JPH0441128B2 - - Google Patents
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- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 238000005902 aminomethylation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims description 3
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 claims 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 38
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- -1 hydrogen compound Chemical class 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- PLSCMQXBWGCHAP-UHFFFAOYSA-N 1-(trimethylsilylmethoxy)-N-(trimethylsilylmethoxymethyl)methanamine Chemical compound C[Si](C)(C)COCNCOC[Si](C)(C)C PLSCMQXBWGCHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 4
- OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L magnesium bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].[Br-] OTCKOJUMXQWKQG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910001623 magnesium bromide Inorganic materials 0.000 description 4
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 4
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKYFWFHTABURGB-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophen-2-ylmethanamine Chemical compound C1=CC=C2SC(CN)=CC2=C1 WKYFWFHTABURGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N bromobenzene Chemical compound BrC1=CC=CC=C1 QARVLSVVCXYDNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYUUUYGHSFRRLJ-UHFFFAOYSA-N hexylsulfanyl(trimethyl)silane Chemical compound CCCCCCS[Si](C)(C)C KYUUUYGHSFRRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRKPYFLIYNGWTE-UHFFFAOYSA-N n,o-dimethylhydroxylamine Chemical compound CNOC KRKPYFLIYNGWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L zinc bromide Chemical compound Br[Zn]Br VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MISAGEOFUVTSBB-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-n,n-bis(trimethylsilyl)methanamine Chemical compound C[Si](C)(C)N([Si](C)(C)C)CC1=CC=CC=C1 MISAGEOFUVTSBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 6-phosphonohexylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CCCCCCP(O)(O)=O WDYVUKGVKRZQNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GISJMTUTYQLZHT-UHFFFAOYSA-N 