JPH04366848A - Original plate for electrophotographic planographic printing - Google Patents

Original plate for electrophotographic planographic printing

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JPH04366848A
JPH04366848A JP14206491A JP14206491A JPH04366848A JP H04366848 A JPH04366848 A JP H04366848A JP 14206491 A JP14206491 A JP 14206491A JP 14206491 A JP14206491 A JP 14206491A JP H04366848 A JPH04366848 A JP H04366848A
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Eiichi Kato
栄一 加藤
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Abstract

PURPOSE:To improve dark charge holdability and photosensitivity by incorporating and specific resin as a binder resin into the original plate and incorporating the nonaq. solvent type dispersing resin particles having the particle sizes smaller than the max. particle size of photoconductive zinc oxide particles into a photoconductive layer. CONSTITUTION:This original plate contains the resin which has 1X10<3> to 2X10<4> weight average mol.wt., contains >=30wt.% repeating unit expressed by formula I and contains the polar group selected from -PO3H2-, -SO3H and cyclic acid anhydride-contg. group, etc., as the binder resin. In the formula I, a1, a2 denote a hydrogen atom, halogen atom, cyano group, etc.; R3 denotes a hydroarbon group. Further, the plate contains the nonaq. solvent type dispersing resin particles having the particle sizes smaller than the max. particle size of the photoconductive zinc oxide particles in the photoconductive layer. These resin particles are obtd. by bringing a monofunctional monomer which is soluble in the nonaq. solvent but is insolubilized therein when polymerized and contains a functional group forming a thio group, phosphono group, etc., when decomposed into a polymn. reaction in the nonaq. solvent in the presence of the resin for stabilizing dispersion soluble in the solvent.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、該平版印刷用原版の光導電層形成用組成物の改良に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate made by an electrophotographic method, and more particularly to an improvement in a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing plate.

【0002】0002

【従来の技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版
には多種のものが提案され且つ実用化されているが、中
でも、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子
及び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を
通常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高い
トナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言わ
れる不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化す
ることによってオフセット原版を得る技術が広く用いら
れている。
[Prior Art] Currently, many types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. A photoreceptor with a photoconductive layer as a component is subjected to a normal electrophotographic process to form a highly oleophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is treated with a desensitizing liquid called an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by selectively making non-image portions hydrophilic is widely used.

【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部分が充分に親水
化されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては画
像を有する表面導電層が離脱しないこと、及び湿し水と
のみじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生し
ないように充分に非画像部の親水性が保持されること、
等の性能を有する必要がある。
In order to obtain good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto the offset original plate, and at the same time, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing treatment liquid, and the non-image areas are made sufficiently hydrophilic. It has water resistance, and the surface conductive layer with the image does not separate during printing, and it absorbs well with dampening water, and the non-image area is sufficiently coated to prevent staining even if the number of prints increases. retaining hydrophilicity;
It is necessary to have the following performance.

【0004】これらの性能には、光導電層中の結着樹脂
の種類によって大きく左右されることが明らかになって
おり、特にオフセット原版としては、不感脂化性を向上
させる酸化亜鉛結着用樹脂が種々検討されている。特に
、メタクリレート(又はアクリレート)成分を少なくと
も含有する多元共重合体類が提案され、例えば特公昭5
0−31011号、特開昭53−4027号、特開昭5
7−202544号、特開昭58−68046号公報に
記載されている。
It has become clear that these performances are greatly influenced by the type of binder resin in the photoconductive layer. In particular, as an offset original plate, zinc oxide binder resin that improves desensitization properties is used. Various methods are being considered. In particular, multicomponent copolymers containing at least a methacrylate (or acrylate) component have been proposed.
No. 0-31011, JP-A No. 53-4027, JP-A-Sho 5
No. 7-202544 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-68046.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した不感
脂化性向上に効果があるとされる樹脂であっても、現実
に評価してみると、地汚れ、耐刷力において未だ満足で
きるものではなかった。更に特開平1−232356、
同1−261657各号公報では、光導電層に親水性基
を含有する樹脂粒子を添加することで保水性の向上に効
果があると記載されている。
[Problems to be Solved by the Invention] However, even if the above-mentioned resin is said to be effective in improving desensitization property, when actually evaluated, it is still not satisfactory in terms of scumming and printing durability. It wasn't. Furthermore, JP-A-1-232356,
Publications No. 1-261657 describe that adding resin particles containing hydrophilic groups to the photoconductive layer is effective in improving water retention.

【0006】これら、光導電性組成物を改良することで
明らかに保水性は、著しく向上することが確認された。 しかし、平版印刷用原版として更に詳細に評価してみる
と、環境変動(高温・高湿あるいは低温・低湿)時に、
電子写真特性(特に暗中電荷保持性、光感度等)が変動
し、安定した良好な複写画像が得られなくなる場合が生
じた。これにより、結果として、これを印刷用原版とし
て用いた印刷物の印刷画像の劣化あるいは、地汚れ防止
効果の減少となってしまった。
[0006] It has been confirmed that water retention can be significantly improved by improving these photoconductive compositions. However, when we evaluate it in more detail as a lithographic printing original plate, we find that during environmental changes (high temperature/high humidity or low temperature/low humidity),
Electrophotographic properties (particularly charge retention in the dark, photosensitivity, etc.) fluctuated, and there were cases in which stable and good copied images could not be obtained. This resulted in deterioration of the printed image of printed matter using this as a printing original plate, or a decrease in the scumming prevention effect.

【0007】また、デジタルダイレクト平版印刷用原版
としての電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、可視光による全面同時露光方式に比べ時間が長くなり
、また露光強度にも制約があることから、静電特性、特
に暗電荷保持特性、光感度に対して、より高い性能が要
求される。
[0007] Furthermore, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an electrophotographic lithographic printing original plate used as a digital direct lithography printing original plate, the time is longer than when the entire surface is simultaneously exposed using visible light. Furthermore, since there are restrictions on the exposure intensity, higher performance is required in terms of electrostatic properties, particularly dark charge retention properties, and photosensitivity.

【0008】これに対し、上記公知の原版では電子写真
特性が劣化し、実際の複写画像も地カブリが発生し易く
なり、且つ細線の飛びや文字のツブレが生じてしまい、
結果として、平版印刷用原版として印刷すると、印刷物
の画質は低下してしまい、結着樹脂の非画像部分の親水
性向上による地汚れ防止の効果がなくなってしまった。
On the other hand, with the above-mentioned known original plates, the electrophotographic characteristics deteriorate, and actual copied images tend to have background fog, as well as skipping of fine lines and blurring of letters.
As a result, when printed as a lithographic printing original plate, the image quality of the printed matter deteriorated, and the effect of preventing scumming by improving the hydrophilicity of the non-image portion of the binder resin was lost.

【0009】本発明は、以上のような従来の電子写真式
平版印刷用原版の有する問題点を改良するものである。 すなわち、本発明の目的の1は、静電特性(特に暗電荷
保持性及び光感度)に優れ、原画に対して忠実な複写画
像を再現し、且つオフセット原版として全面一様な地汚
れは勿論、点状の地汚れをも発生させない、不感脂化性
の優れた平版印刷用原版を提供することである。本発明
の目的の2は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるい
は高温高湿のように変動する場合でも、鮮明で良質な画
像を有する平版印刷用原版を提供することである。本発
明の目的の3は、併用し得る増感色素の種類による影響
を受け難く、半導体レーザー光によるスキャニング露光
方式でも静電特性の優れた平版印刷用原版を提供するこ
とである。
The present invention is intended to improve the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing original plates as described above. In other words, object 1 of the present invention is to have excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), to reproduce a copy image that is faithful to the original image, and to be able to reproduce a copy image that is faithful to the original image, as well as to prevent uniform background smudges over the entire surface as an offset master. An object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate which does not cause even dotted background stains and has excellent desensitization properties. A second object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that produces clear and high-quality images even when the environment during copy image formation fluctuates, such as low temperature and low humidity, or high temperature and high humidity. A third object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that is not easily affected by the types of sensitizing dyes that can be used in combination and has excellent electrostatic properties even in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

【0010】0010

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛、分光増感色素及び
結着樹脂を含有する光導電層を少なくとも1層設けてな
る電子写真式平版印刷用原版において、該結着樹脂とし
て、下記の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有し、更に該
光導電層中に、前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径
と同じかそれより小さい粒子径を有する下記の非水溶媒
系分散樹脂粒子を少なくとも1種含有することを特徴と
する電子写真式平版印刷用原版によって達成することが
できる。
[Means for Solving the Problems] The present invention achieves the above object by providing at least one photoconductive layer containing photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin on a conductive support. The electrophotographic lithographic printing original plate contains at least one of the following resins [A] as the binder resin, and the photoconductive layer further contains particles having a maximum particle size equal to or larger than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles. This can be achieved by using an original plate for electrophotographic lithographic printing, which is characterized by containing at least one type of non-aqueous solvent-based dispersed resin particles described below having a particle size smaller than that.

【0011】樹脂〔A〕:1×103 〜2×104 
の重量平均分子量を有し、下記一般式(I)で示される
繰り返し単位を重合体成分として30重量%以上含有し
、且つ重合体主鎖の片末端に−PO3 H2 ,−SO
3 H,−COOH,
Resin [A]: 1×103 to 2×104
It has a weight average molecular weight of 30% by weight or more as a polymer component of repeating units represented by the following general formula (I), and -PO3 H2, -SO at one end of the polymer main chain.
3H, -COOH,

【化8】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水
素基を表す)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択
される少なくとも1種の極性基を含有してなる樹脂。 一般式(I)
embedded image A resin containing at least one polar group selected from [R1 represents a hydrocarbon group or -OR2 (R2 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride-containing group. General formula (I)

【化9】 〔ただし上記一般式(I)において、a1 ,a2 は
各々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素
基を表す。R3 は炭化水素基を表す〕 非水溶媒系分散樹脂粒子:非水溶媒中において、該非水
溶媒には可溶であるが重合することにより不溶化する、
分解によりチオール基、ホスホノ基、アミノ基、
embedded image [However, in the above general formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. R3 represents a hydrocarbon group] Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles: In a non-aqueous solvent, they are soluble in the non-aqueous solvent but become insolubilized by polymerization.
By decomposition, thiol group, phosphono group, amino group,

【化1
0】 基を生成する官能基を少なくとも1種含有して成る一官
能性単量体(A)を該溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の
存在下に分散重合反応させることにより得られる重合体
樹脂粒子。更には、該樹脂粒子は、高次の網目構造を形
成しているものが好ましい。
[Chemical 1
0. A polymer resin obtained by dispersing and polymerizing a monofunctional monomer (A) containing at least one functional group that forms a group in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the solvent. particle. Furthermore, it is preferable that the resin particles form a high-order network structure.

【0012】更に樹脂〔A〕は好ましくは一般式(I)
で示される共重合体成分として下記一般式(Ia)又は
下記一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタク
リレート成分のうちの少なくとも1つを含有する。 一般式(Ia)
Furthermore, the resin [A] preferably has the general formula (I)
The copolymer component represented by contains at least one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) or the following general formula (Ib). General formula (Ia)

【化11】 一般式(Ib)[Chemical formula 11] General formula (Ib)

【化12】 〔ただし、上記式(Ia)又は(Ib)において、T1
 及びT2は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜1
0の炭化水素基、塩素原子、−COR4 又は−COO
R5  (R4 及びR5 は各々炭素数1〜10の炭
化水素基を表す)を表し、L1 及びL2 は各々−C
OO−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子数1
〜4個の連結基を表す〕
embedded image [However, in the above formula (Ia) or (Ib), T1
and T2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1
0 hydrocarbon group, chlorine atom, -COR4 or -COO
R5 (R4 and R5 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), L1 and L2 each represent -C
Number of single bonds or connected atoms connecting OO- and benzene ring: 1
~Represents 4 linking groups]

【0013】また、本発明における上記分散安定用樹脂
とししては、高分子鎖中に、下記一般式(II) で示
される重合性二重結合基部分を少なくとも1種含有して
いるものが特に好ましいものとして挙げられる。 一般式(II)
[0013] Furthermore, the above-mentioned dispersion stabilizing resin in the present invention contains at least one kind of polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II) in the polymer chain. These are particularly preferred. General formula (II)

【化13】 〔一般式(II) において、V0 は[Chemical formula 13] [In general formula (II), V0 is

【化14】 (但し、pは1〜4の整数を表わし、R6 は水素原子
又は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、a3 ,
a4 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R7
 又は炭化水素基を介した−COO−R7 (R7 は
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす〕
embedded image (where p represents an integer of 1 to 4, R6 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), a3,
a4 may be the same or different, and a4 may be a hydrogen atom,
Halogen atom, cyano group, hydrocarbon group, -COO-R7
or -COO-R7 (R7 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group) via a hydrocarbon group]

【0014】本発明の平版印刷用原版は、最上層
である光導電層中に光導電性酸化亜鉛と分光増感色素と
結着樹脂とを少なくとも含有し、該光導電層の非画像部
を不感脂化液で処理することにより表面を親水化して平
版印刷用原版とする方式の印刷用原版である。
The lithographic printing original plate of the present invention contains at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin in the photoconductive layer that is the uppermost layer, and the non-image area of the photoconductive layer is This is a printing original plate that is treated with a desensitizing liquid to make the surface hydrophilic and used as a lithographic printing original plate.

【0015】本発明の光導電層は、光導電性酸化亜鉛に
分光増感色素と、結着樹脂として特定の共重合体成分か
ら成り主鎖末端に極性基を有する低分子量の樹脂〔A〕
と非水溶媒系分散樹脂粒子(以下、樹脂粒子と略記する
場合もある)とを組み合わせて含有することを特徴とす
るものである。
The photoconductive layer of the present invention consists of photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a specific copolymer component as a binder resin, and is a low molecular weight resin [A] having a polar group at the end of the main chain.
and non-aqueous solvent-based dispersed resin particles (hereinafter sometimes abbreviated as resin particles).

【0016】本発明に供される樹脂粒子は、その平均粒
子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じか、そ
れよりも小さく且つ粒子径の分布が狭く粒子径がそろっ
ているものである。
The resin particles used in the present invention have an average particle size that is the same as or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle size distribution and uniform particle size. It is.

【0017】また該樹脂粒子は、少なくとも、チオール
基等の特定の親水性基が保護された形で含有される一官
能性単量体(A)が重合反応により該非水溶媒に不溶性
となった重合体成分と、この反応時に物理化学的に吸着
及び/又は化学的に結合した該非水溶媒に可溶性である
分散安定用樹脂の重合体成分とから構成される。上記(
II) 式で示される重合性二重結合基部分を含有する
分散安定用樹脂の場合には、両重合体成分が化学結合し
てなる。且つ、該樹脂粒子の不溶性重合体成分は、不感
脂化処理により、加水分解反応、レドックス反応、光分
解反応等で保護された官能基が化学反応し、上記した特
定の親水性基を生成し、粒子の性質が疎水性から親水性
に変換される性質を有する。
[0017] Furthermore, the resin particles contain at least a monofunctional monomer (A) containing a protected form of a specific hydrophilic group such as a thiol group, which has become insoluble in the non-aqueous solvent through a polymerization reaction. It is composed of a polymer component and a polymer component of a dispersion stabilizing resin that is soluble in the nonaqueous solvent and is physicochemically adsorbed and/or chemically bonded during this reaction. the above(
II) In the case of a dispersion stabilizing resin containing a polymerizable double bond group moiety represented by the formula, both polymer components are chemically bonded. In addition, in the insoluble polymer component of the resin particles, the protected functional groups undergo a chemical reaction through a hydrolysis reaction, a redox reaction, a photolysis reaction, etc. due to the desensitization treatment, and the above-mentioned specific hydrophilic groups are generated. , the properties of the particles are changed from hydrophobic to hydrophilic.

【0018】本発明の他の特徴としては、該結着樹脂〔
A〕は1×103〜2×104 の重量平均分子量を有
し、下記一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体
成分として30重量%以上含有し、且つ−PO3 H2
 ,−SO3 H,−COOH,
Another feature of the present invention is that the binder resin [
A] has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104, contains 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO3 H2
,-SO3H,-COOH,

【化15】 〔R1 は炭化水素又は−OR2 (R2 は炭化水素
を表す)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択され
る少なくとも1種の極性基を有する重合体成分が、重合
体の特定の位置、つまり重合体主鎖の片末端に結合して
いる重合体で構成されることである。
[Chemical formula 15] A polymer component having at least one polar group selected from [R1 represents a hydrocarbon or -OR2 (R2 represents a hydrocarbon)] and a cyclic acid anhydride-containing group is It is composed of a polymer bonded at a specific position, that is, at one end of the polymer main chain.

【0019】本発明の光導電層は、光導電性酸化亜鉛粒
子、分光増感色素及び該樹脂粒子を含有するが、結着樹
脂として含有される樹脂〔A〕の働きによって、酸化亜
鉛粒子は一層微粒子化され且つ均一に分散されるととも
に、該樹脂粒子も均一に分散される。更には、酸化亜鉛
粒子と分光増感色素の相互作用が充分に行われ、特に該
色素の種類が種々変わった場合でも、いずれの色素でも
光導電体である酸化亜鉛粒子と充分に相互作用をするこ
とができる状態を形成することができる。例えば、近年
特に注目されている半導体レーザー光用分光増感を用い
た場合、公知の結着樹脂の系ではこの相互作用が充分で
なくなり、実際の電子写真特性(例えば暗中電荷保持率
、光感度等)が著しく低下し、撮像した複写画像も実用
に耐えるものでなくなる程に劣化する。このような現象
はその詳細は不明である。しかし、本発明の系はこのよ
うな現象を生じない極めて優れたものである。
The photoconductive layer of the present invention contains photoconductive zinc oxide particles, a spectral sensitizing dye, and the resin particles. Due to the action of the resin [A] contained as a binder resin, the zinc oxide particles are The resin particles are further finely divided and uniformly dispersed, and the resin particles are also uniformly dispersed. Furthermore, the interaction between the zinc oxide particles and the spectral sensitizing dye takes place sufficiently, and in particular, even when the type of the dye changes, all the dyes sufficiently interact with the zinc oxide particles that are photoconductors. It is possible to form a state in which it is possible to For example, when using spectral sensitization for semiconductor laser light, which has been attracting particular attention in recent years, this interaction is not sufficient with known binder resin systems, and the actual electrophotographic properties (such as charge retention in the dark, photosensitivity, etc.) are not sufficient. etc.), and the captured copy image also deteriorates to the point where it is no longer of any practical use. The details of such a phenomenon are unknown. However, the system of the present invention is extremely superior in that such a phenomenon does not occur.

【0020】この理由として、本発明においては、酸化
亜鉛粒子と分光増感色素が樹脂粒子及び樹脂〔A〕の共
存下に分散された時に、特定の極性基を特定の位置に結
合して成る低分子量の樹脂〔A〕と、分解により特定の
極性基(チオール基等)を生成する単分散で微小粒子径
の樹脂粒子の各々の極性基が、光導電性酸化亜鉛の化学
量論的な欠陥に吸着し、且つ酸化亜鉛粒子の表面の被覆
性及び吸着状態が適切に行われるので、光導電性酸化亜
鉛のトラップを補償すると共に湿度特性を飛躍的に向上
させる一方、光導電性酸化亜鉛粒子の分散が充分に行わ
れ、凝集を抑制するものと推定される。
The reason for this is that in the present invention, when zinc oxide particles and spectral sensitizing dyes are dispersed in the coexistence of resin particles and resin [A], specific polar groups are bonded to specific positions. The polar groups of the low molecular weight resin [A] and the monodisperse, microscopic resin particles that produce specific polar groups (such as thiol groups) upon decomposition are based on the stoichiometric ratio of the photoconductive zinc oxide. It adsorbs to defects, and the coating and adsorption state of the surface of the zinc oxide particles is properly performed, which compensates for the trapping of photoconductive zinc oxide and dramatically improves the humidity characteristics. It is presumed that the particles are sufficiently dispersed and agglomeration is suppressed.

【0021】本発明の平版印刷用原版では、該樹脂粒子
と樹脂〔A〕の両者の適切な存在によって初めて分光増
感色素を含めた光導電性酸化亜鉛のミクロな状態までも
の分散状態が制御されるので、電子写真特性(特に実際
の撮像性)が良化し、且つ高温・高湿あるいは低温・低
湿という過酷条件下でも良好な性能を安定に維持できる
ようになったと考えられる。
In the lithographic printing original plate of the present invention, the dispersion state even down to the microscopic state of the photoconductive zinc oxide including the spectral sensitizing dye is controlled for the first time by the appropriate presence of both the resin particles and the resin [A]. This is thought to have improved the electrophotographic properties (particularly the actual imaging performance) and made it possible to stably maintain good performance even under harsh conditions of high temperature and high humidity or low temperature and low humidity.

【0022】即ち、本方式においては電子写真特性が優
れた性能を示さないと複写画像形成時に、非画像部に地
汚れが発生したり画像部の原稿再現性が悪化し、結果と
して印刷物の画質を満足するものが得られなくなるので
、特に重要なことは、非画像部分が不感脂化処理により
充分に親水化され印刷時のインキ付着を生じない高保水
性を有することである。本発明の平版印刷用原版は、酸
化亜鉛粒子の不感脂化処理液による不感脂化と共に、樹
脂粒子が不感脂化処理によって、特定の保護された親水
性基から該親水性基を生成して親水性を発現することで
、更に光導電層非画像部の保水性が向上する機能をもつ
ことを特徴としている。以上のような作用により、本発
明の印刷用原版の非画像部の保水性が飛躍的に向上する
ものと、推定される。更には、前記したように樹脂〔A
〕の働きにより、親水化される各粒子が光導電層中に適
切な状態で分散されているので、酸化亜鉛粒子及び樹脂
粒子の親水化が容易・迅速且つ充分に進行すると考えら
れる。
In other words, in this method, if the electrophotographic characteristics do not exhibit excellent performance, background smear will occur in the non-image area and the original reproducibility of the image area will deteriorate when copying images are formed, resulting in poor image quality of the printed matter. Therefore, it is particularly important that the non-image area be made sufficiently hydrophilic by the desensitizing treatment and have high water retention so as to prevent ink from adhering during printing. In the lithographic printing original plate of the present invention, the zinc oxide particles are desensitized by the desensitization treatment solution, and the resin particles are desensitized to generate hydrophilic groups from specific protected hydrophilic groups. By exhibiting hydrophilicity, the photoconductive layer is characterized in that it has a function of further improving water retention in the non-image area. It is presumed that the above-mentioned effects dramatically improve the water retention properties of the non-image areas of the printing master plate of the present invention. Furthermore, as mentioned above, resin [A
] It is thought that the particles to be made hydrophilic are dispersed in the photoconductive layer in an appropriate state, so that the hydrophilization of the zinc oxide particles and resin particles progresses easily, quickly and sufficiently.

【0023】一方本発明の樹脂粒子において、酸化亜鉛
粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が存在すると、電
子写真特性が劣化してくる(特に均一な帯電性が得られ
なくなる)結果として、複写画像において画像部の濃度
ムラ、文字、細線の切れ、飛び、あるいは非画像部の地
カブリ等が発生してしまう。具体的には、本発明の樹脂
粒子は最大粒子の粒子径が2μm以下であり、好ましく
は0.5μm以下である。そして、粒子の平均粒子径は
0.8μm以下であり、好ましくは0.5μm以下であ
る。なお、樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表面積が大
きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用をもたらし
、コロイド粒子(0.01μm以下)程度でも充分であ
るが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合と類似し
てしまい、保水力向上への粒子であることの効果が薄れ
てくるため、0.001μm以上で用いるのが好ましい
On the other hand, in the resin particles of the present invention, if the resin particles have a particle size larger than the zinc oxide particle size, the electrophotographic properties deteriorate (particularly, uniform charging properties cannot be obtained), and as a result, In the copied image, density unevenness in the image area, broken or skipped characters or thin lines, or background fog in the non-image area may occur. Specifically, the resin particles of the present invention have a maximum particle size of 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle diameter of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less. Note that the smaller the particle size of the resin particles, the larger the specific surface area, which brings about good effects on the electrophotographic properties mentioned above, and colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, but if they are too small, molecules It is preferable to use particles with a diameter of 0.001 μm or more, since this will be similar to the case of dispersion, and the effect of particles on improving water retention will be diminished.

【0024】また、本発明において該樹脂粒子は疎水性
の重合体成分、即ち、分散安定用樹脂が相当する重合体
成分を結合したものであり、この疎水性部分が光導電層
の結着樹脂と相互作用しているので、この部分のアンカ
ー効果によって印刷時の湿し水で溶出することはなく、
かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特性を維持す
ることができる。更には、該分散安定用樹脂の重合体成
分中に光及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合には
、化学結合が形成され、より一層の溶出抑制が可能とな
るものである。更に、本発明において、高次の網目構造
を形成している樹脂粒子であれば更に水での溶出性が抑
えられ、他方水膨潤性が発現し、更に保水性が良好とな
る。
Further, in the present invention, the resin particles are a hydrophobic polymer component, that is, a dispersion stabilizing resin is bonded with a corresponding polymer component, and this hydrophobic portion is bonded to the binder resin of the photoconductive layer. The anchor effect of this part prevents it from being eluted with dampening water during printing.
Good printing characteristics can be maintained even when printing a large number of sheets. Furthermore, when the polymer component of the dispersion stabilizing resin contains a photo- and/or thermosetting functional group, chemical bonds are formed, making it possible to further suppress elution. Furthermore, in the present invention, resin particles forming a high-order network structure can further suppress dissolution in water, exhibit water swelling properties, and further improve water retention.

【0025】本発明において、上記のような高次の網目
構造を形成していない樹脂粒子又は高次の網目構造を形
成している樹脂粒子(以下、単に網目樹脂粒子)は、光
導電性酸化亜鉛100重量部に対して0.01〜10重
量部の使用量で用いることが好ましい。樹脂粒子又は網
目樹脂粒子が0.01重量部より少ないと非画像部の親
水性が充分とならず、逆に10重量部より多いと非画像
部の親水性の向上は更に図られるが、厳しい条件下での
電子写真特性が劣化し、複写画像が悪化してしまう。
In the present invention, the resin particles that do not form a higher-order network structure or the resin particles that do have a higher-order network structure (hereinafter simply referred to as network resin particles) are photoconductive oxidized resin particles. It is preferably used in an amount of 0.01 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of zinc. If the amount of resin particles or network resin particles is less than 0.01 part by weight, the hydrophilicity of the non-image area will not be sufficient, and if it is more than 10 parts by weight, the hydrophilicity of the non-image area can be further improved, but it is difficult. The electrophotographic characteristics under these conditions deteriorate, resulting in a deteriorated copy image.

【0026】次に、本発明の電子写真感光材料の光導電
層について更に詳細に説明する。本発明の光導電層は、
結着樹脂として下記の樹脂〔A〕の少なくとも1種を含
有することを特徴とする。該結着樹脂〔A〕とは、下記
一般式(I)で示される特定の重合体成分を30重量%
以上を含有し、且つ重合体主鎖の片末端に−PO3 H
2 ,−SO3 H,−COOH,
Next, the photoconductive layer of the electrophotographic material of the present invention will be explained in more detail. The photoconductive layer of the present invention is
It is characterized by containing at least one of the following resins [A] as a binder resin. The binder resin [A] is 30% by weight of a specific polymer component represented by the following general formula (I).
-PO3H at one end of the polymer main chain
2,-SO3H,-COOH,

【化16】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化
水素基)、環状酸無水物基から選ばれる極性基(以下、
環状酸無水物も含めて極性基と称する)を結合してなる
低分子量の樹脂である。 一般式(I)
[R1 is a hydrocarbon group, -OR2 group (R2 is a hydrocarbon group), a polar group selected from a cyclic acid anhydride group (hereinafter referred to as
It is a low molecular weight resin formed by bonding cyclic acid anhydrides (also referred to as polar groups). General formula (I)

【化17】 〔式(I)中、a1 ,a2 は各々、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表し、R3 は炭
化水素基を表す〕
[Formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group, and R3 represents a hydrocarbon group]

【0027】樹脂〔A〕において、重量平均分子量は1
×103 〜2×104 、好ましくは3×103 〜
1×104 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は好ま
しくは−30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜
90℃である。樹脂〔A〕の分子量が103 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、
一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹
脂であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた
感光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件
下での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり
、安定した複写画像が得られるという本発明の効果が薄
れてしまう。
In the resin [A], the weight average molecular weight is 1
×103 to 2×104, preferably 3×103 to
The glass transition point of the resin [A] is preferably -30°C to 110°C, more preferably -20°C to
The temperature is 90°C. When the molecular weight of the resin [A] is less than 103, the film forming ability decreases and sufficient film strength cannot be maintained.
On the other hand, if the molecular weight is larger than 2 x 104, even if the resin of the present invention is used, it will not work under harsh conditions of high temperature and high humidity, low temperature and low humidity, especially in photoreceptors using near-infrared to infrared spectral sensitizing dyes. The fluctuations in dark decay retention and photosensitivity become somewhat large, and the effect of the present invention in obtaining stable copied images is diminished.

