JPH0441924B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0441924B2 JPH0441924B2 JP10006886A JP10006886A JPH0441924B2 JP H0441924 B2 JPH0441924 B2 JP H0441924B2 JP 10006886 A JP10006886 A JP 10006886A JP 10006886 A JP10006886 A JP 10006886A JP H0441924 B2 JPH0441924 B2 JP H0441924B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- rotating shaft
- film thickness
- measured
- shielding plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、例えば磁気テープの製造ラインに
おいて、塗布された塗膜の膜厚を測定する場合に
適用される膜厚装置に関するものである。
おいて、塗布された塗膜の膜厚を測定する場合に
適用される膜厚装置に関するものである。
第2図は特願昭60−174609号公報に記載されて
いる従来の膜厚測定装置である。図において、1
は所定の速度で回転される回転軸、2は回転軸1
の面から所定の距離をあけて回転軸1と平行に設
けられた遮光板、3は回転軸1と密着して回転軸
1の速度と同じ速度で走行するシートと塗膜とか
らなる被測定部材で、所定の厚みの膜が設けられ
ている。4,5は所定の角度をなして配置されそ
れぞれレーザー光4a,5aを発生するレーザー
光発生器、6は反射ミラーで、レーザー光4aを
受けて回転軸1の表面と遮光板2との間を走査
し、レーザー光5aを受けて被測定部材3と遮光
板2との間を走査するように制御される。7,8
は反射ミラー6で反射した各レーザー光4a,5
aをそれぞれ集光するレンズ、9,10は走査し
た各レーザー光4a,5aを集光するレンズ、1
1,12は受光器、13,14はカウンタ、15
は演算器、16は表示器である。
いる従来の膜厚測定装置である。図において、1
は所定の速度で回転される回転軸、2は回転軸1
の面から所定の距離をあけて回転軸1と平行に設
けられた遮光板、3は回転軸1と密着して回転軸
1の速度と同じ速度で走行するシートと塗膜とか
らなる被測定部材で、所定の厚みの膜が設けられ
ている。4,5は所定の角度をなして配置されそ
れぞれレーザー光4a,5aを発生するレーザー
光発生器、6は反射ミラーで、レーザー光4aを
受けて回転軸1の表面と遮光板2との間を走査
し、レーザー光5aを受けて被測定部材3と遮光
板2との間を走査するように制御される。7,8
は反射ミラー6で反射した各レーザー光4a,5
aをそれぞれ集光するレンズ、9,10は走査し
た各レーザー光4a,5aを集光するレンズ、1
1,12は受光器、13,14はカウンタ、15
は演算器、16は表示器である。
次に動作について説明する。レーザー光発生器
4,5から発射された各レーザー光4a,5aは
反射ミラー6に入射され、いずれも同一の角速度
で走査される。反射した各レーザー光4a,5a
はそれぞれレンズ7,8で集光されて、第3図に
示すようにそれぞれギヤツプA,Bの位置でその
ビーム径が最小になつて、回転軸1に垂直な方
向、つまりギヤツプの方向に一定の速度で走査さ
れる。このとき、各受光器11,12には各ギヤ
ツプA,Bを各レーザー光4a,5aが通過して
いる間だけ入射される。したがつて、受光器1
1,12の出力信号はギヤツプA,Bの大きさに
比例した幅のパルス波形となる。これをカウンタ
13,14でパルスカウントしてパルス幅に相当
したカウント数が得られる。演算器15ではこれ
らのカウント数から厚みを計算して表示器16に
表示する。カウンタ13のカウント数をa、カウ
ンタ14のカウント数をbとすると、被測定部材
3の厚みtxは(1)式で求められる。
4,5から発射された各レーザー光4a,5aは
反射ミラー6に入射され、いずれも同一の角速度
で走査される。反射した各レーザー光4a,5a
はそれぞれレンズ7,8で集光されて、第3図に
示すようにそれぞれギヤツプA,Bの位置でその
ビーム径が最小になつて、回転軸1に垂直な方
