JPH04355765A - Electrophotographic planographic printing plate material - Google Patents

Electrophotographic planographic printing plate material

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JPH04355765A
JPH04355765A JP15742891A JP15742891A JPH04355765A JP H04355765 A JPH04355765 A JP H04355765A JP 15742891 A JP15742891 A JP 15742891A JP 15742891 A JP15742891 A JP 15742891A JP H04355765 A JPH04355765 A JP H04355765A
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JP
Japan
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group
resin
resin particles
weight
monomer
Prior art date
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Application number
JP15742891A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kiyosuke Kasai
清資 笠井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance water-holding capacity and printing resistance by incorporating a specified resin and specified resin particles dispersible in a nonaqueous solvent. CONSTITUTION:The photoconductive layer contains a binder resin having weight average molecular weight of 1X10<3>-2X10<4> and comprising repeating units each represented by formula I in an amount of >=30wt.%, and repeating units each having at least one of polar groups of -PO3H2, -SO3H,-COOH,-P(=O)(OH)R01, and a cyclic acid anhydride, in an amount of 0.5-15wt.%. This photoconductive layer contains other copolymer resin particles obtained by copolymerizing a monofunctional monomer C soluble in a nonaqueous solvent but to be insolubilized by polymerization and having a functional group to be allowed to produce a hydroxy group by decomposition and another monofunctional monomer D having a substituent containing an Si and/or F atom and capable of copolymerizing with the monomer C in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the nonaqueous solvent.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、該平版印刷用原版の光導電層形成用組成物の改良に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate made by an electrophotographic method, and more particularly to an improvement in a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing plate.

【0002】0002

【従来の技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版
には多種のものが提案され且つ実用化されているが、中
でも、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子
及び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を
通常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高い
トナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言わ
れる不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化す
ることによってオフセット原版を得る技術が広く用いら
れている。
[Prior Art] Currently, many types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. A photoreceptor with a photoconductive layer as a component is subjected to a normal electrophotographic process to form a highly oleophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is treated with a desensitizing liquid called an etchant. A technique for obtaining an offset original plate by selectively making non-image portions hydrophilic is widely used.

【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部が充分に親水化
されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては画像
を有する表面導電層が離脱しないこと、及び湿し水との
なじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しな
いように充分に非画像部の親水性が保持されること、等
の性能を有する必要がある。これらの性能には、光導電
層中の結着樹脂の種類によって大きく左右されることが
明らかになっており、特にオフセット原版としては、不
感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂が種々検討さ
れている。特に、メタクリレート(又はアクリレート)
成分を少なくとも含有する多元共重合体類が挙げられ、
例えば特公昭50−31011号、特開昭53−402
7号、特開昭57−202544号、特開昭58−68
046号等が知られている。
In order to obtain good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto the offset master plate, and at the same time, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing treatment liquid, and the non-image areas are made sufficiently hydrophilic. It is water resistant, and the surface conductive layer with the image does not separate during printing, and it is compatible with dampening water, and the non-image area is sufficiently coated to prevent staining even when a large number of sheets are printed. It is necessary to have properties such as maintaining hydrophilicity. It has become clear that these performances are greatly influenced by the type of binder resin in the photoconductive layer.In particular, for offset master plates, various zinc oxide binder resins that improve desensitization properties are being investigated. has been done. In particular, methacrylate (or acrylate)
Examples include multi-component copolymers containing at least the component,
For example, Japanese Patent Publication No. 50-31011, Japanese Patent Publication No. 53-402
No. 7, JP-A-57-202544, JP-A-58-68
No. 046 etc. are known.

【0004】更に、結着樹脂として、分解により親水性
基を生成する官能基を含有する樹脂を用いるものが検討
されており、例えば分解によりヒドロキシル基を生成す
る官能基を含有するもの(特開昭62−195684号
、特開昭62−210475号、特開昭62−2104
76号)や分解によりカルボキシル基を生成する官能基
を含有するもの(特開昭62−21269号)あるいは
、分解によりヒドロキシル基又はカルボキシル基を生成
する官能基を含有するとともに、ポリマー間の橋架けに
より水への溶解性防止と水膨潤性を持たせることで更に
地汚れ防止と耐刷向上を行なうもの(特開平1−191
157号、特開平1−197765号、特開平1−19
1860号、特開平1−185667号、特開平1−1
79052号、特開平1−191158号等)等が知ら
れている。
Furthermore, resins containing functional groups that generate hydrophilic groups upon decomposition are being considered as binder resins; for example, resins containing functional groups that generate hydroxyl groups upon decomposition (JP-A 1986-195684, JP-A-62-210475, JP-A-62-2104
No. 76), those containing a functional group that generates a carboxyl group upon decomposition (JP-A No. 62-21269), or those that contain a functional group that generates a hydroxyl group or a carboxyl group upon decomposition, and which also form a bridge between polymers. By preventing solubility in water and providing water swelling properties, it further prevents scumming and improves printing durability (Japanese Patent Application Laid-open No. 1-191
No. 157, JP-A-1-197765, JP-A-1-19
No. 1860, JP-A-1-185667, JP-A-1-1
No. 79052, JP-A No. 1-191158, etc.) are known.

【0005】しかし、上記した不感脂化性向上に効果が
あるとされる樹脂であっても、現実に評価してみると、
地汚れ、耐刷力において未だ満足できるものではなかっ
た。
[0005] However, even if the resin is said to be effective in improving desensitization properties as described above, when actually evaluated,
The background smearing and printing durability were still unsatisfactory.

【0006】更に特開平1−232356、同1−26
1657各号公報では、光導電層に親水性基を含有する
樹脂粒子を添加することで保水性の向上に効果があると
記載されている。
[0006] Furthermore, JP-A-1-232356 and JP-A-1-26
1657 publications state that adding resin particles containing hydrophilic groups to the photoconductive layer is effective in improving water retention.

【0007】これら、光導電性組成物を改良することで
明らかに保水性は、著しく向上することが確認された。
[0007] It has been confirmed that water retention can be significantly improved by improving these photoconductive compositions.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、平版印刷用原
版として更に詳細に評価してみると、環境変動(高温・
高湿あるいは低温・低湿)時に、電子写真特性(特に暗
中電荷保持性、光感度等)が変動し、安定した良好な複
写画像が得られなくなる場合が生じた。これにより、結
果として、これを印刷用原版として用いた印刷物の印刷
画像の劣化あるいは、地汚れ防止効果の減少となってし
まった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, when we evaluate it in more detail as a lithographic printing original plate, we find that environmental changes (high temperature,
(high humidity or low temperature/low humidity), the electrophotographic properties (particularly charge retention in the dark, photosensitivity, etc.) fluctuate, making it impossible to obtain stable and good copied images in some cases. This resulted in deterioration of the printed image of printed matter using this as a printing original plate, or a decrease in the scumming prevention effect.

【0009】また、デジタルダイレクト平版印刷用原版
としての電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、可視光による全面同時露光方式に比べ時間が長くなり
、また露光強度にも制約があることから、静電特性、特
に暗電荷保持特性、光感度に対して、より高い性能が要
求される。
[0009] Furthermore, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an electrophotographic lithographic printing original plate as a digital direct lithographic printing original plate, it takes a longer time than when the entire surface is simultaneously exposed using visible light. Furthermore, since there are restrictions on the exposure intensity, higher performance is required in terms of electrostatic properties, particularly dark charge retention properties, and photosensitivity.

【0010】これに対し、上記公知の原版では電子写真
特性が劣化し、実際の複写画像も地カブリが発生し易く
なり、且つ細線の飛びや文字のツブレが生じてしまい、
結果として、平版印刷用原版として印刷すると、印刷物
の画質は低下してしまい、結着樹脂の非画像部分の親水
性向上による地汚れ防止の効果がなくなってしまった。
On the other hand, with the above-mentioned known original plates, the electrophotographic characteristics deteriorate, and the actual copied images tend to have background fog, as well as skipping of fine lines and blurring of letters.
As a result, when printed as a lithographic printing original plate, the image quality of the printed matter deteriorated, and the effect of preventing scumming by improving the hydrophilicity of the non-image portion of the binder resin was lost.