【0028】樹脂〔A〕の一般式(I)の繰り返し単位
に相当する重合体成分の存在割合は30重量%以上、好
ましくは50〜97重量%、極性基を含有する共重合体
成分の割合は0.5〜20重量%、好ましくは1〜10
重量%である。樹脂〔A〕における極性基含有成分量が
0.5重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画
像濃度を得ることができない。一方該極性基含有成分量
が20重量%よりも多いと、いかに低分子量体といえど
も分散性が低下し、更にオフセットマスターとして用い
るときに地汚れが増大する。
The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the copolymer component containing a polar group is 0.5 to 20% by weight, preferably 1 to 10%
Weight%. If the amount of the polar group-containing component in the resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential will be low and sufficient image density will not be obtained. On the other hand, if the amount of the polar group-containing component is more than 20% by weight, the dispersibility decreases no matter how low the molecular weight is, and furthermore, background smudge increases when used as an offset master.

【0029】また低分子量の樹脂〔A〕としては、前記
した一般式(Ia)又は一般式(Ib)で示される、2
位に及び/又は6位に特定の置換基を有するベンゼン環
か無置換のベンゼン環、又は無置換のナフタレン環を有
する特定の置換基を持つメタクリレート成分を含有する
、片末端に極性基を結合した樹脂〔A〕(以降、この低
分子量体を樹脂〔A′〕とする)であることが特に好ま
しい。樹脂〔A′〕における式(Ia)及び/又は式(
Ib)の繰り返し単位に相当するメタクリレート共重合
成分の存在割合は30重量%以上、好ましくは50〜9
7重量%、重合体主鎖の片末端に結合する存在割合は樹
脂〔A′〕100重量部に対して0.5〜15重量%、
好ましくは1〜10重量%である。
Further, as the low molecular weight resin [A], 2 represented by the above-mentioned general formula (Ia) or general formula (Ib) is used.
Contains a methacrylate component having a specific substituent at position and/or 6-position, an unsubstituted benzene ring, or an unsubstituted naphthalene ring, with a polar group bonded to one end Particularly preferred is a resin [A] (hereinafter, this low molecular weight product will be referred to as a resin [A']). Formula (Ia) and/or formula (
The proportion of the methacrylate copolymer component corresponding to the repeating unit Ib) is 30% by weight or more, preferably 50 to 9% by weight.
7% by weight, the proportion bonded to one end of the polymer main chain is 0.5 to 15% by weight based on 100 parts by weight of resin [A'],
Preferably it is 1 to 10% by weight.

【0030】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I)で示される繰り返し単位を更に
説明する。一般式(I)においてa1 ,a2 は、好
ましくは水素原子、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−R3’又は炭化水素基を介した−CO
O−R3’(R3’は水素原子又は炭素数1〜18のア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又は
アリール基を表し、これらは置換されていてもよく、具
体的には、下記R3 について説明するものと同様の内
容を表す)を表す。上記炭化水素を介した−COO−R
3’基における炭化水素としては、メチレン基、エチレ
ン基、プロピレン基などが挙げられる。R3 は炭化水
素基を表し、具体的にはアルキル基、アラルキル基、芳
香族基を表し、好ましくはベンゼン環又はナフタレン環
を含有する炭化水素基であるアラルキル基又は芳香族基
である。 即ち、R3 は、炭素数1〜18の置換されてもよいア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基
、2−エトキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基等
)、炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(
例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニ
ル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等)
、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例
えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、2
−ナフチルエチル基、メトキシベンジル基、エトキシベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の置換
されてもよいシクロアルキル基(例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、置換さ
れていてもよいアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、
ジフルオロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロフェ
ニル基、ジクロロフェニル基、ヨードフェニル基、メト
キシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニ
ル基、シアノフェニル基等)等が挙げられる。
Next, the repeating unit represented by the general formula (I), which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, will be further explained. In general formula (I), a1 and a2 are preferably a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -COO-R3', or a carbonized -CO via hydrogen group
O-R3'(R3' represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, or an aryl group, which may be substituted, specifically, represents the same content as that described for R3 below). -COO-R via the above hydrocarbon
Examples of the hydrocarbon in the 3' group include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like. R3 represents a hydrocarbon group, specifically an alkyl group, an aralkyl group, or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group, which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring. That is, R3 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, Tetradecyl group, 2-
chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, etc.), optionally substituted with 2 to 18 carbon atoms Alkenyl group (
For example, vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.)
, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, 2
-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), optionally substituted cycloalkyl groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), substituted optional aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, fluorophenyl group,
difluorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, iodophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, etc.).

【0031】このような置換基R3 を有するメタクリ
レート成分である一般式(I)の繰り返し単位に相当す
る共重合体成分において、より好ましくは下記一般式(
Ia)及び/又は一般式(Ib)で示される特定のアリ
ール基を含有するメタクリレート成分で表される重合体
成分が挙げられる。 一般式(Ia)
In the copolymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) which is a methacrylate component having such a substituent R3, it is more preferable to use the following general formula (
Ia) and/or a polymer component represented by a methacrylate component containing a specific aryl group represented by general formula (Ib). General formula (Ia)

【化18】 一般式(Ib)[Chemical formula 18] General formula (Ib)

【化19】 〔式(Ia)及び(Ib)中、T1 及びT2 は互い
に独立に、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩
素原子、臭素原子、−COR4 、−COOR5  (
R4 とR5 は夫々炭素数1〜10の炭化水素基を表
す)を表す。L1 ,L2 は各々−COO−とベンゼ
ン環を結合する直接結合又は連結原子数1〜4個の連結
基を表す〕
[Formula (Ia) and (Ib), T1 and T2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, a bromine atom, -COR4, -COOR5 (
R4 and R5 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. L1 and L2 each represent a direct bond connecting -COO- and a benzene ring or a linking group having 1 to 4 linking atoms]

【0032】式(Ia)において、好ましい
T1 及びT2 として、互に独立に各々水素原子、塩
素原子及び臭素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素
基として、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、シ
リル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基)、並びに−COR
4 及び−COOR5 (好ましいR4 及びR5 と
しては夫々上記の炭素数1〜10の好ましい炭化水素基
として記載したものを挙げることができる)を挙げるこ
とができる。
In formula (Ia), T1 and T2 are each independently a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, and a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group,
dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group) ), and -COR
4 and -COOR5 (preferred examples of R4 and R5 include those described above as preferred hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms).

【0033】式(Ia)及び(Ib)において、L1 
及びL2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する直
接結合又は−(CH2 )n1−( n1 は1〜3の
整数を表す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH2
 OCO−、−(CH2 )m1−( m1 は1又は
2の整数を表す),−CH2 CH2 O−等の如き連
結原子数1〜4個の連結基であり、より好ましくは直接
結合又は結合原子数1〜2個の連結基を挙げることがで
きる。
In formulas (Ia) and (Ib), L1
and L2 are each a direct bond connecting -COO- and a benzene ring or -(CH2)n1- (n1 represents an integer of 1 to 3), -CH2OCO-, -CH2CH2
A linking group having 1 to 4 linking atoms, such as OCO-, -(CH2)m1- (m1 represents an integer of 1 or 2), -CH2CH2O-, and more preferably a direct bond or a bonding atom. One to two linking groups can be mentioned.

【0034】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(Ia
)又は(Ib)で示される繰り返し単位に相当する共重
合体成分の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の範
囲はこれに限定されるものではない。以下の(a−1)
〜(a−20)において、nは1〜4の整数、mは0又
は1〜3の整数、p1 は1〜3の整数、R8 〜R1
1はいずれも−Cn H2n+1又は−(CH2 )m
 −C6 H5(ただし、n,mは上記と同じ)、X1
 及びX2 は同じでも異なってもよく、水素原子、−
Cl、−Br、−Iのいずれかを表す。 (a−1)
Formula (Ia) used in the resin [A] of the present invention
Specific examples of copolymer components corresponding to the repeating units represented by ) or (Ib) are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto. (a-1) below
~ (a-20), n is an integer of 1 to 4, m is 0 or an integer of 1 to 3, p1 is an integer of 1 to 3, R8 ~ R1
1 is -Cn H2n+1 or -(CH2)m
-C6 H5 (however, n and m are the same as above), X1
and X2 may be the same or different, and are a hydrogen atom, -
Represents either Cl, -Br, or -I. (a-1)

【化20】 (a−2)[C20] (a-2)

【化21】 (a−3)[C21] (a-3)

【化22】 (a−4)[C22] (a-4)

【化23】 (a−5)[C23] (a-5)

【化24】 (a−6)[C24] (a-6)

【化25】 (a−7)[C25] (a-7)

【化26】 (a−8)[C26] (a-8)

【化27】 (a−9)[C27] (a-9)

【化28】 (a−10)[C28] (a-10)

【化29】 (a−11)[C29] (a-11)

【化30】 (a−12)[C30] (a-12)

【化31】 (a−13)[Chemical formula 31] (a-13)

【化32】 (a−14)[C32] (a-14)

【化33】 (a−15)[Chemical formula 33] (a-15)

【化34】 (a−16)[C34] (a-16)

【化35】 (a−17)[C35] (a-17)

【化36】 (a−18)[C36] (a-18)

【化37】 (a−19)[C37] (a-19)

【化38】 (a−20)[C38] (a-20)

【化39】[C39]

【0035】次に低分子量の樹脂〔A〕に含有される特
定の極性基含有重合体成分について説明する。 該極性基は、−PO3 H2 ,−SO3 H,−CO
OH,
Next, the specific polar group-containing polymer component contained in the low molecular weight resin [A] will be explained. The polar group is -PO3 H2, -SO3 H, -CO
Oh,

【化40】 及び環状酸無水物含有基から選ばれる少なくとも1種で
あることが好ましい。
It is preferably at least one selected from embedded image and cyclic acid anhydride-containing groups.

【0036】[0036]

【化41】 基とは、上記R1 が炭化水素基又は−OR2 基(R
2は炭化水素基を表す)を表し、具体的にはR1 は炭
素数1〜22の脂肪族基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル
基、2−メトキシメチル基、3−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フルオロベ
ンジル基、メトキシベンジル基等)、又は置換されても
よいアリー基(例えばフェニル基、トリル基、エチルフ
ェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フ
ルオロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル
−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル
基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセ
チルフェニル基、ブトキシフェニル基等)等であり、R
2 はR1 と同一の内容である。
[Chemical Formula 41] Group means that the above R1 is a hydrocarbon group or -OR2 group (R
2 represents a hydrocarbon group), specifically R1 represents an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group,
Propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxymethyl group, 3-ethoxypropyl group,
allyl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted ary group (e.g. phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetyl group) phenyl group, butoxyphenyl group, etc.), and R
2 has the same content as R1.

【0037】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−
1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,2−
ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2,2,2
〕オクタジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの
環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メ
チル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のアルキル
基等が置換されていてもよい。また、芳香族ジカルボン
酸無水物の例としては、フタル酸無水物環、ナフタレン
−ジカルボン酸無水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水
物環、チオフェン−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ
、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲ
ン原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、
アルコキシカルボニル基(アルコキシ基としては、例え
ばメトキシ基、エトキシ基等)等が置換されていてもよ
い。
Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride, aromatic dicarboxylic anhydride, Things can be mentioned. Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, and cyclopentane-
1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,
2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-
Dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicyclo[2,2,2
] Octadicarboxylic acid anhydride rings, etc., and these rings may be substituted with, for example, halogen atoms such as chlorine atoms or bromine atoms, or alkyl groups such as methyl groups, ethyl groups, butyl groups, hexyl groups, etc. good. Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride rings, naphthalene-dicarboxylic anhydride rings, pyridine-dicarboxylic anhydride rings, thiophene-dicarboxylic anhydride rings, etc. is, for example, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group,
It may be substituted with an alkoxycarbonyl group (eg, a methoxy group, an ethoxy group, etc.).

【0038】これらの極性基は、重合体主鎖の片末端に
直接結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい
。連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、例
えば具体的に挙げるとすれば、
These polar groups may be directly bonded to one end of the polymer main chain or may be bonded via a linking group. The linking group may be any bonding group, but specific examples include:

【化42】 (d1 、d2 は同じでも異なってもよく、各々水素
原子、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子等)、OH基
、シアノ基、アルキル基(メチル基、エチル基、2−ク
ロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、プロピル基、
ブチル基、ヘキシル基等)、アラルキル基(ベンジル基
、フェネチル基等)、フェニル基等)を表す)、
[Chemical formula 42] (d1 and d2 may be the same or different, and each is a hydrogen atom, a halogen atom (chlorine atom, bromine atom, etc.), an OH group, a cyano group, an alkyl group (methyl group, ethyl group, 2-chloroethyl group) , 2-hydroxyethyl group, propyl group,
butyl group, hexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, phenethyl group, etc.), phenyl group),

【化4
3】 (d3 、d4 はd1 、d2 と同一の内容を表す
)、
[C4
3] (d3 and d4 represent the same content as d1 and d2),

【化44】 −O−,−S−,[C44] -O-, -S-,

【化45】 〔d5 は、水素原子又は炭化水素基を表す(炭化水素
基、として具体的には炭素数1〜12の炭化水素基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−メト
キシエチル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル
基、ベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、フ
ェニル基、トリル基、クロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ブチルフェニル基等)が挙げられる)〕、−C
O−、−COO−、−OCO−、
[Chemical formula 45] [d5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group) group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 2-cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.)], -C
O-, -COO-, -OCO-,

【化46】 −SO2 −、−NHCONH−、−NHCOO−、−
NHSO2−、−CONHCOO−、−CONHCON
H−、複素環(ヘテロ原子として、O、S、N等を少な
くとも1種含有する5〜6員環又はこれらの縮合環であ
ればいずれでもよい:例えばチオフェン環、ピリジン環
、フラン環、イミダゾール環、ピペリジン環、モルホリ
ン環等が挙げられる)又は
embedded image -SO2 -, -NHCONH-, -NHCOO-, -
NHSO2-, -CONHCOO-, -CONHCON
H-, heterocycle (any 5- to 6-membered ring containing at least one type of O, S, N, etc. as a heteroatom, or a condensed ring thereof; for example, a thiophene ring, a pyridine ring, a furan ring, an imidazole ring) ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.) or

【化47】 (d6 、d7 は同じでも異なってもよく、炭化水素
基又は−Od8 (d8 は炭化水素基)を表す。これ
らの炭化水素基としては、d5 で挙げたものと同一の
ものを挙げることができる)等の結合基の単独又は、こ
れらの組合わせによる構成された連結基等が挙げられる
[Chemical formula 47] (d6 and d7 may be the same or different and represent a hydrocarbon group or -Od8 (d8 is a hydrocarbon group). These hydrocarbon groups include the same ones listed for d5. Examples include a linking group composed of a single linking group or a combination of these linking groups.

【0039】更に本発明の低分子量体樹脂〔A〕(〔A
′〕を含む)は、前記した一般式(I)(Ia)及び/
又は(Ib)の単量体と共に、これら以外の単量体を共
重合成分として含有してもよい。更に、好ましくは結着
樹脂〔A〕では、上記一般式(I)で示される共重合成
分〔一般式(Ia)又は(Ib)で示されるものも含む
〕とともに、これと共重合する重合体成分として、−P
O3 H2 −、−SO3 H−、−COOH−、
Furthermore, the low molecular weight resin [A] of the present invention ([A
']) is the general formula (I) (Ia) and/or
Alternatively, monomers other than these may be contained together with monomer (Ib) as a copolymerization component. Furthermore, the binder resin [A] preferably contains a copolymerization component represented by the above general formula (I) [including those represented by the general formula (Ia) or (Ib)], as well as a polymer copolymerized therewith. As a component, -P
O3 H2 -, -SO3 H-, -COOH-,

【化
48】 (R1 ′は前記R1 と同じを意味する)及び環状酸
無水物基から選択される少なくとも1種の極性基を含有
する共重合成分を0.05〜10重量%含有することが
、より静電特性を向上する上で好ましい。特定の極性基
は、前記した重合体主鎖の片末端に結合してなる極性基
と同一の内容を表す。
embedded image (R1′ means the same as R1 above) and a cyclic acid anhydride group. , is preferable in terms of further improving electrostatic properties. The specific polar group represents the same content as the polar group bonded to one end of the polymer main chain described above.

【0040】樹脂〔A〕において、共重合体成分として
含有される極性基と、重合体主鎖の片末端に結合された
極性基の存在割合は、本発明の光導電層を構成する他の
結着樹脂、樹脂粒子、分光増感色素、化学増感剤あるい
はそれ以外の添加剤の種類・量によって異なり、その割
合は任意に調節することが好ましい。重要なことは、両
者の極性基含有成分の総量が0.5〜15重量%の範囲
の内で使用されることである。本発明の樹脂〔A〕にお
いて重要なことは、樹脂〔A〕全成分量100重量部に
おける、該特定の極性基含有成分の存在割合が、上記の
ように0.5〜10重量%の範囲内であることであり、
更に該樹脂〔A〕において、樹脂〔A〕の重合体主鎖成
分中と主鎖片末端の両者に存在する場合は、上記存在割
合の範囲内で任意に分割されるものである。好ましくは
、主鎖成分中の存在割合は、末端成分中のそれを1.0
とすると0.1〜1.0の比である。
In the resin [A], the proportions of the polar groups contained as copolymer components and the polar groups bonded to one end of the polymer main chain are determined by It differs depending on the type and amount of the binder resin, resin particles, spectral sensitizing dye, chemical sensitizer, or other additives, and it is preferable to adjust the ratio as desired. What is important is that the total amount of both polar group-containing components is used within the range of 0.5 to 15% by weight. What is important in the resin [A] of the present invention is that the proportion of the specific polar group-containing component in 100 parts by weight of the total component amount of the resin [A] is in the range of 0.5 to 10% by weight as described above. being within the
Furthermore, in the resin [A], when it is present both in the polymer main chain component of the resin [A] and at one end of the main chain, it is arbitrarily divided within the range of the above-mentioned abundance ratio. Preferably, the proportion in the main chain component is 1.0 higher than that in the terminal component.
Therefore, the ratio is between 0.1 and 1.0.

【0041】本発明の極性基を含有する共重合成分は、
例えば一般式(I)〔一般式(Ia),(Ib)も含む
〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重合し
得る該極性基を含有するビニル系化合物であればいずれ
でもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・ハン
ドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)等に記載
されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ
置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセト
キシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロ
ロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシ
リル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、
α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)
、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類
、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケニル
カルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル−2
−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキ
セン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイン酸
、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビ
ニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、
ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類
のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれ
らのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミ
ド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合物等が挙
げられる。
The polar group-containing copolymer component of the present invention is
For example, any vinyl compound containing a polar group that can be copolymerized with a monomer corresponding to a repeating unit represented by general formula (I) [including general formulas (Ia) and (Ib)] may be used. For example, it is described in "Polymer Data Handbook [Basic Edition]" edited by the Society of Polymer Science and Technology, Baifukan (published in 1986). Specifically, acrylic acid, α and/or β
Substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α-acetoxymethyl form, α-(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form) body, β-chloro body, β-bromo body,
α-chloro-β-methoxy form, α,β-dichloro form, etc.)
, methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2
-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinyl benzenesulfonic acid,
Vinyl sulfonic acid, vinyl phosphonic acid, half ester derivatives of vinyl or allyl groups of dicarboxylic acids, ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, compounds containing the polar group in the substituent of amide derivatives, etc. It will be done.

【0042】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、e1 はH又はCH3 を示し、e2
 はH、CH3 又はCH2 COOCH3 を示し、
R12は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R13は炭
素数1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を
示し、cは1〜3の整数を示し、dは2〜11の整数を
示し、eは1〜11の整数を示し、fは2〜4の整数を
示し、gは2〜10の整数を示す。 (b−1)
Examples of copolymerizable components containing polar groups are shown below. Here, e1 represents H or CH3, and e2
represents H, CH3 or CH2 COOCH3,
R12 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R13 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group, or a phenyl group, c represents an integer of 1 to 3, and d represents an integer of 2 to 11. , e represents an integer of 1 to 11, f represents an integer of 2 to 4, and g represents an integer of 2 to 10. (b-1)

【化49】 (b−2)[C49] (b-2)

【化50】 (b−3)[C50] (b-3)

【化51】 (b−4)[C51] (b-4)

【化52】 (b−5)[C52] (b-5)

【化53】 (b−6)[C53] (b-6)

【化54】 (b−7)[C54] (b-7)

【化55】 (b−8)[C55] (b-8)

【化56】 (b−9)[C56] (b-9)

【化57】 (b−10)[C57] (b-10)

【化58】 (b−11)[C58] (b-11)

【化59】 (b−12)[C59] (b-12)

【化60】 (b−13)[C60] (b-13)

【化61】 (b−14)[C61] (b-14)

【化62】 (b−15)[C62] (b-15)

【化63】 (b−16)[C63] (b-16)

【化64】 (b−17)[C64] (b-17)

【化65】 (b−18)[C65] (b-18)

【化66】 (b−19)[C66] (b-19)

【化67】 (b−20)[C67] (b-20)

【化68】 (b−21)[C68] (b-21)

【化69】 (b−22)[C69] (b-22)

【化70】 (b−23)[C70] (b-23)

【化71】 (b−24)[C71] (b-24)

【化72】 (b−25)[C72] (b-25)

【化73】 (b−26)[C73] (b-26)

【化74】 (b−27)[C74] (b-27)

【化75】 (b−28)[C75] (b-28)

【化76】 (b−29)[C76] (b-29)

【化77】 (b−30)[C77] (b-30)

【化78】 (b−31)[C78] (b-31)

【化79】 (b−32)[C79] (b-32)

【化80】 (b−33)[C80] (b-33)

【化81】 (b−34)[Chemical formula 81] (b-34)

【化82】 (b−35)[C82] (b-35)

【化83】 (b−36)[Chemical formula 83] (b-36)

【化84】 (b−37)[Chemical formula 84] (b-37)

【化85】 (b−38)[Chemical formula 85] (b-38)

【化86】 (b−39)[C86] (b-39)

【化87】 (b−40)[Chemical formula 87] (b-40)

【化88】 (b−41)[Chemical formula 88] (b-41)

【化89】 (b−42)[Chemical formula 89] (b-42)

【化90】 (b−43)[C90] (b-43)

【化91】 (b−44)[Chemical formula 91] (b-44)

【化92】 (b−45)[C92] (b-45)

【化93】 (b−46)[C93] (b-46)

【化94】 (b−47)[C94] (b-47)

【化95】 (b−48)[C95] (b-48)

【化96】 (b−49)[C96] (b-49)

【化97】 (b−50)[C97] (b-50)

【化98】 (b−51)[C98] (b-51)

【化99】 (b−52)[C99] (b-52)

【化100】[Chemical formula 100]

【0043】更に、本発明の低分子量樹脂〔A〕(〔A
′〕を含む)は、前記した一般式(I),(Ia)及び
/又は(Ib)の単量体及び該極性基を含有した単量体
とともに、これら以外の他の単量体を共重合成分として
含有してもよい。
Furthermore, the low molecular weight resin [A] of the present invention ([A
']) refers to the monomers of general formulas (I), (Ia) and/or (Ib) described above and the monomers containing the polar group, as well as other monomers other than these. It may be contained as a polymerization component.

【0044】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
(例えばビニルピロリドン、ビニルビリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン
、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げ
られる。これら他の単量体は樹脂〔A〕中30重量%を
越えないことが望ましい。
Examples of such other copolymerization components include, for example, methacrylic esters, acrylic esters, and crotonic esters containing substituents other than those described in general formula (I), as well as α-olefins. vinyl carboxylates or acrylic esters (e.g., carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalenecarboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (e.g. dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (e.g. styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N,N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene) etc.), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (e.g. vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
(vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.). It is desirable that these other monomers do not exceed 30% by weight in the resin [A].

【0045】樹脂〔A〕において、重合体主鎖の片末端
に極性基を結合する方法としては、従来公知のアニオン
重合あるいはカチオン重合によって得られるリビングポ
リマーの末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重
合法による方法)、分子中に特定の極性基を含有した重
合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合さ
せる方法(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上
の如きイオン重合本発明もしくはラジカル重合法によっ
て得られた末端に反応性基(例えばアミノ基、ハロゲン
原子、エポキシ基、酸ハライド基等)含有の重合体を高
分子反応によって本発明の特定の極性基に変換する方法
等の合成法によって容易に製造することができる。具体
的には、P.Dreyfuss, R.P.Quirk
, Encycl. Polym. Sci. Eng
.,7,551(1987)、中條善樹,山下雄也「染
料と薬品」30,232(1985)、上田明,永井進
「化学と工業」60,57(1986)等の総説及びそ
れに引用の文献等に記載の方法によって製造することが
できる。
In resin [A], a method for bonding a polar group to one end of the polymer main chain is a method in which various reagents are reacted with the end of a living polymer obtained by conventionally known anionic or cationic polymerization ( A method of radical polymerization using a polymerization initiator and/or a chain transfer agent containing a specific polar group in the molecule (a method of radical polymerization), or a method of ionic polymerization as described above A method of converting a polymer containing a reactive group (for example, an amino group, a halogen atom, an epoxy group, an acid halide group, etc.) at the end obtained by a radical polymerization method into the specific polar group of the present invention by a polymer reaction. It can be easily produced by synthetic methods. Specifically, P. Dreyfuss, R. P. Quirk
, Encycle. Polym. Sci. Eng
.. , 7, 551 (1987), Yoshiki Chujo and Yuya Yamashita, Dyes and Medicines 30, 232 (1985), Akira Ueda and Susumu Nagai, Chemistry and Industry 60, 57 (1986), and other reviews and references cited therein. It can be manufactured by the method described in .

【0046】具体的には、用いる連鎖移動剤としては、
例えば、該極性基あるいは上記反応性基(即ち該極性基
に誘導しうる基)を含有するメルカプト化合物(例えば
チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2
−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン
酸、3−メルカプト酢酸、N−(2−メルカプトプロピ
オニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−〔
N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオ
ン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プ
ロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラ
ニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプ
トブタンスルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−
メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプ
ト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノー
ル、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミ
ン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3
−ピリジノール、4−(2−メルカプトエチルオキシカ
ルボニル)フタル酸無水物、2−メルカプトエチルホス
ホノ酸、2−メルカプトエチルホスホノ酸モノメチルエ
ステル等)、あるいは上記極性基又は置換基を含有する
ヨード化アルキル化合物(例えばヨード酢酸、ヨードプ
ロピオン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタン
スルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等)が挙げ
られる。好ましくはメルカプト化合物が挙げられる。
Specifically, the chain transfer agent used is:
For example, mercapto compounds (e.g., thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2
-Mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptoacetic acid, N-(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-[
N-(2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-[N-(2-mercaptoethyl)amino]propionic acid, N-(3-mercaptopropionyl)alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptobutane Sulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-
Mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propanol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mercaptoimidazole, 2-mercapto-3
-pyridinol, 4-(2-mercaptoethyloxycarbonyl)phthalic anhydride, 2-mercaptoethylphosphonoic acid, 2-mercaptoethylphosphonoic acid monomethyl ester, etc.), or iodination containing the above polar groups or substituents Examples include alkyl compounds (eg, iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, 3-iodopropanesulfonic acid, etc.). Preferred are mercapto compounds.

