更に悪い場合には、上に説明した機構を通してアレイを破壊するのに 、充分はげしくなり得る。プログラムされる浮動ゲート・トランジスタのゲート に到達する実際のセル・プログラミング電圧vpawがその電子なだれ降込電圧 より高く上れば、セルは損傷するかまたは破壊することがある。vpaMがプロ グラミング電圧より下がれば、プログラミング・エラーが発生する。浮動ゲート ・アレイ回路がVPP の変動に実質上不感であることが非常に望ましい。
更K、当業者によく知られているように、EPROMアレイは、複雑なウェーハ 製作製造プロセスを利用して製造される。わずかなプロセスの変化があっても得 られるEPROMセルにその所要プログラミング電圧の変化を余儀なくさせるの に充分な差異を生ずる可能性がある。たとえば、ウェーハを製作するプロセスに おいてEFROMが計画したよりも多い電流を所定電圧で発生すれば、それらを プログラムするには更に低い電圧で充分であることになる。VI’P をこのプ ロセス変動について調節しなければ、プログラミングが正しく行われない可能性 が生ずる。
発明の詳細な説明 本発明は、EPROMアレイの実際のプログラミング電圧VPGM を正確に制 御する装置を提供する。本発明の一つの特徴によれば、本発明の回路は、印加ブ レグラミング電圧VPPの変動を補償する。所定の到来電圧VPPのこのような 変化にかかわらず、アレイのEPROMセルをプログラミングするため実際に加 えられる電圧vpawは一定のままである。
本発明の第2の特徴によれば、EPROMセルのプログラミング電圧VP(IM は、温度のような周囲条件の変化から、またはEPROMウェーハの処理から生 ずる変化から、生ずるアレイのEFROMの充電電流の変化を補償するようKv 4節される。本発明の回路は、これら条件のいずれかまたはすべてに無関係にE FROMに対して所要プログラミング電圧vPGMを供給する。
手短かに言えば、EPROMアレイのプログラミング電圧を制御する本発明の装 置は、プルグラム可能浮動ゲート・セルの7レイと同じ方法で同じチップ上に製 作される別の非プログラム式浮動ゲートMO5EPROMセルを備えている。
この別の(付加)セルはアレイの正常プログラミング中プログラミング用に接続 されてはいない。ドレイン電流をこの付加セルを通して発生するために電圧がこ の付加セルに加えられる。フィードバック回路は、アレイ内の点に結合され、こ れはアレイのEFROMのプログラミング電圧VPOMの源として使用される。
付加EPROMセルのドレイン電流の振幅は、付加セルのドレイン電流が増加す ると、プログラミング電圧vpaw がこれに比例して減少するようにこのプロ グラミング電圧の大きさを制御するのに使用される。
この付加EPROMセルはアレイの浮動グー)EPROMセルど同じ寸法および 処理パラメータを使用して製作されているので、これらパラメータが変化すれば 、EPROMアレイ・セルのドレインにおける充電電流に影響すると同じ仕方で 付加セルのドレイン電流に影響する。したがって、本発明の回路はこれら変化の 影響をセル内で組入れ補償するものである。
加えて、本発明はアレイに対する所定の外部プログラミング電圧VPP を付加 セルに結合する手段を提供する。このように結合すると、この外部プログラミン グ電圧Vppは、印加電圧VPPの変動に従って変化する付加セルを通してドレ イン電流を発生する。その結果、付加セルのこの同じドレイン電流は、アレイの プログラミング電圧VPGMの源に結合されるが、Vf’Pの変化を補償し、v P Pから得られるアレイの実際のプログラミング電圧を実質上一定レベルに保 つ。
本発明は、唯一つの図1で本発明のプログラミング回路の回路概要を示している 図面を参照して、以下に述べる一層詳細な説明から更に良く理解されよう。
図面の簡単な説明 @1は、本発明のプログラミング回路の概要回路図である。
発明の詳細な説明 図1は、浮動ゲートEFROMをプログラムするプログラミング回路を示す。
図1にはアレイの代表的EPROMセル10を一つだけ示しである。しかし、当 業者は典型的なEPROMアレイは一つのチップに512,000.1,000 ,000、またはそれより多いEPROMセルを備えることができることを理解 するであろう。
EPROMアレイは、当業者が良く知っているよう忙、チップ・バッグ・−ジの 外部ビンを通して接続される伝統的なF ROMプログラマを使用してプログラ ムされる。各EPROMセルは、浮動ゲートに蓄積電荷があるか否かにより、必 要に応じ、「1」または「0」でプログラムされる。採用されるセルの規約およ び形式によりどの状態が1を表わ11、どれが0を表わすかが決まる。