【0011】本発明は、以上のような従来の電子写真式
平版印刷用原版の有する問題点を改良するものである。
The present invention is intended to improve the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing original plates as described above.

【0012】すなわち、本発明の目的の1は、静電特性
(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画に対して
忠実な複写画像を再現し、且つオフセット原版として全
面一様な地汚れは勿論、点状の地汚れをも発生させない
、不感脂化性の優れた平版印刷用原版を提供することで
ある。
That is, object 1 of the present invention is to reproduce a copy image that is excellent in electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), is faithful to the original image, and has a uniform surface on the entire surface as an offset original plate. It is an object of the present invention to provide a lithographic printing original plate which does not cause not only stains but also dotted background stains and has excellent desensitization properties.

【0013】本発明の目的の2は、複写画像形成時の環
境が低温低湿あるいと高温高湿のように変動する場合で
も、鮮明で良質な画像を有する平版印刷用原版を提供す
ることである。
[0013] A second object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that has a clear and high-quality image even when the environment during copy image formation varies from low temperature and low humidity to high temperature and high humidity. .

【0014】本発明の目的の3は、併用し得る増感色素
の種類による影響を受け難く、半導体レーザー光による
スキャニング露光方式でも静電特性の優れた平版印刷用
原版を提供することである。
A third object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that is not easily affected by the types of sensitizing dyes that can be used in combination and has excellent electrostatic properties even when used in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛、分光増感色素及び
結着樹脂とを少なくとも含有してなる光導電層を少なく
とも1層設けてなる電子写真式平版印刷用原版において
、前記光導電層中に、該結着樹脂として、下記の樹脂〔
A〕を少なくとも1種含有し、更に該光導電層中に前記
光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じかそれより小
さい粒子径を有する下記の非水溶媒系分散樹脂粒子を少
なくとも1種含有することを特徴とする電子写真式平版
印刷用原版によって達成される。
[Means for Solving the Problems] The present invention achieves the above object by forming at least one photoconductive layer on a conductive support, the photoconductive layer containing at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin. In the electrophotographic lithographic printing original plate having layers, the following resin [
A], and further contains at least one type of non-aqueous solvent-based dispersed resin particles below having a particle size equal to or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles in the photoconductive layer. This is achieved by an electrophotographic lithographic printing original plate characterized by containing:

【0016】樹脂〔A〕:1×103 〜2×104 
の重量平均分子量を有し、下記一般式(I)で示される
繰り返し単位を重合体成分として30重量%以上と、−
PO3 H2 ,−SO3 H,−COOH,−P(=
O)(OH)(R01)〔R01は炭化水素基又は−O
R02(R02は炭化水素基を表す)を表す〕及び環状
酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の極性基
を有する重合体成分として0.5〜15重量%とを含有
する樹脂。
Resin [A]: 1×103 to 2×104
having a weight average molecular weight of 30% by weight or more as a polymer component of repeating units represented by the following general formula (I), -
PO3 H2 , -SO3 H, -COOH, -P(=
O) (OH) (R01) [R01 is a hydrocarbon group or -O
R02 (R02 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic acid anhydride-containing group.

【0017】[0017]

【化4】[C4]

【0018】〔ただし上記式(I)において、a1 ,
a2 は各々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は
炭化水素基を表し、R03は炭化水素基を表す。〕〔上
記−P(=O)(OH)(R01)は
[However, in the above formula (I), a1,
a2 each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group, and R03 represents a hydrocarbon group. ] [The above -P(=O)(OH)(R01) is

【0019】[0019]

【化5】[C5]

【0020】を示す〕 非水溶媒系分散樹脂粒子としては、非水溶媒中において
、該非水溶媒には可溶であるが重合することにより不溶
可する、分解により少なくとも1つのヒドロキシル基を
生成する官能基を少なくとも1種含有する一官能性単量
体(C)と、ケイ素原子及び/又はフッ素原子を含有す
る置換基を含み該一官能性単量体(C)と共重合可能な
一官能性単量体(D)とを該溶媒に可溶性の分散安定用
樹脂の存在下に分散重合反応させることにより得られる
共重合体樹脂粒子という特徴を有する。
[0020] The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles are soluble in the non-aqueous solvent but become insoluble by polymerization, and produce at least one hydroxyl group by decomposition. A monofunctional monomer (C) containing at least one functional group, and a monofunctional monomer containing a substituent containing a silicon atom and/or a fluorine atom and copolymerizable with the monofunctional monomer (C). It has the characteristic of being a copolymer resin particle obtained by carrying out a dispersion polymerization reaction of the monomer (D) in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the solvent.

【0021】更に、樹脂〔A〕は好ましくは一般式(I
)で示される共重合体成分として下記一般式(Ia)及
び下記一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタ
クリレート成分のうちの少なくとも1つを含有すること
を特徴とする。
Further, the resin [A] preferably has the general formula (I
) is characterized by containing at least one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) and the following general formula (Ib).

【0022】[0022]

【化6】[C6]

【0023】〔ただし、上記式(Ia)及び(Ib)に
おいて、T1 及びT2 は互いに独立に各々水素原子
、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、−COR0
4又は−COOR05(R04及びR05は各々炭素数
1〜10の炭化水素基を表す)を表し、L1 及びL2
 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合又は
連結原子数1〜4個の連結基を表す〕 本発明においては、又上記非水溶媒系分散樹脂粒子が高
次の綱目構造を形成しているものであってもよい。
[However, in the above formulas (Ia) and (Ib), T1 and T2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a chlorine atom, -COR0
4 or -COOR05 (R04 and R05 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), L1 and L2
each represents a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms that connects -COO- and a benzene ring] In the present invention, the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles also form a higher-order mesh structure. It may be something that is currently in use.

【0024】また、本発明における上記分散安定用樹脂
としては、高分子鎖中に、下記一般式(II)で示され
る重合性二重結合基部分を少なくとも1種含有している
ものが特に好ましいものとして挙げられる。
[0024] Furthermore, as the above-mentioned dispersion stabilizing resin in the present invention, one containing at least one kind of polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II) in the polymer chain is particularly preferable. It is mentioned as a thing.

【0025】[0025]

【化7】[C7]

【0026】〔一般式(II)において、V0 は−O
−、−COO−、−OCO−、−(CH2 )2 OC
O−、−(CH2 )2 COO−、−SO2 −、−
CONR1−、−SO2 NR1 −、−C6 H4 
−(−C6 H4 −は1,2−、1,3−、1,4−
フェニレン基を表わす。以下同様)、−CONHCOO
−、又は−CONHCONH−を表わし(但し、pは1
〜4の整数を表わし、R1 は水素原子又は炭素数1〜
18の炭化水素基を表わす)、b1 ,b2 は、互い
に同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、炭化水素基、−COO−R2 又は炭化水素
基を介した−COO−R2 (R2 は水素原子又は置
換されてもよい炭化水素基を表わす)を表わす〕本発明
の平版印刷用原版は最上層である光導電層中に光導電性
酸化亜鉛、分光増感色素及び結着樹脂とを少なくとも含
有する光導電層の非画像部を不感脂化液で処理すること
により表面を親水化して平版印刷原版とする方式の印刷
用原版である。
[In general formula (II), V0 is -O
-, -COO-, -OCO-, -(CH2)2OC
O-, -(CH2)2 COO-, -SO2 -, -
CONR1-, -SO2 NR1-, -C6 H4
-(-C6 H4 - is 1,2-, 1,3-, 1,4-
Represents a phenylene group. The same applies hereafter), -CONHCOO
-, or -CONHCONH- (where p is 1
represents an integer of ~4, R1 is a hydrogen atom or a carbon number of 1~4;
18), b1 and b2 may be the same or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom,
The lithographic printing original plate of the present invention represents a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R2, or -COO-R2 via a hydrocarbon group (R2 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted)] The surface of the photoconductive layer, which is the uppermost layer, is made hydrophilic by treating the non-image area of the photoconductive layer containing at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin with a desensitizing liquid. This is a printing original plate that is used as a lithographic printing original plate.