【0047】該極性基、あるいは特定の反応基を含有す
る重合開始剤としては、具体的には、4,4′−アゾビ
ス(4−シアノ吉草酸)、4,4′−アゾビス(4−シ
アノ吉草酸クロライド)、2,2′−アゾビス(2−シ
アノプロパノール)、2,2′−アゾビス(2−シアノ
ペンタノール)、2,2′−アゾビス〔2−メチル−N
−(2−ヒドロキシルエチル)−プロピオアミド〕、2
,2′−アゾビス〔2−メチル−N−〔1,1−ビス(
ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル〕プロピオ
アミド〕、2,2′−アゾビス〔2−〔1−(2−ヒド
ロキシエチル)−2−イミダゾリン−2−イル〕プロパ
ン〕、2,2′−アゾビス〔2−(2−イミダゾリン−
2−イル)プロパン〕、2,2′−アゾビス〔2−(4
,5,6,7−テトラヒドロ−1H−1,3−ジアゾピ
ン−2−イル)プロパン〕等が挙げられる。これらの連
鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単量体100重
量部に対して、0.5〜15重量部であり、好ましくは
2〜10重量部である。
Examples of the polymerization initiator containing the polar group or a specific reactive group include 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid) and 4,4'-azobis(4-cyanovaleric acid). valeric acid chloride), 2,2'-azobis(2-cyanopropanol), 2,2'-azobis(2-cyanopentanol), 2,2'-azobis[2-methyl-N
-(2-hydroxylethyl)-propioamide], 2
,2'-azobis[2-methyl-N-[1,1-bis(
hydroxymethyl)-2-hydroxyethyl]propioamide], 2,2'-azobis[2-[1-(2-hydroxyethyl)-2-imidazolin-2-yl]propane], 2,2'-azobis[2 -(2-imidazoline-
2-yl)propane], 2,2'-azobis[2-(4
, 5,6,7-tetrahydro-1H-1,3-diazopin-2-yl)propane] and the like. The amount of these chain transfer agents or polymerization initiators is 0.5 to 15 parts by weight, preferably 2 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total monomers.

【0048】以上の如き低分子量の樹脂〔A〕(〔A′
〕を含む)は、従来の光導電性亜鉛用の公知の樹脂と併
用することが好ましい。低分子量体の樹脂と他の樹脂と
の使用割合は5〜50/95〜50(重量比)が好まし
い。
Low molecular weight resin [A] ([A'
) is preferably used in combination with a conventional known resin for photoconductive zinc. The ratio of low molecular weight resin to other resins is preferably 5-50/95-50 (weight ratio).

【0049】併用する他の樹脂としては、重量平均分子
量3×104 〜1×106 、好ましくは5×104
 〜5×105 の中〜高分子量体である。また、併用
する樹脂のガラス転移点は−10℃〜120℃、好まし
くは0℃〜90℃である。例えば、柴田隆治・石渡次郎
,高分子、第17巻、第278頁(1968年)、宮本
晴視,武井秀彦、イメージング,1973(No. 8
)第9頁、中村孝一編,「記録材料用バインダーの実際
技術」第10章、C.H.C.出版(1985年刊)、
D. Tatt , S. C. Heidecker
 , Tappi , 49(No. 10),439
(1966)、E. S. Baltazzi , R
. G. Blanclotte et al , P
hot.Sci. Eng. 16(No. 5),3
54(1972)、グエン・チャン・ケー,清水勇,井
上英一,電子写真学会誌18(No. 2),22(1
980)、特公昭50−51011、特開昭53−54
027、同54−20735、同57−202544各
号公報等に開示の材料が挙げられる。具体的には、オレ
フィン重合体及び共重合体、塩化ビニル共重合体、塩化
ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニル重合体及び共重
合体、アルカン酸アリル重合体及び共重合体、スチレン
及びその誘導体、重合体及び共重合体、ブタジエン−ス
チレン共重合体、イソプレン−スチレン共重合体、ブタ
ジエン−不飽和カルボン酸エステル共重合体、アクリロ
ニトリル共重合体、メタクリロニトリル共重合体、アル
キルビニルエーテル共重合体、アクリル酸エステル重合
体及び共重合体、メタクリル酸エステル重合体及び共重
合体、スチレン−アクリル酸エステル共重合体、スチレ
ン−メタクリル酸エステル共重合体、イタコン酸ジエス
テル重合体及び共重合体、無水マレイン酸共重合体、ア
クリルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、水
酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ケトン
樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキシル基変性ポリ
エステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビニルアセタール
樹脂、環化ゴム−メタクリル酸エステル共重合体、環化
ゴム−アクリル酸エステル共重合体、窒素原子を含有し
ない複素環を含有する共重合体(複素環として例えば、
フラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン環、ジオ
キサン環、ジオキソフラン環、ラクトン環、ベンゾフラ
ン環、ベンゾチオフェン環、1,3−ジオキセタン環等
)、エポキシ樹脂等が挙げられる。
[0049] Other resins used in combination have a weight average molecular weight of 3 x 104 to 1 x 106, preferably 5 x 104.
It is a medium to high molecular weight substance of ~5x105. Further, the glass transition point of the resin used in combination is -10°C to 120°C, preferably 0°C to 90°C. For example, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, Kobunshi, Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging, 1973 (No. 8)
), page 9, edited by Koichi Nakamura, "Practical technology of binders for recording materials", Chapter 10, C. H. C. Publication (published in 1985),
D. Tatt, S. C. Heidecker
, Tappi, 49 (No. 10), 439
(1966), E. S. Baltazzi, R.
.. G. Blanclotte et al., P.
hot. Sci. Eng. 16 (No. 5), 3
54 (1972), Nguyen Tran Khe, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Journal of the Electrophotography Society 18 (No. 2), 22 (1)
980), JP 50-51011, JP 53-54
Examples include materials disclosed in Publications No. 027, No. 54-20735, and No. 57-202544. Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and its derivatives, Polymers and copolymers, butadiene-styrene copolymers, isoprene-styrene copolymers, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers, acrylonitrile copolymers, methacrylonitrile copolymers, alkyl vinyl ether copolymers, Acrylic acid ester polymers and copolymers, methacrylic acid ester polymers and copolymers, styrene-acrylic ester copolymers, styrene-methacrylic ester copolymers, itaconic acid diester polymers and copolymers, maleic anhydride Acid copolymers, acrylamide copolymers, methacrylamide copolymers, hydroxyl-modified silicone resins, polycarbonate resins, ketone resins, amide resins, hydroxyl- and carboxyl-modified polyester resins, butyral resins, polyvinyl acetal resins, cyclized rubber-methacrylic Acid ester copolymers, cyclized rubber-acrylic ester copolymers, copolymers containing a heterocycle that does not contain a nitrogen atom (heterocycles include, for example,
(furan ring, tetrahydrofuran ring, thiophene ring, dioxane ring, dioxofuran ring, lactone ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, 1,3-dioxetane ring, etc.), epoxy resins, and the like.

【0050】更に併用する中〜高分子量体の樹脂として
、前記した物性を満たし、好ましくは下記一般式(II
I)で示される繰り返し単位の重合体成分を30重量部
以上含有する重合体が挙げられる。 一般式(III)
Furthermore, a medium to high molecular weight resin to be used in combination satisfies the above-mentioned physical properties and is preferably one of the following general formula (II
Examples include polymers containing 30 parts by weight or more of the repeating unit polymer component represented by I). General formula (III)

【化101】 〔式(III)中、V1 は−COO−、−OCO−、
−(CH2 )h −OCO−、−(CH2 )h −
COO−、−O−または−SO2 −を表す。但しhは
1〜4の整数を表す〕一般式(III)において、b1
 及びb2 は式(I)中のa1 ,a2 と同一の内
容を表す。R14は式(I)中のR3 と同一の内容を
表す。一般式(III)で示される重合体成分を含有す
る中〜高分子量の結着樹脂(以降、樹脂〔B〕と称する
)としては、例えば式(III)で示される重合体成分
含有のランダム共重合体の樹脂(特開昭63−4981
7、同63−220149、同63−220148各号
公報等)、該ランダム共重合体と架橋性樹脂との併用樹
脂(特開平1−102573号等)、グラフト型共重合
体(特開平2−53064、同2−56558各号公報
等)等の各号明細書記載の中〜高分子量体のもの等が挙
げられる。
embedded image [In formula (III), V1 is -COO-, -OCO-,
-(CH2)h -OCO-, -(CH2)h -
Represents COO-, -O- or -SO2-. However, h represents an integer of 1 to 4] In general formula (III), b1
and b2 represent the same contents as a1 and a2 in formula (I). R14 represents the same content as R3 in formula (I). As the medium to high molecular weight binder resin (hereinafter referred to as resin [B]) containing the polymer component represented by the general formula (III), for example, a random binder resin containing the polymer component represented by the formula (III) may be used. Polymer resin (JP-A-63-4981
7, No. 63-220149, No. 63-220148, etc.), combined resins of the random copolymer and crosslinkable resin (Japanese Patent Application Laid-open No. 1-102573, etc.), graft type copolymers (Japanese Patent Application Publication No. 1-102573, etc.), 53064, 2-56558, etc.), medium to high molecular weight substances described in the specifications of the respective publications, etc.) can be mentioned.

【0051】本発明では、樹脂〔A〕が特定の置換基を
持つメタクリレート共重合成分と特定の極性基を重合体
主鎖の片末端に結合した低分子量の共重合体であり、該
極性基が光導電層の光導電体の化学量論的な欠陥に吸着
し、且つ低分子量体であることから、光導電体の表面の
被覆性を向上させることで光導電体のトラップを補償す
ると共に、温度特性を飛躍的に向上させることが判った
。そのことにより、電子写真感光体としての電子写真特
性が優れたものとなり、特に、半導体レーザー光用の分
光増感色素を用いた場合でも、極めて優れた性能を発揮
することが見い出された。
In the present invention, the resin [A] is a low molecular weight copolymer in which a methacrylate copolymer component having a specific substituent and a specific polar group are bonded to one end of the polymer main chain, and the polar group Because it adsorbs to the stoichiometric defects of the photoconductor in the photoconductive layer and has a low molecular weight, it improves the coverage of the photoconductor surface and compensates for the trapping of the photoconductor. It was found that the temperature characteristics were dramatically improved. As a result, it has been found that it has excellent electrophotographic properties as an electrophotographic photoreceptor, and in particular, exhibits extremely excellent performance even when a spectral sensitizing dye for semiconductor laser light is used.

【0052】そして中〜高分子量の樹脂〔B〕を併用す
れば、樹脂〔A〕を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕のみの場合より光導
電層の機械的強度を十分に向上できるものと判った。す
なわち、光導電体と結着樹脂の吸着・被覆の相互作用が
適切に行われ、且つ被覆導電層の膜強度が保持されるも
のである。これは、本発明に係る結着樹脂の下記のよう
な作用によるものと考えられる。即ち、本発明において
は、結着樹脂として樹脂〔A〕と樹脂〔B〕を併用し、
各々の樹脂の重量平均分子量(M)及び樹脂中の極性基
の含有量を特定することで、光導電体と樹脂との相互作
用の強さを変えることができる。これにより相互作用の
より強い樹脂〔A〕が選択的且つ適切に光導電体に吸着
し、樹脂〔A〕に比べ相互作用の弱い樹脂〔B〕は、樹
脂中の重合体主鎖に対して、特定の位置に結合した極性
基が電子写真特定を阻害しない程度に光導電体とゆるや
かに相互作用し且つ長い分子鎖及びグラフト分子鎖を有
する樹脂〔B〕の分子鎖同士の相互作用もすることで、
上記した如く電子写真特性及び膜の機械的京都を共に著
しく向上させることができたと考えられる。
[0052] If a medium to high molecular weight resin [B] is used in combination, the photoconductivity will be improved compared to the case of only the resin [A] without impeding the high performance electrophotographic properties obtained by using the resin [A]. It was found that the mechanical strength of the layer could be sufficiently improved. That is, the adsorption and coating interaction between the photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the coated conductive layer is maintained. This is considered to be due to the following effect of the binder resin according to the present invention. That is, in the present invention, resin [A] and resin [B] are used together as the binder resin,
By specifying the weight average molecular weight (M) of each resin and the content of polar groups in the resin, the strength of the interaction between the photoconductor and the resin can be changed. As a result, the resin [A], which has a stronger interaction, is selectively and appropriately adsorbed to the photoconductor, and the resin [B], which has a weaker interaction than the resin [A], is attached to the main chain of the polymer in the resin. , the polar groups bonded to specific positions interact gently with the photoconductor to the extent that electrophotographic identification is not inhibited, and the molecular chains of the resin [B] having long molecular chains and graft molecular chains also interact with each other. By that,
As mentioned above, it is considered that both the electrophotographic properties and the mechanical properties of the film were significantly improved.

【0053】次に本発明で用いられる非水溶媒系分散樹
脂粒子について詳細に説明する。本発明の樹脂粒子は、
いわゆる非水系分散重合によって製造されたものである
。本発明に用いられる、非水溶媒には可溶であるが重合
することによって不溶化する一官能性単量体(A)が含
有する、分解して少なくとも1個のチオール基、ホスホ
ノ基、スルホ基、アミノ基等にうの親水性基を生成する
官能基(以下単に、親水性基生成官能基と称することも
ある)について説明する。本発明の親水性基生成官能基
は、分解によって少なくとも1つの親水性基を生成する
が、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個
以上でもよい。
Next, the non-aqueous solvent dispersed resin particles used in the present invention will be explained in detail. The resin particles of the present invention are
It is manufactured by so-called non-aqueous dispersion polymerization. The monofunctional monomer (A) used in the present invention, which is soluble in a non-aqueous solvent but becomes insolubilized by polymerization, contains at least one thiol group, phosphono group, or sulfo group when decomposed. A functional group that generates a hydrophilic group (hereinafter sometimes simply referred to as a hydrophilic group-generating functional group) such as an amino group will be explained. The hydrophilic group-generating functional group of the present invention generates at least one hydrophilic group by decomposition, and the number of hydrophilic groups generated from one functional group may be one or two or more.

【0054】以下、分解により少なくとも1個のチオ−
ル基を生成する官能基(チオール基生成官能基)につい
て詳述する。本発明の1つの好ましい態様によれば、チ
オール基生成官能基含有単量体は、例えば下記一般式(
IV)〔−S−LA 〕で示される官能基を少なくとも
1種含有するものである。 一般式(IV):〔−S−LA 〕 式中、LA は、
Hereinafter, at least one thio-
The functional group that generates a thiol group (thiol group-generating functional group) will be explained in detail. According to one preferred embodiment of the present invention, the thiol group-generating functional group-containing monomer has the following general formula (
IV) Contains at least one functional group represented by [-S-LA]. General formula (IV): [-S-LA] where LA is,

【化102】 但し、RA 1 ,RA 2 及びRA 3 は互いに
同じでも異なってもよく、各々炭化水素基又は−O−R
AI(RAIは炭化水素基を示す)を表わし、RA 4
 、RA 5 、RA 6 、RA 7 、RA 8 
、RA 9 及びRA 10、RA 11、RA 12
、RA 13は各々独立に炭化水素基を表わす。
embedded image However, RA 1 , RA 2 and RA 3 may be the same or different, and each represents a hydrocarbon group or -O-R
AI (RAI represents a hydrocarbon group), RA 4
, RA 5 , RA 6 , RA 7 , RA 8
, RA 9 and RA 10, RA 11, RA 12
, RA 13 each independently represents a hydrocarbon group.

【0055】上記一般式〔−S−LA 〕の官能基は、
分解によって、チオール基を生成するものであり、以下
更に詳しく説明する。 LA が
The functional group of the above general formula [-S-LA] is
Thiol groups are produced by decomposition, and will be explained in more detail below. LA is

【化103】 を表す場合において、RA 1 、RA 2及びRA 
3 は互いに同じでも異なってもよく、好ましくは水素
原子、置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分
岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシ
エチル基、メトキシプロピル基等)、置換されてもよい
脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基
等)、置換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基
、メトシキベンジル基等)又は置換されてもよい芳香族
基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基
、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、ジクロロフェニル基等)又は−O−RAI
(RAIは炭化水素基を表わし、具体的には上記RA 
1 、RA 2 、RA 3 の炭化水素基の置換基類
を例として挙げることができる)を表わす。
In the case where RA 1 , RA 2 and RA
3 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group) , octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted alicyclic group Aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) or optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxy phenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or -O-RAI
(RAI represents a hydrocarbon group, specifically the above RA
1 , RA 2 , and RA 3 ).

【0056】LA が[0056] LA is

【化104】 又は−S−RA 8 を表す場合において、RA 4 
、RA 5 、RA 6 、RA 7 、RA 8 は
各々好ましくは置換されてもよい炭素数1〜12の直鎖
状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリクロロ
メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル基、3
−クロロプロピル基、フェノキシメチル基、2,2,2
−トリフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘキサフルオ
ロ−i−プロピル基、オクチル基、デシル基等)、置換
されてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベン
ジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチル
ベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール
基(例えばフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェ
ニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等)を表
わす。
embedded image or when representing -S-RA 8 , RA 4
, RA 5 , RA 6 , RA 7 , and RA 8 are each preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxy methyl group,
Ethyl group, propyl group, n-butyl group, hexyl group, 3
-chloropropyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2
-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexafluoro-i-propyl group, octyl group, decyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group) group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group) group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).

【0057】LA が[0057] LA is

【化105】 を表す場合において、RA 9 及びRA 10は各々
同じでも異なっていてもよく、好ましい例としては前記
RA 4 〜RA 8 で好ましいとした置換基を表わ
す。
In the case where RA 9 and RA 10 may be the same or different, preferred examples include the substituents preferred for RA 4 to RA 8 above.

【0058】LA が[0058] LA is

【化106】 を表す場合において、Y1 は酸素原子又はイオウ原子
を表す。RA 11、RA 12、RA 13は互いに
同じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置
換されてもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状アル
キル基を表す。 好ましい例としては前記RA 4 〜RA 8 と同じ
内容を表す。またp2 は5又は6の整数を表す。
In the case where Y1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. RA 11 , RA 12 and RA 13 may be the same or different and preferably represent a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted. Preferred examples have the same content as RA 4 to RA 8 above. Further, p2 represents an integer of 5 or 6.

【0059】本発明の他の好ましいチオール基生成官能
基含有単量体は、一般式(V)又は一般式(VI)で示
されるチイラン環を少なくとも1種含有するものである
。 一般式(V)
Other preferred thiol group-forming functional group-containing monomers of the present invention are those containing at least one thiirane ring represented by general formula (V) or general formula (VI). General formula (V)

【化107】 一般式(VI)[Chemical formula 107] General formula (VI)

【化108】 式(V)において、RA 14及びRA 15は互いに
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表す。 好ましくは、水素原子又は前記RA 4 〜RA 7 
で好ましいとした置換基を表わす。式(VI)において
、XA は水素原子又は脂肪族基を表す。脂肪族基とし
て好ましくは、炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表わす。
embedded image In formula (V), RA 14 and RA 15 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above RA 4 to RA 7
represents the preferred substituents. In formula (VI), XA represents a hydrogen atom or an aliphatic group. Preferably, the aliphatic group represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.).

【0060】本発明の更に他の好ましいチオール基生成
官能基含有単量体は、一般式(VII)で示されるイオ
ウ原子含有のヘテロ環基を少なくとも1種含有する単量
体である。 一般式(VII)
Still another preferred thiol group-forming functional group-containing monomer of the present invention is a monomer containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by general formula (VII). General formula (VII)

【化109】 式(VII)において、YA は酸素原子又は−NH−
基を表わす。RA 16、RA 17及びRA 18は
同じでも異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化水
素基を表す。好ましくは、水素原子又は前記RA 4 
〜RA 7 で好ましいとした置換基を表す。RA 1
9及びRA 20は同じでも異なっていてもよく、水素
原子、炭化水素基又は−O−RAII (RAII は
炭化水素基を表す)を表す。好ましくは、前記RA 1
 〜RA 3 で好ましいとした置換基を表す。
In formula (VII), YA is an oxygen atom or -NH-
represents a group. RA 16, RA 17 and RA 18 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the RA 4
〜RA 7 represents a preferable substituent. RA 1
9 and RA 20 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -O-RAII (RAII represents a hydrocarbon group). Preferably, the RA 1
〜RA 3 represents a preferable substituent.

【0061】本発明の更にもう一つの好ましい態様によ
れば、チオール基生成官能基含有単量体は、互いに立体
的に近い位置にある少なくとも2つのチオール基を1つ
の保護基で同時に保護した形で有する官能基を少なくと
も1種含有する単量体である。互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基としては、例えば下記一
般式(VIII)、(IX)及び(X)で表わされるも
のを挙げることができる。 一般式(VIII)
According to yet another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing monomer is a monomer in which at least two thiol groups located sterically close to each other are simultaneously protected with one protecting group. A monomer containing at least one functional group. Examples of functional groups having at least two thiol groups that are sterically close to each other and simultaneously protected with one protecting group include those represented by the following general formulas (VIII), (IX), and (X). can be mentioned. General formula (VIII)

【化110】 一般式(IX)[Chemical formula 110] General formula (IX)

【化111】 一般式(X)[Chemical formula 111] General formula (X)

【化112】 式(VIII)及び式(IX)において、ZA はヘテ
ロ原子を介してもよい炭素−炭素結合又はC−S結合同
志を直接連結する化学結合を表す(但し、イオウ原子間
の原子数は4個以内である)。更に一方の−(ZA ・
・・C) −結合が単なる結合のみを表わし、例えば下
記の様になっていてもよい。
[Chemical Formula 112] In formula (VIII) and formula (IX), ZA represents a carbon-carbon bond or a chemical bond that directly connects C-S bonds, which may be via a heteroatom (provided that atoms between sulfur atoms (The number must be within 4). Furthermore, one of the −(ZA・
...C) -The bond represents only a simple bond, and may be as shown below, for example.

【化113】 式(IX)において、RA 21、RA 22は同じで
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−O
−RAII (RAII は炭化水素基を表わす)を表
わす。式(IX)において、RA 21及びRA 22
は好ましくは互いに同じでも異なっていてもよく、水素
原子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭
素数7〜9の置換されてもよいアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の脂
環式基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等
)又は置換されてもよいアリール基(例えばフェニル基
、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、メチルフェ
ニル基、シアノフェニル基等)又は−O−RAII (
RAII はRA 21、RA 22における炭化水素
基と同義である)を表す。式(X)において、RA 2
3、RA 24、RA 25、RA 26は互いに同じ
でも異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は上記RA 21、
RA 22において好ましいとした炭化水素基と同義の
内容を表わす。
In formula (IX), RA 21 and RA 22 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -O
-RAII (RAII represents a hydrocarbon group). In formula (IX), RA 21 and RA 22
are preferably the same or different and include a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, 2-methoxyethyl group, octyl group, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, etc.) group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 7 carbon atoms (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), or optionally substituted aryl group (e.g., phenyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group) , methylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) or -O-RAII (
RAII is synonymous with the hydrocarbon group in RA 21 and RA 22). In formula (X), RA 2
3, RA 24, RA 25, and RA 26 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above RA 21,
It represents the same meaning as the hydrocarbon group preferred in RA 22.

【0062】本発明に用いられる上記のような一般式(
IV)〜(X)で示される官能基を少なくとも1種含有
する単量体(A)は、例えば岩倉義男・栗田恵輔著「反
応性高分子」230頁〜237頁(講談社:1977年
刊)、日本化学会編「新実験化学講座第14巻、有機化
合物の合成と反応〔III 〕」第8章、第1700頁
〜1713頁(丸善株式会社、1978年刊)、J.F
.W.McOmie「Protective  Gro
upsin Organic Chemistry 」
第7章(Plenum Press. 1973年刊)
、S.Patai 「The Chemistry o
f the thiol group Part 2 
」第12章、第14章(John Wiley& So
ns , 1974年刊)等に記載の方法等を適用する
ことができる。
The above general formula (
The monomer (A) containing at least one functional group represented by IV) to (X) is, for example, "Reactive Polymer" by Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, pages 230 to 237 (Kodansha: published in 1977), Edited by the Chemical Society of Japan, "New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [III]" Chapter 8, pp. 1700-1713 (Maruzen Co., Ltd., 1978), J. F
.. W. McOmie “Protective Gro
Upsin Organic Chemistry”
Chapter 7 (Plenum Press. Published in 1973)
, S. Patai “The Chemistry o”
f the thiol group Part 2
” Chapters 12 and 14 (John Wiley & So.
ns, published in 1974), etc. can be applied.

【0063】更に具体的には、一般式(IV)〜(X)
の官能基を含有する単量体(A)として、例えば以下の
様な化合物を挙げることができる。 (1)
More specifically, general formulas (IV) to (X)
Examples of the monomer (A) containing the functional group include the following compounds. (1)

【化114】 (2)[Chemical formula 114] (2)

【化115】 (3)[Chemical formula 115] (3)

【化116】 (4)[Chemical formula 116] (4)

【化117】 (5)[Chemical formula 117] (5)

【化118】 (6)[Chemical formula 118] (6)

【化119】 (7)[Chemical formula 119] (7)

【化120】 (8)[Chemical formula 120] (8)

【化121】 (9)[Chemical formula 121] (9)

【化122】 (10)[Chemical formula 122] (10)

【化123】 (11)[Chemical formula 123] (11)

【化124】 (12)[Chemical formula 124] (12)

【化125】 (13)[Chemical formula 125] (13)

【化126】 (14)[Chemical formula 126] (14)

【化127】 (15)[Chemical formula 127] (15)

【化128】 (16)[Chemical formula 128] (16)

【化129】 (17)[Chemical formula 129] (17)

【化130】 (18)[Chemical formula 130] (18)

【化131】 (19)[Chemical formula 131] (19)

【化132】 (20)[Chemical formula 132] (20)

【化133】 (21)[Chemical formula 133] (21)

【化134】 (22)[Chemical formula 134] (22)

【化135】 (23)[Chemical formula 135] (23)

【化136】 (24)[Chemical formula 136] (24)

【化137】 (25)[Chemical formula 137] (25)

【化138】 (26)[Chemical formula 138] (26)

【化139】 (27)[Chemical formula 139] (27)

【化140】 (28)[Chemical formula 140] (28)

【化141】 (29)[Chemical formula 141] (29)

【化142】 (30)[Chemical formula 142] (30)

【化143】 (31)[Chemical formula 143] (31)

【化144】 (32)[Chemical formula 144] (32)

【化145】 (33)[Chemical formula 145] (33)

【化146】 (34)[Chemical formula 146] (34)

【化147】 (35)[Chemical formula 147] (35)

【化148】 (36)[Chemical formula 148] (36)

【化149】 (37)[Chemical formula 149] (37)

【化150】 (38)[Chemical formula 150] (38)

【化151】 (39)[Chemical formula 151] (39)

【化152】 (40)[Chemical formula 152] (40)

【化153】 (41)[Chemical formula 153] (41)

【化154】 (42)[Chemical formula 154] (42)

【化155】 (43)[Chemical formula 155] (43)

【化156】 (44)[Chemical formula 156] (44)

【化157】 (45)[Chemical formula 157] (45)

【化158】[Chemical formula 158]

【0064】次に、分解により少なくとも1個のホスホ
ノ基、例えば下記一般式(XI)又は(XII)の基を
生成する官能基について詳しく説明する。 一般式(XI)
Next, the functional group which produces at least one phosphono group, such as a group of the following general formula (XI) or (XII) upon decomposition, will be explained in detail. General formula (XI)

【化159】 一般式(XII)[Chemical formula 159] General formula (XII)

【化160】 式(XI)において、RB は炭化水素基又は−ZB 
2 −RBI (ここでRBIは炭化水素を示し、ZB
 2 は酸素原子又はイオウ原子を示す)を表わす。Q
B 1 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。ZB 1
 は酸素原子又はイオウ原子を表わす。式(XII)に
おいて、QB 2 、ZB 3 及びZB 4 は各々
独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。好ましくは、
RB は置換されてもよい炭素数1〜4のアルキル基(
例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基)
又は−ZB 2 −RBI (ここでZB 2 は酸素
原子又はイオウ原子を表す。RBIはRB と同一の内
容を表す。)QB 1 、QB 2 、ZB 1 、Z
B 3 、ZB 4 は各々独立に酸素原子又はイオウ
原子を表す。
embedded image In formula (XI), RB is a hydrocarbon group or -ZB
2 -RBI (here RBI indicates hydrocarbon, ZB
2 represents an oxygen atom or a sulfur atom). Q
B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. ZB 1
represents an oxygen atom or a sulfur atom. In formula (XII), QB 2 , ZB 3 and ZB 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom. Preferably,
RB is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (
For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group)
or -ZB 2 -RBI (here, ZB 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom. RBI represents the same content as RB) QB 1 , QB 2 , ZB 1 , Z
B 3 and ZB 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom.

