JPH044722B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH044722B2 JPH044722B2 JP61007559A JP755986A JPH044722B2 JP H044722 B2 JPH044722 B2 JP H044722B2 JP 61007559 A JP61007559 A JP 61007559A JP 755986 A JP755986 A JP 755986A JP H044722 B2 JPH044722 B2 JP H044722B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistance
- weight
- boron
- chromium
- aluminum content
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 17
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229910002058 ternary alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば薄膜抵抗器等に用いられる
高抵抗材料に関する。
高抵抗材料に関する。
薄膜抵抗器の抵抗材料として従来からニツケ
ル・クロム膜が用いられているけれども、これの
比抵抗は、セラミツク基板上で約200μΩ・cm程
度が限度である。
ル・クロム膜が用いられているけれども、これの
比抵抗は、セラミツク基板上で約200μΩ・cm程
度が限度である。
しかしながら、電子部品の小型化、高集積化の
要求から、抵抗材料においては、比抵抗がより高
く、耐熱性も大きく、更に抵抗温度係数も小さい
ものが要望されており、この発明はこれに応えん
とするものである。
要求から、抵抗材料においては、比抵抗がより高
く、耐熱性も大きく、更に抵抗温度係数も小さい
ものが要望されており、この発明はこれに応えん
とするものである。
この発明の高抵抗材料は、クロム中のアルミニ
ウム含有量が5〜30重量%の組成域の合金に、ホ
ウ素を5〜30重量%添加して成ることを特徴とす
る。
ウム含有量が5〜30重量%の組成域の合金に、ホ
ウ素を5〜30重量%添加して成ることを特徴とす
る。
この発明の高抵抗材料においては、上記のよう
な組成域において、従来のニツケル・クロム合金
よりも明らかに大きな比抵抗が得られる。しかも
耐熱性が大きく、更に抵抗温度係数も小さい。そ
れゆえ、上記のような高抵抗材料によれば、電子
部品の小型化、高集積化の要求に応えることが可
能となる。
な組成域において、従来のニツケル・クロム合金
よりも明らかに大きな比抵抗が得られる。しかも
耐熱性が大きく、更に抵抗温度係数も小さい。そ
れゆえ、上記のような高抵抗材料によれば、電子
部品の小型化、高集積化の要求に応えることが可
能となる。
電子ビーム加熱式の蒸発源を用いた真空蒸着に
よつて、96%アルミナ基板上に、クロム(Cr)・
アルミニウム(Al)・ホウ素(B)の三元合金膜を、
アルミニウム含有量およびホウ素添加量を変えて
形成した。
よつて、96%アルミナ基板上に、クロム(Cr)・
アルミニウム(Al)・ホウ素(B)の三元合金膜を、
アルミニウム含有量およびホウ素添加量を変えて
形成した。
第1図ないし第3図に、それぞれ、クロム中の
アルミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホ
ウ素添加量に対する比抵抗ρ、熱処理での抵抗値
変化率ΔRおよび熱処理後の抵抗温度係数TCRを
示す。この場合、熱処理は500℃の窒素中で1時
間施した。
アルミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホ
ウ素添加量に対する比抵抗ρ、熱処理での抵抗値
変化率ΔRおよび熱処理後の抵抗温度係数TCRを
示す。この場合、熱処理は500℃の窒素中で1時
間施した。
ここで、抵抗材料として要求される主要特性の
基準を説明すると次のとおりである。
基準を説明すると次のとおりである。
比抵抗ρ:0.5mΩ・cm以上
これは、一般に薄膜抵抗材料として用いられて
いるクロム等の比抵抗よりも明らかに大きな値
(2.5倍以上)として決めたものである。
いるクロム等の比抵抗よりも明らかに大きな値
(2.5倍以上)として決めたものである。
安定化熱処理での抵抗値変化率ΔR:±50%
以内 これは耐熱性を示すものであり、この抵抗値変
化率は、その値が常に一定であれば製造技術的な
問題はないが、絶対値が大き過ぎる場合にはその
ばらつきも大きくなることから、一応の基準とし
てこの範囲を定めたものである。
以内 これは耐熱性を示すものであり、この抵抗値変
化率は、その値が常に一定であれば製造技術的な
問題はないが、絶対値が大き過ぎる場合にはその
ばらつきも大きくなることから、一応の基準とし
てこの範囲を定めたものである。
熱処理後の抵抗温度係数TCR:±300ppm/