9h-fluoren-9-ylmethanamine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC=C2C(CN)C3=CC=CC=C3C2=C1 GISJMTUTYQLZHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJUZRXYOEPSWMB-UHFFFAOYSA-N Chloromethyl methyl ether Chemical compound COCCl XJUZRXYOEPSWMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical group C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical group [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical group [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 229910000102 alkali metal hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008046 alkali metal hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 229940061627 chloromethyl methyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004005 formimidoyl group Chemical group [H]\N=C(/[H])* 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000003317 industrial substance Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000003 magnesium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000011987 methylation Effects 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 description 1
- LVCDXCQFSONNDO-UHFFFAOYSA-N n-benzylhydroxylamine Chemical compound ONCC1=CC=CC=C1 LVCDXCQFSONNDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229940100684 pentylamine Drugs 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Chemical group 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Chemical group 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Chemical group 0.000 description 1
- ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N sodium amide Chemical compound [NH2-].[Na+] ODZPKZBBUMBTMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZMPOCLULGAHJR-UHFFFAOYSA-N thiophen-2-ol Chemical compound OC1=CC=CS1 WZMPOCLULGAHJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJMQFIRIMMSSRW-UHFFFAOYSA-N trimethyl(phenylsulfanyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)SC1=CC=CC=C1 VJMQFIRIMMSSRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940102001 zinc bromide Drugs 0.000 description 1
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- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
本発明は新規有用なアミノメチル化方法に関す
る。詳記すれば一般式(R1 3Si)2NCH2AR2(式中
AはO又はS、R1は低級アルキル、R2はアルキ
ル、アリール、又はアラルキルを示す)なるN,