【0027】本発明の光導電層は、少なくとも光導電性
酸化亜鉛、分光増感色素、特定の共重合体成分から成る
低分子量の樹脂〔A〕及び非水溶媒系分散樹脂粒子(以
下、樹脂粒子〔L〕と略記する場合もある)を各々含有
することを特徴とするものである。
The photoconductive layer of the present invention comprises a low molecular weight resin [A] comprising at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a specific copolymer component, and non-aqueous solvent dispersed resin particles (hereinafter referred to as resin). (sometimes abbreviated as particles [L]).

【0028】本発明に供される樹脂粒子〔L〕は、その
平均粒子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じ
か、それよりも小さく且つ粒子径の分布が狭く粒子径が
そろっているものである。且つ該樹脂粒子〔L〕は、不
感脂化処理する際に、加水分解及び、レドックス反応、
光分解反応等の化学反応により保護されていた前記の親
水性基〔一官能性単量体(C)〕がヒドロキシル基を生
成し、疎水性から親水性の性質に変換されること及びフ
ッ素原子及び/又はケイ素原子を少なくとも1個以上含
有する置換基を含む繰り返し単位を少なくとも含む重合
体成分〔一官能性単量体(D)〕を結合して成ることで
、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の置換基の大き
な親油性によって該光導電層の表面部分に移行・濃縮現
象を生じることを示すものである。更には、非水系分散
樹脂粒子を分散安定化する分散安定用樹脂が重合造粒の
反応過程において、不溶化する共重合体部分に吸着して
成る及び/又は上記式(II)で示される重合性二重結
合基部分含有の分散安定用樹脂の場合には、両重合体成
分が化学結合して成ることを特徴とするものである。
The resin particles [L] used in the present invention have an average particle size that is the same as or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle size distribution and uniform particle size. It is something that In addition, the resin particles [L] undergo hydrolysis and redox reactions during desensitization treatment.
The above-mentioned hydrophilic group [monofunctional monomer (C)] that was protected by a chemical reaction such as a photolysis reaction generates a hydroxyl group and is converted from hydrophobic to hydrophilic property, and a fluorine atom. and/or a fluorine atom and/or a silicon atom by bonding a polymer component [monofunctional monomer (D)] containing at least a repeating unit containing a substituent containing at least one silicon atom. This indicates that migration and concentration phenomena occur on the surface of the photoconductive layer due to the large lipophilicity of the substituent contained therein. Furthermore, a dispersion stabilizing resin that stabilizes the dispersion of non-aqueous dispersed resin particles is adsorbed to a copolymer portion to be insolubilized in the reaction process of polymerization granulation, and/or a polymerizable resin represented by the above formula (II) is used. In the case of a dispersion stabilizing resin containing a double bond group moiety, both polymer components are chemically bonded.

【0029】本発明のもう1つの重要要件である結着樹
脂〔A〕は、式(I)で示される特定の重合体成分を含
み且つ前記の特定の極性基を少なくとも重合体の側鎖に
結合してなる低分子量の重合体であることを特徴とする
The binder resin [A], which is another important feature of the present invention, contains a specific polymer component represented by formula (I) and has the above-mentioned specific polar group at least in the side chain of the polymer. It is characterized by being a low molecular weight polymer formed by bonding.

【0030】本発明の光導電層は、光導電性酸化亜鉛粒
子、分光増感色素、該樹脂粒子〔L〕が結着樹脂として
少なくとも含有される該樹脂〔A〕によって分散されて
おり、更には、樹脂粒子〔L〕は光導電層形成後、速や
かに、該表面層の表面部分に移行し表面近傍部分に濃縮
して存在しているものである。
In the photoconductive layer of the present invention, photoconductive zinc oxide particles, a spectral sensitizing dye, and the resin particles [L] are dispersed by the resin [A] containing at least the binder resin, and further After the formation of the photoconductive layer, the resin particles [L] immediately migrate to the surface portion of the surface layer and are present in a concentrated manner in the vicinity of the surface.

【0031】即ち、光導電性酸化亜鉛粒子、分光増感色
素、樹脂粒子〔L〕及び樹脂〔A〕が分散された時に、
特定の極性基を特定の位置に結合して成る低分子量の樹
脂〔A〕が、光導電性酸化亜鉛の化学量論的な欠陥に吸
着し、且つ酸化亜鉛及び色素の相互作用する状態への被
覆性及び吸着状態を適切に行なうことで、光導電性酸化
亜鉛のトラップを補償すると共に濃度特性を飛躍的に向
上させる一方、光導電性酸化亜鉛の分散が充分に行われ
、凝集を抑制することによるものと考えられる。
That is, when the photoconductive zinc oxide particles, the spectral sensitizing dye, the resin particles [L] and the resin [A] are dispersed,
A low molecular weight resin [A] consisting of a specific polar group bonded to a specific position adsorbs to the stoichiometric defects of the photoconductive zinc oxide and causes the zinc oxide and the dye to interact with each other. Appropriate coverage and adsorption conditions compensate for trapping of photoconductive zinc oxide and dramatically improve concentration characteristics, while ensuring sufficient dispersion of photoconductive zinc oxide and suppressing agglomeration. This is thought to be due to this.

【0032】特に従来の結着樹脂では、分光増感色素の
種類が変わった時に、吸着等の相互作用が疎害され、満
足な電子写真特性が得られなくなってしまった。しかし
、本発明の樹脂〔A〕を用いると、特に半導体レーザー
光用分光増感に用いる色素でも著しく優れた性能を満足
できる様になる。
In particular, with conventional binder resins, when the type of spectral sensitizing dye changes, interactions such as adsorption are adversely affected, making it impossible to obtain satisfactory electrophotographic properties. However, when the resin [A] of the present invention is used, extremely excellent performance can be achieved even with dyes used particularly for spectral sensitization for semiconductor laser light.

【0033】又、電子写真式平版印刷システムの原版と
して、重要なことの他の1つとして非画像部分が不感脂
化処理により充分に親水化され、印刷時のインキ付着を
生じない高保水性を有することであり、本発明の平版印
刷用原版は該光導電層の表面部分に濃縮させて存在する
樹脂粒子〔L〕が不感脂化処理によって、前記の特定の
親水性基(ヒドロキシル基)を生成し、親水性を発現す
ることで、非画像部分が充分に親水性に改質され地汚れ
を発生しない充分な保水性を発揮する。更には、樹脂〔
A〕により均一に分散された酸化亜鉛粒子を公知の方法
により不感脂化処理して非画像部の親水化を行なうこと
も併用できる。
[0033] Another important aspect of the original plate for an electrophotographic lithographic printing system is that the non-image area is made sufficiently hydrophilic through desensitization treatment, and has high water retention properties that prevent ink from adhering during printing. In the lithographic printing original plate of the present invention, the resin particles [L] concentrated on the surface portion of the photoconductive layer are desensitized to remove the specific hydrophilic groups (hydroxyl groups). By forming and exhibiting hydrophilicity, non-image areas are sufficiently modified to be hydrophilic and exhibit sufficient water retention without causing scumming. Furthermore, resin [
It is also possible to make the non-image area hydrophilic by desensitizing the zinc oxide particles uniformly dispersed in A] by a known method.

【0034】即ち、本発明の原版により、優れた電子写
真特性による良好な複写画像の形成及び複写画像形成後
の不感脂化処理後の非画像部の優れた保水性の困難な問
題を解決することができた。
That is, the original plate of the present invention solves the difficult problems of forming a good copy image due to excellent electrophotographic properties and excellent water retention in the non-image area after the desensitization treatment after forming the copy image. I was able to do that.

【0035】更には、樹脂粒子はフッ素原子及び/又は
ケイ素原子を含有する重合体成分を含んでおり、これに
より該粒子は、光導電層の表面部分に移行・濃縮現象を
起し、不感脂化処理により親水性を示すことが公知技術
の効果と同程度の効果(保水性)を生じさせるのにその
添加量は極く少量で済むことが挙げられる。
Furthermore, the resin particles contain a polymer component containing fluorine atoms and/or silicon atoms, and as a result, the particles migrate and concentrate on the surface of the photoconductive layer, resulting in an insensitive resin. It can be mentioned that the amount of addition is required to be extremely small in order to produce the same effect (water retention) as the effect of the known technology by exhibiting hydrophilicity through the chemical treatment.

