JPH0443539A - マトリクス光源 - Google Patents

マトリクス光源

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JPH0443539A
JPH0443539A JP14809890A JP14809890A JPH0443539A JP H0443539 A JPH0443539 A JP H0443539A JP 14809890 A JP14809890 A JP 14809890A JP 14809890 A JP14809890 A JP 14809890A JP H0443539 A JPH0443539 A JP H0443539A
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JP
Japan
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light source
matrix
electrode
phosphor
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP14809890A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Komatsu
博志 小松
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH0443539A publication Critical patent/JPH0443539A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光方式プリンタのアレイ状光ヘッドや、発光型
表示装置に利用するマトリクス光源に関する。さらに詳
しくは、解像度(単位長さ当りに形成された画素数)を
大きくでき、多色化が可能なマトリクス光源に関する。
[従来の技術] 従来のマトリクス光源には、発光ダイオード(LED)
型光源や、熱電子放出型の蛍光表示管光源などがあった
[発明が解決しようとする課題] しかし前述の従来技術には、つぎに列配するようないく
つかの問題点がある。
■まずLED型光源の場合、LEDは面積の小さな化合
物半導体基板に形成されるため、LEDアレイの1チッ
プ当りの長さは10mm程度と短く、A4Mサイズの光
プリンタ用のアレイ状光源をつくるためには約20個の
LEDチップを並べなければならない。このときのLE
Dチップを並べて実装する作業コストが扁い。またLE
Dチップ間の特性にばらつきがあるため、予め発光強度
を揃える作業工程も必要である。
したがって、LED型光源は製造コストが高く、均一性
が悪いという問題点がある。
■また、LEDチップを複数個並べて実装するとき、L
EDチップ間の実装間隔に限界があるため、その実装間
隔以上に解像度をあげられないという問題点がある。
■さらにLEDの発光波長はLEDを構成する材料によ
って決まるため、多色のアレイ光源の実現がきわめて難
しいという問題点がある。特に光強度の大きな青色光源
の実現は難しい。
■また、熱電子放出型の蛍光表示管光源の場合、。
グリッド電極の、構造が複雑であり、またカソード電極
とアノード電極の距離がIOC)czm程度と長いため
、画素間のピッチを小さくできない。そのため解像度を
上げられないという問題点がある。
そこで本発明のマトリクス光源は、このような従来技術
の問題点を克服するためのもので、その目的とするとこ
ろは、400DPI以上の高解像度化が可能で、RGB
などの多色種の発光が可能で、しかも駆動回路を搭載で
きる安価なマトリクス光源を提供するところにある。
[課題を解決するための手段] 本発明のマトリクス光源は、 カソード電極およびゲート電極をもつ電界電子放出素子
と、アノード電極をもつ蛍光体とで構成される単位光源
がマトリクス状に配列されて成ることを特徴とし、 また、異なる発色を呈する複数種の単位光源がマトリク
ス状に配列されて成ることを特徴とし、また、前記単位
光源は、少なくとも、マトリクス状に配置されたゲート
電極の選択によって任意に選択されることを特徴とし、 さらに、前記単位光源を選択し、輝度調節するための駆
動用集積回路が第一平面基板もしくは第二平面基板の表
面に、モノリシック構造もしくはハイブリッド構造に具
備されて成ることを特徴とする。
[実施例] 本発明のマトリクス光源を実施例に従いさらに詳述する