N−ビス(トリアルキルシリル)アルキル(又は
アリール、又はアラルキル)オキシメチルアミ
ン、又はN,N−ビス(トリアルキルシリル)ア
ルキル(又はアリール、又はアラルキル)チオメ
チルアミンを用いる、炭素上の一級アミノメチル
化方法に関する。 従来アミノメチル化には活性水素化合物にアミ
ノメチル基を導入するマンニツヒ反応が利用され
ているが、アミノ基が一級である形のアミノメチ
ル化は特段に活性な置換位に限定され、例えば置
換活性の大きいフエノールからハイドロンキシベ
ンジルアミンの合成(ケミカル=アブストラクト
60巻1627e)が知られているが、その例は極めて
少なく、他方工程数の多い副生物を伴う間接的方
法が行われている状況である。 本発明者らは工業的に有用なアミノメチル化剤
を求めて鋭意研究し、入手容易なヘキサアルキル
ジシラザンから容易に合成できるアミノメチル化
剤に到達、既に新規アミノメチル化剤とそれによ
るカルボン酸類α−位へのアミノメチル化方法に
つき特許出願し(特開昭60−104050号公報)、更
に別異の分野への発展を研究して本発明を完成し
た。 本発明アミノメチル化剤は前記一般式に示され
る通りであるが、(R1 3Si)2NCH2OR2はヘキサア
ルキルジシラザンを、アルキル(又はアリール、
又はアラルキル)アルカリ金属R3M、アルカリ
金属アミドMNH2、又は水素化アルカリ金属
MHと、次いでハロゲノメチル=アルキル(又は
アリール、又はアラルキル)=エーテルR2OCH2
Xと反応させることにより容易に好収率で得ら
れ、(R1 3Si)2NCH2SR2は、前記N,N−ビス
(トリアルキルシリル)アルキル(又は、アラル
キル、又はアリール)オキシメチルアミンとアル
キル(又はアラルキル、又はアリール)チオトリ
メチルシランを反応させて容易に好収率で得られ
る。ここにアルカリ金属Mはリチウム、カリウ
ム、又はナトリウムであり、R3はメチル、エチ
ル、n−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、
ベンジル、又はフエニル等であり、R2はメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ベンジル、又はフエ
ニル等通常のR2OCH2X由来のものなら特に何れ
と限定する必要はなく、R1はメチル、エチル、
プロピル、又はブチル等の低級アルキルが好適で
ある。 得られた本発明アミノメチル化剤は安定な化合
物で精製し易く、多くは無色透明液である。 アミノメチル化基質としては、グリニヤー試薬
及び有機リチウム化合物が挙げられる。反応式を
示せば次の通りである。 ここに得られるアミノメチル化体は、各種工業
薬品、医薬品等の中間体として広い利用範囲をも
つ有用な化合物であると共に、中間体のシリルで
保護されたアミンもこれ自体有用で、特色ある誘
導反応が知られている(例えばジヤーナル=オブ
=ザ=アメリカン=ケミカル=ソサエテイ102巻
2456頁、テトラヘドロン=レターズ23巻3257頁)。
この中間体は従来一級アミノのシリル化で製造さ
れており、一級アミンの合成が困難であると共に
そのシリル化も容易でなかつた。 本発明方法の反応操作は極めて容易である。グ
リニヤー試薬は公知常法で製造したその反応液の
まゝ、有機リチウム化合物は適宜溶媒中MgCl2,
MgBr2,MgI2などのマグネシウム塩の存在下、
本発明アミノメチル化剤を室温以下の温度で滴下
し、室温乃至溶媒還流温度で反応、アルカリを加
えて公取した溶液部分を蒸留して中間体シリル化
アミンを採り、これを水、アルコール類などのプ
ロトン性溶媒中還流、目的物を蒸溜して得ればよ
い。プロトン性溶媒としては、水、メタノール、
エタノール、又はイソプロパノール等が便利であ
り、又塩酸、酢酸、蟻酸などの種々の酸を、種々
の溶媒と共に用いることができる。 斯くも容易な操作で有用な化合物が得られる本
発明が、斯業に貢献する処大きいと確信する。 以下に参考例及び実施例を示す。 参考例 1 乾燥窒素雰囲気中ヘキサメチルジシラザン161
g(1モル)のテトラヒドロフラン1溶液を、
−10〜0℃に冷却攪拌し乍らn−ブチルリチウム
67.3g(1.05モル)を含有するヘキサン溶液677
mlを滴下、更に0℃で30分攪拌する。同温度でク
ロロメチル=メチル=エーテル81g(1モル)を
滴下し2時間撹拌する。減圧濃縮して塩化リチウ
ム沈澱を去し、減圧蒸溜によつて沸点91〜2℃
(86mmHg)のN,N−ビス(トリメチルシリル)
メトキシメチルアミン166g(収率81%)を得た。
n−ブチルリチウムの代りに、ナトリウムアミ
ド、又は水素化カリウムを用いて、同様な結果を
得た。又例えばビス(トリメチルシリル)=エト
キシメチル=アミンも同様に得られ、沸点84〜5
℃(35mmHg)を示した。 参考例 2 チオフエノール220g、水素化ナトリウム(60
%鉱油中分散物を使用)88g、及びクロロトリロ
メチルシラン239gから公知化合物である沸点103
〜105℃(33mmHg)のフエニルチオトリメチルシ
ラン292g(収率80%)を得、本品182gを、乾燥