【0036】一方本発明の樹脂粒子において、酸化亜鉛
粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が存在すると、電
子写真特性が劣化してくる(特に均一な帯電性が得られ
なくなる)結果として、複写画像において画像部の濃度
ムラ、文字・細線の切れ、飛び、あるいは非画像部の地
カブリ等が発生してしまう。
On the other hand, in the resin particles of the present invention, if the resin particles have a particle size larger than the zinc oxide particle size, the electrophotographic properties deteriorate (particularly, uniform charging properties cannot be obtained), and as a result, In the copied image, density unevenness in the image area, broken or skipped characters and thin lines, and background fog in the non-image area occur.

【0037】具体的には、本発明の樹脂粒子は最大粒子
の粒子径が2μm以下であり、好ましくは0.5μm以
下である。そして、粒子の平均粒子径は0.8μm以下
であり、好ましくは0.5μm以下である。
Specifically, the resin particles of the present invention have a maximum particle size of 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle diameter of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less.

【0038】なお、樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表
面積が大きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用を
もたらし、コロイド粒子(0.01μm以下)程度でも
充分であるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合
と類似してしまい、保水力向上への粒子であることの効
果が薄れてくるため、0.001μm以上で用いるのが
好ましい。
[0038] The smaller the particle diameter of the resin particles, the larger the specific surface area, which brings about good effects on the above-mentioned electrophotographic properties, and colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, but if they are too small, If it is too large, it will resemble the case of molecular dispersion, and the effect of particles on improving water retention capacity will be diminished, so it is preferable to use the particle size at 0.001 μm or more.

【0039】また、本発明において樹脂粒子は疎水性の
重合体成分、即ち、分散安定用樹脂が相当する重合体成
分を結合したものであり、この疎水性部分が光導電層の
結着樹脂と相互作用していることから、この部分のアン
カー効果によって印刷時の湿し水で溶出することはなく
、かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特性を維持
することができる。
Furthermore, in the present invention, the resin particles are made of a hydrophobic polymer component, that is, a dispersion stabilizing resin is bound to a corresponding polymer component, and this hydrophobic portion is bonded to the binder resin of the photoconductive layer. Because of the interaction, the anchor effect of this part prevents it from being eluted by dampening water during printing, and good printing characteristics can be maintained even when printing a large number of sheets.

【0040】又、本発明において、高次の綱目構造を形
成している樹脂粒子であれば更に水での溶出性が抑えら
れ、他方水膨潤性が発現し、更に保水性が良好となる。 本発明において、上記のような高次の綱目構造を形成し
ていない樹脂粒子又は高次の綱目構造を形成している樹
脂粒子(以下、単に綱目樹脂粒子)は、光導電性酸化亜
鉛100重量部に対して0.05〜30重量%の使用量
で用いることが好ましい。樹脂粒子又は綱目樹脂粒子が
0.05重量%より少ないと非画像部の親水性が充分と
ならず、逆に30重量%より多いと非画像部の親水性の
向上は更に図られるが、厳しい条件下での電子写真特性
が劣化し、複写画像が悪化してしまう。
Further, in the present invention, if the resin particles form a higher-order mesh structure, the dissolution in water is further suppressed, and on the other hand, water swelling properties are exhibited, and water retention properties are further improved. In the present invention, the resin particles that do not form a higher-order wire structure as described above or the resin particles that do form a higher-order wire structure (hereinafter simply referred to as "wire resin particles") contain 100% by weight of photoconductive zinc oxide. It is preferably used in an amount of 0.05 to 30% by weight. If the resin particles or mesh resin particles are less than 0.05% by weight, the hydrophilicity of the non-image area will not be sufficient, and if it is more than 30% by weight, the hydrophilicity of the non-image area can be further improved, but it is difficult. The electrophotographic characteristics under these conditions deteriorate, resulting in a deteriorated copy image.

【0041】以下に本発明で用いられる結着樹脂(A)
について詳細に説明する。重量〔A〕において、重量平
均分子量は1×103 〜2×104 、好ましくは3
×103 〜1×104 であり、樹脂〔A〕のガラス
転移点は好ましくは−30℃〜110℃、より好ましく
は−20℃〜90℃である。
Binder resin (A) used in the present invention is described below.
will be explained in detail. In weight [A], the weight average molecular weight is 1 x 103 to 2 x 104, preferably 3
x103 to 1 x104, and the glass transition point of the resin [A] is preferably -30°C to 110°C, more preferably -20°C to 90°C.

【0042】樹脂〔A〕の分子量が103 より小さく
なると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、一
方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、
安定した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れ
てしまう。
If the molecular weight of the resin [A] is less than 103, the film forming ability will decrease and sufficient film strength cannot be maintained, while if the molecular weight is more than 2 x 104, even if the resin of the present invention is used, In photoreceptors using infrared to infrared spectral sensitizing dyes, fluctuations in dark decay retention and photosensitivity become somewhat large under harsh conditions of high temperature and high humidity, and low temperature and low humidity.
The effect of the present invention in obtaining stable copied images is diminished.

【0043】樹脂〔A〕の一般式(I) の繰り返し単
位に相当する重合体成分の存在割合は30重量%以上、
好ましくは50〜97重量%、特定の極性基を含有する
重合体成分の存在割合は0.5〜15重量%、好ましく
は1〜10重量%である。
The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight or more;
Preferably, the proportion of the polymer component containing a specific polar group is 50 to 97% by weight, and 0.5 to 15% by weight, preferably 1 to 10% by weight.

【0044】樹脂〔A〕における極性基含有量が0.5
重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方該極性基含有量が15重量
%よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性が
低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに地
汚れが増大する。
[0044] The polar group content in resin [A] is 0.5
If it is less than % by weight, the initial potential will be low and sufficient image density will not be obtained. On the other hand, if the polar group content is more than 15% by weight, the dispersibility decreases no matter how low the molecular weight is, and furthermore, background smudge increases when used as an offset master.

【0045】また低分子量の樹脂〔A〕としては、前記
した一般式(Ia) 及び一般式(Ib)で示される、
2位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有する
ベンゼン環又は無置換のナフタレン環を有する特定の置
換基をもつメタクリレート成分を含有する、樹脂〔A〕
(以降、この低分子量体を樹脂〔A′〕とする)である
ことが好ましい。
Further, as the low molecular weight resin [A], those represented by the general formula (Ia) and general formula (Ib) described above,
Resin [A] containing a methacrylate component having a specific substituent having a benzene ring or an unsubstituted naphthalene ring at the 2-position and/or the 2-position and the 6-position
(Hereinafter, this low molecular weight material will be referred to as resin [A']).

【0046】樹脂〔A′〕における式(Ia) 及び/
又は式(Ib) の繰り返し単位に相当するメタクリレ
ートの共重合成分の存在割合は30重量%以上、好まし
くは50〜97重量%、特定の極性基含有の重合体成分
の存在割合は樹脂〔A′〕100重量部に対して0.5
〜15重量%、好ましくは1〜10重量%である。
Formula (Ia) and/or in resin [A']
Or, the proportion of the copolymerized component of the methacrylate corresponding to the repeating unit of formula (Ib) is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the specific polar group-containing polymer component is the proportion of the resin [A' ]0.5 per 100 parts by weight
-15% by weight, preferably 1-10% by weight.

【0047】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I) で示される繰り返し単位を更
に説明する。一般式(I) においてa1 ,a2 は
、好ましくは水素原子、シアノ基、炭素数1〜4のアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等)、−COO−R06又は炭化水素基を介した−
COO−R06(R06は、水素原子又は炭素数1〜1
8のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式
基又はアリール基を表し、これらは置換されていてもよ
く、具体的には、下記R03について説明したものと同
様の内容を表す)を表す。
Next, the repeating unit represented by the general formula (I), which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, will be further explained. In general formula (I), a1 and a2 are preferably a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -COO-R06, or a hydrocarbon group. - through the group
COO-R06 (R06 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 1
8 represents an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group, which may be substituted, and specifically represents the same content as described for R03 below) .