〈実施例1〉 第1図(a)および(b)は本発明の第一の実施例を説
明するためのもので、モノクロの一次元マトリクス光源
の概略平面図およびA−A’線に沿った概略断面図をそ
れぞれ示している。
このマトリクス光源は、複数個の電界電子放出素子5が
形成された第一平面基板lと、それに対向して配置され
発光体6が形成された第二平面基板2と、第一平面基板
1と第二平面基板2の間隔を一定に保持する挟持体3と
、第一平面基板1と第二平面基板2と挟持体3に囲まれ
た真空層4が主な構成要素である。
第一平面基板1は(100)面方位をもつn型シリコン
単結晶基板よりなり、電界電子放出素子5部分と基板コ
ンタクト電極7部分を除きシリコン酸化膜(Si02N
)1“で覆われている。第二平面基板2は透明なガラス
基板よりなり、その表面に透明なITO材料よりなるア
ノード電極9と酸化亜鉛(ZnO:  Zn)材料より
なる蛍光体6がfi層され形成されている。挟持体3は
酸化シリコン厚膜よりなり、第一平面基板1と第二平面
基板2に陽極接合法による静電気接合か、またはフリッ
トガラスによる接着接合がなされている。
カソード電極とゲート電極を有する電界電子放出素子5
とアノード電極を有する蛍光体6は真空層4を挟んで対
向して配置され、その一対が単位光源を構成している。
単位光源は互いに分離され、アレイ状に配置されたゲー
トtt!!iに区分される1個の電界電子放出素子をも
つ。本実施例のマトリクス光源は、各々の電界電子放出
素子のカソード電極はシリコン単結晶基板を共有してい
る。またアノード電極も共通である。
本マトリクス光源は、電界電子放出素子ピッチで与えら
れる単位光源ピッチが50μm、画素数が4200個、
実効長が210mmである。また本マトリクス光源の真
空層4は真空度が1×10−’Torr以下に維持され
ている。
第2図は第1図(a)に示した一次元マトリクス光源の
B−B’線に沿った詳細断面図である。
一つの電界電子放出素子は第一平面基板1の表面に形成
された複数個の突起状のカソード電極11と、5i02
膜I′を介して形成され、それぞれの突起の近傍に開口
をもつゲート電極12よりなる。カソード電極11はシ
リコン単結晶基板の一部で、突起高さが1μm、突起間
隔が縦・横ともに10μm、突起数は縦・横ともに3個
ずつ並べられ全部で9個有する。ゲート電極12の開口
は突起中心軸を中心とする円形であり、その直径は1μ
mである。この開口数も突起数と同じ9個である。カソ
ード電極11とゲート電極12の距離は開口半径で与え
られ0.5μm、カソード電極11とアノード電極9の
距離はほぼ挟持体3の高さと同じで約10μmである。
また各々の電界電子放出素子でゲート電極11は分離さ
れ、素子部のゲート電極11の大きさは30μm口であ
る。
単位光源の発光動作は次のようになる。すなわち、基板
コンタクト電極7を通してシリコン単結晶基板1を接地
した状態で、ゲートコンタクト電極8を通して電界電子
放出素子5のゲート電極にゲート電圧Vgkを、アノー
ドコンタクト電極10およびアノード電極9を通して蛍
光体6にアノード電圧Vakをそれぞれ印加する。この
とき、電界電子放出素子5のカソード電極の突起部分に
ゲート電極の電界が印加され、突起先端より電子が放出
される。放出された電子はアノード電圧に加速されて蛍
光体6に到達し、素子に対向する部分の蛍光体6を発光
させる。
単位光源は50μmピッチで一列に形成されている。電
界電子放出素子のカソード電極11の突起より放出され
た電子はアノード電極に到達するまでに少し発散される
ため、単位光源の蛍光体の発光領域は約45μm口とな
る。しかし単位光源を50μmピッチで形成しているた
め、隣接する単位光源間で相互干渉はなく、解像度50
0DP工の良好なマトリクス光源が得られた。
本マトリクス光源の駆動方法をつぎに述べる。
まず、単位光源のそれぞれの電界電子放出素子のゲート
電極にスイッチング用のMOSFETのソース端子を接
続し、それぞれのMOSFETのドレイン端子を+80
vに一定にする。アノード電圧はVak=+200V一
定とする。任意の位置の単位光源を発光させたいときは
、発光すべき単位光源に対応するMOSFETのゲート
端子に制御信号を入力し、MOSFETをon状態にす
る。
このとき、・発光すべき単位光源の電界電子放出素子の
ゲート電極にはon状態となったMOSFETを通して
、発光に必要な閾値電圧以上のゲート電圧Vgk=+8
0Vが印加され、電界電子放出素子のカソード電極突起