℃以内 精密抵抗器ではより厳しい値を要求される場合
もあるが、一般に用いられる抵抗器の特性として
妥当な範囲を定めたものである。
℃以内 精密抵抗器ではより厳しい値を要求される場合
もあるが、一般に用いられる抵抗器の特性として
妥当な範囲を定めたものである。
上記基準を念頭において第1図ないし第3図を
見ると、第1図に示すように、比抵抗ρは、アル
ミニウム含有量が5重量%以上の場合、ホウ素添
加量が5重量%以上の領域でホウ素添加量の増加
と共に増大し、従来のニツケル・クロム合金の比
抵抗の2.5倍は言うに及ばず、10倍以上の値を得
ることも可能である。
見ると、第1図に示すように、比抵抗ρは、アル
ミニウム含有量が5重量%以上の場合、ホウ素添
加量が5重量%以上の領域でホウ素添加量の増加
と共に増大し、従来のニツケル・クロム合金の比
抵抗の2.5倍は言うに及ばず、10倍以上の値を得
ることも可能である。
また、第2図に示すように、熱処理での抵抗値
変化率ΔRは、アルミニウム含有量が30重量%以
下でかつホウ素添加量が5〜30重量%の範囲で、
±50%程度以内に入つており、特に、アルミニウ
ム含有量を20重量%程度以下にし、ホウ素添加量
を10〜20重量%程度にすれば、ΔRを0%に近づ
けることも可能である。
変化率ΔRは、アルミニウム含有量が30重量%以
下でかつホウ素添加量が5〜30重量%の範囲で、
±50%程度以内に入つており、特に、アルミニウ
ム含有量を20重量%程度以下にし、ホウ素添加量
を10〜20重量%程度にすれば、ΔRを0%に近づ
けることも可能である。
更に、第3図に示すように、熱処理後の抵抗温
度係数TCRは、アルミニウム含有量が30重量%
以下でかつホウ素添加量が5〜30重量%の範囲
で、±300ppm/℃程度内の実用的な値を持つてい
る。アルミニウム含有量が60重量%の場合は、図
示のホウ素添加量域でTCRが+500ppm/℃を越
えるため、第3図中にカーブは記入していない。
度係数TCRは、アルミニウム含有量が30重量%
以下でかつホウ素添加量が5〜30重量%の範囲
で、±300ppm/℃程度内の実用的な値を持つてい
る。アルミニウム含有量が60重量%の場合は、図
示のホウ素添加量域でTCRが+500ppm/℃を越
えるため、第3図中にカーブは記入していない。
なお、アルミニウムを含有しないクロムにホウ
素を添加した場合でも、本発明のホウ素添加量域
では耐熱性が大きく、抵抗温度係数が小さく、か
つニツケル・クロム膜より2.5倍以上の比抵抗が
得られる。しかし、アルミニウムを含有する場合
に比べると、第1図に示したようにホウ素の添加
量を10重量%程度より大きくしても比抵抗は殆ど
増大しないため得られる比抵抗に限界があり、従
つて本発明による三元合金の優位性は明らかであ
る。
素を添加した場合でも、本発明のホウ素添加量域
では耐熱性が大きく、抵抗温度係数が小さく、か
つニツケル・クロム膜より2.5倍以上の比抵抗が
得られる。しかし、アルミニウムを含有する場合
に比べると、第1図に示したようにホウ素の添加
量を10重量%程度より大きくしても比抵抗は殆ど
増大しないため得られる比抵抗に限界があり、従
つて本発明による三元合金の優位性は明らかであ
る。
上記のような高抵抗材料(三元合金材料)の用
途は種々考えれる。例えば、当該高抵抗材料を薄
膜として基板等の上に形成することによつて、薄
膜抵抗器、薄膜発熱素子等の薄膜素子として用い
ることができる。
途は種々考えれる。例えば、当該高抵抗材料を薄
膜として基板等の上に形成することによつて、薄
膜抵抗器、薄膜発熱素子等の薄膜素子として用い
ることができる。
以上のようにこの発明によれば、比抵抗が高
く、耐熱性も大きく、更に抵抗温度係数も小さい
高抵抗材料が得られる。それゆえ、電子部品の小
型化、高集積化の要求に応えることが可能とな
る。
く、耐熱性も大きく、更に抵抗温度係数も小さい
高抵抗材料が得られる。それゆえ、電子部品の小
型化、高集積化の要求に応えることが可能とな
る。
第1図は、クロム中のアルミニウム含有量が0
〜60重量%の合金へのホウ素の添加量に対する比
抵抗ρを示す図である。第2図は、クロム中のア
ルミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホウ
素の添加量に対する、熱処理での抵抗値変化率
ΔRを示す図である。第3図は、クロム中のアル
ミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホウ素
の添加量に対する、熱処理後の抵抗温度係数
TCRを示す図である。
〜60重量%の合金へのホウ素の添加量に対する比
抵抗ρを示す図である。第2図は、クロム中のア
ルミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホウ
素の添加量に対する、熱処理での抵抗値変化率
ΔRを示す図である。第3図は、クロム中のアル
ミニウム含有量が0〜60重量%の合金へのホウ素
の添加量に対する、熱処理後の抵抗温度係数