【0048】上記炭化水素を介した−COO−R06基
における炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基などが挙げられる。
Hydrocarbons in the -COO-R06 group via the hydrocarbon include methylene group, ethylene group,
Examples include propylene group.

【0049】R03は、炭素数1〜18の置換されてい
てもよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−
シアノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキ
シエチル基、2−エトキシエトキシ基、3−ヒドロキシ
プロピル基等)、炭素数2〜18の置換されていてもよ
いアルケニル基(例えばビニル基、アリル基、イソプロ
ペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、
オクテニル基等)、炭素数7〜12の置換されていても
よいアラルキル基(炭素数ベンジル基、フェネチル基、
ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル基、メトキシベ
ンジル基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等)
、炭素数5〜8の置換されていてもよいシクロアルキル
基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘプチル基等)、置換されていてもよいアリール基(
例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基
、ナフチル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、フロロフェニル基、ジフロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ヨ
ードフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エト
キシカルボニルフェニル基、シアノフェニル基等)等が
挙げられる。
R03 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group) group, tetradecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-
cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethoxy group, 3-hydroxypropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 2 to 18 carbon atoms (e.g. vinyl group, allyl group) , isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group,
octenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (benzyl group, phenethyl group,
naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.)
, an optionally substituted cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.), an optionally substituted aryl group (
For example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, iodophenyl group, methoxycarbonylphenyl group. group, ethoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, etc.).

【0050】更に好ましくは、一般式(I) の繰り返
し単位に相当する共重合体成分において、一般式(Ia
) 及び/又は一般式(Ib) で示される特定のアリ
ール基を含有するメタクリレート成分で表される共重合
体成分(樹脂〔A′〕)が挙げられる。
More preferably, in the copolymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I), the repeating unit of the general formula (Ia
) and/or a copolymer component (resin [A']) represented by a methacrylate component containing a specific aryl group represented by the general formula (Ib).

【0051】式(Ia) において、好ましいT1 及
びT2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子
及び臭素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基とし
て、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭素数7
〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロ
ロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、
メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル基)お
よびアリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリ
ル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基)、並びに−COR0
4及び−COOR05(好ましいR04及びR05とし
ては上記の炭素数1〜10の好ましい炭化水素基として
記載したものを挙げることができる)を挙げることがで
きる。
In formula (Ia), T1 and T2 are preferably hydrogen atoms, chlorine atoms and bromine atoms, respectively, as well as hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms. Alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.), carbon number 7
~9 aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group,
methoxybenzyl group, chloro-methyl-benzyl group) and aryl groups (e.g. phenyl group, tolyl group, xylyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COR0
4 and -COOR05 (preferred examples of R04 and R05 include those described above as preferred hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms).

【0052】式(Ia) 及び(Ib) において、L
1 及びL2 は各々−COO−とベンゼン環を結合す
る直接結合又は−(CH2 )n1−(n1 は1〜3
の整数を表す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH
2 OCO−、−(CH2 O)m1−(m1 は1又
は2の整数を表す)、−CH2 CH2 O−等の如き
連結原子数1〜4個の連結基であり、より好ましくは直
接結合又は結合原子数1〜2個の連結基を挙げることが
できる。
In formulas (Ia) and (Ib), L
1 and L2 are each a direct bond connecting -COO- and a benzene ring or -(CH2)n1- (n1 is 1 to 3
), -CH2 OCO-, -CH2 CH
2 A linking group having 1 to 4 linking atoms such as OCO-, -(CH2O)m1- (m1 represents an integer of 1 or 2), -CH2CH2O-, and more preferably a direct bond or A linking group having 1 to 2 bonded atoms can be mentioned.

【0053】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(Ia
) 又は(Ib) で示される繰り返し単位に相当する
共重合成分の具体例を以下に挙げる。しかし、本発明の
範囲はこれに限定されるものではない。以下の(a−1
)〜(a−20)において、nは1〜4の整数、mは0
又は1〜3の整数、pは1〜3の整数、R10〜R13
はいずれも−Cn H2n+1又は−(CH2 )m 
−C6 H5 (ただし、n,mは上記と同じ)、X1
 及びX2 は同じでも異なってもよく、水素原子、−
Cl、−Br、−I のいずれかを表す。
Formula (Ia) used in the resin [A] of the present invention
) or (Ib) Specific examples of copolymer components corresponding to the repeating units represented by (Ib) are listed below. However, the scope of the present invention is not limited thereto. The following (a-1
) to (a-20), n is an integer of 1 to 4, m is 0
or an integer of 1 to 3, p is an integer of 1 to 3, R10 to R13
are either -Cn H2n+1 or -(CH2)m
-C6 H5 (however, n and m are the same as above), X1
and X2 may be the same or different, and are a hydrogen atom, -
Represents either Cl, -Br, or -I.

【0054】[0054]

【化8】[Chemical formula 8]

【0055】[0055]

【化9】[Chemical formula 9]

【0056】[0056]

【化10】[Chemical formula 10]

【0057】[0057]

【化11】[Chemical formula 11]

【0058】[0058]

【化12】[Chemical formula 12]

【0059】[0059]

【化13】[Chemical formula 13]

【0060】[0060]

【化14】[Chemical formula 14]

【0061】[0061]

【化15】[Chemical formula 15]

【0062】[0062]

【化16】[Chemical formula 16]

【0063】[0063]

【化17】[Chemical formula 17]

【0064】次に低分子量の樹脂〔A〕の特性の極性基
含有成分における極性基について説明する。該極性基は
、−PO3 H2 、−SO3 H,−COOH、−P
(=O)(OH)R01、環状酸無水物含有基から少な
くとも1種選ばれるものであることが好ましい。
Next, the polar groups in the polar group-containing component characteristic of the low molecular weight resin [A] will be explained. The polar group is -PO3 H2, -SO3 H, -COOH, -P
It is preferable that at least one type is selected from (=O)(OH)R01 and a cyclic acid anhydride-containing group.

【0065】−P(=O)(OH)R01基とは、上記
R01が炭化水素基又は−OR02基(R02は炭化水
素基を表す)を表し、具体的にはR01は炭素数1〜2
2の脂肪族基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデ
シル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−メ
トキシエチル基、3−エトキシプロピル基、アリル基、
クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル基、ベンジ
ル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メチル
ベンジル基、クロロベンジル基、フロロベンジル基、メ
トキシベンジル基等)、又は置換されていてもよいアリ
ール基(例えばフェニル基、トリル基、エチルフェニル
基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フロロフ
ェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フェニ
ル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、シア
ノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセチルフェ
ニル基、ブトキシフェニル基等)等であり、R02はR
01と同一の内容である。
-P(=O)(OH)R01 group means that R01 above represents a hydrocarbon group or -OR02 group (R02 represents a hydrocarbon group), specifically, R01 has 1 to 2 carbon atoms.
2 aliphatic groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-ethoxypropyl group) , allyl group,
crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, chlorobenzyl group, fluorobenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), or an optionally substituted aryl group (e.g. Phenyl group, tolyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, chlorophenyl group, fluorophenyl group, bromophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, dichlorophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, acetamidophenyl group, acetylphenyl group , butoxyphenyl group, etc.), and R02 is R
The content is the same as 01.

【0066】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。
Further, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic anhydride, aromatic dicarboxylic anhydride, Things can be mentioned.

【0067】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロペンタン−1,2−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環
、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2
,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタジカルボン酸無水
物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭
素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル
基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていてもよ
い。
Examples of aliphatic dicarboxylic acid anhydrides include:
Succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring acid anhydride ring, 2
, 3-bicyclo[2,2,2]octadicarboxylic acid anhydride rings, etc., and these rings include, for example, halogen atoms such as chlorine atoms and bromine atoms, methyl groups, ethyl groups, butyl groups, hexyl groups, etc. The alkyl group, etc. may be substituted.

【0068】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒ
ドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボ
ニル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エ
トキシ基等)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride ring, naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, pyridine-dicarboxylic anhydride ring, thiophene-dicarboxylic anhydride ring, etc. These rings are
For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (alkoxy groups include, for example, methoxy group, ethoxy groups) etc. may be substituted.