より電子が放出される。放出された電子はアノード電圧
に加速されて蛍光体を発光させる。単位光源あたりのア
ノード電流は0.1μAであり、このときの蛍光体の明
るさは単位光源あたり200ni を程度である。MO
SFETのゲート端子に加える制御信号をコントロール
することにより、任意の位置の単位光源が発光する一次
元マトリクス光源が実現できる。
本発明の電界電子放出素子はフォトリソ技術によって微
細化できるため1.解像度を大きくできる。
また、現有するシリコン単結晶基板の大きさは8インチ
径のものがあり、チップの大きさで最大18cm程度の
ものが作製可能である。これを利用するとA4版サイズ
のマトリクス光源を形成するとき、2チツプだけを並べ
て実装すれば完成するため、実装コストを大幅に軽減で
きる。また、シリコン単結晶基板は機械的強度が強いた
め、実装時などの作業性もよいなどの利点もある。
本実施例において、第一平面基板にシリコン単結晶基板
を用い、突起はシリコン単結晶基板の異方性エツチング
を利用して作製したが、本発明はこれに限らず、金属電
極をもつ絶縁性基板と金属突起を用いたり、導電性基板
に金属突起を形成したものを用いてもかまわない。蛍光
体として青緑発光を呈するZnO:  Znを用いたが
、赤外光から紫外光のどの波長の材料を用いてもかまわ
ない。
〈実施例2〉 第3図は本発明の第二の実施例を説明するためのもので
、多色発光の二次元マトリクス光源の概略平面図である
第二平面基板2の表面に形成された平行な3本のアノー
ド電極91.92.93と、これらに直交して第一平面
基板1の表面に形成された複数本のゲート電極12との
各交点に単位光源が形成された二次元マトリクス光源で
ある。3本のアノード電極の表面にはそれぞれ異なる発
光色を呈する蛍光体が形成されている。すなわち、アノ
ード電極91には赤色(R)蛍光体([Zn、Cd1S
:Ag)61が、アノード電極92には緑色(G)蛍光
体(ZnS:  Cu、AI)62が、アノード電極9
3には青色(B)蛍光体(ZnS:  Zn)63がそ
れぞれ形成されている。したがって、RGBの各単位光
源はアノード電極に沿ってストライブ状に形成され、各
ゲート電極にはRGB各ひとつずつの単位光源が接続さ
れている。RGBの配列方法にはストライブ配列の他に
ちどり配列やデルタ配列などがある。
第一平面基板1の表面には第2図に示したものと同様な
構造の電界電子放出素子がマトリクス状に形成されてい
る。ひとつの電界電子放出素子のゲート電極の大きさは
40μmX15μmであり、カソード電極の突起数は1
6個である。ゲート電極ピッチは60μm、アノード電
極ピッチは20μmであり、解像度は約400DPIで
ある。挟持体3と第一平面基板1および第二平面基板2
に囲まれた空間は真空状態である。このマトリクス光源
の実効長は180mmで85版対応である。
本マトリクス光源の駆動方法は次のようになる。
すなわち、発光させるべき任意の単位光源は、それにつ
ながるアノード電極とゲート電極を選択することによっ
て決められる。すなわち基板コンタクト電極7を通して
カソード電極を接地した状態で、選択する単位光源の電
界電子放出素子につながるゲート電極に閾値電圧よりも
大きなゲート電圧Vgkを印加し電子を放出させる。選
択する単位光源のアノード電極にはアノード電圧Vak
を印加して電子を加速させ、選択する単位光源の蛍光体
に電子を流し込んで蛍光体を発光させるのである。
このとき、非選択のゲート電極とアノード電極は非選択
単位光源の蛍光体が発光しない程度に低電位に保持して
おく。蛍光体の種類によって発光効率が異なる場合は、
発光強度が同じになるように蛍光体に照射する電子のエ
ネルギーを調節すればよい。この方法には、ゲート電圧
によってアノード電流を制御する方法と、アノード電圧
によって加速電圧を制御する方法がある。また、電界電
子放出素子の突起の密度を変えて、ゲート電圧を同一に
したままアノード電流を変えることも可能である。
マトリクス光源のもう一つの駆動方法として、カソード
電極とゲート電極をマトリクス状に配置し、アノード電
極はベタ電極として全単位光源で共通使用する構造のも
のがある。すなわち、任意の単位光源の選択はそれにつ
ながるカソード電極とゲート電極を選択することによっ
て行い、そのカソード電極電位とゲート電極電位を制御
することで、Vgkを電子放出閾値電圧以下とするか閾
値電圧以上とするかによって非発光状態と発光状態を制
御するものである。このような駆動方法の利点は、アノ