プログラムすべき特定のEPROMセルは、二つのデコーダ回路11および40 を用いて選択される。ドレイン・プログラミング電圧VPGMは、セル10がデ コーダ回路11および40により選択されていればEPROMセル10の ドレ イン15に加えられることになるが、デコーダ回路11のプルグラミング端子1 3および14を横切って現われる。トランジスタ16はアドレス・デコーダ11 の一部である。このトランジスタは、適格な記憶セル10がデコーダ回路11お よび4Gからの選択信号により選択されているときプログラムすべきその適切な 記憶セルを選択するのに使用される。デコーダ回路11は所定セルのXアドレス またはyアドレスを選択する。第2のデコーダ回路40は他の、rまたはyアド レスを選択する。両デコーダは共に独自の被選択セルを決定する。デコーダ回路 40が、たとえば、被選択セル10を備えていると、汲上げ電圧VPP はノー ド41からセル10のゲート12に接続されてこれをプログラムする。プログラ ミングするには、セル10が両デコーダ回路11によりそのプログラミング・ド レイン電流を備えるようK、およびデコーダ回路40によりその必要なプログラ ミング・ゲート電圧を備えるように、選択されていなければならない。プロゲラ きング電圧VPI)Mによりセル10のドレイン回路に電流が流れる。vpaM は一定でなければならず、その値は高い側でのセル10の電子なだれ降伏電圧と 低い側でのセル10のプログラミング破壊電圧どのほぼ中間でなければならない 。VPQMは、下に説明するように、VPPから得られる。抵抗器19、電圧設 定抵抗器、はVPPとvpcii との間で所要電圧降下を生ずる。EFROM IOのドレイン端子15はプログラミングMO5トランジスタ16および17と 直列に結合されている。選択された記憶セル10を1でプログラムすべきかまた は0でプログラムすべきかは、データ・デコーダMO5)ランジスタ17のゲー ト端子18における電圧により決まる。
本発明の好適実施例では、VPPの全電圧値を電流読取回路22に確実に転送す るのに1対の汲上げMOSトランジスタ20および21を採用して(・る。たと えば、公称vppが12ボルトであると仮定すれば、汲上げ回路23の検出器が この12ポルトの値の有無を検出する。VPPが存在すれば、汲上げ回路23は 、EPROMアレイがプログラムされていることを知る。回路23は次に汲上げ トランジスタ20および21のゲートを開き、これにより所定のプログラミング 電圧VPPの電圧値一杯が電圧降下なしに端子40を通して電流読取回路22に 伝送されることができる。これにより電流読取回路22がvPP を非常に正確 に検知することができる。
電流読取回路22の抵抗器25.26、および27は従来どおりの電圧分割器を 形成している。抵抗器25と26との間のノード28は付加EPROMセル30 のゲートに結合している。EPROMセル30は、セル10のような通常のプロ グラム可能EPROMセルのすべてに対して使用されている正確に同じ処理ステ ツブおよび幾何学的寸法形状を使用してEFROMアレイの半導体ウェーへの処 理により形成される。しかし、本発明に従って動作するには、セル3oはアレイ の正常プログラミング中プログラミング不能になるように回路内で接続されてい なければならない。これは付加された、プログラムされないEPROMセル3゜ のドレインに結合されているノード36における電圧が、セル3oを常に直線領 域で動作させるようになるように電流読取回路22の抵抗器25および26の値 を選択することにより達成される。セルをこの領域内に保つには、ドレイン電圧 がゲート電圧より低くなっていなければならない。これは、セル3oのドレイン 電圧を制御する、抵抗器26と27との間のタップ31における電圧を制御する ことにより達成される。このドレイン電圧は、EPROMセル30のドレインと 直列に接続されているMOS)ランジスタ32によっても制御されるので、ドレ イン電圧は供給電圧VCCのわずかな変化にかかbらず一定である。VCCはM OS)ランジスタ33を通して制御用MO8)ランジスタ32のドレインに結合 されて(・る。本発明の回路が供給電圧の変動があっても満足に動作することが できるということは他の重要な利点である。MOS)ランジスタ33および34 は共に電流ミラーを形成している。図示したように、これらは(Nチャンネルで ある本発明の回路のMOS装置の残りとは反対に)PチャンネルMO5装置であ る。MOSトランジスタ33および34のゲートは、図示のように、共に結合さ れており、トランジスタ33のゲートは、図示のように、そのドレインに結合さ れている。これらトランジスタのソースはVccK結合されている。MOS ト ランジスタ34のドレイン端子35の電流は、付加EPROMセル3oからの端 子36におけるドレイン電流の「反射」である。