【0065】以上の如き分解により式(XI)又は(X
II)で示されるホスホノ基を生成する官能基としては
、一般式(XIII) 及び/又は(XIV)で示され
る官能基が挙げられる。 一般式(XIII)
By decomposition as above, formula (XI) or (X
Examples of the functional group that generates the phosphono group represented by II) include functional groups represented by the general formula (XIII) and/or (XIV). General formula (XIII)

【化161】 一般式(XIV)[Chemical formula 161] General formula (XIV)

【化162】 式(XIII) 及び(XIV)において、QB 1 
、QB 2 、ZB 1 、ZB 3 、ZB 4 及
びRB はそれぞれ式(XI)及び(XII)で定義し
た通りの内容を表す。LB 1 、LB 2 及びLB
 3 は互いに独立にそれぞれ
embedded image In formulas (XIII) and (XIV), QB 1
, QB 2 , ZB 1 , ZB 3 , ZB 4 and RB represent the contents as defined in formulas (XI) and (XII), respectively. LB 1 , LB 2 and LB
3 are each independent of each other.

【化163】 を表す。 LB 1 〜LB 3 が[Chemical formula 163] represents. LB 1 to LB 3 are

【化164】 を表わす場合において、RB 1 〜RB 2 は互い
に同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子(
例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)又はメチル
基を表す。XB 1 及びXB 2 は電子吸引性基(
ここで、電子吸引性基とは、ハメットの置換基定数が正
値を示す置換基であり、例えばハロゲン原子、
In the case where RB 1 to RB 2 may be the same or different, hydrogen atoms, halogen atoms (
For example, it represents a chlorine atom, bromine atom, fluorine atom, etc.) or a methyl group. XB 1 and XB 2 are electron-withdrawing groups (
Here, the electron-withdrawing group is a substituent whose Hammett substituent constant shows a positive value, such as a halogen atom,

【化165】 等が挙げられる)を表し、好ましくはハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、−CN−、
−CONH2 、−NO2 又は−SO2 RBII 
(RBII はメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基
、キシリル基、メシチル基等の如き炭化水素基を表す)
を表す。nは1又は2を表わす。更にXB 1 がメチ
ル基の場合には、RB 1 及びRB 2 がメチル基
でn=1を表す。
[Chemical formula 165], etc.), preferably a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), -CN-,
-CONH2 , -NO2 or -SO2 RBII
(RBII represents a hydrocarbon group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, benzyl, phenyl, tolyl, xylyl, mesityl, etc.)
represents. n represents 1 or 2. Further, when XB 1 is a methyl group, RB 1 and RB 2 are methyl groups and n=1.

【0066】LB 1 〜LB 3 が[0066] LB 1 to LB 3 are

【化166】 を表す場合において、RB 3 、RB 4及びRB 
5 は互いに同じでも異なっていてもよく、好ましくは
水素原子、置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又
は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエチル基、メト
キシエチル基、メトキシプロピル基等)、置換されても
よい脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等)、置換されてもよい炭素数7〜12のアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、クロロベンジ
ル基、メトキシベンジル基等)、置換されてもよい芳香
族基(例えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル
基、トリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニ
ルフェニル基、ジクロロフェニル基等)又は−O−RB
III(RBIIIは炭化水素基を表し、具体的には、
上記RB 3 、RB 4 、RB 5 の置換基類を
例として挙げることができる)を表す。
In the case where RB 3 , RB 4 and RB
5 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group). group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), Aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxy phenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or -O-RB
III (RBIII represents a hydrocarbon group, specifically,
Examples include the substituents of RB 3 , RB 4 , and RB 5 above.

【0067】LB 1 〜LB 3 が[0067] LB 1 to LB 3 are

【化167】 を表す場合において、RB 6 、RB 7 、RB 
8 、RB 9 及びRB 10は各々独立に炭化水基
を表す。好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜6
の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチ
ル基、フェノキシメチル基、2,2,2−トリフルオロ
エチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、t−ブ
チル基、ヘキサフルオロ−i−プロピル基等)、置換さ
れてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジ
ル基、フェネチル基、メチルベンジル基、トリメチルベ
ンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メトキシベンジル
基等)、置換されてもよい炭素数6〜12のアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ニトロフ
ェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基等)を表す。
In the case where RB 6 , RB 7 , RB
8 , RB 9 and RB 10 each independently represent a hydrocarbon group. Preferably an optionally substituted carbon number of 1 to 6
linear or branched alkyl groups (e.g. methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, ethyl group, propyl group, hexyl group) , t-butyl group, hexafluoro-i-propyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group) , chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).

【0068】更にLB 1 〜LB 3 が[0068] Furthermore, LB 1 to LB 3

【化168
】 を表す場合において、YB 1 及びYB 2 は酸素
原子又はイオウ原子を表す。
[Chem.168
] In the case where YB 1 and YB 2 represent an oxygen atom or a sulfur atom.

【0069】本発明に用いられる官能基を少なくとも1
種含有する単量体は、従来公知の方法に従い、保護基を
導入することにより合成することができる。保護基を導
入する方法としては、同様の合成反応を用いることがで
きる。具体的には、J.F.W.McOmie「Pro
tective groups in Organic
 Chemistry」第6章(Plenum Pre
ss ,1973年刊)に記載の方法、あるいは日本化
学会編「新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成と
反応〔V〕」第2497頁(丸善株式会社刊、1978
年)等に記載のヒドロキシル基への保護基導入の方法と
同様の合成反応、あるいは S.Patai「 The
  Chemistry of the Triol 
Group Part 2 」第13章、第14章(W
iley−Interscience  1974年刊
)、T.W.Greene「Protective g
roups in  Organic Synthes
is 」第6章(Wiley−Interscienc
e1981年刊)等に記載のチオール基への保護基導入
の方法と同様の合成反応により製造できる。
At least one functional group used in the present invention
The species-containing monomer can be synthesized by introducing a protecting group according to a conventionally known method. A similar synthetic reaction can be used to introduce the protecting group. Specifically, J. F. W. McOmie “Pro
tective groups in Organic
Chemistry Chapter 6 (Plenum Pre
ss, published in 1973), or the method described in "New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [V]" edited by the Chemical Society of Japan, page 2497 (published by Maruzen Co., Ltd., 1978).
A synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a hydroxyl group described in S. et al. Patai “The
Chemistry of the Triol
Group Part 2” Chapters 13 and 14 (W
Iley-Interscience (1974), T. W. Greene “Protective g
roups in Organic Synthes
is” Chapter 6 (Wiley-Interscience
It can be produced by a synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a thiol group as described in J. E., 1981).

【0070】保護基に用いられる一般式(XIII)及
び/又は(XIV)の官能基を含有する重合成分の繰り
返し単位となり得る具体的な化合物例として以下の様な
例を挙げることができる。(1)
The following examples can be given as specific examples of compounds that can serve as repeating units of polymeric components containing functional groups of general formulas (XIII) and/or (XIV) used as protective groups. (1)

【化169】 (2)[Chemical formula 169] (2)

【化170】 (3)[Chemical formula 170] (3)

【化171】 (4)[Chemical formula 171] (4)

【化172】 (5)[Chemical formula 172] (5)

【化173】 (6)[Chemical formula 173] (6)

【化174】 (7)[Chemical formula 174] (7)

【化175】 (8)[Chemical formula 175] (8)

【化176】 (9)[Chemical formula 176] (9)

【化177】 (10)[Chemical formula 177] (10)

【化178】 (11)[Chemical formula 178] (11)

【化179】 (12)[Chemical formula 179] (12)

【化180】 (13)[Chemical formula 180] (13)

【化181】 (14)[Chemical formula 181] (14)

【化182】 (15)[Chemical formula 182] (15)

【化183】 (16)[Chemical formula 183] (16)

【化184】 (17)[Chemical formula 184] (17)

【化185】 (18)[Chemical formula 185] (18)

【化186】[Chemical formula 186]

【0071】次に、分解によりアミノ基、例えば−NH
2 基及び/又は−NHRC 基を生成する官能基とし
ては、例えば下記一般式(XV)〜(XVII) で表
わされる基を挙げることができる。一般式(XV)
Next, amino groups, such as -NH
Examples of the functional group that generates the 2 group and/or the -NHRC group include groups represented by the following general formulas (XV) to (XVII). General formula (XV)

【化
187】 一般式(XVI)
embedded image General formula (XVI)

【化188】 一般式(XVII)[Chemical formula 188] General formula (XVII)

【化189】 式(XV)及び式(XVII) 中、RC 0 は各々
水素原子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2
−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基
、2−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチ
ル基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基
等)、炭素数5〜8の脂環式基  (例えばシクロペン
チル基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニルプロピ
ル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の
置換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリ
ル基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基
、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメ
トキシフェニル基等)等を表す。好ましくはRC 0 
が該炭化水素基を表す場合は、炭素数1〜8の炭化水素
基類が挙げられる。
embedded image In formula (XV) and formula (XVII), RC 0 is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group). group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2
-Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxypropyl group, 6-chlorohexyl group etc.), alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, 1-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, etc.), optionally substituted aryl groups having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, tolyl group) , xylyl group, mesityl group, chloromethyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group, etc.). Preferably RC 0
When represents the hydrocarbon group, examples thereof include hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms.

【0072】式(XV)で表される官能基において、R
C 1 は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基
を表し、更に具体的にはRC 1 は下記式(XVII
I)で示される基を表す。 式(XVIII)
In the functional group represented by formula (XV), R
C 1 represents an optionally substituted aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms, and more specifically, RC 1 represents the following formula (XVII
Represents a group represented by I). Formula (XVIII)

【化190】 式(XVIII)中、a6 , a7 は各々水素原子
、ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭
素数1〜12の置換されてもよい炭化水素基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基
、メトキシメチル基、エトキシメチル基、2−メトキシ
エチル基、2−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基
、シクロヘキシル基、ベンジル基、クロロベンジル基、
メトキシベンジル基、メチルベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、フェニル基、トリル基、キ
シリル基、メシチル基、クロロフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、ナフチル基等)を表わし、YC は水素原子、ハロ
ゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、
炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、ブチル基等)、置換基を含有してもよい
芳香族基(例えばフェニル基、トリル基、シアノフェニ
ル基、2,6−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリ
メチルフェニル基、ヘプタメチルフェニル基、2,6−
ジメトキシフェニル基、2,4,6−トリメトキシフェ
ニル基、2−プロピルフェニル基、2−ブチルフェニル
基、2−クロロ−6−メチルフェニル基、フラニル基等
)又は−SO2 −RC 6 (RC 6 はYC の
炭化水素基と同様の内容を表す)等を表す。nは1又は
2を表す。
embedded image In formula (XVIII), a6 and a7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, etc.), or an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group). group, propyl group, butyl group, hexyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-chloroethyl group, 3-bromopropyl group, cyclohexyl group, benzyl group, chlorobenzyl group,
(methoxybenzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, dichlorophenyl group, chloromethylphenyl group, naphthyl group, etc.) , YC is a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, etc.), a cyano group,
Alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), aromatic groups which may contain substituents (e.g. phenyl group, tolyl group, cyanophenyl group, 2,6 -dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, heptamethylphenyl group, 2,6-
(dimethoxyphenyl group, 2,4,6-trimethoxyphenyl group, 2-propylphenyl group, 2-butylphenyl group, 2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group, etc.) or -SO2 -RC 6 (RC 6 represents the same content as the hydrocarbon group of YC), etc. n represents 1 or 2.

【0073】より好ましくは、YC が水素原子又はア
ルキル基の場合には、ウレタン結合の酸素原子に隣接す
る炭素上のa6 及びa7 は水素原子以外の置換基を
表す。 YC が水素原子又はアルキル基でない場合には、a6
 及びa7 は上記内容のいずれの基でもよい。即ち、
More preferably, when YC is a hydrogen atom or an alkyl group, a6 and a7 on the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond represent a substituent other than a hydrogen atom. When YC is not a hydrogen atom or an alkyl group, a6
and a7 may be any of the groups listed above. That is,

【化191】 において、少なくとも1つ以上の電子吸引性基を含有す
る基を形成する場合あるいはウレタン結合の酸素原子に
隣接する炭素が立体的にかさ高い基を形成する場合が好
ましい例であることを示すものである。
In [Chemical Formula 191], preferred examples include the case where a group containing at least one electron-withdrawing group is formed or the case where the carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond forms a sterically bulky group. This shows that.

【0074】又、RC 1 は脂環式基{例えば単環式
炭化水素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロ
ヘキシル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環
式炭化水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン
基、ビシクロノナン基、トリシクロヘプタン基等)等}
を表す。
RC 1 is an alicyclic group {for example, a monocyclic hydrocarbon group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, 1-methylcyclobutyl group, etc.) or Crosslinked cyclic hydrocarbon groups (bicyclooctane group, bicyclooctene group, bicyclononane group, tricycloheptane group, etc.)}
represents.

【0075】一般式(XVI)において、RC 2 及
びRC 3 は同じでも異なっていてもよく、各々炭素
数1〜12の炭化水素基を表わし、具体的には、式(X
V)のYC における脂肪族基又は芳香族基と同様の内
容を表す。一般式(XVII)において、XC 1 及
びXC 2 は同じでも異なっていてもよく、各々酸素
原子又はイオウ原子を表わす。 RC4 及びRC 5 は同じでも異なっていてもよく
、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表し、具体的には、
式(XV)のYC における脂肪族基又は芳香族基を表
す。
In the general formula (XVI), RC 2 and RC 3 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
It represents the same contents as the aliphatic group or aromatic group in YC of V). In general formula (XVII), XC 1 and XC 2 may be the same or different and each represents an oxygen atom or a sulfur atom. RC4 and RC5 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, specifically,
It represents an aliphatic group or an aromatic group in YC of formula (XV).

【0076】式(XV)〜(XVII)の官能基の具体
例を以下に示す。 (1)
Specific examples of the functional groups of formulas (XV) to (XVII) are shown below. (1)

【化192】 (2)[Chemical formula 192] (2)

【化193】 (3)[Chemical formula 193] (3)

【化194】 (4)[Chemical formula 194] (4)

【化195】 (5)[Chemical formula 195] (5)

【化196】 (6)[Chemical formula 196] (6)

【化197】 (7)[Chemical formula 197] (7)

【化198】 (8)[Chemical formula 198] (8)

【化199】 (9)[Chemical formula 199] (9)

【化200】 (10)[C200] (10)

【化201】 (11)[C201] (11)

【化202】 (12)[C202] (12)

【化203】 (13)[C203] (13)

【化204】 (14)[C204] (14)

【化205】 (15)[C205] (15)

【化206】 (16)[C206] (16)

【化207】 (17)[C207] (17)

【化208】 (18)[C208] (18)

【化209】 (19)[C209] (19)

【化210】 (20)[Chemical formula 210] (20)

【化211】 (21)[Chemical formula 211] (21)

【化212】 (22)[C212] (22)

【化213】 (23)[Chemical formula 213] (23)

【化214】 (24)[Chemical formula 214] (24)

【化215】 (25)[Chemical formula 215] (25)

【化216】 (26)[Chemical formula 216] (26)

【化217】 (27)[C217] (27)

【化218】[C218]

【0077】本発明に用いられる分解によりアミノ基(
例えば−NH2 基及び/又は−NHR基)を生成する
官能基、例えば上記一般式(XV)〜(XVII)の群
から選択される官能基を少なくとも1種含有する単量体
は、例えば日本化学編「新実験化学講座第14巻、有機
化合物の合成と反応〔V〕」第2555頁(丸善株式会
社刊)、J.F.W.McOmie「Protecti
ve groups in Organic Chem
istry」第2章( PlenumPress 19
73年刊)、「Protective groups 
in Organic Sinthesis」第7章(
John Wiley & Sons 、1981年刊
)等に記載の方法によって製造することができる。
The amino group (
For example, the monomer containing at least one kind of functional group that generates -NH2 group and/or -NHR group, for example, a functional group selected from the group of general formulas (XV) to (XVII) above, is a monomer containing, for example, Nippon Chemical "New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [V]", p. 2555 (published by Maruzen Co., Ltd.), edited by J. F. W. McOmie “Protecti
ve groups in Organic Chem
istry” Chapter 2 (PlenumPress 19
(published in 1973), “Protective groups
in Organic Synthesis” Chapter 7 (
John Wiley & Sons, published in 1981).

【0078】更に又、分解により少なくとも1つのスル
ホ基を生成する官能基としては、例えば一般式(XIX
)又は(XX)で表わされる官能基が挙げられる。 一般式(XIX)          −SO2 −O
−RD1 一般式(XX)          −SO
2 −S−RD 2 式(XIX)中RD 1 は
Furthermore, examples of the functional group that generates at least one sulfo group upon decomposition include those represented by the general formula (XIX
) or (XX). General formula (XIX) -SO2 -O
-RD1 General formula (XX) -SO
2 -S-RD 2 In formula (XIX), RD 1 is

【化219】 又は−NHCORD 7 を表す。式(XX)中、RD
 2 は、炭素数1〜18の置換されてもよい脂肪族基
、又は炭素数6〜22の置換基を有してもよいアリール
基を表わす。
embedded image Or represents -NHCORD 7 . In formula (XX), RD
2 represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted, or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent.

【0079】上記一般式(XIX)、(XX)の官能基
は分解によって、スルホ基を生成するものであり、以下
に更に詳しく説明する。 RD 1 が
The functional groups of the above general formulas (XIX) and (XX) produce sulfo groups upon decomposition, and will be explained in more detail below. RD 1 is

【化220】 を表す場合において、RD 3 、RD 4は同じでも
異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素
原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜6のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基)を表わす。YD は炭
素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘ
キサデシル基、トリフロロメチル基、メタンスルホニル
メチル基、シアノメチル基、2−メトキシエチル基、エ
トキシメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、
トリクロロメチル基、2−メトキシカルボニルエチル基
、2−プロポキシカルボニルエチル基、メチルチオメチ
ル基、エチルチオメチル基等)、炭素数2〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えばビニル基、アリル基
等)、炭素数6〜12の置換基を含有してもよいアリー
ル基(例えばフェニル基、ナフチル基、ニトロフェニル
基、ジニトロフェニル基、シアノフェニル基、トリフロ
ロメチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
ブトキシカルボニルフェニル基、メタンスルホニルフェ
ニル基、ベンゼンスルホニルフェニル基、トリル基、キ
シリル基、アセトキシフェニル基、ニトロナフチル基等
)又は
In the case where RD 3 and RD 4 are the same or different, hydrogen atom, halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.) or alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group). YD is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, trifluoromethyl group) group, methanesulfonylmethyl group, cyanomethyl group, 2-methoxyethyl group, ethoxymethyl group, chloromethyl group, dichloromethyl group,
trichloromethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-propoxycarbonylethyl group, methylthiomethyl group, ethylthiomethyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 2 to 18 carbon atoms (e.g. vinyl group, allyl group, etc.) ), an aryl group which may contain a substituent having 6 to 12 carbon atoms (e.g. phenyl group, naphthyl group, nitrophenyl group, dinitrophenyl group, cyanophenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group,
butoxycarbonylphenyl group, methanesulfonylphenyl group, benzenesulfonylphenyl group, tolyl group, xylyl group, acetoxyphenyl group, nitronaphthyl group, etc.) or

【化221】 (RD 8 は脂肪族基又は芳香族基を表し、具体的に
は上記YD の置換基の内容と同一のものを表す)を表
す。nは0、1又は2を表す。より好ましくは、置換基
embedded image (RD 8 represents an aliphatic group or an aromatic group, and specifically represents the same substituent as the above YD 2 ). n represents 0, 1 or 2. More preferably, substituents:

【化222】 において、少なくとも1つの電子吸引性基を含有する官
能基が挙げられる。具体的には、nが0で、YD が置
換基として電子吸引性基を含有しない炭化水素基の場合
In the formula, a functional group containing at least one electron-withdrawing group is mentioned. Specifically, when n is 0 and YD is a hydrocarbon group that does not contain an electron-withdrawing group as a substituent,

【化223】 において、少なくとも1ケ以上のハロゲン原子を含有す
る。又nが0、1又は2で、YD が電子吸引性基を少
なくとも1つ含有する。更には、n=1又は2で、
embedded image contains at least one halogen atom. Further, n is 0, 1 or 2, and YD contains at least one electron-withdrawing group. Furthermore, when n=1 or 2,

【化
224】 等が挙げられる。
embedded image and the like.

【0080】もう1つの好ましい置換基として、−SO
2 −O−RD において酸素原子に隣接する炭素原子
に少なくとも2つの炭化水素基が置換するかあるいは、
n=0又は1で、YD がアリール基の場合に、アリー
ル基の2−位及び6−位に置換基を有する場合が挙げら
れる。
Another preferred substituent is -SO
At least two hydrocarbon groups are substituted on the carbon atom adjacent to the oxygen atom in 2-O-RD, or
When n=0 or 1 and YD is an aryl group, examples include cases where the aryl group has substituents at the 2-position and the 6-position.

【0081】RD 1 が[0081] RD 1 is

【化225】 を表す場合において、ZD は、環状イミド基を形成す
る有機残基を表す。好ましくは、一般式(XXI)又は
(XXII)で示される有機残基を表す。 一般式(XXI)
In the case where ZD represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, it represents an organic residue represented by general formula (XXI) or (XXII). General formula (XXI)

【化226】 一般式(XXII)[Chemical formula 226] General formula (XXII)

【化227】 式(XXI)中、RD 9 、RD 10は各々同じで
も異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換され
てもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエ
チル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニ
ル)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基等)、
炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例え
ばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基
、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、
炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基等)、
embedded image In formula (XXI), RD 9 and RD 10 may be the same or different, and each may be a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), or a substituted carbon atom having 1 to 18 carbon atoms. Good alkyl groups (e.g. methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-
chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-(methanesulfonyl)ethyl group, 2-(ethoxyoxy)ethyl group),
an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.),
an optionally substituted alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms (e.g. allyl group, 3-methyl-2-propenyl group, etc.),

【0
082】RD 1 が
0
082] RD 1 is

【化228】 を表す場合において、RD 5 、RD 6は各々水素
原子、脂肪族基(具体的にはRD 3 、RD 4 の
それと同一の内容を表す)又はアリール基(具体的には
RD 3 、RD 4 のそれと同一の内容を表す)を
表す。但し、RD 5 及びRD 6 がともに水素原
子を表すことはない。RD 1 が−NHCORD 7
 を表す場合において、RD 7 は脂肪族基又はアリ
ール基を表し、具体的にはRD 3 、RD 4 のそ
れと同一の内容を各々表す。式(XX)中、RD 2 
は炭素数1〜18の置換されてもよい脂肪族基又は炭素
数6〜22の置換基を有してもよいアリール基を表す。 更に具体的には前記した式(XIX)で表されるYD 
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表す。
In the case where RD 5 and RD 6 represent a hydrogen atom, an aliphatic group (specifically, the same content as that of RD 3 and RD 4 ), or an aryl group (specifically, RD 3 , represents the same content as that of RD 4). However, both RD 5 and RD 6 do not represent hydrogen atoms. RD 1 is -NHCORD 7
In the case where RD 7 represents an aliphatic group or an aryl group, specifically, each represents the same content as that of RD 3 and RD 4 . In formula (XX), RD 2
represents an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms which may have a substituent. More specifically, YD represented by the above formula (XIX)
represents the same content as the aliphatic group or aryl group in .

【0083】本発明に用いられる一般式〔−SO2 −
O−RD1 〕又は〔−SO2 −O−RD 2 〕群
から選択される官能基を少なくとも1種含有する単量体
は、従来公知の有機反応の見知に基づいて合成する事が
できる。例えばJ.F.W.McOmie、「Prot
ective Groups in Organic 
Chemistry」;PlenumPress(19
73年刊)、T.W.Greene、「Protect
ive Groupsin Organic Sint
hesis」John Wiley & Sons (
1980年刊)等のカルボキシル基の保護反応と同様に
して合成できる。
General formula [-SO2-] used in the present invention
The monomer containing at least one functional group selected from the group O-RD1] or [-SO2-O-RD2] can be synthesized based on knowledge of conventionally known organic reactions. For example, J. F. W. McOmie, “Prot.
Active Groups in Organic
Chemistry”;PlenumPress(19
(published in 1973), T. W. Greene, “Protect
ive Groupsin Organic Sint
John Wiley & Sons (
It can be synthesized in the same manner as the carboxyl group protection reaction described in (1980).

【0084】更に具体的に一般式(XIX)−SO2 
−O−RD 1 又は一般式(XX)−SO2 −O−
RD 2 の官能基として以下の様な例を挙げることが
できるが、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。(1)
More specifically, general formula (XIX)-SO2
-O-RD 1 or general formula (XX)-SO2 -O-
The following examples can be given as the functional group of RD 2 , but the scope of the present invention is not limited thereto. (1)

【化229】 (2)[Chemical formula 229] (2)

【化230】 (3)[Chemical formula 230] (3)

【化231】 (4)[Chemical formula 231] (4)

【化232】 (5)[Chemical formula 232] (5)

【化233】 (6)[Chemical formula 233] (6)

【化234】 (7)[Chemical formula 234] (7)

【化235】 (8)[Chemical formula 235] (8)

【化236】 (9)[Chemical formula 236] (9)

【化237】 (10)[Chemical formula 237] (10)

【化238】 (11)[Chemical formula 238] (11)

【化239】 (12)[Chemical formula 239] (12)

【化240】 (13)[Chemical formula 240] (13)

【化241】 (14)[Chemical formula 241] (14)

【化242】 (15)[Chemical formula 242] (15)

【化243】 (16)[Chemical formula 243] (16)

【化244】 (17)[C244] (17)

【化245】 (18)[Chemical formula 245] (18)

【化246】 (19)[Chemical formula 246] (19)

【化247】 (20)[Chemical formula 247] (20)

【化248】 (21)[C248] (21)

【化249】 (22)[Chemical formula 249] (22)

【化250】 (23)[Chemical formula 250] (23)

【化251】 (24)[Chemical formula 251] (24)

【化252】 (25)[Chemical formula 252] (25)

【化253】 (26)[Chemical formula 253] (26)

【化254】 (27)[Chemical formula 254] (27)

【化255】 (28)[Chemical formula 255] (28)

【化256】 (29)[Chemical formula 256] (29)

【化257】 (30)[Chemical formula 257] (30)

【化258】 (31)[Chemical formula 258] (31)

【化259】 (32)[Chemical formula 259] (32)

【化260】 (33)[Chemical formula 260] (33)

【化261】[Chemical formula 261]

【0085】本発明の樹脂粒子〔L〕は、単量体〔A〕
とともに他の単量体を共存下に重合されてもよい。他の
単量体は、単量体〔A〕と共重合しうること及び共重合
体が該非水溶媒に不溶性重合体となるものであればいず
れでもよい。これらの単量体と共重合しうる他の単量体
としては、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の如き脂
肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレ
イン酸、フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステ
ル類又はアミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類
、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、N−ビニル
ピロリドンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が挙
げられる。これら他の単量体は不溶化する全重合体成分
100重量部中60重量部以下であり、好ましくは50
重量部以下である。他の単量体が60重量部を越えると
、オフセット印刷用原版としての保水性向上効果が低下
する。
[0085] The resin particles [L] of the present invention are monomer [A]
It may also be polymerized in the coexistence of other monomers. Any other monomer may be used as long as it can be copolymerized with monomer [A] and the copolymer becomes a polymer insoluble in the non-aqueous solvent. Other monomers that can be copolymerized with these monomers include vinyl aliphatic carboxylates or allyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, allyl acetate, allyl propionate, and acrylic acid. , esters or amides of unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, etc., styrene derivatives such as styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, α-olefins, acrylonitrile, Examples include vinyl group-substituted heterocyclic compounds such as methacrylonitrile and N-vinylpyrrolidone. The amount of these other monomers is 60 parts by weight or less, preferably 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total polymer component to be insolubilized.
Parts by weight or less. When the amount of other monomers exceeds 60 parts by weight, the effect of improving water retention as an original plate for offset printing decreases.

【0086】次に本発明の分散安定用樹脂について説明
する。該分散安定用樹脂は非水溶媒と溶媒和し可溶性で
あることが重要であり、いわゆる非水系分散重合におけ
る分散安定化作用を担うものであり、具体的には該溶媒
100重量部に対し、温度25℃において少なくとも5
重量%溶解するものであればよい。
Next, the dispersion stabilizing resin of the present invention will be explained. It is important that the dispersion stabilizing resin is solvated and soluble in the nonaqueous solvent, and plays a dispersion stabilizing effect in so-called nonaqueous dispersion polymerization. Specifically, for 100 parts by weight of the solvent, At least 5 at a temperature of 25°C
Any material may be used as long as it dissolves in weight%.