【0069】樹脂〔A〕の極性基を含有する共重合成分
は、例えば一般式(I) 〔一般式(Ia),(Ib)
 も含む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と
共重合し得る該極性基を含有するビニル系化合物であれ
ばいずれでもよく、例えば、高分子学会編「高分子デー
タ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)
等に記載されている。具体的には、アクリル酸、α及び
/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α
−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、
α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリ
ブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブ
ロモ体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロ
ロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エ
ステル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−ア
ルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メ
チル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−
2−ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マ
レイン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミ
ド類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスル
ホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカル
ボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、
及びこれらのカルボン又はスルホン酸のエステル誘電体
、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合物
等が挙げられる。
The polar group-containing copolymerization component of the resin [A] is, for example, one represented by general formula (I) [general formula (Ia), (Ib)
Any vinyl compound containing a polar group that can be copolymerized with a monomer corresponding to a repeating unit shown in ]” Baifukan (published in 1986)
It is described in etc. Specifically, acrylic acid, α- and/or β-substituted acrylic acid (e.g. α-acetoxy form, α
-acetoxymethyl form, α-(2-amino)methyl form,
α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylsilyl form, α-cyano form, β-chloro form, β-bromo form, α-chloro-β-methoxy form, α,β-dichloro form methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid) , 4-methyl-
2-hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acid Half ester derivatives of vinyl or allyl groups of acids,
and ester dielectrics of these carboxyl or sulfonic acids, compounds containing the polar group in the substituent of amide derivatives, and the like.

【0070】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、e1 はH又はCH3 を示し、e2
 はH、CH3 又はCH2COOCH3 を示し、R
14は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R15は炭素
数1〜6のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示
し、cは1〜3の整数を示し、dは2〜11の整数を示
し、eは1〜11の整数を示し、fは2〜4の整数を示
し、gは2〜10の整数を示す。
Examples of copolymerizable components containing polar groups are shown below. Here, e1 represents H or CH3, and e2
represents H, CH3 or CH2COOCH3, R
14 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, R15 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group, or a phenyl group, c represents an integer of 1 to 3, and d represents an integer of 2 to 11. , e represents an integer of 1 to 11, f represents an integer of 2 to 4, and g represents an integer of 2 to 10.

【0071】[0071]

【化18】[Chemical formula 18]

【0072】[0072]

【化19】[Chemical formula 19]

【0073】[0073]

【化20】[C20]

【0074】[0074]

【化21】[C21]

【0075】[0075]

【化22】[C22]

【0076】[0076]

【化23】[C23]

【0077】[0077]

【化24】[C24]

【0078】[0078]

【化25】[C25]

【0079】[0079]

【化26】[C26]

【0080】[0080]

【化27】[C27]

【0081】[0081]

【化28】[C28]

【0082】[0082]

【化29】[C29]

【0083】[0083]

【化30】[C30]

【0084】[0084]

【化31】[Chemical formula 31]

【0085】[0085]

【化32】[C32]

【0086】[0086]

【化33】[Chemical formula 33]

【0087】[0087]

【化34】[C34]

【0088】[0088]

【化35】[C35]

【0089】[0089]

【化36】[C36]

【0090】[0090]

【化37】[C37]

【0091】[0091]

【化38】[C38]

【0092】[0092]

【化39】[C39]

【0093】[0093]

【化40】[C40]

【0094】[0094]

【化41】[C41]

【0095】[0095]

【化42】[C42]

【0096】[0096]

【化43】[C43]

【0097】更に、本発明の低分子量樹脂〔A〕(〔A
′〕を含む)は、前記した一般式(I),(Ia) 及
び/又は(Ib) の単量体及び該極性基を含有した単
量体とともに、これら以外の他の単量体を共重合成分と
して含有してもよい。
Furthermore, the low molecular weight resin [A] of the present invention ([A
']) refers to the monomers of general formula (I), (Ia) and/or (Ib) described above and the monomer containing the polar group, as well as other monomers other than these. It may be contained as a polymerization component.

【0098】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I) で説明した以外の置換基を含有するメ
タクリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロト
ン酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸
ビニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸と
して、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、
ナフタレンカルボン酸等) 、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステ
ル類(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)
 、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン
類(例えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン
、ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチル
スチレン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホ
ニルオキシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルス
ルホン含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビ
ニル類(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビ
ニルイミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾ
リン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキ
ノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等
が挙げられる。これら他の単量体は樹脂〔A〕中30重
量%を越えないことが望ましい。
Examples of such other copolymerization components include, for example, methacrylic esters, acrylic esters, and crotonic esters containing substituents other than those described in general formula (I), as well as α-olefins. vinyl carboxylates or acrylic esters (e.g. carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid,
naphthalene carboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic acid esters (e.g. dimethyl ester, diethyl ester, etc.)
, acrylamides, methacrylamides, styrenes (e.g. styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N,N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, vinylnaphthalene, etc.), vinylsulfone-containing compounds , vinyl ketone-containing compounds, heterocyclic vinyls (eg, vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.). It is desirable that these other monomers do not exceed 30% by weight in the resin [A].

【0099】樹脂〔A〕は、重量平均分子量が1×10
3 〜2×104 の低分子量のランダム共重合体であ
るが、これらの重合方法は、従来公知の方法において、
重合条件を選択することでラジカル重合、イオン重合等
の方法で容易に合成することができる。重合する単量体
、重合溶媒反応設定温度等からラジカル重合反応が、精
製、装置反応方法等から有利で好ましい。
Resin [A] has a weight average molecular weight of 1×10
It is a random copolymer with a low molecular weight of 3 to 2 x 104, but the polymerization method for these is a conventionally known method.
By selecting polymerization conditions, it can be easily synthesized by methods such as radical polymerization and ionic polymerization. Radical polymerization reaction is advantageous and preferable from the viewpoint of purification, apparatus reaction method, etc., considering the monomer to be polymerized, the reaction temperature of the polymerization solvent, etc.

【0100】具体的には、重合開始剤として、通常知ら
れているアゾビス系開始剤、過酸化物等が挙げられる。 特に低分子量体を合成する特徴としては、該開始剤の使
用量の増量、あるいは重合設定温度を高くするといった
公知の方法を適用すればよい。具体的には、開始剤使用
量としては全単量体量に対して、0.1〜20重量部の
範囲で又重合設定温度は30℃〜200 ℃の範囲で行
なう。
Specifically, examples of the polymerization initiator include commonly known azobis-based initiators, peroxides, and the like. In particular, as a feature of synthesizing a low molecular weight substance, known methods such as increasing the amount of the initiator used or increasing the polymerization temperature setting may be applied. Specifically, the amount of initiator used is in the range of 0.1 to 20 parts by weight based on the total amount of monomers, and the polymerization temperature is set in the range of 30°C to 200°C.

【0101】更には、連鎖移動剤を併用する方法も知ら
れている。例えばメルカプト化合物、ハロゲン化化合物
等を全単量体量に対して0.01〜10重量部の範囲で
用いることで所望の重量平均分子量に調整することがで
きる。
Furthermore, a method of using a chain transfer agent in combination is also known. For example, a desired weight average molecular weight can be adjusted by using a mercapto compound, a halogenated compound, etc. in an amount of 0.01 to 10 parts by weight based on the total monomer amount.

【0102】以上の如き低分子量の樹脂〔A〕(〔A′
〕も含む)は、前記した光導電性酸化亜鉛用の公知の樹
脂と併用することが好ましい。低分子量体の樹脂と他の
樹脂との使用割合は5〜50/95〜50(重量比)が
好ましい。
[0102] Low molecular weight resin [A] ([A'
) is preferably used in combination with the above-mentioned known resin for photoconductive zinc oxide. The ratio of low molecular weight resin to other resins is preferably 5-50/95-50 (weight ratio).