Nチャンネル・トランジスタ37および38も電流ミラーを形成するように接続 されて(・る。再び、トランジスタ37のドレインは、図示のようにそのゲート に接続されている。トランジスタ38のドレイン端子13の電流はトランジスタ 37のドレインおよびゲートに接続されている端子35における電流を反射する 。
本発明の回路の動作において、付加EPROMセル30の実際のドレイン電流は 非常に小さい。従って、二つの電流ミラー回路を使用すれば、付加EPROMセ ル30からのドレイン電流が非常に小さいにもがかわらず回路の動作中端子13 におけるプログラミング電圧VP(i輩 を精密に制御することができる。
動作時、本発明の回路は端子13と14との間のプログラミング電圧VPGMを VPI’の変化に実質上無関係であるように制御する。VPP の変化があれば これは汲上げ回路23により電流読取回路22の入力端子5oに直接伝えられる 。上述のように、抵抗器25,26、および27、およびトランジスタ32の動 作により、このvpp の変化は、付加EFROM30のゲートおよびドレイン 端子に加えられ、端子36のドレイン電流を対応して且つ比例して変化させる。
この変化したドレイン電流は次に、トランジスタ32を通して、トランジスタ3 3および34から成る第4の電流ミラー回路を通して、および更にトランジスタ 37および38から成る第2の電流ミラー回路を通して伝えられ、デコーダ回路 11に加えられるプログラミング電圧vpawを調節する。電流ミラー回路のこ の構成によりvPGMの変化はそれを発生したVPPの変化に逆比例する。した がって、VPPの降下がわずかであれば、付加EFROM30のドレイン電流の 変化からデコーダ回路11を横断する電圧VPGM の補償変化が生じ、VPG Mを一定のままとする。
その他、本発明の回路はまたアレイの浮動ゲートEFROM装置の誤処理または 処理変動から生ずるアレイのEFROMセルの所要プログラミング・ドレイン電 流の変化を補償する。付加EPROMセル30は、その代表的なものがEPRO Mセル10であるアレイのプルグラム可能EFROMセルの複製である。したが って、アレイ・セルのわずかな誤処理によってプログラムされているアレイ・セ ルの充電ドレイン電流を生ずる適切なプルグラム電流の印加が満足なプログラミ ングを行うにはわずかに低すぎるようになった場合には、この同じ低いドレイン 電流が付加EPROMセル30のドレイン36にも現われる。端子36における この低いドレイン電流はトランジスタ32および電流ミラー33.34、および 37.38を通して伝えられ、デコーダ回路11を横断するプログラミング電圧 vPGM を調節して減少した充電ドレイン電流を補償する。VPGMがこのよ うに補償されてから、この例では増加してから、vpcstがら得られるドレイ ン電流は、このわずかな誤処WKかかわらずセル10をプログラムするのに必要 なドレイン電流に正確になる。
この補償は、周囲温度の変化の場合にも同じように働く。このような変化は、セ ル10のようなアレイのプログラム可能EFROMセルのドレイン電流に影響す るのと全く同じように付加EPROMセル3oのドレイン電流に影響する。した がって、実際のプログラミング電圧Vt’GMは付加EPROMセル3oのドレ イン電流の温度関連変化について調節され、セル10のドレイン電流の温度関連 変化の観点からの必要に応じて、デコーダ回路11を横断するVpGMが低くな ったり、高くなったりする。
要約ずれば、付加EPROMセル30のドレインの電流が増加すればデコーダ回 路11を横断するプログラミング電圧VPGMが低くなる。ドレイン電流の減少 は反対の影響を与える。EFROMでは、EFROMセルが一層多くの電流を流 すことができれば(これはその幾何学的形状寸法および処理によって決まる)、 それをプログラムするのに必要なプログラミング電圧が少くなることは周知のこ とである。本発明の回路は、ウェーハの処理変動またはプログラミング中の温度 変化にかかわらず常に正しいプログラミング電圧VPGM が7レイ・セル忙確 実に印加されるようにする。
当業者に周知のように、図1の好適実施例と関連して上に説明した回路には、本 発明の精神および範囲から逸脱することなく、多数の変更を加えることができる 。したがって、本発明にかかる唯一の制限は以下の請求の範囲に述べるものであ る。
淳書(内容に変更つし) RαIに1 手続補正書く方式) 平成3年12月5日

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数のプログラム可能浮動ゲートMOSセルを有するEPROMアレイの プログラミング電圧を制御する装置であって、前記複数のプログラム可能浮動ゲ ート・セルと同じ方法で同じチツプ上に製作され、前記アレイの正常プログラミ ング中はプログラミング用として接続されない、付加浮動ゲートMOSセルと、 前記付加セルを通してドレイン電流を発生するために前記付加セルに電圧を印加 する手段と、 前記付加セルの前記ドレイン電流の大きさを利用する前記アレイ用プログラミン グ電圧の源に結合し、前記プログラミング電圧の大きさを、前記ドレイン電流が 増加すると前記プログラミング電圧が比例して減少するように制御するフイード バツク手段と、 から成ることを特徴とするEPROMアレイのプログラミング電圧を制御する装 置。
