JPH044722B2 - - Google Patents

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JPH044722B2
JPH044722B2 JP61007559A JP755986A JPH044722B2 JP H044722 B2 JPH044722 B2 JP H044722B2 JP 61007559 A JP61007559 A JP 61007559A JP 755986 A JP755986 A JP 755986A JP H044722 B2 JPH044722 B2 JP H044722B2
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JP
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resistance
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chromium
aluminum content
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JP61007559A
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、例えば薄膜抵抗器等に用いられる
高抵抗材料に関する。
〔従来の技術とその問題点〕
薄膜抵抗器の抵抗材料として従来からニツケ
ル・クロム膜が用いられているけれども、これの
比抵抗は、セラミツク基板上で約200μΩ・cm程
度が限度である。
〔発明の目的〕
しかしながら、電子部品の小型化、高集積化の
要求から、抵抗材料においては、比抵抗がより高
く、耐熱性も大きく、更に抵抗温度係数も小さい
ものが要望されており、この発明はこれに応えん
とするものである。
〔目的達成のための手段〕
この発明の高抵抗材料は、クロム中のアルミニ
ウム含有量が5〜30重量%の組成域の合金に、ホ
ウ素を5〜30重量%添加して成ることを特徴とす
る。
〔作用〕
この発明の高抵抗材料においては、上記のよう
な組成域において、従来のニツケル・クロム合金
よりも明らかに大きな比抵抗が得られる。しかも
耐熱性が大きく、更に抵抗温度係数も小さい。そ
れゆえ、上記のような高抵抗材料によれば、電子
部品の小型化、高集積化の要求に応えることが可
能となる。
〔実施例〕
電子ビーム加熱式の蒸発源を用いた真空蒸着に
よつて、96%アルミナ基板上に、クロム(Cr)・
アルミニウム(Al)・ホウ素(B)の三元合金膜を、
アルミニウム含有量およびホウ素添加量を変えて
形成した。
第1図ないし第3図に、それぞれ、クロム中の
アルミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホ
ウ素添加量に対する比抵抗ρ、熱処理での抵抗値
変化率ΔRおよび熱処理後の抵抗温度係数TCRを
示す。この場合、熱処理は500℃の窒素中で1時
間施した。
ここで、抵抗材料として要求される主要特性の
基準を説明すると次のとおりである。
比抵抗ρ:0.5mΩ・cm以上 これは、一般に薄膜抵抗材料として用いられて
いるクロム等の比抵抗よりも明らかに大きな値
(2.5倍以上)として決めたものである。
安定化熱処理での抵抗値変化率ΔR:±50%
以内 これは耐熱性を示すものであり、この抵抗値変
化率は、その値が常に一定であれば製造技術的な
問題はないが、絶対値が大き過ぎる場合にはその
ばらつきも大きくなることから、一応の基準とし
てこの範囲を定めたものである。
熱処理後の抵抗温度係数TCR:±300ppm/
℃以内 精密抵抗器ではより厳しい値を要求される場合
もあるが、一般に用いられる抵抗器の特性として
妥当な範囲を定めたものである。
上記基準を念頭において第1図ないし第3図を
見ると、第1図に示すように、比抵抗ρは、アル
ミニウム含有量が5重量%以上の場合、ホウ素添
加量が5重量%以上の領域でホウ素添加量の増加
と共に増大し、従来のニツケル・クロム合金の比
抵抗の2.5倍は言うに及ばず、10倍以上の値を得
ることも可能である。
また、第2図に示すように、熱処理での抵抗値
変化率ΔRは、アルミニウム含有量が30重量%以
下でかつホウ素添加量が5〜30重量%の範囲で、
±50%程度以内に入つており、特に、アルミニウ
ム含有量を20重量%程度以下にし、ホウ素添加量
を10〜20重量%程度にすれば、ΔRを0%に近づ
けることも可能である。
更に、第3図に示すように、熱処理後の抵抗温
度係数TCRは、アルミニウム含有量が30重量%
以下でかつホウ素添加量が5〜30重量%の範囲
で、±300ppm/℃程度内の実用的な値を持つてい
る。アルミニウム含有量が60重量%の場合は、図
示のホウ素添加量域でTCRが+500ppm/℃を越
えるため、第3図中にカーブは記入していない。
なお、アルミニウムを含有しないクロムにホウ
素を添加した場合でも、本発明のホウ素添加量域
では耐熱性が大きく、抵抗温度係数が小さく、か
つニツケル・クロム膜より2.5倍以上の比抵抗が
得られる。しかし、アルミニウムを含有する場合
に比べると、第1図に示したようにホウ素の添加
量を10重量%程度より大きくしても比抵抗は殆ど
増大しないため得られる比抵抗に限界があり、従
つて本発明による三元合金の優位性は明らかであ
る。
上記のような高抵抗材料(三元合金材料)の用
途は種々考えれる。例えば、当該高抵抗材料を薄
膜として基板等の上に形成することによつて、薄
膜抵抗器、薄膜発熱素子等の薄膜素子として用い
ることができる。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、比抵抗が高
く、耐熱性も大きく、更に抵抗温度係数も小さい
高抵抗材料が得られる。それゆえ、電子部品の小
型化、高集積化の要求に応えることが可能とな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、クロム中のアルミニウム含有量が0
〜60重量%の合金へのホウ素の添加量に対する比
抵抗ρを示す図である。第2図は、クロム中のア
ルミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホウ
素の添加量に対する、熱処理での抵抗値変化率
ΔRを示す図である。第3図は、クロム中のアル
ミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホウ素
の添加量に対する、熱処理後の抵抗温度係数
TCRを示す図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 クロム中のアルミニウム含有量が5〜30重量
    %の組成域の合金に、ホウ素を5〜30重量%添加
    して成ることを特徴とする高抵抗材料。
JP61007559A 1986-01-16 1986-01-16 高抵抗材料 Granted JPS62165302A (ja)

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JP61007559A JPS62165302A (ja) 1986-01-16 1986-01-16 高抵抗材料

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JP61007559A JPS62165302A (ja) 1986-01-16 1986-01-16 高抵抗材料

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JPS62165302A JPS62165302A (ja) 1987-07-21
JPH044722B2 true JPH044722B2 (ja) 1992-01-29

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0287501A (ja) * 1988-09-24 1990-03-28 Susumu Kogyo Kk 電気抵抗材料
JP2782288B2 (ja) * 1991-06-19 1998-07-30 進工業株式会社 電気抵抗材料

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JPS62165302A (ja) 1987-07-21

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