【0087】該分散安定用樹脂の重量平均分子量は1×
103 〜1×105 であり、好ましくは2×103
 〜1×105 であり、特に好ましくは2×103 
〜1×104 である。該樹脂の重量平均分子量が1×
103 未満になると、生成した分散樹脂粒子の凝集が
発生し、平均粒径が揃った微粒子が得られなくなってし
まう。一方5×105 を越えると、光導電層中に添加
した時に電子写真特性を満足しつつ保水性向上するとい
う本発明の効果が薄れてしまう。
The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1×
103 to 1×105, preferably 2×103
~1×105, particularly preferably 2×103
~1×104. The weight average molecular weight of the resin is 1×
If it is less than 103, the resulting dispersed resin particles will aggregate, making it impossible to obtain fine particles with a uniform average particle size. On the other hand, if it exceeds 5 x 105, the effect of the present invention of improving water retention while satisfying electrophotographic properties when added to a photoconductive layer will be diminished.

【0088】本発明の分散安定用樹脂は該非水溶媒に可
溶性の重合体であればいずれでもよいが、具体的には、
K. E. J. Barrett「 Dispers
ion Polymerization in Org
anic Media 」John Wiley an
d Sons (1975年刊)、R. Dowpen
co , D. P. Hart, Ind. Eng
. Chem. Prod. Res. Develo
p. 12,(No. 1)、14(1973)、丹下
豊吉、日本接着協会誌  23(1),26(1987
)、D. J. Walbridge 、NATO. 
Adv. Study Inst. Ser.E. N
o.67,40(1983)、Y. Sasakian
d M. Yabuta , Proc, 10th,
 Int. Conf. Org. Coat. Sc
i. Technol, 10,263(1984)等
の総説に引例の各重合体が挙げられる。
The dispersion stabilizing resin of the present invention may be any polymer as long as it is soluble in the non-aqueous solvent, but specifically,
K. E. J. Barrett “Dispers
ion Polymerization in Org
John Wiley anic
d Sons (published in 1975), R. Dowpen
co, D. P. Hart, Ind. Eng
.. Chem. Prod. Res. Develo
p. 12, (No. 1), 14 (1973), Toyokichi Tange, Japan Adhesive Association Journal 23 (1), 26 (1987)
), D. J. Walbridge, NATO.
Adv. Study Inst. Ser. E. N
o. 67, 40 (1983), Y. Sasakian
dM. Yabuta, Proc, 10th,
Int. Conf. Org. Coat. Sc
i. Technol, 10, 263 (1984) and other reviews include cited polymers.

【0089】例えばオレフィン重合体、変性オレフィン
重合体、スチレン−オレフィン共重合体、脂肪族カルボ
ン酸ビニルエステル共重合体、変性無水マレイン酸共重
合体、ポリエステル重合体、ポリエーテル重合体、メタ
クリレートホモ重合体、アクリレートホモ重合体、メタ
クリレート共重合体、アクリレート共重合体、アルキッ
ド樹脂等である。
For example, olefin polymers, modified olefin polymers, styrene-olefin copolymers, aliphatic carboxylic acid vinyl ester copolymers, modified maleic anhydride copolymers, polyester polymers, polyether polymers, methacrylate homopolymers. acrylate homopolymers, methacrylate copolymers, acrylate copolymers, alkyd resins, etc.

【0090】より具体的には、本発明の分散安定用樹脂
の繰り返し単位として供される重合体成分としては、下
記一般式(XXIII)で表される成分が挙げられる。 一般式(XXIII)
More specifically, examples of the polymer component serving as a repeating unit of the dispersion stabilizing resin of the present invention include a component represented by the following general formula (XXIII). General formula (XXIII)

【化262】 式(XXIII)中、X3 は式(II)のV0 と同
一の内容を表わし、詳細は式(II)のV0 の説明に
記載されている。
embedded image In formula (XXIII), X3 represents the same content as V0 in formula (II), and details are described in the explanation of V0 in formula (II).

【0091】R15は、炭素数1〜22の置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドサコ
ニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2
−(N−モルホリノ)エチル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−(α−チエニル)エチル基、2−カ
ルボキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、
2,3−エポキシプロピル基、2,3−ジアセトキシプ
ロピル基、3−クロロプロピル基、4−エトキシカルボ
ニルブチル基等)、炭素数3〜22の置換されてもよい
アルケニル基(例えばアリル基、ヘキセニル基、オクテ
ニル基、ドセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基等)、炭
素数7〜22の置換されてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
2−ナフチルメチル基、2−(2′−ナフチル)エチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、ブチルベ
ンジル基、メトキシカルボニルベンジル基等)、炭素数
4〜12の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダ
マンチル基、クロロシクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基等)、炭素数6〜
22の置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アン
トラニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、オクチルオキシフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、アセチルフ
ェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、ブチルメチ
ルフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N
−メチル−N−ドデシルフェニル基、チエニル基、ヒラ
ニル基等)等が挙げられる。c1 , c2 は式(I
I)中のa3 , a4 と同一の内容を表わし、詳細
は式(I)のa1 , a2 の説明に記載される。
R15 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group,
Nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, dosaconyl group, 2-(N,N-dimethylamino)ethyl group, 2
-(N-morpholino)ethyl group, 2-chloroethyl group,
2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-(α-thienyl)ethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group,
2,3-epoxypropyl group, 2,3-diacetoxypropyl group, 3-chloropropyl group, 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 3 to 22 carbon atoms (e.g. allyl group, hexenyl group, octenyl group, docenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
octadecenyl group, oleyl group, linoleyl group), optionally substituted aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group,
2-naphthylmethyl group, 2-(2'-naphthyl)ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
methoxybenzyl group, dimethoxybenzyl group, butylbenzyl group, methoxycarbonylbenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 4 to 12 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, adamantyl group, chloro cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, etc.), carbon number 6 or more
22 optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group,
Tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, anthranyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, butylphenyl group, hexylphenyl group, octylphenyl group, decylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, Octyloxyphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, acetylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, butylmethylphenyl group, N,N-dibutylaminophenyl group, N
-methyl-N-dodecylphenyl group, thienyl group, hyranyl group, etc.). c1 and c2 are expressed by the formula (I
It represents the same content as a3 and a4 in formula (I), and details are described in the explanation of a1 and a2 in formula (I).

【0092】本発明の分散安定用樹脂中の重合体成分と
して、以上述べた成分とともに、他の重合体成分を含有
してもよい。他の重合体成分としては、一般式(XXI
II)で示される成分に相当する単量体と共重合するも
のであればいずれでもよく、相当する単量体としては、
例えば、α−オレフィン類、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル、ビニル含有複素環類(複素環としては例
えばピラン環、ピロリドン環、イミダゾール環、ピリジ
ン環等)、ビニル基含有のカルボン酸類(例えばアクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイ
ン酸等)、ビニル基含有のカルボキシアミド類(例えば
アクリルアミド、メタクリルアミド、クロトン酸アミド
、イタコン酸アミド、イタコン酸半アミド、イタコン酸
ジアミド等)等が挙げられる。
[0092] As the polymer component in the dispersion stabilizing resin of the present invention, other polymer components may be contained in addition to the above-mentioned components. Other polymer components include general formula (XXI
Any monomer may be used as long as it copolymerizes with the monomer corresponding to the component shown in II).
For example, α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl-containing heterocycles (heterocycles include, for example, pyran ring, pyrrolidone ring, imidazole ring, pyridine ring, etc.), vinyl group-containing carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylonitrile, acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, etc.), vinyl group-containing carboxamides (eg, acrylamide, methacrylamide, crotonic acid amide, itaconic acid amide, itaconic acid half amide, itaconic acid diamide, etc.).

【0093】本発明の分散安定用樹脂において、一般式
(XXIII)で示される重合体成分は、該樹脂の全重
合体100重量部中30重量部以上、好ましくは50重
量部以上である。
In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the polymer component represented by the general formula (XXIII) is at least 30 parts by weight, preferably at least 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total polymer of the resin.

【0094】更には、本発明の分散安定用樹脂が、高分
子鎖中に前記した一般式(II)で示される重合性二重
結合基部分を少なくとも1種含有して成ることが好まし
い。以下に、該重合性二重結合基部分について説明する
。 一般式(II)
Furthermore, it is preferable that the dispersion stabilizing resin of the present invention contains at least one polymerizable double bond group moiety represented by the above-mentioned general formula (II) in the polymer chain. The polymerizable double bond group portion will be explained below. General formula (II)

【化263】 一般式(II)において、V0 は−O−、−COO−
、−OCO−、−(CH2 )p −OCO−、−(C
H2)p −COO−、−SO2 −、
embedded image In general formula (II), V0 is -O-, -COO-
, -OCO-, -(CH2)p -OCO-, -(C
H2) p -COO-, -SO2 -,

【化264】 −CONHCOO−、又は−CONHCONH−を表わ
す(pは1〜4の整数を表す)。
embedded image represents -CONHCOO- or -CONHCONH- (p represents an integer of 1 to 4).

【0095】ここでR6 は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば2−
メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキ
シルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、等)、又
は、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基(
例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基
、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフ
ェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、
エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキ
シフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基
、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェ
ニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカル
ボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、ア
セトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ド
デシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。
In addition to a hydrogen atom, R6 is preferably a hydrocarbon group such as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (such as 2-bromopropyl group),
Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group,
phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group,
methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) , or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (
For example, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group,
Ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0096】V0 が、[0096] V0 is

【化265】 を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。 置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチ
ル基、等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる
When represented by the following formula, the benzene ring may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group,
(propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.), and the like.

【0097】a3 及びa4 は、互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(
例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜
4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等)−COO−R7 又は炭化水素を介
したCOOR7 (R7 は、水素原子又は炭素数1〜
18のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環
式基又はアリール基を表わし、これらは置換されていて
もよく、具体的には、上記R6 について説明したもの
と同様の内容を表わす)を表わす。
a3 and a4 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, a halogen atom (
For example, chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, carbon number 1~
4 alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) -COO-R7 or COOR7 via a hydrocarbon (R7 is a hydrogen atom or a carbon atom with 1 to 1 carbon atoms)
18 alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group, which may be substituted, and specifically represents the same content as explained for R6 above) .

【0098】上記炭化水素を介した−COOR7 基に
おける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式(
II)において、V0 は、−COO−、−OCO−、
−CH2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−
CONH−、−SO2 NH−、−CONHCOO−又
Examples of the hydrocarbon in the -COOR7 group via the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like. More preferably, the general formula (
In II), V0 is -COO-, -OCO-,
-CH2 OCO-, -CH2 COO-, -O-, -
CONH-, -SO2 NH-, -CONHCOO- or

【化266】 を表わし、a3 及びa4 は互いに同じでも異なって
いてもよく、水素原子、メチル基、−COOR7 又は
−CH2 COOR7 を表し、(R7 は水素原子又
は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等を表わす)を
表わす。更により好ましくはa3 及びa4 において
いずれか一方が必ず水素原子を表わす。
[Chemical formula 266], a3 and a4 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a methyl group, -COOR7 or -CH2COOR7, (R7 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms ( For example, it represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc. Even more preferably, one of a3 and a4 always represents a hydrogen atom.

【0099】即ち、一般式(II) で表わされる重合
性二重結合基含有部分として、具体的には
Specifically, as the polymerizable double bond group-containing moiety represented by the general formula (II),

【化267】 等が挙げられる。[Chemical formula 267] etc.

【0100】これらの重合性二重結合基含有部分は高分
子鎖の主鎖に直接結合されるか又は任意の連結基で結合
されたものである。連結する基として具体的には二価の
有機残基であって、−O−、−S−、
[0100] These polymerizable double bond group-containing moieties are bonded directly to the main chain of the polymer chain or via an arbitrary linking group. Specifically, the connecting group is a divalent organic residue, -O-, -S-,

【化268】 から選ばれた結合基を介在させてもよい、二価の脂肪族
基もしくは二価の芳香族基、又はこれらの二価の残基の
組合せにより構成された有機残基を表わす。ここで、d
1 〜d5 は式(II)におけるR6 と同一の内容
を表わす。
Represents an organic residue composed of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination of these divalent residues, which may have a bonding group selected from . Here, d
1 to d5 represent the same content as R6 in formula (II).

【0101】二価の脂肪族基として、例えばAs the divalent aliphatic group, for example,

【化269
】 が挙げられる{e1 及びe2 は、互いに同じでも異
なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えばフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜12
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブチル基、ヘシキ
ル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等)を表わす。 Qは−O−、−S−又は−NR16−を表わし、R16
は炭素数1〜4のアルキル基、−CH2 Cl又は−C
H2 Brを表わす}。
[C269
] {e1 and e2 may be the same or different, and each has a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or a carbon number of 1 to 12
represents an alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hesyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.). Q represents -O-, -S- or -NR16-, R16
is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH2Cl or -C
H2 represents Br}.

【0102】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原子
、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種含
有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を有
していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。 複素環基としては、例えばフラン環、チオフェン環、ピ
リジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロフ
ラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン環、1,3−
オキサゾリン環等が挙げられる。
[0102] Examples of divalent aromatic groups include benzene ring groups, naphthalene ring groups, and 5- or 6-membered heterocyclic groups (the hetero atoms constituting the heterocycle are selected from oxygen atoms, sulfur atoms, and nitrogen atoms). containing at least one type of heteroatom). These aromatic groups may have a substituent, such as a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group). , butyl group, hexyl group, octyl group, etc.), and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) as examples of the substituent. Examples of the heterocyclic group include furan ring, thiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, piperazine ring, tetrahydrofuran ring, pyrrole ring, tetrahydropyran ring, 1,3-
Examples include oxazoline rings.

【0103】以上のような重合性二重結合基含有部分は
、具体的には高分子鎖中にランダム結合されているか、
又は高分子鎖の主鎖の片末端にのみ結合されている。好
ましくは、高分子鎖主鎖の片末端にのみ重合性二重結合
基含有部分が結合された重合体(以下、一官能性重合体
〔M〕と略記する)が挙げられる。
[0103] Specifically, the polymerizable double bond group-containing moiety as described above is randomly bonded in the polymer chain, or
Or it is bonded only to one end of the main chain of the polymer chain. Preferably, a polymer in which a polymerizable double bond group-containing portion is bonded only to one end of the main chain of the polymer chain (hereinafter abbreviated as monofunctional polymer [M]) is used.

【0104】上記一官能性重合体〔M〕の一般式(II
)で示される重合性二重結合基含有部分と、これに連結
する有機残基で構成される部分の具体例として各々次の
ものが挙げられるが、これらに限定されるものではない
。 但し、以下の各例において、P1 は−H、−CH3 
、−CH2 COOCH3 、−Cl、−Br又は−C
Nを示し、P2 は−H又は−CH3 を示し、X4 
は−Cl又は−Brを示し、n2 は2〜12の整数を
示し、m2 は1〜4の整数を示す。(c−1)
General formula (II) of the above monofunctional polymer [M]
) The following are specific examples of the polymerizable double bond group-containing moiety and the moiety composed of an organic residue connected thereto, but the present invention is not limited thereto. However, in each of the following examples, P1 is -H, -CH3
, -CH2COOCH3, -Cl, -Br or -C
N, P2 represents -H or -CH3, X4
represents -Cl or -Br, n2 represents an integer of 2 to 12, and m2 represents an integer of 1 to 4. (c-1)

【化270】 (c−2)[Chemical formula 270] (c-2)

【化271】 (c−3)[Chemical formula 271] (c-3)

【化272】 (c−4)[Chemical formula 272] (c-4)

【化273】 (c−5)[Chemical formula 273] (c-5)

【化274】 (c−6)[Chemical formula 274] (c-6)

【化275】 (c−7)[Chemical formula 275] (c-7)

【化276】 (c−8)[Chemical formula 276] (c-8)

【化277】 (c−9)[Chemical formula 277] (c-9)

【化278】 (c−10)[Chemical formula 278] (c-10)

【化279】 (c−11)[Chemical formula 279] (c-11)

【化280】 (c−12)[Chemical formula 280] (c-12)

【化281】 (c−13)[Chemical formula 281] (c-13)

【化282】 (c−14)[Chemical formula 282] (c-14)

【化283】 (c−15)[Chemical formula 283] (c-15)

【化284】 (c−16)[C284] (c-16)

【化285】 (c−17)[Chemical formula 285] (c-17)

【化286】 (c−18)[C286] (c-18)

【化287】 (c−19)[Chemical formula 287] (c-19)

【化288】 (c−20)[Chemical formula 288] (c-20)

【化289】 (c−21)[Chemical formula 289] (c-21)

【化290】 (c−22)[Chemical formula 290] (c-22)

【化291】 (c−23)[Chemical formula 291] (c-23)

【化292】 (c−24)[Chemical formula 292] (c-24)

【化293】 (c−25)[Chemical formula 293] (c-25)

【化294】 (c−26)[Chemical formula 294] (c-26)

【化295】 (c−27)[Chemical formula 295] (c-27)

【化296】 (c−28)[Chemical formula 296] (c-28)

【化297】 (c−29)[Chemical formula 297] (c-29)

【化298】 (c−30)[Chemical formula 298] (c-30)

【化299】[Chemical formula 299]

【0105】好ましくは本発明の分散安定用樹脂は重合
性二重結合基部分を高分子中の側鎖に含有するが、この
重合体の合成は従来公知の方法によって製造することが
できる。例えば、■重合反応性の異なる重合性二重結合
基を分子中に2個含有した単量体を共重合させる方法、
■分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基
、エポキシ基等の反応性基を含有した一官能性単量体を
共重合させて高分子を得た後、この高分子側鎖中の反応
基と化学結合しうる他の反応性基を含有した重合性二重
結合基を含む有機低分子化合物との反応を行う、いわゆ
る高分子反応によって導入する方法、等が通常よく知ら
れた方法として挙げられる。
Preferably, the dispersion stabilizing resin of the present invention contains a polymerizable double bond group moiety in the side chain of the polymer, and this polymer can be synthesized by a conventionally known method. For example, (1) a method of copolymerizing monomers containing two polymerizable double bond groups with different polymerization reactivity in the molecule;
■ After obtaining a polymer by copolymerizing a monofunctional monomer containing a reactive group such as a carboxyl group, hydroxyl group, amino group, or epoxy group in the molecule, reactions occur in the side chains of this polymer. A commonly known method is a method of introducing a polymer through a so-called polymer reaction, in which a reaction is performed with an organic low-molecular compound containing a polymerizable double bond group that contains another reactive group that can chemically bond with the group. Can be mentioned.

【0106】上記■の方法として、例えば特開昭60−
185962号公報に記載の方法等が挙げられる。上記
■の方法として、具体的には岩倉義男,栗田恵輔「反応
性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平「高分子
ファインケミカル」講談社(1976年刊)、特開昭6
1−43757号公報、特願平1−149305号とし
て出願した明細書等に詳細に記載されている。
[0106] As the above method (1), for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1986-
Examples include the method described in Japanese Patent No. 185962. As for the above method (■), specifically, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita "Reactive Polymers" Kodansha (published in 1977), Ryohei Oda "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (published in 1976), JP-A-6
It is described in detail in Japanese Patent Application No. 1-43757 and the specification filed as Japanese Patent Application No. 1-149305.

【0107】例えば、下記表−1のA群の官能基とB群
の官能基の組み合わせによる高分子反応が、通常よく知
られた方法として挙げられる。なお表−1のR17, 
R18は炭化水素基で、前出の式(II)におけるR6
 と同一の内容を表す。
[0107] For example, a polymer reaction using a combination of a group A functional group and a group B functional group shown in Table 1 below is a commonly known method. Furthermore, R17 in Table-1,
R18 is a hydrocarbon group, and R6 in the above formula (II)
represents the same content as .

【表1】[Table 1]

【0108】本発明の分散安定用樹脂として更に好まし
い、重合性二重結合基部分を主鎖の片末端に含有する一
官能性重合体〔M〕は、従来公知の合成方法によって製
造することができる。例えば、イ)アニオン重合あるい
はカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得
る、イオン重合法による方法、ロ)分子中にカルボキシ
ル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有し
た重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル
重合して得られる末端反応性基結合の重合体と種々の試
薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得るラジカル重
合法による方法、ハ)重付加あるいは重縮合反応により
得られた重合体に上記ラジカル重合法と同様にして、重
合性二重結合基を導入する重付加縮合法による方法等が
挙げられる。
The monofunctional polymer [M] containing a polymerizable double bond group at one end of the main chain, which is more preferable as the dispersion stabilizing resin of the present invention, can be produced by a conventionally known synthesis method. can. For example, a) a method using an ionic polymerization method in which a monofunctional polymer [M] is obtained by reacting various reagents with the ends of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization, and b) a method using carboxyl groups and hydroxyl groups in the molecule. Using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing a reactive group such as a group or an amino group, a polymer with terminal reactive groups bonded by radical polymerization is reacted with various reagents to form a monofunctional polymer. A method using a radical polymerization method to obtain the polymer [M]; c) a polyaddition condensation method in which a polymerizable double bond group is introduced into a polymer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above radical polymerization method. For example, the method by

【0109】具体的には、P. Dreyfuss &
 R. P. Quirk , Encycl. Po
lym. Sci. Eng., 7,551(198
7)、P. F. Rempp, E. Franta
, Adv. Polym. Sci., 58,1(
1984)、V. Percec, Appl. Po
ly. Sci.,285,95(1984)、R. 
Asami, M. Takari, Macromo
l. Chem. Suppl.,12,163(19
85)、P. Rempp., et al, Mac
romol. Chem. Suppl., 8,3(
1984)、川上雄資,化学工業,38,56(198
7)、山下雄也,高分子,31,988(1982)、
小林四郎,高分子,30,625(1981)、東村敏
延,日本接着協会誌,18,536(1982)、伊藤
浩一,高分子加工,35,262(1986)、東貴四
郎,津田隆,機能材料,1987,No. 10,5等
の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法に従
って合成することができる。
Specifically, P. Dreyfuss &
R. P. Quirk, Encycle. Po
lym. Sci. Eng. , 7,551 (198
7), P. F. Rempp, E. Franta
, Adv. Polym. Sci. , 58,1(
1984), V. Percec, Appl. Po
ly. Sci. , 285, 95 (1984), R.
Asami, M. Takari, Macromo
l. Chem. Suppl. ,12,163(19
85), P. Rempp. , et al., Mac
romol. Chem. Suppl. , 8, 3(
1984), Yuji Kawakami, Chemical Industry, 38, 56 (198
7), Yuya Yamashita, Kobunshi, 31, 988 (1982),
Shiro Kobayashi, Polymers, 30, 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of the Japan Adhesive Association, 18, 536 (1982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35, 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987, No. It can be synthesized according to the methods described in reviews such as 10, 5 and the literature/patents cited therein.

【0110】以上の如き一官能性重合体〔M〕の合成方
法として更に具体的には、ラジカル重合性単量体に相当
する繰り返し単位を含有する重合体〔M〕は、特開平2
−67563号公報、特願昭63−64970、特願平
1−206989、同1−69011各号として出願の
明細書等に記載されており、又、ポリエステル構造又は
ポリエーテル構造を繰り返し単位として含有する重合体
〔M〕は、特願平1−56379、同1−58989、
同1−56380各号として出願の明細書等に各々記載
されている方法と同様にして得られる。
More specifically, as a method for synthesizing the monofunctional polymer [M] as described above, a polymer [M] containing a repeating unit corresponding to a radically polymerizable monomer is synthesized according to Japanese Patent Application Laid-Open No.
-67563, Japanese Patent Application No. 63-64970, Japanese Patent Application No. 1-206989, No. 1-69011, etc., and contains a polyester structure or a polyether structure as a repeating unit. The polymer [M] is disclosed in Japanese Patent Application No. 1-56379, No. 1-58989,
It can be obtained in the same manner as the methods described in the specifications of the applications as No. 1-56380.

【0111】本発明の分散樹脂粒子は以上説明した様に
、極性基含有の一官能性単量体(A)を上記分散安定用
樹脂の存在下で分散重合させて得られる共重合体樹脂粒
子である。更に、本発明の分散樹脂粒子が網目構造を有
する場合は、上記した極性基含有一官能性単量体(A)
を主成分とする重合体成分〔重合体成分(A)と略記す
る〕として成る重合体の重合体間が橋架けされており、
高次の網目構造を形成している。
As explained above, the dispersed resin particles of the present invention are copolymer resin particles obtained by dispersing and polymerizing the polar group-containing monofunctional monomer (A) in the presence of the above dispersion stabilizing resin. It is. Furthermore, when the dispersed resin particles of the present invention have a network structure, the above polar group-containing monofunctional monomer (A)
The polymers of a polymer consisting of a polymer component [abbreviated as polymer component (A)] having as a main component are bridged,
It forms a high-order network structure.

【0112】すなわち、本発明の分散樹脂粒子は、重合
体成分(A)から構成される非水分散溶媒に不溶な部分
と、該溶媒に可溶となる重合体とで構成される、非水系
ラテックスであり、網目構造を有する場合は、この該溶
媒に不溶な部分を形成している重合体成分(A)の分子
間が橋架けされているものである。これにより、網目樹
脂粒子は水に対して難溶性あるいは不溶性となったもの
である。具体的には、該樹脂の水への溶解性は、80重
量%以下好ましくは50重量%以下である。
[0112] That is, the dispersed resin particles of the present invention are non-aqueous particles consisting of a portion insoluble in a non-aqueous dispersion solvent consisting of the polymer component (A) and a polymer soluble in the solvent. When the latex has a network structure, the molecules of the polymer component (A) forming the portion insoluble in the solvent are bridged. As a result, the network resin particles become poorly soluble or insoluble in water. Specifically, the solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less.

【0113】本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によ
って行うことができる。即ち、(a)該重合体成分(A
)を含有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤によ
って架橋する方法、(b)該重合体成分(A)に相当す
る単量体を少なくとも含有させて重合反応を行う際に、
重合性官能基を2個以上含有する多官能性単量体あるい
は多官能性オリゴマーを共存させることにより分子間に
網目構造を形成する方法、及び(c)該重合体成分(A
)と反応性基を含有する成分を含む重合体類とを重合反
応あるいは高分子反応によって架橋させる方法等の方法
によって行うことができる。
[0113] The crosslinking of the present invention can be carried out by conventionally known crosslinking methods. That is, (a) the polymer component (A
) A method of crosslinking a polymer containing the following with various crosslinking agents or curing agents, (b) when carrying out a polymerization reaction by containing at least a monomer corresponding to the polymer component (A),
A method of forming a network structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups, and (c) the polymer component (A
) and a polymer containing a component containing a reactive group through a polymerization reaction or a polymer reaction.

【0114】上記(a)の方法の架橋剤としては、通常
架橋剤として用いられる化合物を挙げることができる。 具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブッ
ク」大成社刊(1981年),高分子学会編「高分子デ
ータハンドブック基礎編」培風館(1986年)等に記
載されている化合物を用いることができる。
[0114] As the crosslinking agent in the above method (a), compounds that are commonly used as crosslinking agents can be mentioned. Specifically, the compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981), "Polymer Data Handbook Basic Edition" edited by The Polymer Society of Japan, Baifukan (1986), etc. Can be used.

【0115】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤等)
、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレンジ
イソシアナート、o−トルイレンジイソシアナート、ジ
フェニルメタンジイソシアナート、トリフェニルメタン
トリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルイソシ
アナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロ
ンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート等)、
ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオール
、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキ
レングリコール、1,1,1−トリメチロールプロパン
等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミン
、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、フェニ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−アミノエ
チルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエ
ポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘
編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本
邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)等に記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば
,三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日
刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物類
)、ポリ(メタ)アクリレート系化合物(例えば、大河
原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマー」講談社(1
976年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テク
ノシステム(1985年刊)等に記載された化合物類が
挙げられ、具体的には、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1
,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールポ
リアクリレート、ビスフエノールA−ジグリシジルエー
テルジアクリレート、オリゴエステルアクリレート及び
これらのメタクリレート体等がある。
For example, organic silane compounds (such as vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
Silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.)
, polyisocyanate compounds (e.g. toluylene diisocyanate, o-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate) , polymeric polyisocyanate, etc.),
Polyol compounds (e.g. 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (e.g. ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylene diamine, hexamethylene diamine, N-aminoethyl piperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (for example, "New Epoxy Resins" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (published in 1985), Kuniyuki Hashimoto Compounds described in "Epoxy Resin" edited by Nikkan Kogyo Shinbunsha (1969), etc.), melamine resin (for example, described in "Uria Melamine Resin" edited by Ichiro Miwa and Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shinbunsha (1969), etc.) poly(meth)acrylate compounds (e.g., "Oligomer" edited by Makoto Okawara, Takeo Saegusa, and Toshinobu Higashimura, Kodansha (1)
(published in 1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Technosystem (published in 1985), etc. Specific examples include polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1
, 6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate, and methacrylates thereof.