向、つまりギヤツプの方向に一定の速度で走査さ
れる。このとき、各受光器11,12には各ギヤ
ツプA,Bを各レーザー光4a,5aが通過して
いる間だけ入射される。したがつて、受光器1
1,12の出力信号はギヤツプA,Bの大きさに
比例した幅のパルス波形となる。これをカウンタ
13,14でパルスカウントしてパルス幅に相当
したカウント数が得られる。演算器15ではこれ
らのカウント数から厚みを計算して表示器16に
表示する。カウンタ13のカウント数をa、カウ
ンタ14のカウント数をbとすると、被測定部材
3の厚みtxは(1)式で求められる。
tx=tp(1−b/a)……(1)
但し、tpはギヤツプAの大きさ(寸法)であ
る。こうして得られた被測定部材1の厚みからシ
ートの厚みを差引くことによつて膜厚が求められ
る。
る。こうして得られた被測定部材1の厚みからシ
ートの厚みを差引くことによつて膜厚が求められ
る。
従来の膜厚測定装置は以上のように構成されて
おり、走査機構のフイードバツク制御が行なわれ
ていないため、走査される光ビームの移動速度が
一定とならず、1回の走査中にも速度が変動し、
その変動分が誤差となる欠点があつた。
おり、走査機構のフイードバツク制御が行なわれ
ていないため、走査される光ビームの移動速度が
一定とならず、1回の走査中にも速度が変動し、
その変動分が誤差となる欠点があつた。
この発明は上記のような問題点を解消するため
になされたもので、走査される光ビームの移動位
置および速度が一定になるようにフイードバツク
制御し、移動速度の変動による誤差を除去するこ
とを目的とする。
になされたもので、走査される光ビームの移動位
置および速度が一定になるようにフイードバツク
制御し、移動速度の変動による誤差を除去するこ
とを目的とする。
この発明に係る膜厚測定装置は、別のレーザー
光源を用いるかまたは、同一レーザー光源の出射
ビームを光分岐器で分岐して得られるいま1つの
光ビームを位置検出受光素子で位置検出し、その
信号と駆動源信号との差が0になるように走査機
構をフイードバツク駆動するものである。
光源を用いるかまたは、同一レーザー光源の出射
ビームを光分岐器で分岐して得られるいま1つの
光ビームを位置検出受光素子で位置検出し、その
信号と駆動源信号との差が0になるように走査機
構をフイードバツク駆動するものである。
この発明における膜厚測定装置は、光ビームの
走査波形が、駆動源信号波形に等しくなるように
フイードバツク制御するため、走査速度が安定
し、測定精度の高い膜厚測定装置が得られる。
走査波形が、駆動源信号波形に等しくなるように
フイードバツク制御するため、走査速度が安定
し、測定精度の高い膜厚測定装置が得られる。
以下この発明の一実施例を図について説明す
る。第1図において、1〜16は従来のものと同
様である。17はレーザー光源で、レーザー光1
7aを発射する。18は入射された光ビームスポ
ツトの位置を電気信号に変換するPSD等の位置
検出受光素子、19は増幅器、20は反射ミラー
6を駆動する走査機構、21は三角波を発生する
発振器で、走査機構20の駆動信号源である。2
2は走査機構20を駆動する駆動回路である。
る。第1図において、1〜16は従来のものと同
様である。17はレーザー光源で、レーザー光1
7aを発射する。18は入射された光ビームスポ
ツトの位置を電気信号に変換するPSD等の位置
検出受光素子、19は増幅器、20は反射ミラー
6を駆動する走査機構、21は三角波を発生する
発振器で、走査機構20の駆動信号源である。2
2は走査機構20を駆動する駆動回路である。
次に動作について説明する。第1図において、
レーザー光源17の出射光ビームは走査機構20
に入射されて走査偏向され、位置検出受光素子1
8に入射される。位置検出受光素子18は入射光
ビームスポツトの位置に対応する電気信号を出力
し、その信号は増幅器19で増幅される。この信
号は走査機構20の駆動回路22に送られ、発振
器21の出力信号と比較増幅され、その差が零に
なるように走査機構20が駆動される。したがつ
て被測定ギヤツプを走査する光ビームはその動き
が常に駆動源三角波信号と一致するようにフイー
ドバツク駆動され、走査速度は一定となるので、
走査速度の変動に起因する誤差は生じない。
レーザー光源17の出射光ビームは走査機構20