  2. (2)更に、前記フィードバック手段がその入力が前記ドレイン電流である電流 ミラー回路を備えており、前記電流ミラー回路が前記付加セルを前記アレイのプ ログラミング電圧の前記源に結合させていることを特徴とする請求項1に記載の EPROMアレイのプログラミング電圧を制御する装置。
  3. (3)複数のプログラム可能浮動ゲートセルを有するEPROMアレイのプログ ラミング電圧を制御する装置であつて、前記複数のプログラム可能浮動ゲートM OSセルと同じ方法で同じチップ上に製作され、前記アレイの通常プログラミン グ中はプログラミング用として接続されない、付加浮動ゲートMOSセルと、周 囲条件および処理条件の変化に伴って幾分変化する傾向のある所定電圧を前記ア レイに供給する手段と、 前記付加セルを通して前記所定電圧の変動に従つて変動するドレイン電流を発生 するために前記所定電圧を前記付加セルに結合する手段と、前記付加セルを前記 アレイのプログラミング電圧の源に結合し、前記付加セルの前記ドレイン電流の 大きさを使用して前記アレイの前記プログラミング電圧を、前記所定電圧が変化 しても前記プログラミング電圧は実質上一定のままであるように制御するフィー ドバック手段と、 から成ることを特徴とするEPROMアレイのプログラミング電圧を制御する装 置。
  4. (4)更に、前記所定電圧を前記付加セルに結合する前記手段が前記付加セルの ゲートまたはドレインと前記所定電圧を供給する前記手段との間に結合された一 組の直列結合抵抗器であることを特徴とする請求項3に記載のEPROMアレイ のプログラミング電圧を制御する装置。
  5. (5)更に、前記フイードバツク手段がその入力が前記ドレイン電流である電流 ミラー回路を備えており、前記電流ミラー回路は前記付加セルを前記アレイのプ ログラミング電圧の前記源に結合させていることを特徴とする請求項3に記載の EPROMフレイのプログラミング電圧を制御する装置。
  6. (6)更に、前記フィードバツク手段がその入力が前記ドレイン電流である電流 ミラー回路を備えており、前記電流ミラー回路は前記付加セルを前記アレイのプ ログラミング電圧の前記源に結合させていることを特徴とする請求項4に記載の EPROMアレイのプログラミング電圧を制御する装置。
JP2508527A 1989-05-30 1990-05-18 Eprom用プログラミング電圧制御回路 Pending JPH04501479A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08195097A (ja) * 1994-08-26 1996-07-30 Sgs Thomson Microelectron Ltd メモリデバイス
JP2009259384A (ja) * 2008-04-16 2009-11-05 Magnachip Semiconductor Ltd 不揮発性メモリ装置

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2606941B2 (ja) * 1990-02-19 1997-05-07 富士通株式会社 不揮発性メモリの書込み回路
DE4219464A1 (de) * 1992-06-13 1993-12-16 Philips Patentverwaltung Verfahren und Schaltungsanordnung zum Erzeugen einer Programmierspannung
US5424991A (en) * 1993-04-01 1995-06-13 Cypress Semiconductor Corporation Floating gate nonvolatile memory with uniformly erased threshold voltage
SG47058A1 (en) 1993-09-10 1998-03-20 Intel Corp Circuitry and method for selecting a drain programming voltage for a nonvolatile memory
US6353554B1 (en) 1995-02-27 2002-03-05 Btg International Inc. Memory apparatus including programmable non-volatile multi-bit memory cell, and apparatus and method for demarcating memory states of the cell