【0116】又、上記(b)の方法で共存させる重合性
官能基を2個以上含有する多官能性単量体〔多官能性単
量体(D)とも称する〕あるいは多官能性オリゴマーの
重合性官能基としては、具体的には
[0116] Furthermore, in the method (b) above, a polyfunctional monomer containing two or more polymerizable functional groups (also referred to as polyfunctional monomer (D)) or a polyfunctional oligomer can be polymerized. Specifically, as a sexual functional group,

【化300】 等を挙げることができる。これらの重合性官能基の同一
のものあるいは異なったものを2個以上有した単量体あ
るいはオリゴマーであればよい。
embedded image and the like. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.

【0117】重合性官能基を2個以上有した単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例えば
、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール♯200、
♯400、♯600、1,3−ブチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールエタン、ペンタエリスリトールなど)、又は
ポリヒドロキシフェノール(例えばヒドロキノン、レゾ
ルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)のメタクリ
ル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル類、ビニル
エーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸(例えばマ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等)のビニルエ
ステル類、アリルエステル類、ビニルアミド類又はアリ
ルアミド類:ポリアミン(例えばエチレンジアミン、1
,3−プロピレンジアミン、1,4−ブチレンジアミン
等)とビニル基を含有するカルボン酸(例えば、メタク
リル酸、アクリル酸、クロトン酸、アリル酢酸等)との
縮合体などが挙げられる。
Specific examples of monomers having two or more polymerizable functional groups include, for example, monomers or oligomers having the same polymerizable functional groups, such as styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene: polyvalent Alcohol (e.g. ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol #200,
#400, #600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.), or polyhydroxyphenol (such as hydroquinone, resorcinol, catechol, etc.) esters, vinyl ethers or allyl ethers of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid (derivatives of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid); dibasic acids (e.g. malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itacon) vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allylamides of polyamines (e.g. ethylene diamine,
, 3-propylene diamine, 1,4-butylene diamine, etc.) and a vinyl group-containing carboxylic acid (for example, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

【0118】又、異なる重合性官能基を有する単量体あ
るいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有す
るカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタ
クリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプ
ロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロイ
ル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水
物等)とアルコール又はアミンの反応体(例えばアリル
オキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニ
ル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリル
アミノカルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有
したエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリ
ル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メ
タクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリ
ル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピ
オン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メ
タクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、ア
クリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニ
ルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド
、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又はア
ミノアルコール類(例えばアミノエタノール、1−アミ
ノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノヘ
キサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を含
有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。
Monomers or oligomers having different polymerizable functional groups include, for example, carboxylic acids containing vinyl groups (such as methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloylpropionic acid, aryloyl Reactants of alcohols or amines (e.g. allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropion) and alcohols or amines ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups such as vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloyl propionate, Allyl methacryloylpropionate, vinyloxycarbonyl methyl methacrylate, vinyloxycarbonyl methyloxycarbonyl ethylene acrylate, N-allylacrylamide, N-
allyl methacrylamide, N-allyl itaconic acid amide, methacryloyl propionic acid allyl amide, etc.) or amino alcohols (e.g. aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a vinyl group. Examples include condensates with carboxylic acids containing .

【0119】本発明に用いられる2個以上の重合性官能
基を有する単量体あるいはオリゴマーは、単量体(A)
及び(A)と共存する他の単量体との総量に対して10
モル%以下、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹
脂を形成する。
The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is monomer (A)
and 10 relative to the total amount of other monomers coexisting with (A)
Polymerization is performed using mol % or less, preferably 5 mol % or less, to form a resin.

【0120】更には、上記(c)の方法の高分子間の反
応性基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋
架けを行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と
同様に行うことができる。具体的には、分散安定用樹脂
の合成法において記載したと同様の方法に従って合成す
ることができる。分散重合において、粒子の粒径が揃っ
た単分散性の粒子が得られること及び0.5μm 以下
の微小粒子が得られ易いこと等から、網目構造形成の方
法としては、多官能性単量体を用いる(b)の方法が好
ましい。以上の如く、本発明の網目分散樹脂粒子は、極
性基を含有する繰り返し単位と、フッ素原子及び/又は
ケイ素原子含有置換基を有する繰り返し単位とを含む重
合体成分と、該非水溶媒に可溶性の重合体成分とを含有
し、且つ分子鎖間が高次に橋架けされた構造を有する重
合体の粒子である。
Furthermore, in the case of forming chemical bonds and bridging between polymers by the reaction of the reactive groups between polymers in the method (c) above, it is possible to use a method similar to the reaction of ordinary organic low-molecular compounds. The same can be done. Specifically, it can be synthesized according to the same method as described in the method for synthesizing the dispersion stabilizing resin. In dispersion polymerization, monodisperse particles with a uniform particle size can be obtained, and microparticles of 0.5 μm or less can be easily obtained, so polyfunctional monomers are used as a method for forming a network structure. Method (b) using . As described above, the network-dispersed resin particles of the present invention consist of a polymer component containing a repeating unit containing a polar group, a repeating unit having a fluorine atom and/or a silicon atom-containing substituent, and a polymer component that is soluble in the non-aqueous solvent. These are polymer particles containing a polymer component and having a structure in which molecular chains are highly cross-linked.

【0121】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、それは単独であるいは2種以上を
混合して使用してもよい。この有機溶媒の具体例は、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、フ
ッ化アルコール、ベンジルアルコール等のアルコール類
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等の
カルボン酸エステル類、ヘキサン、オクタン、デカン、
ドデカン、トリデカン、シクロヘキサン、シクロオクタ
ン等の炭素数6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水
素類、メチレンクロリド、ジクロロエタン、テトラクロ
ロエタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、ジクロ
ロプロパン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素
類等が挙げられる。ただし、以上述べた化合物例に限定
されるものではない。
[0121] As the non-aqueous solvent used for producing the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles, any organic solvent with a boiling point of 200°C or less may be used, and it may be used alone or in a mixture of two or more. good. Specific examples of this organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol, benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone,
Ketones such as diethyl ketone, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, carboxylic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, hexane, octane, decane,
C6-14 aliphatic hydrocarbons such as dodecane, tridecane, cyclohexane, cyclooctane, benzene,
Examples include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and chlorobenzene, and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane, and trichloroethane. However, it is not limited to the compound examples described above.

【0122】これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散
重合法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は
容易に1μm 以下となり、しかも粒子径の分布が非常
に狭く且つ単分散の粒子とすることができる。具体的に
は、K. E. J. Barrett「 Dispe
rsion Polymerization in O
rganic Media 」John Wiley(
1975年)、村田耕一郎、高分子加工、23、20(
1974)、松本恒隆・丹下豊吉、日本接着協会誌9、
183(1973)、丹下豊吉、日本接着協会誌23、
26(1987)、D. J. Walbridge 
、NATO. Adv. study. Inst. 
Ser. E. No. 67、40(1983)、英
国特許第893429、同934038各号明細書、米
国特許第1122397、同3900412、同460
6989各号明細書、特開昭60−179751、同6
0−185963各号公報等にその方法が開示されてい
る。
[0122] By synthesizing dispersed resin particles in these non-aqueous solvent systems by dispersion polymerization, the average particle diameter of the resin particles can easily be 1 μm or less, and the particle size distribution is extremely narrow and monodisperse particles can be obtained. It can be done. Specifically, K. E. J. Barrett “Dispe.
rsion Polymerization in O
rganic Media” by John Wiley (
1975), Koichiro Murata, Polymer Processing, 23, 20 (
1974), Tsunetaka Matsumoto and Toyokichi Tange, Japan Adhesive Association Journal 9,
183 (1973), Toyokichi Tange, Japan Adhesive Association Journal 23,
26 (1987), D. J. Walbridge
, NATO. Adv. study. Inst.
Ser. E. No. 67, 40 (1983), British Patent Nos. 893429 and 934038, U.S. Patent Nos. 1122397, 3900412, and 460
6989 specifications, JP-A No. 60-179751, JP-A No. 60-179751
The method is disclosed in publications such as No. 0-185963.

【0123】本発明の分散樹脂は、単量体(A)と分散
安定用樹脂の少なくとも各々1種以上から成り、網目構
造を形成する場合には必要に応じて多官能性単量体(D
)を共存させて成り、いずれにしても重要な事は、これ
ら単量体から合成された樹脂が該非水溶媒に不溶であれ
ば、所望の分散樹脂を得ることができる。より具体的に
は、不溶化する単量体(A)に対して分散安定用樹脂を
1〜50重量%使用することが好ましく、さらに好まし
くは2〜30重量%である。又本発明の分散樹脂粒子の
分子量は104 〜106 であり、好ましくは104
 〜5×105 である。
[0123] The dispersion resin of the present invention is composed of at least one type each of monomer (A) and dispersion stabilizing resin, and when forming a network structure, a polyfunctional monomer (D
), and in any case, what is important is that if the resin synthesized from these monomers is insoluble in the non-aqueous solvent, the desired dispersed resin can be obtained. More specifically, it is preferable to use the dispersion stabilizing resin in an amount of 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight based on the monomer (A) to be insolubilized. Further, the molecular weight of the dispersed resin particles of the present invention is 104 to 106, preferably 104
~5×105.

【0124】以上の如き本発明で用いられる分散樹脂粒
子を製造するには、一般に、単量体(A),分散安定用
樹脂、更には、多官能性単量体(D)とを非水溶媒中で
過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、ブチ
ルリチウム等の重合開始剤の存在下に加熱重合させれば
よい。具体的には、(i)単量体(A),分散安定用樹
脂及び多官能性単量体(D)の混合溶液中に重合開始剤
を添加する方法、(ii)非水溶媒中に、上記重合性化
合物及び重合開始剤の混合物を滴下又は任意に添加する
方法等があり、これらに限定されずいかなる方法を用い
ても製造することができる。
[0124] In order to produce the dispersed resin particles used in the present invention as described above, the monomer (A), the dispersion stabilizing resin, and the polyfunctional monomer (D) are generally mixed in a non-aqueous solution. The polymerization may be carried out by heating in a solvent in the presence of a polymerization initiator such as benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, or butyllithium. Specifically, (i) a method of adding a polymerization initiator to a mixed solution of a monomer (A), a dispersion stabilizing resin, and a polyfunctional monomer (D), (ii) a method of adding a polymerization initiator to a nonaqueous solvent; , a method in which a mixture of the above-mentioned polymerizable compound and a polymerization initiator is added dropwise or arbitrarily, and the method is not limited to these methods, and any method can be used for production.

【0125】重合性化合物の総量は非水溶媒100重量
部に対して5〜80重量部程度であり、好ましくは10
〜50重量部である。重合開始剤の量は、重合性化合物
の総量の0.1〜5重量%である。又、重合温度は30
〜180℃程度であり、好ましくは40〜120℃であ
る。反応時間は1〜15時間が好ましい。
[0125] The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight, preferably 10 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the nonaqueous solvent.
~50 parts by weight. The amount of polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight of the total amount of polymerizable compounds. Also, the polymerization temperature is 30
The temperature is about 180°C, preferably 40 to 120°C. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.

【0126】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とな
る。
The non-aqueous dispersion resin produced according to the present invention as described above becomes fine particles with a uniform particle size distribution.

【0127】本発明に使用する無機光導電材料は、光導
電性酸化亜鉛である。さらに他の無機光導電体として酸
化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウム
、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、、セレン化テル
ル、硫化鉛、等を併用してもよい。しかし、これら他の
光導電材料は、光導電性酸化亜鉛の40重量%以下であ
り、好ましくは20重量%以下である。他の光導電材料
が40重量%を越えると、平版印刷用原版としての非画
像部の親水性向上の効果が薄れてしまう。
The inorganic photoconductive material used in the present invention is photoconductive zinc oxide. Furthermore, other inorganic photoconductors such as titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, etc. may be used in combination. However, these other photoconductive materials account for no more than 40% by weight of the photoconductive zinc oxide, preferably no more than 20% by weight of the photoconductive zinc oxide. If the content of other photoconductive materials exceeds 40% by weight, the effect of improving the hydrophilicity of non-image areas as a lithographic printing original plate will be diminished.

【0128】無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の
総量は、光導電体100重量部に対して、結着樹脂を1
0〜100重量部なる割合、好ましくは15〜50重量
部なる割合で使用する。
The total amount of binder resin used for the inorganic photoconductive material is 1 part by weight of the binder resin per 100 parts by weight of the photoconductor.
It is used in a proportion of 0 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight.

【0129】本発明では、各種の色素を分光増感剤とし
て単独もしくは組合せて併用する。例えば、宮本晴視,
武井秀彦:イメージング1973(No.8)第12頁
、C.J.Young 等,RCA Review 1
5,469(1954年)、清田航平等:電気通信学会
論文誌  J63−C(No.2),97頁(1980
年)、原崎勇次等、工業化学雑誌  66,78及び1
88頁(1963年)、谷忠昭,日本写真学会誌  3
5、208頁(1972年)等の総説引例のカーボニウ
ム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン
色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチ
ン色素(例えばオキソノール色素、メロシアニン色素、
シアニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等) 
、フタロシアニン色素( 金属を含有してもよい)等が
挙げられる。
In the present invention, various dyes are used alone or in combination as spectral sensitizers. For example, Harumi Miyamoto,
Hidehiko Takei: Imaging 1973 (No. 8) p. 12, C. J. Young et al., RCA Review 1
5, 469 (1954), Wataru Kiyota: Transactions of the Institute of Electrical Communication Engineers J63-C (No. 2), p. 97 (1980)
), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Journal 66, 78 and 1
88 pages (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan 3
5, p. 208 (1972), carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g. oxonol dyes, merocyanine dyes,
cyanine dye, rhodacyanine dye, styryl dye, etc.)
, phthalocyanine dyes (which may contain metal), and the like.

【0130】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−114227
、同53−39130、同53−82353各号公報、
米国特許第3,052,540、同第4,054,45
0各号明細書、特開昭57−16456号公報等に記載
のものが挙げられる。
More specifically, carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes are mainly used in Japanese Patent Publication No. 51-4.
52, JP-A No. 50-90334, No. 50-114227
, 53-39130, 53-82353 publications,
U.S. Patent No. 3,052,540, U.S. Patent No. 4,054,45
Examples include those described in the specifications of each issue of No. 0, JP-A-57-16456, and the like.

【0131】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F. M. Harmmer 「 The  C
yanine  Dyesand  RelatedC
ompounds 」等に記載の色素類が使用可能であ
り、更に具体的には、米国特許第3047384、同3
110591、同3121008、同3125447、
同3128179、同3132942、同3622,3
17各号明細書、英国特許第1226892、同130
9274、同1405898各号明細書、特公昭48−
7814、同55−18892各号公報等に記載の色素
が挙げられる。
Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes include F. M. Hammer “The C”
yanine DyesandRelatedC
It is possible to use pigments described in US Pat. No. 3,047,384 and US Pat.
110591, 3121008, 3125447,
3128179, 3132942, 3622,3
17 specifications, British Patent No. 1226892, British Patent No. 130
9274, 1405898 specifications, Japanese Patent Publication No. 1974-
Examples include dyes described in JP-A No. 7814 and No. 55-18892.

【0132】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜
赤外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭
47−840、同47−44180、特公昭51−41
061、特開昭49−5034、同49−45122、
同57−46245、同56−35141、同57−1
57254、同61−26044、同61−27551
各号公報、米国特許第3619154、同417595
6各号明細書、「 Research  Disclo
sure 」1982年,216,第117〜118頁
等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体は種々の
増感色素を併用させても、その性能が増感色素により変
動しにくい点においても優れている。
[0132] Furthermore, near-infrared light with a long wavelength of 700 nm or more
As a polymethine dye that spectrally sensitizes the infrared light region, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, and JP-A-51-41
061, JP-A No. 49-5034, JP-A No. 49-45122,
57-46245, 56-35141, 57-1
57254, 61-26044, 61-27551
Publications, U.S. Patent No. 3619154, U.S. Patent No. 417595
6 Specifications, “Research Disclo
Sure, 1982, 216, pp. 117-118. The photoreceptor of the present invention is also excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together.

【0133】更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前期した総説:イメージング1
973(No. 8)第12頁等の総説引例の電子受容
性化合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニ
ル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近
の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章
:日本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引例
のポリアリールアルカン化合物、ヒンダートフェノール
化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる
Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers, such as chemical sensitizers, may be used in combination. For example, the previous review: Imaging 1
973 (No. 8), page 12, etc., of electron-accepting compounds (e.g., halogens, benzoquinones, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., "Recent Photoconductive Materials and Photosensitive Materials" Chapters 4 to 6 of ``Development and Practical Application of Phytochemistry'' (Japan Scientific Information Co., Ltd. Publishing Department (1986)) include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, etc. .

【0134】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
01〜2.0重量部である。
The amount of these various additives added is not particularly limited, but is usually 0.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photoconductor.
01 to 2.0 parts by weight.

【0135】光導電層の厚さは1〜100μ、特に10
〜50μが好適である。
The thickness of the photoconductive layer is 1 to 100 μm, especially 10 μm.
~50μ is suitable.

【0136】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特には0.05〜0.
5μが好適である。
[0136] When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of a photoreceptor with a stack of charge generation layer and charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 0.0μ. ..
5μ is suitable.

【0137】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、得には10〜30μが
好適である。電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては、
代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂
、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂
、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 microns, particularly 10 to 30 microns. As the resin used for forming the charge transport layer,
Typical examples are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acid copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, and epoxy. Thermoplastic resins and curable resins such as resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.

【0138】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層を設けたもの、Al等を蒸着した基体導電化プ
ラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる。 具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男,電子写真、14、(No. 1)、p2〜1
1(1975)、森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分
子刊行会(1975)、M. F. Hoover, 
J. Macromol. Sci. Chem. A
−4(6),第1327〜1417頁(1970)等に
記載されているもの等を用いる。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, a base material such as metal, paper, or plastic sheet impregnated with a low-resistance substance is used in the same manner as in the past. those that have been subjected to conductive treatment, such as those coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and preventing curling, etc.
One in which a water-resistant adhesive layer is provided on the surface of the support, one in which at least one or more precoat layer is provided on the surface layer of the support as necessary, and one in which a conductive plastic substrate on which Al or the like is vapor-deposited is made into paper. Laminated materials can be used. Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), p2-1
1 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introductory Chemistry of Special Papers", Kobunshi Publishing (1975), M. F. Hoover,
J. Macromol. Sci. Chem. A
-4(6), pages 1327-1417 (1970), etc. are used.

【0139】本発明の電子写真印刷用原版を用いた印刷
物の作成は、上記した構成から成る電子写真用原版に常
法により複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理す
ることで作成される。本発明に供される不感脂化処理は
、本発明の樹脂粒子を、処理液を通すことで加水分解す
る方法、レドックス反応で分解する方法あるいは光照射
処理して分解する方法等によりヒドロキシ基を生成する
方法あるいは樹脂粒子の親水化処理とともに酸化亜鉛を
不感脂化処理液で不感脂化するという方法が挙げられる
。後者の場合は、■酸化亜鉛粒子と樹脂粒子とを同時に
不感脂化反応を行う、■酸化亜鉛粒子を不感脂化後樹脂
粒子の分解処理を行う、■樹脂粒子を分解処理後酸化亜
鉛粒子の不感脂化反応を行う等いずれかの手順でも行う
ことができる。
[0139] Printed matter using the electrophotographic original plate of the present invention is produced by forming a copy image on the electrophotographic original plate having the above-mentioned structure by a conventional method, and then subjecting the non-image area to a desensitizing process. be done. The desensitizing treatment used in the present invention is a method in which the resin particles of the present invention are hydrolyzed by passing through a treatment solution, decomposed by a redox reaction, or decomposed by light irradiation treatment to remove hydroxyl groups. Examples include a method in which zinc oxide is desensitized with a desensitizing treatment liquid along with a hydrophilic treatment of the resin particles. In the latter case, ■ carrying out a desensitization reaction on zinc oxide particles and resin particles at the same time, ■ carrying out a decomposition treatment on the resin particles after desensitizing the zinc oxide particles, and ■ carrying out decomposition treatment on the resin particles after decomposition treatment on the zinc oxide particles. It can be carried out by any procedure such as carrying out a desensitization reaction.

【0140】酸化亜鉛の不感脂化方法としては、従来公
知の処理液のいずれをも用いることができる。例えば、
フェロシアン系化合物を不感脂化の主剤として用いた、
特開昭61−239158、同62−292492、同
63−99993、同63−9994、特公昭40−7
334、同45−33683、特開昭57−10788
9、特公昭46−21244、同44−9045、同4
7−32681、同55−9315、特開昭52−10
1102各号公報等が挙げられる。しかし、該処理液の
安全性の点から以下の処理液が好ましい。例えば、フィ
チン酸系化合物を主剤として用いた、特公昭43−28
408、同45−24609、特開昭51−10350
1、同54−10003号、同53−83805、同5
3−83806、同53−127002、同54−44
901、同56−2189、同57−2796、同57
−20394、同59−207290各号公報に記載の
もの、金属キレート形成可能な水溶性ポリマーを主剤と
して用いた、特公昭38−9665、同39−2226
3、同40−763、同43−28404、同47−2
9642、特開昭52−126302、同52−134
501、同53−49506、同53−59502、同
53−104302各号公報等に記載のもの、金属錯体
系化合物を主剤として用いた、特開昭53−10430
1、特公昭55−15313、同54−41924各号
公報等に記載のもの、あるいは無機及び有機酸系化合物
を主剤として用いた、特公昭39−13702、同40
−10308、同46−26124、特開昭51−11
8501、同56−111695各号公報等に記載され
たもの等が挙げられる。
[0140] As a method for desensitizing zinc oxide, any conventionally known treatment liquid can be used. for example,
Using a ferrocyanic compound as the main desensitizing agent,
JP 61-239158, JP 62-292492, JP 63-99993, JP 63-9994, JP 40-7
334, 45-33683, JP-A-57-10788
9, Special Publication No. 46-21244, No. 44-9045, No. 4
7-32681, 55-9315, Japanese Patent Application Publication No. 52-10
1102 publications, etc. However, from the viewpoint of the safety of the treatment liquid, the following treatment liquids are preferred. For example, Japanese Patent Publication No. 43-28 using a phytic acid compound as the main ingredient.
408, 45-24609, JP-A-51-10350
1, No. 54-10003, No. 53-83805, No. 5
3-83806, 53-127002, 54-44
901, 56-2189, 57-2796, 57
-20394, those described in Japanese Patent Publications No. 59-207290, Japanese Patent Publications No. 38-9665 and No. 39-2226, which use water-soluble polymers capable of forming metal chelates as main ingredients.
3, 40-763, 43-28404, 47-2
9642, JP 52-126302, JP 52-134
501, No. 53-49506, No. 53-59502, No. 53-104302, etc., and JP-A No. 53-10430 using a metal complex compound as the main ingredient.
1. Those described in Japanese Patent Publication Nos. 15313-1983 and 41924-1984, or those described in Japanese Patent Publications No. 13702 and 40 of 1982, using inorganic and organic acid compounds as main ingredients.
-10308, 46-26124, JP-A-51-11
Examples include those described in Publications No. 8501 and No. 56-111695.

【0141】樹脂粒子の不感脂化方法即ち、保護された
本発明の特定の官能基を分解する方法としては、その1
つとして保護された本発明の特定の官能基の分解反応性
により任意に選択される。pH1〜6の酸性条件、pH
8〜12のアルカリ性条件の水溶液で加水分解する方法
が挙げられる。これらのpH調整は、公知の化合物によ
って、容易に行うことができる。あるいは還元性又は酸
化性の水溶性化合物によるレドックス反応による方法も
可能であり、これらの化合物としては公知の化合物を用
いることができ、例えば包水ヒドラジン、亜硫酸塩、リ
ポ酸、ハイドロキノン類、ギ酸、チオ硫酸塩、過酸化水
素、過硫酸塩、キノン類等が挙げられる。
[0141] As a method for desensitizing resin particles, that is, a method for decomposing a specific protected functional group of the present invention, method 1 is as follows.
It is arbitrarily selected depending on the decomposition reactivity of the particular protected functional group of the present invention. Acidic conditions of pH 1 to 6, pH
Examples include a method of hydrolyzing with an aqueous solution under alkaline conditions of 8 to 12. These pH adjustments can be easily carried out using known compounds. Alternatively, a method using a redox reaction using a reducing or oxidizing water-soluble compound is also possible, and known compounds can be used as these compounds, such as hydrazine hydrate, sulfites, lipoic acid, hydroquinones, formic acid, Examples include thiosulfate, hydrogen peroxide, persulfate, and quinones.

【0142】該処理液は、反応促進あるいは処理液の保
存安定性を改良するために他の化合物を含有してもよい
。例えば、水に可溶性の有機溶媒を水100重量部中に
1〜50重量部含有してもよい。このような水に可溶性
の有機溶媒としては、例えばアルコール類(メタノール
、エタノール、プロパノール、プロパギルアルコール、
ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、ケト
ン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン
等)、エーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコール、プロピレングリコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピ
レングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロピラ
ン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル
、ギ酸エチル等)等が挙げられ、これらは単独又は2種
以上を混合して用いてもよい。
[0142] The processing solution may contain other compounds in order to accelerate the reaction or improve the storage stability of the processing solution. For example, 1 to 50 parts by weight of a water-soluble organic solvent may be contained in 100 parts by weight of water. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, propargyl alcohol,
benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, etc.), and these may be used alone or in combination of two or more.

【0143】また、界面活性剤を水100重量部中に0
.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤としては
、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオン
性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新界
面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田良
平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店(
1980年刊)等に記載される化合物を用いることがで
きる。
[0143] In addition, 0 parts of surfactant was added to 100 parts by weight of water.
.. It may be contained in an amount of 1 to 20 parts by weight. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic, and nonionic surfactants. For example, Hiroshi Horiguchi, “New Surfactants,” Sankyo Publishing Co., Ltd. (published in 1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura, “Synthesis of Surfactants and Their Applications,” Maki Shoten (
(1980), etc. can be used.

【0144】本発明の範囲は、上記した具体的化合物例
に限定されるものではない。処理の条件は、温度15〜
60℃で浸漬時間は10秒〜5分間が好ましい。更には
、特定の官能基を光照射で分解する方法としては、製版
におけるトナー画像を得た後のいずれかの間で「化学的
活性光線」で光照射する行程を入れる様にすればよい。 即ち、電子写真現像後、トナー画像の定着時に定着を兼
ねて光照射を行ってもよいし、或いは従来公知の他の定
着法、例えば加熱定着、圧力定着、溶剤定着などにより
定着した後、光照射を行うものである。本発明に用いら
れる「化学的活性光線」としては、可視光線、紫外線、
遠紫外線、電子線、X線、γ線、α線などいずれでもよ
いが、好ましくは紫外線が挙げられる。より好ましくは
波長310nmから波長500nmの範囲での光線を発
しうるものが好ましく、一般には高圧あるいは超高圧の
水銀ランプ等が用いられる。光照射の処理は通常5cm
〜50cmの距離から10秒〜10分間の照射で充分に
行うことができる。
The scope of the present invention is not limited to the above-mentioned specific compound examples. The processing conditions are: temperature 15~
The immersion time at 60°C is preferably 10 seconds to 5 minutes. Furthermore, as a method for decomposing a specific functional group by light irradiation, a step of irradiating it with "chemically active light" may be included sometime after the toner image is obtained during plate making. That is, after electrophotographic development, light irradiation may be performed during fixing of the toner image, or after fixing by other conventionally known fixing methods, such as heat fixing, pressure fixing, solvent fixing, etc., light irradiation may be performed. It performs irradiation. The "chemically active light" used in the present invention includes visible light, ultraviolet light,
Any of far ultraviolet rays, electron beams, X-rays, gamma rays, alpha rays, etc. may be used, but ultraviolet rays are preferred. More preferably, one that can emit light within a wavelength range of 310 nm to 500 nm is preferred, and a high-pressure or ultra-high pressure mercury lamp or the like is generally used. Light irradiation treatment is usually 5cm
Irradiation for 10 seconds to 10 minutes from a distance of ~50 cm can be sufficient.