【0103】また、本発明において、光導電性酸化亜鉛
、樹脂(全結着樹脂)と樹脂粒子〔L〕の使用割合は1
00/10〜100/0.01〜10(重量比)が好ま
しい。また樹脂〔A〕は全結着樹脂10〜100の中の
5〜50重量%であることが好ましい。
In the present invention, the ratio of photoconductive zinc oxide, resin (total binder resin) and resin particles [L] is 1
00/10 to 100/0.01 to 10 (weight ratio) is preferable. Further, the resin [A] preferably accounts for 5 to 50% by weight of the total binder resin of 10 to 100%.

【0104】併用する他の樹脂としては、重量平均分子
量3×104 〜1×106 、好ましくは5×104
 〜5×105 の中〜高分子量体である。また、併用
する樹脂のガラス転移点は−10℃〜120℃、好まし
くは0℃〜90℃である。
[0104] Other resins used in combination have a weight average molecular weight of 3 x 104 to 1 x 106, preferably 5 x 104.
It is a medium to high molecular weight substance of ~5x105. Further, the glass transition point of the resin used in combination is -10°C to 120°C, preferably 0°C to 90°C.

【0105】例えば、代表的なものは塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチ
レン−メタクリレート共重合体、メタクリレート共重合
体、アクリレート共重合体、酢酸ビニル共重合体、ポリ
ビニルブチラール、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、エポキシエステル樹脂、ポリエステル樹脂
等である。
For example, typical examples include vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, vinyl acetate copolymer, polyvinyl These include butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin, etc.

【0106】具体的には、柴田隆治・石渡次郎「高分子
」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・武
井英彦「イメージング」1973年(No.8)、第9
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.
Tatt,S.C.Heidecker,Tappi,
49(No.10),439(1966)、E.S.B
altazzi,R.G.Blanclotte  e
tal,Photo.Sci.Eng.16(No.5
)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清水
  勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2),
28(1980)、特公昭50−31011、特開昭5
3−54027、同54−20735、同57−202
544、同58−68046各号公報等に開示の材料が
挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwata, "Polymer" Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto and Hidehiko Takei, "Imaging", 1973 (No. 8), No. 9
Page, Koichi Nakamura (ed.) "Practical technology of binders for insulating materials" Chapter 10, C. H. C. Publishing (1985), D. D.
Tatt, S. C. Heidecker, Tappi,
49 (No. 10), 439 (1966), E. S. B
altazzi, R. G. Blanclotte e
tal, Photo. Sci. Eng. 16 (No.5
), 354 (1972), Nguyen Tranh Khe, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Electrophotography Society Journal 18 (No. 2),
28 (1980), Japanese Patent Publication No. 50-31011, Japanese Patent Publication No. 5
3-54027, 54-20735, 57-202
544, 58-68046, and the like.

【0107】更に併用する好ましい樹脂である中〜高分
子量体の樹脂として、前記した物性を満たし、好ましく
は下記一般式(III)で示される繰り返し単位の重合
体成分を30%重量部以上含有する重合体が挙げられる
[0107] Further, as a medium to high molecular weight resin which is a preferable resin to be used in combination, it satisfies the above-mentioned physical properties and preferably contains 30% by weight or more of a polymer component having a repeating unit represented by the following general formula (III). Examples include polymers.

【0108】[0108]

【化44】[C44]

【0109】〔式(III)中、IIIは、−COO−
,−OCO−,−(CH2 )q −OCO−,−(C
H2 )q −COO−,−O−または−SO2 −を
表す。但しqは1〜4の整数を表す〕 一般式(III)において、f3 及びf4 は、水素
原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シ
アノ基又は炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表す。R1
3は、炭素数1〜18の置換されていてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、トリデシル基、テトラデシル基、2−クロロ
エチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、
2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基等)、炭
素数2〜18の置換されていてもよいアルケニル基(例
えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル
基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、
炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキル基(
例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、
2−ナフチルエチル基、メトキシベンジル基、エトキシ
ベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の置
換されていてもよいシクロアルキル基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、
置換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、トリ
ル基、キシル基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、フロロフェニル基、ジ
フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基
、シアノフェニル基、ニトロフェニル基等)が挙げられ
る。
[In formula (III), III is -COO-
, -OCO-, -(CH2)q -OCO-, -(C
H2 )q represents -COO-, -O- or -SO2 -. However, q represents an integer of 1 to 4.] In the general formula (III), f3 and f4 are hydrogen atoms, halogen atoms (e.g., chlorine atoms, bromine atoms), cyano groups, or alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms (e.g. , methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.). R1
3 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group) group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group,
2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-
ethoxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 2 to 18 carbon atoms (e.g. vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.) ),
An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (
For example, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group,
2-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), optionally substituted cycloalkyl groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.),
Aryl groups that may be substituted (e.g. phenyl group, tolyl group, xyl group, mesityl group, naphthyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, fluorophenyl group, difluorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group) , iodophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, nitrophenyl group, etc.).

【0110】一般式(III)で示される重合体成分を
含有する中〜高分子量の結着樹脂〔B〕としては、例え
ば式(III)で示される重合体成分含有のランダム共
重合体の樹脂(特開昭63−49817、同63−22
0149、同63−220148各号公報等)、該ラン
ダム共重合体と架橋性樹脂との併用樹脂(特開平1−2
11766、同1−102573各号公報)、式(II
I)で示される重合体成分を含有し予め部分架橋されて
いる共重合体(特開平2−34860、同2−4066
0各号公報)、特定の繰り返し単位の重合体成分からな
る一官能性マクロモノマーと式(III)で示される成
分に相当する単量体との重合によるグラフト型ブロック
共重合体(特願昭63−203933、同63−207
317、特願平1−163796、1−212994、
同1−229379、同1−189245各号として本
発明者等がすでに出願中)等が挙げられる。
[0110] As the medium to high molecular weight binder resin [B] containing the polymer component represented by the general formula (III), for example, a random copolymer resin containing the polymer component represented by the formula (III) (Unexamined Japanese Patent Publication No. 63-49817, No. 63-22
0149, JP 63-220148, etc.), a combination resin of the random copolymer and a crosslinkable resin (JP-A-1-2
11766, 1-102573), formula (II
A copolymer containing a polymer component represented by I) and partially crosslinked in advance (JP-A-2-34860, JP-A-2-4066)
No. 0 publications), graft-type block copolymers produced by polymerizing a monofunctional macromonomer consisting of a polymer component of a specific repeating unit and a monomer corresponding to the component represented by formula (III) (Patent Application No. 0) 63-203933, 63-207
317, Patent Application Hei 1-163796, 1-212994,
1-229379 and 1-189245 (which the present inventors have already applied for).

【0111】次に、本発明で用いられる非水溶媒系分散
樹脂粒子について詳細に説明する。本発明の樹脂粒子は
、いわゆる非水系分散重合によって製造されたものであ
る。
Next, the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles used in the present invention will be explained in detail. The resin particles of the present invention are produced by so-called non-aqueous dispersion polymerization.

【0112】本発明の非水溶媒系分散樹脂粒子は、重合
後には該非水溶媒には不溶となる、分解して少なくとも
1個のヒドロキシル基を生成する官能基を少なくとも1
種含有する一官能性単量体(C)からなる重合体成分〔
重合体成分(C)と略記する〕と、フッ素原子及び/又
はケイ素原子を少なくとも置換基として含有する一官能
性単量体(D)とを、該非水溶媒に可溶性となる分散安
定用樹脂の存在下に重合させることによって得られるこ
とを特徴とする。
The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles of the present invention contain at least one functional group that becomes insoluble in the non-aqueous solvent after polymerization and that decomposes to produce at least one hydroxyl group.
Polymer component consisting of monofunctional monomer (C) containing species [
A polymer component (C)] and a monofunctional monomer (D) containing at least a fluorine atom and/or a silicon atom as a substituent are combined into a dispersion stabilizing resin that is soluble in the non-aqueous solvent. It is characterized by being obtained by polymerization in the presence of

【0113】本発明に供される樹脂粒子は、その平均粒
子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じか、そ
れよりも小さく且つ粒子径の分布が狭く粒子径がそろっ
ているものである。
[0113] The resin particles used in the present invention have an average particle size that is the same as or smaller than the maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle size distribution and uniform particle size. It is.