ード電極を全面ベタの共通電極とするため、マトリクス
光源の作製が簡単になる。また第一平面基板側のみの駆
動で済むため、周辺の駆動回路の構成が簡単になること
である。
〈実施例3〉 第4図は本発明の第三の実施例を説明するためのもので
、駆動回路を一体化したマトリクス光源の概略平面図で
ある。マトリクス光源の構成は実施例1で述べた構造の
ものと同様である。本実施例の特徴は、第一平面基板1
であるシリコン単結晶基板の表面にマトリクス光源を駆
動するための駆動回路13をモノリシックに形成した点
にある。
電界電子放出素子5の領域外に、CMOS構造で構成さ
れるシフトレジスタとサンプル&ホールド回路およびア
ナログスイッチアレイが形成されている。必要があれば
ラッチアップ回路を形成してもよい。駆動回路13の入
力14は電源、クロック、画像信号などであり、駆動回
路の出力は各単位光源の電界電子放出素子のゲート電極
制御信号である。
モノリシックな駆動回路はカソード電極の突起を形成し
た後、CMOSプロセスによって作製すればよい。
第4図に示したマトリクス光源以外の構造のものについ
ても、ガラス基板上に形成されたものについては薄膜ト
ランジスタで駆動回路をモノリシックに形成したり、あ
るいはチップオングラス(COG)法によってハイブリ
ッドに駆動回路を同一基板上に形成してもよい。
このように駆動回路を一体化したマトリクス光源は、微
細化と小型化がより可能となり、真空層の形成まで含め
たマトリクス光源の製造方法がより簡単になるという効
果がある。
[発明の効果] 本発明のマトリクス光源は以下に列記するような発明の
効果をもつ。
■微細加工技術を利用した作製法により500DPI以
上の高解像度化が可能である ■多色化ができる。
■カソード電極から出た電子のほとんどはアノード電流
になるため、電力効率がきわめて良好である。
■駆動回路を一体化できるため、小型化が容易で、しか
も耐振動などの信頼性がよい。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および(b)は本発明の第一の実施例を説
明するためのもので、モノクロの一次元マトリクス光源
の概略平面図およびA−A’線に沿った概略断面図をそ
れぞれ示している。 第2図は第1図(a)に示した一次元マトリクス光源の
B−B’線に沿った詳細断面図である。 第3図は本発明の第二の実施例を説明するためのもので
、多色発光の二次元マトリクス光源の概略平面図である
。 第4図は本発明の第三の実施例を説明するためのもので
、駆動回路を一体化したマトリクス光源の概略平面図で
ある。 1・・第一平面基板 2・・第二平面基板 3・・挟持体 4・・真空層 5・・電界電子放出素子 6・・蛍光体 9・・アノード電極 11・・カソード電極 12・・ゲート電極 13・・駆動回路 第1図(a) 第1図(b) 以上

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)カソード電極およびゲート電極をもつ電界電子放
    出素子と、アノード電極をもつ蛍光体とで構成される単
    位光源がマトリクス状に配列されて成ることを特徴とす
    るマトリクス光源。
  2. (2)異なる発色を呈する複数種の単位光源がマトリク
    ス状に配列されて成ることを特徴とする請求項1に記載
    のマトリクス光源。
  3. (3)前記単位光源は、少なくとも、マトリクス状に配
    置されたゲート電極の選択によって任意に選択されるこ
    とを特徴とする請求項1または2に記載のマトリクス光
    源。
  4. (4)前記単位光源を選択し、輝度調節するための駆動
    用集積回路が第一平面基板もしくは第二平面基板の表面
    に、モノリシック構造もしくはハイブリッド構造に具備
    されて成ることを特徴とする請求項1乃至3に記載のマ
    トリクス光源。
JP14809890A 1990-06-06 1990-06-06 マトリクス光源 Pending JPH0443539A (ja)

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Cited By (5)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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