窒素雰囲気中臭化亜鉛2g及び参考例1で得た
N,N−ビス(トリメチルシリル)メトキシメチ
ルアミン246gと混じ約60℃で2時間半撹拌反応
する。ヘキサン1で稀釈して液をとり、減圧
濃縮後減圧蒸留し、沸点96〜96.5℃(0.15mmHg)
無色透明液体のN,N−ビス(トリメチルシリ
ル)フエニルチオメチルアミン255g(収率90%)
を得た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.17(18H、
S、2×(CH3)3Si)3、4.47(2H、S、CH2)、7.12
〜7.42(5H、m、C6H5)、13C−NMRδppm
(CDCl3):1.84(q、CH3Si)、55.91(t、CH2)
126.51(d、C-4)、128.73(d、C-3、C-5)、131.60
(d、C-2、C-6)、136.75(S、C-1)。 参考例 3 n−ヘキシルチオール118g、水素化ナトリウ
ム(60%鉱油中分散物を使用)44g、及びクロロ
トリメチルシラン120gから沸点90〜94℃(25mm
Hg)のn−ヘキシルチオトリメチルシラン152g
(収率80%)を得、撹拌反応時間を35時間とする
以外は参考例2と同様にして、n−ヘキシルチオ
トリメチルシラン19gから沸点110℃(6mmHg)
のN,N−ビス(トリメチルシリル)−n−ヘキ
シルチオメチルアミン21.3g(収率73%)を得
た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.17(18H、S、2
×(CH3)3Si)、0.89(3H、br.t、CH3)、1.14〜1.71
(8H、br.m、4×CH2)、2.43(2H、br.t、CH2−
S)、4.10(2H、S−CH2−N)、13C−NMRδppm
(CDCl3):1.95(q、CH3Si)、13.98(q、C-6)、
22.59(t、C-5)、28.82(t、C-4)、30.12(t、
C-3)、30.94(t、C-2)、31.53(t、C-1)、51.36
(t、S−CH2−N)。 実施例 1 乾燥窒素雰囲気下マグネシウム2.7g(0.11モ
ル)に臭化フエニル17.3g(0.11モル)のエーテ
ル100ml溶液を少量滴下し、反応開始したら加熱
をやめて残りのエーテル溶液を徐々に滴下する。
1時間加熱還流したあと水冷下にN,N−ビス
(トリメチルシリル)メトキシメチルアミン20.5
g(0.1モル)のエーテル20ml溶液を滴下、1時
間還流する。次いで氷冷下に30%苛性ソーダ溶液
20mlを加え、デカンテーシヨンで採つたエーテル
溶液を炭酸カリで乾燥し、液を減圧濃縮した後
減圧蒸留、沸点133℃(23mmHg)無色透明液の
N,N−ビス(トリメチルシリル)ベンジルアミ
ン19.0g(収率75%)を得た。1H−NMRδppm
(CDCl3):0.08(18H、S、2×(CH3)3Si)、4.11
(2H、S、NCH2)、7.23(5H、S、C6H5)、13C−
NMRδppm(CDCl3):1.95(q、CH3Si)48.65
(t、NCH2)、125.97、126.40、127.92、144.27
(d、d、S、C6H5)。本品のメタノール溶液を
1時間加熱還流して蒸溜、定量的にベンジルアミ
ンを得た。 実施例 2 N,N−ビス(トリメチルシリル)メトキシメ
チルアミンの代りにN,N−ビス(トリエチルシ
リル)フエニルチオメチルアミンを32.5gを用
い、これを滴下したあとの加熱還流時間を8時間
とする以外は、実施例1と同様にしてN,N−ビ
ス(トリエチルシリル)ベンジルアミン17.6g
(収率70%)を得た。 実施例 3〜12 実施例1と同様にして次表の結果を得た。
る。詳記すれば一般式(R1 3Si)2NCH2AR2(式中
AはO又はS、R1は低級アルキル、R2はアルキ
ル、アリール、又はアラルキルを示す)なるN,
N−ビス(トリアルキルシリル)アルキル(又は
アリール、又はアラルキル)オキシメチルアミ
ン、又はN,N−ビス(トリアルキルシリル)ア
ルキル(又はアリール、又はアラルキル)チオメ
チルアミンを用いる、炭素上の一級アミノメチル
化方法に関する。 従来アミノメチル化には活性水素化合物にアミ
ノメチル基を導入するマンニツヒ反応が利用され
ているが、アミノ基が一級である形のアミノメチ
ル化は特段に活性な置換位に限定され、例えば置
換活性の大きいフエノールからハイドロンキシベ
ンジルアミンの合成(ケミカル=アブストラクト
60巻1627e)が知られているが、その例は極めて
少なく、他方工程数の多い副生物を伴う間接的方
法が行われている状況である。 本発明者らは工業的に有用なアミノメチル化剤
を求めて鋭意研究し、入手容易なヘキサアルキル
ジシラザンから容易に合成できるアミノメチル化
剤に到達、既に新規アミノメチル化剤とそれによ
るカルボン酸類α−位へのアミノメチル化方法に
つき特許出願し(特開昭60−104050号公報)、更
に別異の分野への発展を研究して本発明を完成し
た。 本発明アミノメチル化剤は前記一般式に示され
る通りであるが、(R1 3Si)2NCH2OR2はヘキサア
