JPH0440763U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図ａおよびｂは、それぞれａ本考案に従つ
た電子放出源の構成例を示す断面図、およびｂウ
エネルトの部分断面図、第２図ａおよびｂは、第
１図に示した本考案に従つた電子放出源のフイラ
メントを拡大して示すａは平面図およびｂは正面
図、第３図は、第１図の電子放出源の作動状態を
説明するための断面図、第４図は、第１図の電子
放出源を用いて照射した基板上の到達電子量分布
を示すグラフ、第５図は、第１図ａの構成に構成
要素を追加した本考案の電子放出源の別の構成例
を示す断面図、第６図ａおよびｂは、それぞれａ
従来の電子放出源の示す断面図およびｂウエネル
トの断面図、第７図ａおよびｂは、第６図に示し
た従来の電子放出源のフイラメントを拡大してし
めすａ平面図およびｂ正面図、および第８は、第
６図の電子放出源を用いて照射した基板上の到達
電子量分布を示すグラフである。 １……電子放出源、１０，６１……フイラメン
ト、１０１，６０１……フイラメントの熱電子発
生部、１０２，６０２……電流供給用脚部、１１
，６２……ウエネルト、１１１，６２１……ウエ
ネルトの中央開口部、１２，６３……アノード、
６３１……アノード６３の開口部、１３，６４…
…外殻ケース、１４，１５，６５，６６……電流
供給用端子、１６，６７……絶縁台。

補正 平２．１１．１ 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書１５頁１行の「第８は」を「第８図は」
に訂正する。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 イオンプレーテイング装置内でイオン加速用電
   界を発生させるために基板表面に電子を照射する
   熱陰極型電子放出源において、 中央部に貫通口を有するほぼ碗状のウエネルト
   、 ほぼ碗状曲面に沿つた形状を有する熱陰極とし
   ての熱電子発生部と、これに電流を供給するため
   にその両端から延びた脚部とから実質的に成り、
   上記脚部は上記碗状ウエネルトの凹側にあり、上
   記熱電子発生部はその碗状形状の凸側を上記碗状
   ウエネルトの凸側と同方向に向けて上記貫通口か
   ら上記碗状ウエネルトの凸側に突出して配置され
   ているフイラメント、および ほぼ碗状曲面に沿つた網目状構造を有し、その
   碗状曲面の凹側を上記碗状ウエネルトの凸側およ
   びその中央貫通口から突出している上記フイラメ
   ントの碗状熱電子発生部の凸側と対向させて配置
   されたアノード、 を含んでなり、上記ウエネルトおよび上記アノー
   ドが上記フイラメントに対してそれぞれ同電位お
   よび正電位に維持されて上記フイラメントからの
   熱電子を上記アノードに向かつて加速する碗状等
   電位面から成る電界を形成することを特徴とする
   電子放出源。