に入射されて走査偏向され、位置検出受光素子1
8に入射される。位置検出受光素子18は入射光
ビームスポツトの位置に対応する電気信号を出力
し、その信号は増幅器19で増幅される。この信
号は走査機構20の駆動回路22に送られ、発振
器21の出力信号と比較増幅され、その差が零に
なるように走査機構20が駆動される。したがつ
て被測定ギヤツプを走査する光ビームはその動き
が常に駆動源三角波信号と一致するようにフイー
ドバツク駆動され、走査速度は一定となるので、
走査速度の変動に起因する誤差は生じない。
このようにこの発明によれば、走査する光ビー
ムの動きを位置検出受光素子で受光し、駆動源三
角波信号と等しくなるようにフイードバツク制御
するので、光ビームの走査速度が安定し、これに
起因する測定誤差が除去され、精度の高い膜厚測
定装置が得られる。
ムの動きを位置検出受光素子で受光し、駆動源三
角波信号と等しくなるようにフイードバツク制御
するので、光ビームの走査速度が安定し、これに
起因する測定誤差が除去され、精度の高い膜厚測
定装置が得られる。
第1図はこの発明の一実施例による膜厚測定装
置の構成図、第2図、第3図は従来の膜厚測定装
置の構成図である。 図において、1は回転軸、2は遮光板、3は被
測定部材、4,5,17はレーザー光発生器、4
a,5a,17aはレーザー光、18は位置検出
受光素子、20は走査機構、22は駆動回路であ
る。なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を
示す。
置の構成図、第2図、第3図は従来の膜厚測定装
置の構成図である。 図において、1は回転軸、2は遮光板、3は被
測定部材、4,5,17はレーザー光発生器、4
a,5a,17aはレーザー光、18は位置検出
受光素子、20は走査機構、22は駆動回路であ
る。なお、各図中同一符号は同一又は相当部分を
示す。
Claims (1)
- 1 被測定膜がシートに塗布された被測定部材を
回転軸で密着支持しながら走行させ、上記回転軸
の面から所定の距離をあけて上記回転軸と平行に
遮光板を設けて、上記被測定膜の表面と上記遮光
板との間を第1のレーザー光を使つて反射ミラー
で走査し、上記回転軸の表面と上記遮光板との間
を第2のレーザー光を使つて上記反射ミラーで走
査して上記被測定膜の膜厚を測定するものにおい
て、第3のレーザー光を上記反射ミラーを介して
位置検出受光素子に入射して光ビームスポツトの
位置を電気信号で出力し、上記位置検出受光素子
の出力と上記反射ミラーを駆動する走査機構の駆
動信号とが一致するようにしたことを特徴とする
膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10006886A JPS62255808A (ja) | 1986-04-29 | 1986-04-29 | 膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10006886A JPS62255808A (ja) | 1986-04-29 | 1986-04-29 | 膜厚測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62255808A JPS62255808A (ja) | 1987-11-07 |
JPH0441924B2 true JPH0441924B2 (ja) | 1992-07-09 |
Family
ID=14264144
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10006886A Granted JPS62255808A (ja) | 1986-04-29 | 1986-04-29 | 膜厚測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62255808A (ja) |
-
1986
- 1986-04-29 JP JP10006886A patent/JPS62255808A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62255808A (ja) | 1987-11-07 |
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