ルキルジシラザンを、アルキル(又はアリール、
又はアラルキル)アルカリ金属R3M、アルカリ
金属アミドMNH2、又は水素化アルカリ金属
MHと、次いでハロゲノメチル=アルキル(又は
アリール、又はアラルキル)=エーテルR2OCH2
Xと反応させることにより容易に好収率で得ら
れ、(R1 3Si)2NCH2SR2は、前記N,N−ビス
(トリアルキルシリル)アルキル(又は、アラル
キル、又はアリール)オキシメチルアミンとアル
キル(又はアラルキル、又はアリール)チオトリ
メチルシランを反応させて容易に好収率で得られ
る。ここにアルカリ金属Mはリチウム、カリウ
ム、又はナトリウムであり、R3はメチル、エチ
ル、n−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、
ベンジル、又はフエニル等であり、R2はメチル、
エチル、プロピル、ブチル、ベンジル、又はフエ
ニル等通常のR2OCH2X由来のものなら特に何れ
と限定する必要はなく、R1はメチル、エチル、
プロピル、又はブチル等の低級アルキルが好適で
ある。 得られた本発明アミノメチル化剤は安定な化合
物で精製し易く、多くは無色透明液である。 アミノメチル化基質としては、グリニヤー試薬
及び有機リチウム化合物が挙げられる。反応式を
示せば次の通りである。 ここに得られるアミノメチル化体は、各種工業
薬品、医薬品等の中間体として広い利用範囲をも
つ有用な化合物であると共に、中間体のシリルで
保護されたアミンもこれ自体有用で、特色ある誘
導反応が知られている(例えばジヤーナル=オブ
=ザ=アメリカン=ケミカル=ソサエテイ102巻
2456頁、テトラヘドロン=レターズ23巻3257頁)。
この中間体は従来一級アミノのシリル化で製造さ
れており、一級アミンの合成が困難であると共に
そのシリル化も容易でなかつた。 本発明方法の反応操作は極めて容易である。グ
リニヤー試薬は公知常法で製造したその反応液の
まゝ、有機リチウム化合物は適宜溶媒中MgCl2,
MgBr2,MgI2などのマグネシウム塩の存在下、
本発明アミノメチル化剤を室温以下の温度で滴下
し、室温乃至溶媒還流温度で反応、アルカリを加
えて公取した溶液部分を蒸留して中間体シリル化
アミンを採り、これを水、アルコール類などのプ
ロトン性溶媒中還流、目的物を蒸溜して得ればよ
い。プロトン性溶媒としては、水、メタノール、
エタノール、又はイソプロパノール等が便利であ
り、又塩酸、酢酸、蟻酸などの種々の酸を、種々
の溶媒と共に用いることができる。 斯くも容易な操作で有用な化合物が得られる本
発明が、斯業に貢献する処大きいと確信する。 以下に参考例及び実施例を示す。 参考例 1 乾燥窒素雰囲気中ヘキサメチルジシラザン161
g(1モル)のテトラヒドロフラン1溶液を、
−10〜0℃に冷却攪拌し乍らn−ブチルリチウム
67.3g(1.05モル)を含有するヘキサン溶液677
mlを滴下、更に0℃で30分攪拌する。同温度でク
ロロメチル=メチル=エーテル81g(1モル)を
滴下し2時間撹拌する。減圧濃縮して塩化リチウ
ム沈澱を去し、減圧蒸溜によつて沸点91〜2℃
(86mmHg)のN,N−ビス(トリメチルシリル)
メトキシメチルアミン166g(収率81%)を得た。
n−ブチルリチウムの代りに、ナトリウムアミ
ド、又は水素化カリウムを用いて、同様な結果を
得た。又例えばビス(トリメチルシリル)=エト
キシメチル=アミンも同様に得られ、沸点84〜5
℃(35mmHg)を示した。 参考例 2 チオフエノール220g、水素化ナトリウム(60
%鉱油中分散物を使用)88g、及びクロロトリロ
メチルシラン239gから公知化合物である沸点103
〜105℃(33mmHg)のフエニルチオトリメチルシ
ラン292g(収率80%)を得、本品182gを、乾燥
窒素雰囲気中臭化亜鉛2g及び参考例1で得た
N,N−ビス(トリメチルシリル)メトキシメチ
ルアミン246gと混じ約60℃で2時間半撹拌反応
する。ヘキサン1で稀釈して液をとり、減圧
濃縮後減圧蒸留し、沸点96〜96.5℃(0.15mmHg)
無色透明液体のN,N−ビス(トリメチルシリ
ル)フエニルチオメチルアミン255g(収率90%)
を得た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.17(18H、
S、2×(CH3)3Si)3、4.47(2H、S、CH2)、7.12
〜7.42(5H、m、C6H5)、13C−NMRδppm
(CDCl3):1.84(q、CH3Si)、55.91(t、CH2)
126.51(d、C-4)、128.73(d、C-3、C-5)、131.60
(d、C-2、C-6)、136.75(S、C-1)。 参考例 3 n−ヘキシルチオール118g、水素化ナトリウ
ム(60%鉱油中分散物を使用)44g、及びクロロ
トリメチルシラン120gから沸点90〜94℃(25mm
Hg)のn−ヘキシルチオトリメチルシラン152g
(収率80%)を得、撹拌反応時間を35時間とする
以外は参考例2と同様にして、n−ヘキシルチオ
トリメチルシラン19gから沸点110℃(6mmHg)
のN,N−ビス(トリメチルシリル)−n−ヘキ
シルチオメチルアミン21.3g(収率73%)を得
た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.17(18H、S、2
×(CH3)3Si)、0.89(3H、br.t、CH3)、1.14〜1.71
(8H、br.m、4×CH2)、2.43(2H、br.t、CH2−
S)、4.10(2H、S−CH2−N)、13C−NMRδppm
(CDCl3):1.95(q、CH3Si)、13.98(q、C-6)、
22.59(t、C-5)、28.82(t、C-4)、30.12(t、
C-3)、30.94(t、C-2)、31.53(t、C-1)、51.36
(t、S−CH2−N)。 実施例 1 乾燥窒素雰囲気下マグネシウム2.7g(0.11モ
ル)に臭化フエニル17.3g(0.11モル)のエーテ
ル100ml溶液を少量滴下し、反応開始したら加熱
をやめて残りのエーテル溶液を徐々に滴下する。
1時間加熱還流したあと水冷下にN,N−ビス
(トリメチルシリル)メトキシメチルアミン20.5
g(0.1モル)のエーテル20ml溶液を滴下、1時
間還流する。次いで氷冷下に30%苛性ソーダ溶液
20mlを加え、デカンテーシヨンで採つたエーテル
溶液を炭酸カリで乾燥し、液を減圧濃縮した後
減圧蒸留、沸点133℃(23mmHg)無色透明液の
N,N−ビス(トリメチルシリル)ベンジルアミ
ン19.0g(収率75%)を得た。1H−NMRδppm
(CDCl3):0.08(18H、S、2×(CH3)3Si)、4.11
(2H、S、NCH2)、7.23(5H、S、C6H5)、13C−
NMRδppm(CDCl3):1.95(q、CH3Si)48.65
(t、NCH2)、125.97、126.40、127.92、144.27
(d、d、S、C6H5)。本品のメタノール溶液を
1時間加熱還流して蒸溜、定量的にベンジルアミ
ンを得た。 実施例 2 N,N−ビス(トリメチルシリル)メトキシメ
チルアミンの代りにN,N−ビス(トリエチルシ
リル)フエニルチオメチルアミンを32.5gを用
い、これを滴下したあとの加熱還流時間を8時間
とする以外は、実施例1と同様にしてN,N−ビ
ス(トリエチルシリル)ベンジルアミン17.6g
(収率70%)を得た。 実施例 3〜12 実施例1と同様にして次表の結果を得た。
【表】
【表】
実施例 13
乾燥窒素雰囲気中マグネシウム2.67g(0.11モ
ル)を弱く加熱し乍ら1,2−ジブロモエタン
18.8g(0.1モル)のエーテル100ml溶液を徐々に
滴下、30分加熱還流して反応を完結する。二層に
なつた液を氷冷下撹拌し、n−ブチルリチウムの
1.55モルヘキサン溶液65ml(0.1モル)を滴下し
均一溶液となる。更に30分間撹拌後N,N−ビス
(トリメチルシリル)メトキシメチルアミン20.5
g(0.1モル)のエーテル20ml溶液を滴下、約30
℃で5時間撹拌後氷冷下30%苛性ソーダ液40mlを
加え撹拌する。エーテル層をデカンテーシヨン分
離、アルカリ層をエーテル抽出、全エーテル溶液
を炭酸カリで乾燥後減圧濃縮し、浴温130〜5℃
で減圧(92mmHg)蒸溜し無色透明液体のN,N
−ビス(トリメチルシリル)ペンチルアミン19.7
g(収率85%)を得た。1H−NMRδppm
(CDCl3):0.08(18H、S、2×(CH3)3Si)、0.88
(3H、br.t、J=6.8Hz、CH3)、1.01〜1.49(8H、
M、4×(CH2)4)、2.74(2H、br.t、J=7.8Hz、
CH2N)、13C−NMRδppm(CDCl3):2.17(q、
CH3Si)、14.14(q、CH3)、22.65(t、CH3)、
29.58(t、CH2)、35.33(t、CH2)、45.78(t、
CH2)。本品をアルコールと加熱して、沸点102〜
4℃のn−ペンチルアミンを定量的に得た。 実施例 14 乾燥窒素中マグネシウム2.67g(0.11モル)と
1,2−ジブロモエタン1.88g(0.1モル)のエ
ーテル100ml溶液より、実施例13と同様に臭化マ
グネシウムを生成させる。別に乾燥窒素雰囲気中
フルオレン16.6g(0.1モル)のエーテル100ml懸
濁液を0℃以下に冷却下n−ブチルリチウムの
1.55モルヘキサン溶液71ml(0.11モル)を滴下
(赤色溶液となり再び沈澱が生成)し0℃で1時
間撹拌、前記臭化マグネシウムのエーテル溶液を
徐々に加える(黄色沈澱になる)。0℃で30分撹
拌後N,N−ビス(トリメチルシリル)メトキシ
メチルアミン20.5g(0.1モル)のエーテル20ml
溶液を滴下する。約30℃で20時間撹拌後冷時に30
%苛性ソーダ溶液40mlを加えて撹拌する。エーテ
ル層から浴温180〜90℃で減圧(1mmHg)蒸溜し
て、淡黄色稠油状物N,N−ビス(トリメチルシ
リル)フルオレン−9−メチルアミン27.2g(収
率80%)を得た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.11