【0145】[0145]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 結着樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕ベンジルメタク
リレート96g、チオサリチル酸4g及びトルエン20
0gの混合溶液を窒素気流下に温度75℃に加温した後
、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル(略称A.I
.B.N.)1.0gを加え4時間反応させた。 更にA.I.B.N.0.4gを加え2時間、その後更
にA.I.B.N.を0.2g加え3時間攪拌した。得
られた共重合体〔A−1〕のMwは6.8×103 で
あった。樹脂〔A−1〕
[Examples] Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto. Synthesis example 1 of binder resin [A]: [A-1] 96 g of benzyl methacrylate, 4 g of thiosalicylic acid, and 20 g of toluene
After heating 0 g of the mixed solution to a temperature of 75°C under a nitrogen stream, 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviated as A.I.
.. B. N. ) was added and reacted for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N. 0.4g was added for 2 hours, and then further A. I. B. N. 0.2g of was added and stirred for 3 hours. The Mw of the obtained copolymer [A-1] was 6.8 x 103. Resin [A-1]

【化301】[Chemical formula 301]

【0146】結着樹脂〔A〕の合成例2〜13:〔A−
2〕〜〔A−13〕 樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト96gに代えて、下記表−2の単量体を用いて、その
他は合成例1と同様に操作して下記表−2の各樹脂〔A
−2〕〜〔A−13〕を合成した。各樹脂〔A〕のMw
は、6.0×103 〜8×103 であった。
Synthesis Examples 2 to 13 of Binder Resin [A]: [A-
2] to [A-13] In Synthesis Example 1 of Resin [A], the monomers shown in Table 2 below were used in place of 96 g of benzyl methacrylate, and the other procedures were carried out in the same manner as in Synthesis Example 1, and the results shown in the table below were carried out. -2 each resin [A
-2] to [A-13] were synthesized. Mw of each resin [A]
was 6.0×103 to 8×103.

【表2】[Table 2]

【表3】[Table 3]

【表4】[Table 4]

【0147】結着樹脂〔A〕の合成例14〜24:〔A
−14〕〜〔A−24〕 樹脂〔A〕の合成例1において、ベンジルメタクリレー
ト96g、チオサリチル酸4gに代えて、下記表3に示
すメタクリレート、メルカプト化合物を用い、またトル
エン200gに代えてトルエン150g及びイソプロパ
ノール50gとした以外は合成例1と同様に反応して、
下記表−3の各樹脂〔A−14〕〜〔A−24〕を合成
した。得られた各共重合体樹脂〔A〕のMwは6.8×
103 であった。
Synthesis Examples 14 to 24 of Binder Resin [A]: [A
-14] to [A-24] In Synthesis Example 1 of Resin [A], the methacrylates and mercapto compounds shown in Table 3 below were used instead of 96 g of benzyl methacrylate and 4 g of thiosalicylic acid, and 150 g of toluene was used instead of 200 g of toluene. The reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 50 g of isopropanol was used.
Each resin [A-14] to [A-24] shown in Table 3 below was synthesized. The Mw of each copolymer resin [A] obtained was 6.8×
It was 103.

【表5】[Table 5]

【表6】[Table 6]

【表7】[Table 7]

【0148】結着樹脂〔A〕の合成例25:〔A−25
〕 1−ナフチルメタクリレート95.5g、メタクリル酸
0.5g、トルエン150g及びイソプロパノール50
gの混合溶液を窒素気流下に温度80℃に加温した。 4,4′−アゾビス(4−シアノ)吉草酸(略称A.C
.V.)5.0gを加え5時間攪拌した。更にA.C.
V.を1g加え3時間攪拌した。得られた重合体のMw
は7.5×103 であった。 樹脂〔A−25〕
Synthesis Example 25 of Binder Resin [A]: [A-25
] 95.5 g of 1-naphthyl methacrylate, 0.5 g of methacrylic acid, 150 g of toluene, and 50 g of isopropanol
The mixed solution of g was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. 4,4'-Azobis(4-cyano)valeric acid (abbreviated as A.C.
.. V. ) and stirred for 5 hours. Furthermore, A. C.
V. 1 g of was added and stirred for 3 hours. Mw of the obtained polymer
was 7.5×103. Resin [A-25]

【化302】[C302]

【0149】結着樹脂〔A〕の合成例26:〔A−26
〕 メチルメタクリレート50g及び塩化メチレン150g
のの混合溶液を窒素気流下に−20℃に冷却した。直前
に調製した10%1,1−ジフェニルヘキシルリチウム
ヘキサン溶液を1.0g加え、5時間攪拌した。これに
二酸化炭素を流量10ml/ccで10分間攪拌下に流
した後、冷却を止めて、反応混合物が室温になるまで攪
拌放置した。次にこの反応混合物を、1N塩酸50cc
をメタノール1リットル中に溶かした溶液中に再沈し、
白色粉末を濾集した。この粉末を中性になるまで水洗し
た後、減圧乾燥した。収量18gで、Mwは6.5×1
03 であった。 樹脂〔A−26〕
Synthesis Example 26 of Binder Resin [A]: [A-26
] Methyl methacrylate 50g and methylene chloride 150g
The mixed solution was cooled to -20°C under a nitrogen stream. 1.0 g of the 10% 1,1-diphenylhexyllithium hexane solution prepared just before was added and stirred for 5 hours. After flowing carbon dioxide into the mixture at a flow rate of 10 ml/cc for 10 minutes with stirring, cooling was stopped and the reaction mixture was left stirring until it reached room temperature. Next, this reaction mixture was mixed with 50 cc of 1N hydrochloric acid.
reprecipitated into a solution dissolved in 1 liter of methanol,
A white powder was collected by filtration. This powder was washed with water until it became neutral, and then dried under reduced pressure. Yield: 18g, Mw: 6.5×1
It was 03. Resin [A-26]

【化303】[C303]

【0150】結着樹脂〔A〕の合成例27:〔A−27
〕 ベンジルメタクリレート95g、チオグリコール酸4g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下に温度7
5℃に加温した。A.C.V.  1.0gを加え6時
間反応した後、更にA.C.V.  0.4gを加え3
時間攪拌した。得られた共重合体のMwは7.8×10
3 であった。 樹脂〔A−27〕
Synthesis Example 27 of Binder Resin [A]: [A-27
] Benzyl methacrylate 95g, thioglycolic acid 4g
A mixed solution of 200g of toluene and 200g of toluene was heated at a temperature of 7
Warmed to 5°C. A. C. V. After adding 1.0 g and reacting for 6 hours, further A. C. V. Add 0.4g 3
Stir for hours. The Mw of the obtained copolymer was 7.8×10
It was 3. Resin [A-27]

【化304】[C304]

【0151】分散安定用樹脂の製造例1:〔P−1〕ド
デシルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレー
ト3g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下
攪拌しながら、温度75℃に加温した。A.I.B.N
.  1.0gを加え4時間攪拌し、更にA.I.B.
N.0.5gを加え4時間攪拌した。次に、この反応混
合物にメタアクリル酸5g、N,N−ジメチルドデシル
アミン1.0g、t−ブチルハイドロキノン0.5gを
加え、温度110℃にて8時間攪拌した。冷却後、メタ
ノール2リットル中に再沈し、やや褐色気味の油状物を
補集後、乾燥した。収量73gで重量平均分子量(Mw
)3.6×104 であった。 樹脂〔P−1〕
Production Example 1 of Dispersion Stabilizing Resin: [P-1] A mixed solution of 97 g of dodecyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to 75° C. with stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N
.. 1.0g was added and stirred for 4 hours, and then A. I. B.
N. 0.5 g was added and stirred for 4 hours. Next, 5 g of methacrylic acid, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine, and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction mixture, and the mixture was stirred at a temperature of 110° C. for 8 hours. After cooling, the mixture was reprecipitated into 2 liters of methanol, a slightly brownish oil was collected, and then dried. Yield 73g, weight average molecular weight (Mw
) 3.6×104. Resin [P-1]

【化305】[C305]

【0152】分散安定用樹脂の製造例2:〔P−2〕2
−エチルヘキシルメタクリレート100g、トルエン1
50g及びイソプロパノール50gの混合溶液を、窒素
気流下攪拌しながら温度75℃に加温した。2,2′−
アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.V.) 
を2g加え4時間反応し、更にA.C.V.  0.8
gを加えて4時間反応した。冷却後、メタノール2リッ
トル中に再沈し、油状物を補集し乾燥した。得られた油
状物50g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6g
、テトラヒドロフラン150gの混合物を溶解し、これ
にジシクロヘキシルカルボンジイミド(D.C.C.)
 8g、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン0.
2g及び塩化メチレン20gの混合溶液を温度25〜3
0℃で滴下し、更にそのまま4時間攪拌した。次にこの
反応混合物にギ酸5gを加え1時間攪拌した。析出した
不溶物を濾別した後、濾液をメタノール1リットル中に
再沈し油状物を濾集した。更に、この油状物をテトラヒ
ドロフラン200gに溶解し、不溶物を濾別後再びメタ
ノール1リットル中に再沈し、油状物を補集し乾燥した
。収量32gで、Mw4.2×104 であった。 樹脂〔P−2〕
[0152] Production example 2 of resin for dispersion stabilization: [P-2] 2
- 100 g of ethylhexyl methacrylate, 1 part of toluene
A mixed solution of 50 g and isopropanol was heated to 75° C. with stirring under a nitrogen stream. 2,2'-
Azobis (4-cyanovaleric acid) (abbreviation A.C.V.)
2g of A. was added and reacted for 4 hours, and then A. C. V. 0.8
g was added and reacted for 4 hours. After cooling, the mixture was reprecipitated into 2 liters of methanol, and the oil was collected and dried. 50 g of the obtained oil, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate
, dicyclohexylcarbondiimide (D.C.C.) was dissolved in a mixture of 150 g of tetrahydrofuran.
8 g, 4-(N,N-dimethylamino)pyridine 0.
A mixed solution of 2g and 20g of methylene chloride was heated to a temperature of 25-3.
The mixture was added dropwise at 0°C, and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol, and the oily matter was collected by filtration. Furthermore, this oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, and after filtering off insoluble matter, it was reprecipitated again in 1 liter of methanol, and the oily substance was collected and dried. The yield was 32 g, and the Mw was 4.2 x 104. Resin [P-2]

【化306】[C306]

【0153】分散安定用樹脂の製造例3:〔P−3〕ブ
チルメタクリレート96g、チオグリコール酸4g及び
トルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しなが
ら、温度70℃に加温した。A.I.B.N.を1.0
gを加え8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシジ
ルメタクリレート8g、N,N−ジメチルドデシルアミ
ン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0.5gを加
え、温度100℃にて12時間攪拌した。冷却後この反
応溶液をメタノール2リットル中に再沈し、油状物を8
2g得た。重合体の数平均分子量は5600であった。 樹脂〔P−3〕
Production Example 3 of Dispersion Stabilizing Resin: [P-3] A mixed solution of 96 g of butyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70° C. while stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1.0
g was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine, and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction solution, and the mixture was stirred at a temperature of 100° C. for 12 hours. After cooling, this reaction solution was reprecipitated into 2 liters of methanol, and the oil was
I got 2g. The number average molecular weight of the polymer was 5,600. Resin [P-3]

【化307】[C307]

【0154】分散安定用樹脂の製造例4:〔P−4〕n
−ブチルメタクリレート100g、β−メルカプトプロ
ピオン酸4g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素
気流下攪拌しながら温度70℃に加温した。これにA.
I.B.N.  1gを加え6時間反応させた。この反
応混合物を冷却し、温度25℃に設定した後、2−ヒド
ロキシエチルメタクリレート10g及びD.C.C.8
g、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン0.2g
及び塩化メチレン20gの混合溶液を温度25〜30℃
で滴下し、更にそのまま4時間攪拌した。次にこの反応
混合物にギ酸5gを加え1時間攪拌した。析出した不溶
物を濾別した後、濾液をメタノール1リットル中に再沈
し油状物を濾集した。更に、この油状物をテトラヒドロ
フラン200gに溶解し、不溶物を濾別後再びメタノー
ル2リットル中に再沈し、油状物を補集し乾燥した。収
量68gでMw  6.6×103 であった。 樹脂〔P−4〕
Production example 4 of dispersion stabilizing resin: [P-4]n
A mixed solution of 100 g of -butyl methacrylate, 4 g of β-mercaptopropionic acid, and 200 g of toluene was heated to 70° C. with stirring under a nitrogen stream. To this A.
I. B. N. 1 g was added and reacted for 6 hours. After cooling the reaction mixture and setting the temperature to 25°C, 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate and D. C. C. 8
g, 0.2 g of 4-(N,N-dimethylamino)pyridine
and 20g of methylene chloride at a temperature of 25-30℃.
The mixture was added dropwise, and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol, and the oily matter was collected by filtration. Furthermore, this oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, and after filtering off insoluble matter, it was reprecipitated again in 2 liters of methanol, and the oily substance was collected and dried. The yield was 68 g and Mw was 6.6 x 103. Resin [P-4]

【化308】[C308]

【0155】分散安定用樹脂の製造例5〜12:〔P−
5〕〜〔P−12〕 製造例4において、n−ブチルメタクリレート100g
の代わりに下記表−4に相当する単量体群に代えた他は
、製造例4と同様にして各樹脂〔P〕を製造した。各樹
脂〔P〕のMwは5.5×103 〜7×103 の範
囲であった。
Production Examples 5 to 12 of dispersion stabilizing resin: [P-
5] to [P-12] In Production Example 4, 100 g of n-butyl methacrylate
Each resin [P] was produced in the same manner as Production Example 4, except that the monomer group corresponding to Table 4 below was used instead. The Mw of each resin [P] was in the range of 5.5 x 103 to 7 x 103.

【表8】[Table 8]

【0156】分散安定用樹脂の製造例13〜16:〔P
−13〕〜〔P−16〕 製造例4において、2−ヒドロキシメタクリレートの代
わりに下記の表−5に相当する化合物を用いた他は、製
造例4と同様に操作して各樹脂〔P〕を製造した。各樹
脂〔P〕のMwは6×103 〜7×103 の範囲で
あった。
Production Examples 13 to 16 of dispersion stabilizing resin: [P
-13] to [P-16] Each resin [P] was prepared in the same manner as in Production Example 4, except that a compound corresponding to Table 5 below was used instead of 2-hydroxymethacrylate. was manufactured. The Mw of each resin [P] was in the range of 6 x 103 to 7 x 103.

【表9】[Table 9]

【0157】分散安定用樹脂の製造例17:〔P−17
〕 オクチルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレ
ート3g及びベンゾトリフルオリド200gの混合溶液
を、窒素気流下攪拌しながら、温度75℃に加温した。 A.I.B.N.  1.0gを加え4時間反応させた
。更にA.I.B.N.  0.5gを加え4時間反応
した。次にこの反応混合物に、メタクリル酸5g、N,
N−ジメチルドデシルアミン1.0g、t−ブチルハイ
ドロキノン0.5gを加え、温度110℃にて8時間攪
拌した。冷却後メタノール2リットル中に再沈し、やや
褐色気味の油状物を補集後、乾燥した。収量73gで重
量平均分子量(Mw)3.6×104 であった。樹脂
〔P−17〕
[0157] Production example 17 of resin for dispersion stabilization: [P-17
] A mixed solution of 97 g of octyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate, and 200 g of benzotrifluoride was heated to a temperature of 75° C. while stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1.0 g was added and reacted for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 4 hours. Next, to this reaction mixture was added 5 g of methacrylic acid, N,
1.0 g of N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at a temperature of 110°C for 8 hours. After cooling, the mixture was reprecipitated into 2 liters of methanol, a slightly brownish oil was collected, and then dried. The yield was 73 g, and the weight average molecular weight (Mw) was 3.6 x 104. Resin [P-17]

【化309】[C309]

【0158】分散安定用樹脂の製造例18:〔P−18
〕 ブチルメタクリレート85g、グリシジルメタクリレー
ト15g、2−メルカプトエタノール2g及びテトラヒ
ドロフラン300gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度60℃に加温した。これに2,2′−アゾビ
ス(イソバレロニトリル)(略称:A.I.V.N.)
0.8gを加え4時間反応し、更にA.I.V.N. 
 0.4gを加えて4時間反応した。この反応物を温度
25℃に冷却した後、メタクリル酸4gを加え、攪拌下
にD.C.C.  6g、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ピリジン0.1g及び塩化メチレン15gの混合溶
液を1時間で滴下し、そのまま更に3時間攪拌した。次
に水10gを加え、1時間攪拌し析出した不溶物を濾別
後、濾液をメタノール1リットル中に再沈し油状物を補
集した。更にこの油状物をベンゼン150gに溶解し、
不溶物を濾別後再びメタノール1リットル中に再沈し油
状物を補集し乾燥した。収量は56gでMw  8×1
03 であった。 樹脂〔P−18〕
[0158] Production example 18 of resin for dispersion stabilization: [P-18
] A mixed solution of 85 g of butyl methacrylate, 15 g of glycidyl methacrylate, 2 g of 2-mercaptoethanol, and 300 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 60° C. while stirring under a nitrogen stream. In this, 2,2'-azobis(isovaleronitrile) (abbreviation: A.I.V.N.)
0.8g was added and reacted for 4 hours, and then A. I. V. N.
0.4 g was added and reacted for 4 hours. After cooling the reaction mixture to a temperature of 25° C., 4 g of methacrylic acid was added and D. C. C. A mixed solution of 6 g, 0.1 g of 4-(N,N-dimethylamino)pyridine, and 15 g of methylene chloride was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred for an additional 3 hours. Next, 10 g of water was added, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtering off the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol to collect the oily matter. Furthermore, this oily substance was dissolved in 150 g of benzene,
After filtering off the insoluble matter, the mixture was reprecipitated again into 1 liter of methanol to collect the oily matter and dried. Yield is 56g and Mw 8×1
It was 03. Resin [P-18]

【化310】[Chemical formula 310]

【0159】分散安定用樹脂の製造例19〜25:〔P
−19〕〜〔P−25〕 製造例18に示した様な反応を行うことで下記の表−6
の分散安定用樹脂を各々合成した。各樹脂のMwは6×
103 〜9×103 の範囲であった。
Production Examples 19 to 25 of dispersion stabilizing resin: [P
-19] to [P-25] By performing the reaction shown in Production Example 18, the following Table-6
Each of these dispersion stabilizing resins was synthesized. Mw of each resin is 6×
It was in the range of 103 to 9×103.

【表10】[Table 10]

【表11】[Table 11]

【0160】樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕分散安定
用樹脂〔P−1〕10g及びメチルエチルケトン200
gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加
温した。これに、下記単量体〔A−1〕40g、エチレ
ングリコールジメタクリレート10g、A.I.V.N
.  0.5g及びメチルエチルケトン240gの混合
溶液を2時間で滴下し、そのまま2時間反応した。更に
A.I.V.N.  0.5gを加え2時間反応した。 冷却後、200メッシュのナイロン布を通して白色分散
物を得た。 平均粒子径0.20μm のラテックスであった。(C
APA−500  堀場製作所(株)製で粒径測定)。 単量体〔A−1〕
Production Example 1 of Resin Particles: [L-1] 10 g of dispersion stabilizing resin [P-1] and 200 g of methyl ethyl ketone
The mixed solution of g was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 40 g of the following monomer [A-1], 10 g of ethylene glycol dimethacrylate, A. I. V. N
.. A mixed solution of 0.5 g and 240 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for 2 hours. Furthermore, A. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200 mesh nylon cloth. The latex had an average particle size of 0.20 μm. (C
Particle size measurement using APA-500 manufactured by Horiba, Ltd.). Monomer [A-1]

【化311】[Chemical formula 311]

【0161】樹脂粒子の製造例2〜12:〔L−2〕〜
〔L−12〕 樹脂粒子の製造例1において、樹脂〔P−18〕及び単
量体(A−1)の代わりに下記表−7の各化合物に代え
た他は、製造例1と同様にして樹脂粒子を製造した。各
粒子の平均粒径は0.15〜0.30μm の範囲内で
あった。
[0161] Production examples 2 to 12 of resin particles: [L-2] to
[L-12] In Production Example 1 of resin particles, the same procedure as Production Example 1 was carried out except that each compound in Table 7 below was used instead of resin [P-18] and monomer (A-1). Resin particles were produced. The average particle size of each particle was within the range of 0.15 to 0.30 μm.

【表12】[Table 12]

【表13】[Table 13]

【0162】樹脂粒子の製造例13〜23:〔L−13
〕〜〔L−23〕 樹脂粒子の製造例1において、エチレングリコールジメ
タクリレートに代えて、下記表−8の多官能性化合物を
用いた他は製造例1と同様にして樹脂粒子〔L−13〕
〜〔L−23〕を製造した。各粒子とも重合率は95〜
98%で平均粒径は0.15〜0.25μm であった
[0162] Production examples 13 to 23 of resin particles: [L-13
] ~ [L-23] Resin particles [L-13] were produced in the same manner as in Production Example 1, except that the polyfunctional compound shown in Table 8 below was used in place of ethylene glycol dimethacrylate in Production Example 1 of Resin Particles. ]
~[L-23] was produced. The polymerization rate of each particle is 95~
In 98% of cases, the average particle size was 0.15-0.25 μm.

【表14】[Table 14]

【0163】樹脂粒子の製造例24:〔L−24〕分散
安定用樹脂〔P−21〕8g及びメチルエチルケトン1
30gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら60℃に加
温した。これに、下記単量体(A−13)45g、ジエ
チレングリコールジメタクリレート5g、A.I.V.
N.  0.5g及びメチルエチルケトン150gの混
合溶液を1時間で滴下し更にA.I.V.N.  0.
25gを加えて2時間反応した。冷却後、200メッシ
ュのナイロン布を通して得られた分散物の平均粒径は0
.25μm であった。 単量体(A−13)
Production example 24 of resin particles: [L-24] 8 g of dispersion stabilizing resin [P-21] and 1 methyl ethyl ketone
30 g of the mixed solution was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 45 g of the following monomer (A-13), 5 g of diethylene glycol dimethacrylate, A. I. V.
N. A mixed solution of 0.5 g and 150 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 1 hour. I. V. N. 0.
25g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the average particle size of the obtained dispersion through a 200 mesh nylon cloth was 0.
.. It was 25 μm. Monomer (A-13)

【化312】[Chemical formula 312]

【0164】樹脂粒子の製造例25:〔L−25〕分散
安定用樹脂〔P−12〕7.5g及びメチルエチルケト
ン230gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら60℃
に加温した。これに、前記単量体(A−10)25g、
アクリルアミド15g、A.I.V.N.  0.5g
及びメチルエチルケトン200gの混合溶液を2時間で
滴下し、更にそのまま1時間反応した。更に、A.I.
V.N.  0.25gを加え、2時間反応した後、冷
却し、200メッシュのナイロン布を通して得られた分
散物の平均粒径は0.25μm であった。
Production Example 25 of Resin Particles: [L-25] A mixed solution of 7.5 g of dispersion stabilizing resin [P-12] and 230 g of methyl ethyl ketone was heated at 60° C. with stirring under a nitrogen stream.
It was heated to To this, 25 g of the monomer (A-10),
Acrylamide 15g, A. I. V. N. 0.5g
A mixed solution of 200 g of methyl ethyl ketone and 200 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 1 hour. Furthermore, A. I.
V. N. After adding 0.25 g and reacting for 2 hours, the resulting dispersion was cooled and passed through a 200 mesh nylon cloth, and the average particle size of the obtained dispersion was 0.25 μm.

【0165】樹脂粒子の製造例26:〔L−26〕下記
の単量体(A−14)42g、エチレングリコールジア
クリレート8g、分散安定用樹脂〔P−23〕8g及び
ジプロピルケトン230gを窒素気流下温度60℃に加
温した。これをジプロピルケトン200gの溶液中に攪
拌しながら2時間で滴下した。そのまま1時間反応後、
更にA.I.V.N.  0.3gを加え2時間反応し
た。冷却後、200メッシュのナイロン布を通して得ら
れた分散物の平均粒径は0.20μm であった。 単量体(A−14)
Production Example 26 of Resin Particles: [L-26] 42 g of the following monomer (A-14), 8 g of ethylene glycol diacrylate, 8 g of dispersion stabilizing resin [P-23] and 230 g of dipropyl ketone were heated with nitrogen. The temperature was heated to 60° C. under an air stream. This was added dropwise to a solution of 200 g of dipropyl ketone over 2 hours while stirring. After reacting for 1 hour,
Furthermore, A. I. V. N. 0.3 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the resulting dispersion was passed through a 200 mesh nylon cloth and the average particle size was 0.20 μm. Monomer (A-14)

【化313】[Chemical formula 313]

【0166】樹脂粒子の製造例27〜36:〔L−27
〕〜〔L−36〕 樹脂粒子の製造例26において、分散安定用樹脂〔P−
23〕の代わりに下記表−9の各分散安定用樹脂を用い
た他は製造例12と同様にして各粒子を製造した。各粒
子の平均粒径は0.20μm 〜0.25μm の範囲
であった。
[0166] Production examples 27 to 36 of resin particles: [L-27
] ~ [L-36] In Production Example 26 of resin particles, dispersion stabilizing resin [P-
Particles were produced in the same manner as in Production Example 12, except that each dispersion stabilizing resin shown in Table 9 below was used instead of [23]. The average particle size of each particle was in the range of 0.20 μm to 0.25 μm.

【表15】[Table 15]

【0167】樹脂粒子の製造例37〜42:〔L−37
〕〜〔L−42〕 樹脂粒子の製造例25において、単量体(A−10)、
アクリルアミド及び反応溶媒、メチルエチルケトンの代
わりに下記表−10の各々の化合物を用いた他は製造例
13と同様にして各粒子を製造した。各粒子の平均粒径
は0.15μm〜0.30μm の範囲であった。
[0167] Production examples 37 to 42 of resin particles: [L-37
] ~ [L-42] In Production Example 25 of resin particles, monomer (A-10),
Particles were produced in the same manner as in Production Example 13, except that the compounds shown in Table 10 below were used in place of acrylamide, the reaction solvent, and methyl ethyl ketone. The average particle size of each particle was in the range of 0.15 μm to 0.30 μm.

【表16】[Table 16]

【表17】[Table 17]

【0168】実施例1及び比較例A,B実施例1 樹脂〔A−4〕6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂〔B−1〕30g(固形分量として)、光導電性酸化
亜鉛200g、下記構造のメチン色素〔I〕0.018
g、サリチル酸0.15g及びトルエン300gの混合
物を、ホモジナイザー(日本精機(株)製)中で7×1
03 r.p.m.の回転数で10分間分散した。これ
に分散樹脂粒子〔L−1〕4g(固形分量として)を添
加し更に回転数1×103 r.p.m.で1分間分散
した。この感光層形成用分散物を導電処理した紙に乾燥
付着量が25g/m2 となるようにワイヤーバーで塗
布し、100℃で3分間乾燥した。ついで暗所で20℃
、65%RHの条件下で24時間放置することにより、
電子写真感光材料を作成した。 樹脂〔B−1〕
Example 1 and Comparative Examples A and B Example 1 Resin [A-4] 6 g (as solid content), Resin [B-1] having the following structure 30 g (as solid content), Photoconductive zinc oxide 200 g , methine dye [I] with the following structure 0.018
g, salicylic acid 0.15 g, and toluene 300 g in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) in a 7×1
03 r. p. m. Dispersion was carried out for 10 minutes at a rotation speed of . 4 g (as solid content) of dispersed resin particles [L-1] was added to this, and the rotation speed was further increased to 1 x 103 r. p. m. Dispersion was performed for 1 minute. This dispersion for forming a photosensitive layer was applied to electrically conductively treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g/m 2 , and dried at 100° C. for 3 minutes. Then heat at 20℃ in the dark.
, by leaving it for 24 hours under the condition of 65% RH,
An electrophotographic material was created. Resin [B-1]

【化314】 メチン色素〔I〕[Chemical formula 314] Methine dye [I]

【化315】[Chemical formula 315]

【0169】比較例A 実施例1において、樹脂粒子〔L−1〕4gを除いた他
は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料を作製した
Comparative Example A An electrophotographic material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 4 g of resin particles [L-1] were removed.

【0170】比較例B 実施例1において、樹脂〔A−4〕6g及び樹脂〔B−
1〕30gの代わりに、樹脂〔B−1〕のみ36gを用
いた他は実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を
作製した。
Comparative Example B In Example 1, 6 g of resin [A-4] and resin [B-
1] An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 36 g of resin [B-1] was used instead of 30 g.