TCRを示す図である。
Claims (1)
- 1 クロム中のアルミニウム含有量が5〜30重量
%の組成域の合金に、ホウ素を5〜30重量%添加
して成ることを特徴とする高抵抗材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61007559A JPS62165302A (ja) | 1986-01-16 | 1986-01-16 | 高抵抗材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61007559A JPS62165302A (ja) | 1986-01-16 | 1986-01-16 | 高抵抗材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62165302A JPS62165302A (ja) | 1987-07-21 |
JPH044722B2 true JPH044722B2 (ja) | 1992-01-29 |
Family
ID=11669162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61007559A Granted JPS62165302A (ja) | 1986-01-16 | 1986-01-16 | 高抵抗材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62165302A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0287501A (ja) * | 1988-09-24 | 1990-03-28 | Susumu Kogyo Kk | 電気抵抗材料 |
JP2782288B2 (ja) * | 1991-06-19 | 1998-07-30 | 進工業株式会社 | 電気抵抗材料 |
-
1986
- 1986-01-16 JP JP61007559A patent/JPS62165302A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62165302A (ja) | 1987-07-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS5945201B2 (ja) | 電気抵抗膜及びその製造方法 | |
KR830001873B1 (ko) | 저항체 조성물 | |
JPH06158272A (ja) | 抵抗膜および抵抗膜の製造方法 | |
US3665599A (en) | Method of making refractory metal carbide thin film resistors | |
JPH044722B2 (ja) | ||
US4338145A (en) | Chrome-tantalum alloy thin film resistor and method of producing the same | |
US5227231A (en) | Electrical resistive material | |
Schippel | The influence of silicon on properties of deposited Ni-Cr films | |
JPH02152201A (ja) | 歪ゲージ用薄膜抵抗体 | |
JPS5822379A (ja) | スパツタリング用タ−ゲツト | |
JP3229460B2 (ja) | 歪みゲージ | |
JPH0287501A (ja) | 電気抵抗材料 | |
JP4121270B2 (ja) | 4元合金材料からなるntcサーミスタ、及び同材料を用いた抵抗器 | |
JPS6277436A (ja) | 電気抵抗材料およびそれを用いた薄膜素子 | |
JPH0620803A (ja) | 薄膜抵抗器及び薄膜抵抗器の製造方法 | |
CN217588576U (zh) | 一种负电阻温度系数的复合薄膜芯片电阻器 | |
TW201933380A (zh) | 薄膜電阻合金 | |
JP2577969B2 (ja) | 薄膜抵抗体 | |
JPS5845163B2 (ja) | 抵抗器の製造法 | |
SU1056281A1 (ru) | Материал дл низкоомных тонкопленочных резисторов | |
JPS63261804A (ja) | 金属薄膜の抵抗温度係数調整方法 | |
JPH07120573B2 (ja) | 非晶質2元合金薄膜抵抗体の製造方法 | |
JPH032356A (ja) | 電気比抵抗値の温度係数の小さいFe―Cr―Al系合金よりなる電熱体用材料 | |
JPH04170001A (ja) | 薄膜サーミスタ及びその製造方法 | |
JPS62152103A (ja) | Ptc抵抗素子 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |