JPH0441092A - レーザ加工装置 - Google Patents

レーザ加工装置

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JPH0441092A
JPH0441092A JP2147888A JP14788890A JPH0441092A JP H0441092 A JPH0441092 A JP H0441092A JP 2147888 A JP2147888 A JP 2147888A JP 14788890 A JP14788890 A JP 14788890A JP H0441092 A JPH0441092 A JP H0441092A
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JP
Japan
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laser
movement
laser beam
irradiation
pulse
Prior art date
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Pending
Application number
JP2147888A
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English (en)
Inventor
Koji Wakabayashi
若林 浩次
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はレーザ加工装置に関し、特にレーザ加工装置に
おけるパルスレーザの照射タイミングの制御に関する。
従来技術 従来、レーザ加工装置においては、被加工物を搭載する
XY子テーブル駆動するサーボモータのエンコーダフィ
ードバックパルスからの信号を利用し、XY子テーブル
移動量に対応してパルスレーザを照射していた。
この場合、エンコーダフィードバックパルスを分周する
ことで、XY子テーブル移動量が数十1mから数百μm
となる毎に1パルスの割合でパルスレーザを被加工物に
照射することができる。
このような従来のレーザ加工装置では、エンコーダフィ
ードバックパルスを分周する分周回路などを設定してパ
ルスレーザを照射していたので、ハードウェア上固定的
なパルスレーザの照射タイミングしか得られないという
欠点がある。
また、−直線や一円弧を一移動指令単位とした場合、通
常その一移動指令単位には最初の速度を立ち上げる加速
領域と最後の速度を立ち下げる減速領域とがあり、それ
らの区間内でもエンコーダフィードバックパルスを分周
することで等距離間隔でパルスレーザを照射することが
できるが、パルスレーザ自体のオンオフ制御や照射タイ
ミングをその一移動指令内で変化させることがてきない
という欠点がある。
発明の目的 本発明は上記のような従来のものの欠点を除去すべくな
されたもので、−移動指令内でパルスレーザ自体のオン
オフ制御や照射タイミングを変化させることができ、高
品質で高精度なパルスレーザ加工を行うことができるレ
ーザ加工装置の提供を目的とする。
発明の構成 本発明によるレーザ加工装置は、被加工物を搭載するX
Y子テーブル、前記XY子テーブル搭載された前記被加
工物にレーザ光を照射する照射手段と、前記XY子テー
ブル駆動する駆動手段と、前記駆動手段により駆動され
た前記XY子テーブル移動量を算出する算出手段と、前
記照射手段からの前記レーザ光の照射を所望位置で行わ
せるべく予め設定された時系列的な複数の位置情報を保
持する保持手段と、前記算出手段の算出結果と前記保持
手段の前記位置情報とを順次比較する比較手段と、前記
比較手段の比較結果に応じて前記照射手段のオンオフお
よび前記レーザ光の照射タイミングを制御する制御手段
とを有することを特徴とする。
実施例 次に、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図である。
図において、中央演算器1はXYテーブル7の各軸(X
軸およびY軸)の移動量を算出する移動演算器2からの
微小距離の移動完了信号を受けてパルス発生器8にトリ
ガ信号を、またはレーザ電源9にオンオフ指令を送出す
る。
移動演算器2はアブソリュートカウンタ回路(以下カウ
ンタ回路とする)3からXYテーブル7の各軸の微小な
時間における移動量を読取り、その移動量の2乗の平方
根をとったもの、すなわちベクトルの絶対値の演算を行
い、演算結果が予め中央演算器1から設定された微小距
離になると、微小距離の移動完了信号を中央演算器1に
送出する。
カウンタ回路3は駆動回路4を経由して送られてくるサ
ーボモータ5,6のパルスエンコーダからのクロック数
を計数し、XYテーブル7の絶対アドレスをモニタする
とともに、サーボモータ56の動作をコントロールする
補間演算やサーボ制御を行う。
また、カウンタ回路3はある時間間隔てカウントした値
をXYテーブル7の各軸の微小な時間における移動量と
して移動量演算器2に送出する。
駆動回路4はカウンタ回路3からの指令を受けてサーボ
モータ5,6の回転駆動を制御する。
サーボモータ5はXYテーブル7をX軸方向に移動させ
るとともに、パルスエンコーダから駆動回路4を介して
カウンタ回路3にクロックを送出する。
サーボモータ6はXYテーブル7をY軸方向に移動させ
るとともに、パルスエンコーダから駆動回路4を介して
カウンタ回路3にクロックを送出する。
パルス発生器8は中央演算器]からのトリガ信号に応答
してパルス信号をレーザ電源9に送出し、レーザ電源9
は中央演算器1からのオンオフ指令およびパルス発生器
8からのパルス信号に応してレーザ発振器10への電力
供給を行う。
レーザ発振器10はレーザ電源9から電力が供給された
ときにレーザ光11を発生し、このレーザ光11をレー
ザ伝送光学器12a、1.2bを介してXYテーブル7
上に搭載された被加工物13に集光照射する。
第2図は本発明の一実施例の動作を示すフローチャート
である。これら第1図および第2図を用いて本発明の一
実施例の動作について説明する。
XYテーブル7上に搭載された被加工物13に対してレ
ーザ加工を行う場合、中央演算器1は予めプログラミン
グされたシーケンスにしたがって各回路への指令を送出
する。
ここで、中央演算器1にはパルスレーザの照射を所望位
置で行わせるべく予め時系列的に設定された複数の位置
情報、すなわち動作分解能r、レーザ照射間隔1 l 
(i−1,2,・・・・・・)、このレーザ照射間隔9
1で加工する距離b+  (j=1゜2、・・・・・・
)、パルスレーザ照射をオンオフする区間データml 
 (k−1,2,・・・・・・)などが保持されている
まず、中央演算器1は保持した最初の動作分解能rとレ
ーザ照射間隔glと距離す、とを移動演算器2に設定す
る(第2図ステップ21)。
その後に、XYテーブル7の移動が開始されると、サー
ボモータ5.6各々のパルスエンコーダからカウンタ回
路3にクロックが送出される(第2図ステップ22)。