【0171】これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度
)、静電特性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後
の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性を調べ
た。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士写真
フィルム(株)製)に現像剤ELP−Tを用いて、露光
・現像処理して画像を形成し、不感脂化処理をして得ら
れた平版印刷板を用いて調べた。(なお印刷機にはハマ
ダスター(株)製ハマダスター800SX型を用いた)
以上の結果をまとめて、表−11に示す。
Film properties (surface smoothness), electrostatic properties, desensitization properties of the photoconductive layer (represented by contact angle with water of the photoconductive layer after desensitization treatment), and printing of these photosensitive materials I looked into gender. Printability was determined using a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using developer ELP-T to form an image through exposure and development, followed by desensitization. It was investigated using a printing board. (The printing machine used was Hamadastar 800SX manufactured by Hamadastar Co., Ltd.)
The above results are summarized in Table-11.

【表18】[Table 18]

【0172】表−11に記した評価項目の実施の態様は
以下の通りである。 注1)  光導電層の平滑性:得られた感光材料を、ベ
ック平滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容
量1ccの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測
定した。
[0172] The implementation of the evaluation items listed in Table 11 is as follows. Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The smoothness (sec/cc) of the obtained photosensitive material was measured using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air volume of 1 cc. It was measured.

【0173】注2)  静電特性:温度20℃、65%
RHの暗室中で、各感光材料にペーパーアナライザー(
川口電機(株)製ペーパーアナライザー−SP−428
型)を用いて−6kVで20秒間コロナ放電をさせた後
10秒間放置し、この時の表面電位をV10を測定した
。次いでそのまま暗中で120秒間静置した後の電位V
120 を測定し、120秒間暗減衰させた後の電位の
保持性、即ち、暗減衰保持率〔DRR(%) 〕を〔(
V120 /V10)×100(%)〕で求めた。また
、コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯電さ
せた後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位(
V10)が1/10に減衰するまでの時間を求め、これ
から露光量E1/10 (erg/cm2 ) を算出
する。更にE1/10測定と同様にコロナ放電により−
500Vに帯電させた後、波長780nmの単色光で照
射し、表面電位(V10)が1/100 に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/100 (er
g/cm 2 ) を算出する。撮像時の環境条件はI
(20℃、65%RH)と、II(30℃、80%RH
)で実施した。
Note 2) Electrostatic properties: Temperature 20°C, 65%
A paper analyzer (
Kawaguchi Electric Co., Ltd. Paper Analyzer-SP-428
After corona discharge was performed for 20 seconds at -6 kV using a mold), the sample was left to stand for 10 seconds, and the surface potential at this time was measured as V10. Then, the potential V after leaving it in the dark for 120 seconds
120 and the potential retention after dark decaying for 120 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)] [(
V120/V10)×100(%)]. In addition, after the surface of the photoconductive layer was charged to -500V by corona discharge, it was irradiated with monochromatic light with a wavelength of 780 nm, and the surface potential (
The time required for V10) to attenuate to 1/10 is determined, and the exposure amount E1/10 (erg/cm2) is calculated from this. Furthermore, as in the E1/10 measurement, due to corona discharge -
After charging to 500V, irradiate with monochromatic light with a wavelength of 780nm, calculate the time until the surface potential (V10) attenuates to 1/100, and from this, the exposure amount E1/100 (er
g/cm 2 ). The environmental conditions at the time of imaging are I
(20℃, 65%RH) and II (30℃, 80%RH)
) was carried out.

【0174】注3)  撮像性:各感光材料を環境条件
I又はIIで1昼夜放置した。次に−5kVで帯電し、
光源として2.8mW出力のガリウム−アルミニウム−
ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)を用いて、
感光材料表面上で50erg/cm2 の照射量下、ピ
ッチ25μm 及びスキャニング速度330m/sec
 のスピード露光後、液体現像剤としてELP−T(富
士写真フイルム(株)製)を用いて現像し、定着するこ
とで得られた複写画像につき、カブリ、画像の画質を目
視で評価した。
Note 3) Imaging properties: Each photosensitive material was left for one day and night under environmental conditions I or II. Next, it is charged with -5kV,
Gallium-aluminum with 2.8mW output as a light source
Using an arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm),
Under a irradiation dose of 50 erg/cm2 on the surface of the photosensitive material, a pitch of 25 μm and a scanning speed of 330 m/sec.
After the speed exposure, the copied image was developed using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a liquid developer and fixed, and the resulting copied image was visually evaluated for fogging and image quality.

【0175】注4)  生版保水性:感光材料を印刷用
原版として用いる際の不感脂化処理による親水化の程度
を、下記の強制条件で処理して調べた。各感光材料その
ものを(製版しない原版:即ち、生版と略称)富士写真
フイルム(株)製不感脂化処理液ELP−EXを蒸留水
で5倍に希釈した水溶液を用いて、エッチングマシーン
を1回通した。更にこれを、0.5モルモノエタノール
アミンを1リットルの蒸留水に希釈した溶液(E−1)
中に3分間浸漬した。次に、これらの版をハマダスター
(株)製ハマダスター8005X型を用いて印刷し、刷
り出しから50枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で評
価した。
Note 4) Water retention of raw plate: The degree of hydrophilization caused by desensitization treatment when a photosensitive material is used as a printing original plate was investigated under the following forced conditions. Each photosensitive material itself (original plate without plate making, abbreviated as "raw plate") is etched using an etching machine using an aqueous solution prepared by diluting the desensitizing treatment liquid ELP-EX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) five times with distilled water. It was circulated. Furthermore, this was mixed with a solution (E-1) in which 0.5 mol monoethanolamine was diluted in 1 liter of distilled water.
immersed in water for 3 minutes. Next, these plates were printed using Hamadastar Model 8005X manufactured by Hamadastar Co., Ltd., and the presence or absence of background smear on the 50th printed matter after printing was visually evaluated.

【0176】注5)  印刷物の地汚れ:各感光材料を
上記注3)と同一の操作で製版した後、ELP−EXを
用いて、エッチングマシーンを1回通した後、注4)の
モルエタノールアミン含有水溶液(E−1)に3分間浸
した後水洗した。これらのオフセットマスター用原版を
、湿し水としてELP−FX(富士写真フイルム(株)
製湿し水)を用いて印刷し、印刷物の地汚れが目視で判
別できるまでの印刷枚数を調べた。
[0176] Note 5) Background stains on printed matter: After each photosensitive material was plate-made in the same manner as in Note 3) above, it was passed through an etching machine once using ELP-EX, and then the molar ethanol of Note 4) was used. It was immersed in an amine-containing aqueous solution (E-1) for 3 minutes and then washed with water. These offset master plates were used as dampening water using ELP-FX (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
The number of prints until the background stains on the prints could be visually determined was determined.

【0177】表−11に示すように、本発明及び比較例
Aの感光材料は光導電層の平滑性及び静電特性が良好で
実際の複写画像も地カブリがなく、複写画質も鮮明であ
った。次にオフセットマスター原版として用いた場合、
製版しない感光材料を不感脂化処理液を希釈して、厳し
い条件下で不感脂化処理して実際に印刷して保水性を調
べたところ、本発明のものは刷り出しから地汚れのない
良好な保水性を示し、更に実際に製版した原版を用いて
も地汚れのない鮮明な印刷物が1万枚得られた。これに
対し、親水化を促進する樹脂粒子が添加されていない比
較例Aは保水性が不充分で、印刷物の地汚れが刷り出し
から発生し、刷り込んでも解消されることはなかった。
As shown in Table 11, the photosensitive materials of the present invention and Comparative Example A had good smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer, and the actual copied images had no background fog and the quality of the copied images was clear. Ta. Next, when used as an offset master original,
When photosensitive materials that are not used for plate making were subjected to desensitizing treatment under severe conditions by diluting the desensitizing treatment liquid and then actually printed to examine their water retention properties, the material of the present invention showed good results with no background smudges from the beginning of printing. It exhibited excellent water retention properties, and even using an actual master plate, 10,000 clear prints without background stains were obtained. On the other hand, Comparative Example A, in which no resin particles for promoting hydrophilicity were added, had insufficient water retention, and background stains on printed matter occurred from the beginning of printing and were not resolved even after printing.

【0178】比較例Bは静電特性が著しく低下し、実際
の撮像性において満足な複写画像が得られなかった。一
方、オフセット原版としての保水性は、インキ付着が著
しく汚れが顕著であった。これは親水化が充分になされ
ないものによるもので、実際に通常の不感脂化条件で親
水化処理した原版で印刷しても、印刷物の地汚れが著し
く且つ製版後の原版では、複写画像が劣化しており、満
足な印刷原版の印刷物は刷り出しから得られなかった。
[0178] In Comparative Example B, the electrostatic properties were significantly deteriorated, and a copy image that was satisfactory in terms of actual imaging performance could not be obtained. On the other hand, regarding water retention as an offset original plate, ink adhesion was significant and staining was noticeable. This is due to the fact that the hydrophilicity is not sufficiently made; in fact, even when printing with an original plate that has been made hydrophilic under normal desensitization conditions, the background smearing of the printed matter is significant, and the copied image cannot be reproduced on the original plate after plate making. It had deteriorated and no satisfactory printing master prints could be obtained from the press run.

【0179】以上のことより、本発明の樹脂〔A〕及び
樹脂粒子〔L〕の両者を用いた場合のみ、静電特性及び
印刷特性を満足する電子写真感光体が得られることが判
る。
From the above, it can be seen that an electrophotographic photoreceptor that satisfies the electrostatic properties and printing properties can be obtained only when both the resin [A] and the resin particles [L] of the present invention are used.

【0180】実施例2 樹脂〔A−25〕5.5g(固形分量として)、下記構
造の樹脂〔B−2〕30g、樹脂粒子〔L−12〕4.
5g(固形分量として)、下記構造のメチン色素〔II
〕0.02gの他は実施例1と同様に操作して電子写真
感光材料を作成した。 樹脂〔B−2〕
Example 2 Resin [A-25] 5.5 g (as solid content), resin [B-2] having the following structure 30 g, resin particles [L-12] 4.
5g (as solid content), methine dye [II
] An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except for 0.02 g. Resin [B-2]

【化316】 メチン色素〔II〕[C316] Methine dye [II]

【化317】 得られた感光材料の電子写真特性及び印刷適性について
実施例1と同様にして測定し、下記の結果を得た。 静電特性(30℃,80%RH); V10    :  −650V DRR  :  81% E1/10  :  30erg/cm2 撮像性  
  I(20℃,65%RH);  良好II(30℃
,80%RH);  良好保水性    ;    ○
  良好 耐刷性    ;    1万枚 以上の如く、電子写真特性、印刷適性共に良好なもので
あった。
embedded image The electrophotographic properties and printability of the obtained photosensitive material were measured in the same manner as in Example 1, and the following results were obtained. Electrostatic properties (30°C, 80%RH); V10: -650V DRR: 81% E1/10: 30erg/cm2 Imaging properties
I (20℃, 65%RH); Good II (30℃
, 80%RH); Good water retention; ○
Good printing durability; both electrophotographic properties and printability were good, as it was printed over 10,000 sheets.

【0181】実施例3〜18 下記表−6の樹脂〔A〕各5g(固形分量として)、樹
脂粒子〔L〕4g(固形分量として)、下記構造の樹脂
〔B−3〕31g及びメチン色素〔III 〕0.01
8gの他は実施例1と同様にして各感光材料を作成した
。 樹脂〔B−3〕
Examples 3 to 18 5 g each (as solid content) of resin [A] shown in Table 6 below, 4 g (as solid content) of resin particles [L], 31 g of resin [B-3] having the following structure, and methine dye [III] 0.01
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except for 8 g. Resin [B-3]

【化318】 メチン色素〔III 〕[Chemical formula 318] Methine dye [III]

【化319】 各感光材料について実施例3と同様にして、静電特性、
印刷適性を調べた。結果を表−12に示す。
[Image Omitted] For each photosensitive material, electrostatic properties,
Examined print suitability. The results are shown in Table-12.

【表19】[Table 19]

【0182】静電特性は表−12に示した如く、30℃
、80%RHの過酷な条件でも大変良好な結果を示した
。実際の撮像性も良好であり、これらのオフセットマス
ター用原版としての保水性も良好で且つ耐刷性もいずれ
も1万枚まで印刷できた。
[0182] The electrostatic properties are as shown in Table 12, at 30°C.
, showed very good results even under harsh conditions of 80% RH. The actual imaging performance was also good, the water retention as an original plate for offset masters was also good, and the printing durability was up to 10,000 sheets.

【0183】実施例19及び比較例C 樹脂〔A−1〕6.0g、下記構造の樹脂〔B−5〕2
9.5g、樹脂粒子〔L−26〕3.8g、酸化亜鉛2
00g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04
g、ブロムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸
0.20g及びトルエン300gの混合物をホモジナイ
ザー中で回転数6×103 r.p.m.で10分間分
散し感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に、
乾燥付着量が22g/m2 となるようにワイヤーバー
で塗布し、110℃で20秒間乾燥し、更に120℃で
2時間加熱した。次いで暗所で20℃、65%RHの条
件下で24時間放置することにより下記表−12に示す
各電子写真感光材料を作成した。 樹脂〔B−5〕
Example 19 and Comparative Example C Resin [A-1] 6.0 g, resin [B-5] 2 having the following structure
9.5g, resin particles [L-26] 3.8g, zinc oxide 2
00g, uranine 0.02g, rose bengal 0.04
g, bromophenol blue 0.03 g, phthalic anhydride 0.20 g and toluene 300 g in a homogenizer at a rotational speed of 6 x 103 r. p. m. Dispersion was carried out for 10 minutes to prepare a photosensitive layer-forming material, which was then spread on electrically conductive treated paper.
It was coated with a wire bar so that the dry coating weight was 22 g/m2, dried at 110°C for 20 seconds, and further heated at 120°C for 2 hours. Next, each electrophotographic light-sensitive material shown in Table 12 below was prepared by allowing the material to stand for 24 hours at 20 DEG C. and 65% RH in a dark place. Resin [B-5]

【化320】[Chemical formula 320]

【0184】比較例C 実施例19において、樹脂〔A−1〕4g及び樹脂〔B
−5〕31.5gの代わりに樹脂〔B−5〕のみ35.
5gを用いた他は実施例19と同様にして電子写真感光
材料を作製した。各感光体を実施例1と同様にして各特
性を調べその結果を表−13に記した。
Comparative Example C In Example 19, 4 g of resin [A-1] and resin [B
-5] Only resin [B-5] instead of 31.5g 35.
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 19 except that 5 g was used. The characteristics of each photoreceptor were examined in the same manner as in Example 1, and the results are listed in Table 13.

【表20】 上記の測定において、静電特性及び撮像性については下
記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行った
[Table 20] In the above measurements, the electrostatic properties and imaging properties were performed in the same manner as in Example 1, except that the following operations were followed.

【0185】注6)  静電特性のE1/10及びE1
/100の測定方法:コロナ放電により光導電層表面を
−400Vに帯電させた後、該光導電層表面を照度2.
0ルックスの可視光で照射し、表面電位(V10)が1
/10又はE1/100 に減衰するまでの時間を求め
、これから露光量E1/10又はE1/100 (ルッ
クス・秒)を算出する。
Note 6) Electrostatic characteristics E1/10 and E1
/100 measurement method: After charging the photoconductive layer surface to -400V by corona discharge, the photoconductive layer surface was charged with an illuminance of 2.
Irradiated with visible light of 0 lux, the surface potential (V10) was 1
/10 or E1/100, and calculate the exposure amount E1/10 or E1/100 (lux seconds) from this.

【0186】注7)  撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)製
)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた
複写画像につき、カブリ、画像の画質を目視評価した。 撮像時の環境条件は、20℃、65%RH(I)と30
℃、80%RH(II)で実施した。
Note 7) Imageability After each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions, it was plate-made using a fully automatic plate-making machine EPL-404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using EPL-T as a toner. The resulting copied images were visually evaluated for fog and image quality. The environmental conditions during imaging were 20°C, 65%RH (I), and 30°C.
It was carried out at 80% RH (II).

【0187】注8)  保水性及び耐刷性注4)及び注
5)において、不感脂化処理液:E−1の代わりに下記
E−2を用いた他は、実施例1と同様にして実施した。   不感脂化処理液:E−2         ホウ酸              
                         
   55g        ネオソープ(松本油脂(
株)製)                    6
g        テトラヒドロフラン       
                       80
gを蒸留水で溶解し、全量を1.0リットルにした後、
水酸化カリウムでpH11.0に調整した。
Note 8) Water retention and printing durability Notes 4) and 5) were carried out in the same manner as in Example 1, except that the following E-2 was used instead of the desensitizing liquid: E-1. carried out. Desensitizing treatment liquid: E-2 boric acid

55g Neo Soap (Matsumoto Yushi (
Co., Ltd.) 6
g Tetrahydrofuran
80
After dissolving g with distilled water and making the total volume 1.0 liters,
The pH was adjusted to 11.0 with potassium hydroxide.

【0188】本発明及び比較例Cともに、静電特性が良
好で、鮮明な画質の複写画像を得ることができた。また
、オフセトマスター原版として用いた場合、本発明は保
水性は良好で、耐刷性は1万枚まで可能であった。しか
し、樹脂〔A〕を除いた比較例Cは強制条件である親水
化を行った保水性が充分でなく、又実際に通常の条件で
不感脂化し印刷してみた所、非画像部の地汚れが見られ
ない印刷物は4千枚までであった。以上のことより、本
発明の感光材料のみが、静電特性、印刷特性ともに優れ
た性能で維持できるものであった。
[0188] In both the present invention and Comparative Example C, it was possible to obtain copied images with good electrostatic properties and clear image quality. Furthermore, when used as an offset master original plate, the present invention had good water retention and printing durability of up to 10,000 sheets. However, Comparative Example C, which did not contain resin [A], did not have sufficient water retention even though it was made hydrophilic under the forced conditions, and when it was actually desensitized and printed under normal conditions, Up to 4,000 prints had no visible stains. From the above, only the photosensitive material of the present invention was able to maintain excellent performance in both electrostatic properties and printing properties.

【0189】実施例20〜27 実施例19において、下記表−14の樹脂〔A〕5g(
固形分量として)、樹脂粒子〔L〕4g(固形分量とし
て)、樹脂〔B〕31gの他は実施例19と同様に操作
して、各感光材料を作成した。
Examples 20 to 27 In Example 19, 5 g of resin [A] shown in Table 14 below (
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 19, except that the resin particles [L] were 4 g (as a solid content), the resin [B] was 31 g (as a solid content), and the resin [B] was 31 g.

【表21】[Table 21]

【0190】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(
30℃、80%RH)の過酷な条件においけも地カブリ
の発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。 更にオフセットマスター原版として印刷したところ、1
万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物
が得られた。
All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and actual copied images can also be produced under high temperature and high humidity (
Even under harsh conditions (30°C, 80% RH), it provided clear images without background fog or skipped fine lines. Furthermore, when printed as an offset master master plate, 1
Printed matter with clear image quality and no background smearing was obtained even after printing 10,000 copies.

【0191】実施例28〜31 実施例19において、樹脂〔A−1〕5.5g、樹脂〔
B−5〕31.5gを用い、下記表−15の結着樹脂3
1.5gを用いた他は実施例19と同様にし、各電子写
真感光体を作成した。
Examples 28 to 31 In Example 19, 5.5 g of resin [A-1], 5.5 g of resin [A-1],
B-5] Using 31.5 g, binder resin 3 in Table-15 below.
Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example 19 except that 1.5 g was used.

【表22】[Table 22]

【0192】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿(
30℃、80%RH)の苛酷な条件においけも地カブリ
の発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。 更にオフセットマスター原版として印刷したところ、1
万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物
が得られた。
All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention rate, and photosensitivity, and actual copied images are also produced under high temperature and high humidity conditions (
Under severe conditions (30° C., 80% RH), it provided clear images without background fog or skipped fine lines. Furthermore, when printed as an offset master master plate, 1
Printed matter with clear image quality and no background smearing was obtained even after printing 10,000 copies.

【0193】実施例32〜35 下記表−16の各感光体を製版した後の原版をELP−
EX中に4分間浸せきして不感脂化処理した後、実施例
1と同様にして印刷した所、地汚れの発生のない鮮明な
画質の印刷物が各々1万枚得られた。
Examples 32 to 35 ELP-
After desensitization by immersion in EX for 4 minutes, printing was performed in the same manner as in Example 1, and 10,000 prints with clear image quality and no background smudge were obtained.

【表23】[Table 23]

【0194】実施例36〜41 下記表−17の各感光体を製版した後の原版をELP−
EXを用いてエッチングマシーンを1回通した後、下記
処方の樹脂粒子不感脂化液中に3分間浸漬して不感脂化
処理した。   樹脂粒子不感脂化液:       ジエタノールアミン          
                        8
0g      ニューコールBSN(日本乳化剤(株
)製)              6g      
ベンジルアルコール                
                100gを蒸留水に
溶解して全量を1リットルとした後水酸化カリウムでp
H10.5に調整した水溶液。
Examples 36 to 41 The original plate after making each photoreceptor shown in Table 17 below was subjected to ELP-
After passing through an etching machine using EX once, the resin particles were desensitized by being immersed in a desensitizing solution having the following formulation for 3 minutes. Resin particle desensitization liquid: diethanolamine
8
0g Nucol BSN (manufactured by Nippon Nyukazai Co., Ltd.) 6g
benzyl alcohol
Dissolve 100g in distilled water to make a total volume of 1 liter, then pip with potassium hydroxide.
Aqueous solution adjusted to H10.5.

【表24】[Table 24]

【0195】これを実施例1と同様にして印刷した所、
各原版とも地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が各
々1万枚以上得られた。
[0195] When this was printed in the same manner as in Example 1,
For each original plate, more than 10,000 prints with clear image quality and no background staining were obtained.

【0196】実施例43〜46 実施例19において、本発明の結着樹脂粒子〔L−26
〕3.8gの代わりに下記表−18の粒子〔L〕各4g
を用いた他は、実施例19と同様にして各感光材料を作
成した。
Examples 43 to 46 In Example 19, binder resin particles of the present invention [L-26
] Instead of 3.8g, use the particles shown in Table 18 below [L] 4g each
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 19, except that the following was used.

【表25】[Table 25]

【0197】各感光体を実施例19と同様にして製版し
た後、400Wの高圧水銀灯を光源として、その光源か
ら10cmの距離下に、これら製版感材を5分間光照射
した。後にELP−FX(富士写真フィルム(株)製)
を用いてエッチングプロセッサーを1回通すことで不感
脂化処理した。これらの印刷用原版を、実施例19と同
様にして印刷した所、保水性も良好で且つ耐刷性もいず
れも1万枚まで印刷できた。
After each photoreceptor was plate-made in the same manner as in Example 19, the plate-making sensitive materials were irradiated with light for 5 minutes at a distance of 10 cm from the light source using a 400 W high-pressure mercury lamp as a light source. Later ELP-FX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The film was desensitized by passing it through an etching processor once. When these printing original plates were printed in the same manner as in Example 19, they had good water retention and printing durability up to 10,000 sheets.

【0198】[0198]

【発明の効果】本発明によれば、過酷な条件下において
も、優れた印刷画像と高耐刷性を有する電子写真式平版
印刷用原版を得ることができる。また、本発明の平版印
刷用原版は、半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式に有効である。
According to the present invention, it is possible to obtain an original plate for electrophotographic lithographic printing which has excellent printed images and high printing durability even under severe conditions. Further, the lithographic printing original plate of the present invention is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  導電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛
、分光増感色素及び結着樹脂を含有する光導電層を少な
くとも1層設けてなる電子写真式平版印刷用原版におい
て、該結着樹脂として下記の樹脂〔A〕を少なくとも1
種含有し、更に該光導電層中に、前記光導電性酸化亜鉛
粒子の最大粒子径と同じかそれより小さい粒子径を有す
る下記の非水溶媒系分散樹脂粒子を少なくとも1種含有
することを特徴とする電子写真式平版印刷用原版。 樹脂〔A〕:1×103 〜2×104 の重量平均分
子量を有し、下記一般式(I)で示される繰り返し単位
を重合体成分として30重量%以上含有し、且つ重合体
主鎖の片末端に−PO3 H2 ,−SO3 H,−C
OOH,【化1】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水
素基を表す)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択
される少なくとも1種の極性基を含有してなる樹脂。 一般式(I) 【化2】 〔ただし上記式(I)において、a1 ,a2 は各々
、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を
表し、R3 は炭化水素基を表す〕非水溶媒系分散樹脂
粒子:非水溶媒中において、該非水溶媒には可溶である
が重合することにより不溶化する、分解によりチオール
基、ホスホノ基、アミノ基、 【化3】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化
水素基を表す)を表す〕を生成する官能基から選ばれる
官能基を少なくとも1種含有する一官能性単量体(A)
を、該非水溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存在下に分
散重合反応させることにより得られる重合体樹脂粒子。
1. An original plate for electrophotographic lithography comprising at least one photoconductive layer containing photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin on a conductive support. At least one of the following resins [A] as adhesive resin
The photoconductive layer contains at least one of the following non-aqueous dispersion resin particles having a particle diameter that is the same as or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles. Characteristic original plate for electrophotographic planographic printing. Resin [A]: has a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104, contains 30% by weight or more of repeating units represented by the following general formula (I) as a polymer component, and has a polymer main chain fragment. -PO3 H2, -SO3 H, -C at the end
OOH, [Chemical formula 1] [R1 represents a hydrocarbon group or -OR2 (R2 represents a hydrocarbon group)] and a resin containing at least one polar group selected from a cyclic acid anhydride-containing group . General formula (I) [Formula 2] [In the above formula (I), a1 and a2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group, and R3 represents a hydrocarbon group] Non-aqueous solvent System-dispersed resin particles: In a non-aqueous solvent, thiol group, phosphono group, amino group, which is soluble in the non-aqueous solvent but becomes insolubilized by polymerization, [Formula 3] [R1 is a hydrocarbon group or -OR2 group (R2 represents a hydrocarbon group)] Monofunctional monomer (A) containing at least one functional group selected from the functional groups that produce the group (R2 represents a hydrocarbon group)
Polymer resin particles obtained by carrying out a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent.
【請求項2】  上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示
される共重合体成分として下記一般式(Ia)又は下記
一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレ
ート成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴
とする請求項1記載の電子写真式平版印刷用原版。 一般式(Ia) 【化4】 一般式(Ib) 【化5】 〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)において、T1 
及びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜1
0の炭化水素基、塩素原子、−COR4 又は−COO
R5  (R4 及びR5 は各々炭素数1〜10の炭
化水素基を表す)を表し、L1 及びL2 は各々−C
OO−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子数1
〜4個の連結基を表す〕
2. The resin [A] is one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) or the following general formula (Ib) as the copolymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic lithographic printing original plate according to claim 1, characterized in that it contains at least one of the following. General formula (Ia) [Chemical formula 4] General formula (Ib) [Chemical formula 5] [However, in the above formulas (Ia) and (Ib), T1
and T2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1
0 hydrocarbon group, chlorine atom, -COR4 or -COO
R5 (R4 and R5 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), L1 and L2 each represent -C
Number of single bonds or connected atoms connecting OO- and benzene ring: 1
~Represents 4 linking groups]
【請求項3】  上記非水溶媒系分散樹脂粒子が高次の
網目構造を形成していることを特徴とする請求項1又は
2記載の電子写真式平版印刷用原版。
3. The electrophotographic lithographic printing original plate according to claim 1, wherein the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles form a high-order network structure.
【請求項4】  上記分散安定用樹脂が、高分子鎖中に
、下記一般式(II) で示される重合性二重結合基部
分を少なくとも1種含有していることを特徴とする請求
項1ないし3記載の電子写真式平版印刷用原版。 一般式(II) 【化6】 〔一般式(II) において、V0 は【化7】 (但し、pは1〜4の整数を表わし、R6 は水素原子
又は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、a3 ,
a4 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R7
 又は炭化水素基を介した−COO−R7 (R7 は
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす〕
4. Claim 1, wherein the dispersion stabilizing resin contains at least one kind of polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II) in the polymer chain. An original plate for electrophotographic planographic printing according to items 3 to 3. General formula (II) [Formula (II)] [In the general formula (II), V0 is [Formula 7] (However, p represents an integer of 1 to 4, and R6 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. ), a3,
a4 may be the same or different, and a4 may be a hydrogen atom,
Halogen atom, cyano group, hydrocarbon group, -COO-R7
or -COO-R7 (R7 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group) via a hydrocarbon group]
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