(18H、S、2×(CH3)3Si)、3.11(2H、d、J=
8.3Hz、CH2)、3.97(1H、t、J=8.3Hz、
CH)、7.10〜7.43、7.50〜7.77(2H、2H、m、m、
aromatic H)、13C−NMRδppm(CDCl3):2.38
(q、CH3Si)、50.39(d、CH)、50.50(t、
CH2)、119.85、125.48、126.35、127.11(d、d、
d、d、
ル)を弱く加熱し乍ら1,2−ジブロモエタン
18.8g(0.1モル)のエーテル100ml溶液を徐々に
滴下、30分加熱還流して反応を完結する。二層に
なつた液を氷冷下撹拌し、n−ブチルリチウムの
1.55モルヘキサン溶液65ml(0.1モル)を滴下し
均一溶液となる。更に30分間撹拌後N,N−ビス
(トリメチルシリル)メトキシメチルアミン20.5
g(0.1モル)のエーテル20ml溶液を滴下、約30
℃で5時間撹拌後氷冷下30%苛性ソーダ液40mlを
加え撹拌する。エーテル層をデカンテーシヨン分
離、アルカリ層をエーテル抽出、全エーテル溶液
を炭酸カリで乾燥後減圧濃縮し、浴温130〜5℃
で減圧(92mmHg)蒸溜し無色透明液体のN,N
−ビス(トリメチルシリル)ペンチルアミン19.7
g(収率85%)を得た。1H−NMRδppm
(CDCl3):0.08(18H、S、2×(CH3)3Si)、0.88
(3H、br.t、J=6.8Hz、CH3)、1.01〜1.49(8H、
M、4×(CH2)4)、2.74(2H、br.t、J=7.8Hz、
CH2N)、13C−NMRδppm(CDCl3):2.17(q、
CH3Si)、14.14(q、CH3)、22.65(t、CH3)、
29.58(t、CH2)、35.33(t、CH2)、45.78(t、
CH2)。本品をアルコールと加熱して、沸点102〜
4℃のn−ペンチルアミンを定量的に得た。 実施例 14 乾燥窒素中マグネシウム2.67g(0.11モル)と
1,2−ジブロモエタン1.88g(0.1モル)のエ
ーテル100ml溶液より、実施例13と同様に臭化マ
グネシウムを生成させる。別に乾燥窒素雰囲気中
フルオレン16.6g(0.1モル)のエーテル100ml懸
濁液を0℃以下に冷却下n−ブチルリチウムの
1.55モルヘキサン溶液71ml(0.11モル)を滴下
(赤色溶液となり再び沈澱が生成)し0℃で1時
間撹拌、前記臭化マグネシウムのエーテル溶液を
徐々に加える(黄色沈澱になる)。0℃で30分撹
拌後N,N−ビス(トリメチルシリル)メトキシ
メチルアミン20.5g(0.1モル)のエーテル20ml
溶液を滴下する。約30℃で20時間撹拌後冷時に30
%苛性ソーダ溶液40mlを加えて撹拌する。エーテ
ル層から浴温180〜90℃で減圧(1mmHg)蒸溜し
て、淡黄色稠油状物N,N−ビス(トリメチルシ
リル)フルオレン−9−メチルアミン27.2g(収
率80%)を得た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.11
(18H、S、2×(CH3)3Si)、3.11(2H、d、J=
8.3Hz、CH2)、3.97(1H、t、J=8.3Hz、
CH)、7.10〜7.43、7.50〜7.77(2H、2H、m、m、
aromatic H)、13C−NMRδppm(CDCl3):2.38
(q、CH3Si)、50.39(d、CH)、50.50(t、
CH2)、119.85、125.48、126.35、127.11(d、d、
d、d、
【式】、140.98、145.86
(S、S、
【式】)。本品をアルコー
ル性塩酸と加熱、融点264〜5℃(d.)の9−(ア
ミノメチル)フルオレン塩酸塩を定量的に得た。 実施例 15〜20 前2実施例と同様にして次表の結果を得た。実
施例16の場合はビス(アミノメチル)化であるの
で、試薬は2当量を使用する。
ミノメチル)フルオレン塩酸塩を定量的に得た。 実施例 15〜20 前2実施例と同様にして次表の結果を得た。実
施例16の場合はビス(アミノメチル)化であるの
で、試薬は2当量を使用する。
【表】
実施例 21
乾燥窒素中マグネシウム26.7g(1.1モル)と
1,2−ジブロモエタン188g(1モル)のエー
テル1溶液より、実施例13と同様に臭化マグネ
シウムを生成させる。別に乾燥窒素雰囲気中ベン
ゾ〔b〕チオフエン134g(1モル)のエーテル
1溶液を0℃以下に冷却下n−ブチルリチウム
の1.55モルのヘキサン溶液710ml(1.1モル)を滴
下(黄色溶液になる)、0℃で1.5時間撹拌後、こ
の溶液を前記臭化マグネシウムのエーテル溶液
に、0℃で徐々に加える。0℃で30分間撹拌後
N,N−ビス(トリメチルシリル)フエニルチオ
メチルアミン284g(1モル)のエーテル300ml溶
液を加える。約30℃で5時間撹拌後冷時に30%苛
性ソーダ溶液400mlを加えて十分撹拌する。エー
テル層から浴温165℃で減圧(5mmHg)蒸溜する
ことにより、融点56.5〜58℃の無色結晶状のN,
N−ビス(トリメチルシリル)ベンゾ〔b〕チオ
フエン−2−メチルアミン234g(収率76%)を