カウンタ回路3ではサーボモータ5.6各々のパルスエ
ンコーダからのクロック数n 1 +  n Fをカウ
ントし、XYテーブル7の絶対アドレスをモニタする(
第2図ステップ23)。
移動演算器2はカウンタ回路3からクロック数n、、n
、を続出し、XYテーブル7の移動量gを次式により算
出する(第2図ステップ23)。
(1−r  n、  +nア  ・・・・・・(1)移
動演算器2では(1)式により算出されたXYテーブル
7の移動量Ωが中央演算器1から予め設定されたレーザ
照射間隔g、になったか(1−N、)を判定しく第2図
ステップ25) 、XYテーブル7の移動量pがレーザ
照射間隔DIになると、微小距離の移動完了信号を中央
演算器1に送出する。
中央演算器1では移動演算器2からの移動完了信号を受
取ると、パルス発生器8にトリが信号を送出するととも
に(第2図ステップ26)、パルス発生器8へのトリガ
信号の送出を移動演算器2に通知する。
パルス発生器8では中央演算器1からのトリガ信号に応
答してパルス信号をレーザ電源9に送出し、レーザ電源
9ではパルス発生器8からのパルス信号に応じてレーザ
発振器10への電力供給が行われる。
これにより、レーザ発振器10てはレーザ電源9からの
電力供給によりレーザ光11が発生され、このレーザ光
11がレーサ伝送光学器12a、12bを介してXYテ
ーブル7上に搭載された被加工物13に集光照射される
一方、移動演算器2では中央演算器1からの通知により
、中央演算器1からパルス発生器8に送出されたトリガ
信号の回数Nを計数しており(第2図ステップ27)、
その回数Nとレーザ照射間隔g1とからこのレーザ照射
間隔N、で加工する距離す、となったか否か(b+≧N
IXN)を検出する(第2図ステップ28)。
移動演算器2はレーザ照射間隔N、で加工する距離す、
となったことを検出すると、移動完了信号を中央演算器
1に送出する。
中央演算器1ては移動演算器2からの移動完了信号を受
取ると、そのときの加工で一移動指令単位のレーザ加工
が終了したか否かを判断しく第2図ステップ29)、−
移動指令単位のレーザ加工が終了であればレーザ加工処
理を終了し、−移動指令単位のレーザ加工が終了でなけ
れば次の動作分解能「とレーザ照射間隔g、と距離す、
とを移動演算器2に設定する(第2図ステップ21)。
尚、移動演算器2ては(1)式により算出されたXYテ
ーブル7の移動量pを累算しており、その累算値か予め
設定されたパルスレーザ照射をオンオフする区間データ
m、になると、移動完了信号を中央演算器1に送出する
ので、中央演算器1ではレーザ電源9にオンオフ指令を
出力してパルスレーザの照射のオンオフを制御する。
第3図は本発明の一実施例によるパルスレーザ加工のタ
イミングチャートである。第3図(a)は−移動指令単
位のパルスレーザ加工が施された被加工物13の加工表
面の様子を示し、第3図(b)は−移動指令単位のパル
スレーザ加工が施されたときのXYテーブル7の速度を
示している。
また、第3図(C)はパルスレーザ照射をオンとする区
間データm7.m4と、パルスレーザ照射をオフとする
区間データjlll、m3とを示し、第3図(d)はレ
ーザ照射間隔g1で加工する距離t)I+  b3+ 
 bsとレーザ照射間隔g2て加工する距離b2.b4
とを示している。
よって、第3図に示すようなレーザ加工を行う場合、動
作分解能rと、レーザ照射間隔#、、112と、このレ
ーザ照射間隔111.I2夫々で加工する距離b1〜b
、と、パルスレーザ照射をオンオフする区間データm、
〜m4とを中央演算器1に保持しておき、距離b1〜b
5および区間データm1〜m4によりレーザ照射タイミ
ングおよびレーザ照射のオンオフを制御する毎に中央演
算器1から移動演算器2に設定することにより、第3図
(a)に示すような加工結果を得ることができる。
これにより、′!s3図に示すように、たとえばレーザ
オンの区間データm2内で異なるレーザ照射間隔1g、
12で距離す、〜b4を夫々加工することができる。
第4図は本発明の一実施例による加工例を示す図である
。図において、第4図(a)はレーザスクライビングさ
れた被加工物13を示し、第4図(b)はスクライビン
グ開始点付近の様子を示し、第4図(C)はスクライビ
ングの交点付近の様子を示している。
このレーザスクライビングは第4図(a)に示すように
、被加工物13の表面に格子上にパルスレーザを集光照
射し、パルスレーザ加工後+: 手作業でそのパルスレ
ーザが照射された箇所で各チップを分割するものである
一移動指令単位の開始点付近では区間c1のレーザ照射
間隔を狭くしてパルスレーザ加工を行い、それに続く区
間C2ではレーザ照射間隔を広くしてパルスレーザ加工
を行っている[第4図(b)参照コ。
また、交点付近ではレーザ照射間隔の広い区間c2に続
く区間C3、すなわち交点付近のレーザ照射間隔を狭く
してパルスレーザ加工を行い、それに続く区間C4ては
再びレーザ照射間隔を広くしてパルスレーザ加工を行っ
ている[第4図(C)参照]。
従来はレーザスクライビングにおけるパルスレーザ加工
が一移動指令単位の間レーザ照射間隔が等間隔となって
いたので、開始点付近や交点付近では分割しにくかった
が、本発明ではパルスレーザ加工を上記のように行うこ
とができるので、チップの分割時にスクライビング線に
沿って分割し易くすることができ、分割時の歩留りを向
上させることができる。
このように、パルスレーザの照射を所望位置で行わせる
べく予め設定された時系列的な複数の位置情報を中央演
算器1に保持しておき、移動演算器2で算出されたXY
テーブル7の移動量と、加工時に中央演算器1から移動
演算器2に設定された位置情報とを順次比較し、その比
較結果に応じてパルスレーザ照射のオンオフおよびパル
スレーザの照射タイミングを制御するようにすることに
よって、−移動指令内でパルスレーザ自体のオンオフ制
御や照射タイミングを変化させることができ、高品質で
高精度なパルスレーザ加工を行うことができる。
発明の詳細 な説明したように本発明によれば、レーザ光の照射を所
望位置で行わせるべく予め設定された時系列的な複数の
位置情報とXY子テーブル移動量とを順次比較し、その
比較結果に応してレーザ光の照射のオンオフおよびレー
ザ光の照射タイミングを制御するようにすることによっ
て、−移動指令内でパルスレーザ自体のオンオフ制御や
照射タイミングを変化させることかでき、高品質で高精
度なパルスレーザ加工を行うことができるという効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2図は本発
明の一実施例の動作を示すフローチャート、第3図(a
)〜(d)は本発明の一実施例によるパルスレーザ加工
のタイミングチャート、第4図(a)〜(c)は本発明
の一実施例による加工例を示す図である。 主要部分の符号の説明 5゜ 1・・・・・・中央演算器 2・・・・・・移動演算器 3・・・・・・アブソリュートカウンタ回路6・・・・
・・サーボモータ 7・・・・・・XY子テーブ ル・・・・・・パルス発生器 9・・・・・・レーザ電源 0・・・・・・レーザ発振器