EP0830686B1 (en) * 1995-06-07 2003-09-10 Intel Corporation Negative voltage switching circuit
WO1997022971A1 (en) * 1995-12-20 1997-06-26 Intel Corporation A negative voltage switch architecture for a nonvolatile memory
EP0786777B1 (en) * 1996-01-24 2004-03-31 SGS-THOMSON MICROELECTRONICS S.r.l. Boost regulator
DE69633912D1 (de) * 1996-03-29 2004-12-30 St Microelectronics Srl Anordnung zum Generieren einer Spannung als Funktion der Leitfähigkeit einer Elementarzelle, insbesondere für nichtflüchtige Speicher
US5897354A (en) * 1996-12-17 1999-04-27 Cypress Semiconductor Corporation Method of forming a non-volatile memory device with ramped tunnel dielectric layer
DE69726136T2 (de) * 1997-08-29 2004-08-26 Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza Verfahren und Schaltung zur Erzeugung einer Gatterspannung für nichtfluchtige Speicheranordnungen
ITMI981193A1 (it) * 1998-05-29 1999-11-29 St Microelectronics Srl Dispositivo circuitale e relativo metodo per la propgrammazione di una cella di memoria non volatile a singola tensione di
US6028790A (en) * 1999-01-07 2000-02-22 Macronix International Co., Ltd. Method and device for programming a non-volatile memory cell by controlling source current pulldown rate
EP1176603A1 (en) 2000-07-26 2002-01-30 STMicroelectronics S.r.l. A non-volatile memory with a charge pump with regulated voltage

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4729115A (en) * 1984-09-27 1988-03-01 International Business Machines Corporation Non-volatile dynamic random access memory cell
JPH0652784B2 (ja) * 1984-12-07 1994-07-06 富士通株式会社 ゲートアレイ集積回路装置及びその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08195097A (ja) * 1994-08-26 1996-07-30 Sgs Thomson Microelectron Ltd メモリデバイス
JP2009259384A (ja) * 2008-04-16 2009-11-05 Magnachip Semiconductor Ltd 不揮発性メモリ装置

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Publication number Publication date
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US4954990A (en) 1990-09-04

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