得た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.14(18H、S、
2×(CH3)3Si)、4.28(2H、d、J=1.5Hz、
CH2)、7.04(1H、br.、=CH−)、7.1〜7.4、7.55
〜7.8(2H、2H、m、m、C6H4)、13C−
NMRδppm(CDCl3):1.84(q、CH3Si)、44.97
(t、CH2)、119.03、122.23、122.83、123.32、
123.91(d、d、d、d、d、
1,2−ジブロモエタン188g(1モル)のエー
テル1溶液より、実施例13と同様に臭化マグネ
シウムを生成させる。別に乾燥窒素雰囲気中ベン
ゾ〔b〕チオフエン134g(1モル)のエーテル
1溶液を0℃以下に冷却下n−ブチルリチウム
の1.55モルのヘキサン溶液710ml(1.1モル)を滴
下(黄色溶液になる)、0℃で1.5時間撹拌後、こ
の溶液を前記臭化マグネシウムのエーテル溶液
に、0℃で徐々に加える。0℃で30分間撹拌後
N,N−ビス(トリメチルシリル)フエニルチオ
メチルアミン284g(1モル)のエーテル300ml溶
液を加える。約30℃で5時間撹拌後冷時に30%苛
性ソーダ溶液400mlを加えて十分撹拌する。エー
テル層から浴温165℃で減圧(5mmHg)蒸溜する
ことにより、融点56.5〜58℃の無色結晶状のN,
N−ビス(トリメチルシリル)ベンゾ〔b〕チオ
フエン−2−メチルアミン234g(収率76%)を
得た。1H−NMRδppm(CDCl3):0.14(18H、S、
2×(CH3)3Si)、4.28(2H、d、J=1.5Hz、
CH2)、7.04(1H、br.、=CH−)、7.1〜7.4、7.55
〜7.8(2H、2H、m、m、C6H4)、13C−
NMRδppm(CDCl3):1.84(q、CH3Si)、44.97
(t、CH2)、119.03、122.23、122.83、123.32、
123.91(d、d、d、d、d、
【式】)、139.30、140.22、151.43
(s、s、s、
【式】)。本品をアル
コールと加熱、融点58〜9℃のベンゾ〔b〕チオ
フエン−2−メチルアミンを定量的に得た。
フエン−2−メチルアミンを定量的に得た。
Claims (1)
- 1 一般式(R1 3Si)2NCH2AR2(式中AはO又は
S、R1は低級アルキル、R2はアルキル、アリー
ル、又はアラルキルを示す)なるN,N−ビス
(トリアルキルシリル)アルキル(又はアラルキ
ル、又はアリール)オキシメチルアミン又はN,
N−ビス(トリアルキルシリル)アルキル(又は
アラルキル、又はアリール)チオメチルアミン
を、グリニヤ−試薬又は有機リチウム化合物と反
応させ、得られたN,N−ビス(トリアルキルシ
リル)アミノメチル化体をプロトン性溶媒中で加
熱、反応させることを特徴とする、炭素上の一級
アミノメチル化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21301583A JPS60105634A (ja) | 1983-11-12 | 1983-11-12 | 一級アミンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21301583A JPS60105634A (ja) | 1983-11-12 | 1983-11-12 | 一級アミンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60105634A JPS60105634A (ja) | 1985-06-11 |
JPH0441128B2 true JPH0441128B2 (ja) | 1992-07-07 |
Family
ID=16632085
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21301583A Granted JPS60105634A (ja) | 1983-11-12 | 1983-11-12 | 一級アミンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60105634A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0616553U (ja) * | 1992-08-04 | 1994-03-04 | 株式会社ピー・エス | Pc鋼材の定着体 |
JPH06173391A (ja) * | 1992-12-02 | 1994-06-21 | P S Co Ltd | 埋め込み定着体 |
-
1983
- 1983-11-12 JP JP21301583A patent/JPS60105634A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60105634A (ja) | 1985-06-11 |
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