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被加工物を搭載するXYテーブルと、前記XYテ
    ーブルに搭載された前記被加工物にレーザ光を照射する
    照射手段と、前記XYテーブルを駆動する駆動手段と、
    前記駆動手段により駆動された前記XYテーブルの移動
    量を算出する算出手段と、前記照射手段からの前記レー
    ザ光の照射を所望位置で行わせるべく予め設定された時
    系列的な複数の位置情報を保持する保持手段と、前記算
    出手段の算出結果と前記保持手段の前記位置情報とを順
    次比較する比較手段と、前記比較手段の比較結果に応じ
    て前記照射手段のオンオフおよび前記レーザ光の照射タ
    イミングを制御する制御手段とを有することを特徴とす
    るレーザ加工装置。
JP2147888A 1990-06-06 1990-06-06 レーザ加工装置 Pending JPH0441092A (ja)

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JP2147888A JPH0441092A (ja) 1990-06-06 1990-06-06 レーザ加工装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19580444C2 (de) * 1994-04-20 1998-04-16 Hitachi Construction Machinery Laserbearbeitungsvorrichtung, Laserbearbeitungsverfahren und Hemmsteg-Bearbeitungsverfahren

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19580444C2 (de) * 1994-04-20 1998-04-16 Hitachi Construction Machinery Laserbearbeitungsvorrichtung, Laserbearbeitungsverfahren und Hemmsteg-Bearbeitungsverfahren
US5763853A (en) * 1994-04-20 1998-06-09 Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Laser processing apparatus, laser processing method and dam bar processing method

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