【0114】具体的には、本発明の樹脂粒子は最大粒子
の粒子径が2μm以下であり、好ましくは0.5μm以
下である。そして、粒子の平均粒子径は0.8μm以下
であり、好ましくは0.5μm以下である。
Specifically, the resin particles of the present invention have a maximum particle diameter of 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle diameter of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less.

【0115】なお、分散樹脂粒子は、粒子径が小さい程
比表面積が大きくなり、上記の電子写真特性上良好な作
用をもたらし、コロイド粒子(0.01μm以下)程度
でも充分であるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の
場合と類似してしまい、保水力向上への粒子であること
の効果が薄れてくるため、0.001μm以上で用いる
のが好ましい。
[0115] The smaller the particle diameter of the dispersed resin particles, the larger the specific surface area, which brings about good effects on the electrophotographic properties mentioned above, and colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient, but if they are too small, If the particle size is too large, it will resemble the case of molecular dispersion, and the effect of particles on improving water retention capacity will be diminished, so it is preferable to use the particle size at 0.001 μm or more.

【0116】また、分散樹脂粒子の分子量は104 〜
106であり、好ましくは104 〜5×105 であ
る。
[0116] The molecular weight of the dispersed resin particles is 104~
106, preferably 104 to 5×105.

【0117】本発明において、上記のような高次の綱目
構造を形成していない樹脂粒子又は高次の綱目構造を形
成している樹脂粒子(以下、単に綱目樹脂粒子)は、光
導電性酸化亜鉛100重量部に対して0.01〜10重
量%の使用量で用いることが好ましい。樹脂粒子又は綱
目樹脂粒子が0.01重量%より少ないと非画像部の親
水性が充分とならず、逆に10重量%より多いと非画像
部の親水性の向上は更に図られるが、厳しい条件下での
電子写真特性が劣化し、複写画像が悪化してしまう。
[0117] In the present invention, resin particles that do not form a higher-order wire structure as described above or resin particles that do have a higher-order wire structure (hereinafter simply referred to as "wire resin particles") are photoconductive oxidized resin particles. It is preferably used in an amount of 0.01 to 10% by weight based on 100 parts by weight of zinc. If the resin particles or mesh resin particles are less than 0.01% by weight, the hydrophilicity of the non-image area will not be sufficient, and if it is more than 10% by weight, the hydrophilicity of the non-image area can be further improved, but it is difficult. The electrophotographic characteristics under these conditions deteriorate, resulting in a deteriorated copy image.

【0118】該樹脂中の重合成分として、単量体(C)
の存在割合は、30重量%以上好ましくは50重量%以
上であり、単量体(D)の存在割合は0.5重量%〜3
0重量%、好ましくは1重量%〜20重量%である。他
の共重合し得る単量体を含有する場合は多くても20重
量%以下である。
Monomer (C) as a polymerization component in the resin
The abundance ratio of monomer (D) is 30% by weight or more, preferably 50% by weight or more, and the abundance ratio of monomer (D) is 0.5% by weight to 3% by weight.
0% by weight, preferably 1% to 20% by weight. When other copolymerizable monomers are contained, the amount is at most 20% by weight or less.

【0119】本発明の分散安定用樹脂の、該非水溶媒へ
の溶解性は、具体的には該溶媒100重量部に対し、温
度25℃において少なくとも5重量%溶解するものであ
ればよい。
[0119] Specifically, the solubility of the dispersion stabilizing resin of the present invention in the nonaqueous solvent is such that it dissolves at least 5% by weight in 100 parts by weight of the solvent at a temperature of 25°C.

【0120】また、該分散安定用樹脂の重量平均分子量
は1×103 〜5×105 であり好ましくは2×1
03 〜1×104 、特に好ましくは3×103 〜
5×104である。
[0120] The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1 x 103 to 5 x 105, preferably 2 x 1
03 to 1×104, particularly preferably 3×103 to
It is 5×104.

【0121】分散安定用樹脂の重量平均分子量が1×1
03 未満になると、生成した分散樹脂粒子の凝集が発
生し、平均粒径が揃った微粒子が得られなくなってしま
う。一方5×105 を越えると、表面層中に添加した
時に電子写真特性を満足しつつ保水性向上するという本
発明の効果が薄れてしまう。
[0121] The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1×1
If it is less than 0.03, the produced dispersed resin particles will aggregate, making it impossible to obtain fine particles with a uniform average particle size. On the other hand, if it exceeds 5 x 105, the effect of the present invention of improving water retention while satisfying electrophotographic properties when added to the surface layer will be diminished.

【0122】本発明の分散安定用樹脂の繰り返し単位の
総和において、フッ素原子又は/及びケイ素原子を含有
する置換基を有する繰り返し単位は、全体の40重量%
以上含有されていることが好ましく、より好ましくは6
0〜100重量%である。
[0122] In the total number of repeating units in the dispersion stabilizing resin of the present invention, repeating units having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom account for 40% by weight of the total.
It is preferable that the content is 6 or more, more preferably 6
It is 0 to 100% by weight.

【0123】本発明の上記成分が全体の40重量%未満
になると、樹脂粒子が表面層に分散された時に表面部分
への濃縮効果が低下し、結果として、印刷原版としての
保水性向上の効果が薄れてしまう。
[0123] When the above-mentioned components of the present invention are less than 40% by weight of the total, the effect of concentrating the resin particles on the surface layer when dispersed in the surface layer decreases, and as a result, the effect of improving water retention as a printing original plate decreases. fades away.

【0124】前記のように不溶化する単量体(C)及び
単量体(D)に対して、好ましくは分散安定用樹脂を1
〜50重量%、さらに好ましくは2〜30重量%使用す
る。
Preferably, 1 part of the dispersion stabilizing resin is added to the monomer (C) and monomer (D) to be insolubilized as described above.
~50% by weight, more preferably 2-30% by weight.

【0125】以下に該光導電層中に、分散されて成る本
発明の樹脂粒子〔L〕について更に詳しく説明する。
The resin particles [L] of the present invention dispersed in the photoconductive layer will be explained in more detail below.

【0126】本発明において用いられる分解して少なく
とも1個のヒドロキシル基を生成する官能基を少なくと
も1種含有する単量体(C)(以下単に、ヒドロキシル
基生成官能基含有単量体(C)と称することもある)に
ついて詳しく説明する。
Monomer (C) containing at least one functional group that can be decomposed to generate at least one hydroxyl group (hereinafter simply referred to as hydroxyl group-forming functional group-containing monomer (C)) used in the present invention ) will be explained in detail.

【0127】本発明のヒドロキシル基生成官能基含有樹
脂に含まれる官能基は分解によってヒドロキシル基を生
成するが、1つの官能基から生成するヒドロキシル基は
1個でも2個以上でもよい。
The functional groups contained in the hydroxyl group-forming functional group-containing resin of the present invention generate hydroxyl groups by decomposition, and the number of hydroxyl groups generated from one functional group may be one or two or more.

【0128】本発明の1つの好ましい態様によればヒド
ロキシル基生成官能基含有樹脂は、一般式(IV):〔
−O−L〕で示される官能基を少なくとも1種含有する
樹脂である。
According to one preferred embodiment of the present invention, the hydroxyl group-forming functional group-containing resin has the general formula (IV):
-O-L] is a resin containing at least one kind of functional group.

【0129】一般式(IV)〔−O−L〕において、L
は−Si(R1 ′)(R2 ′)(R3 ′),−C
O−Y1 ,−CO−Z−Y2 ,−CH=CH−CH
3 、又は
In general formula (IV) [-O-L], L
is -Si(R1')(R2')(R3'), -C
O-Y1, -CO-Z-Y2, -CH=CH-CH
3 or

【0130】[0130]

【化45】[C45]

【0131】を表わす。但し、R1 ′,R2 ′,R
3 ′,R4 ′,R5 ′,R6 ′は互いに同じで
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−O
−R′(R′は炭化水素基を示す)を表わし、Y1 ,
Y2 は炭化水素基を表わし、Zは酸素原子、イオウ原
子又は−NH−基を表わし、Xはイオウ原子又は酸素原
子を表わす。
Represents [0131]. However, R1 ′, R2 ′, R
3', R4', R5', and R6' may be the same or different and each represents a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -O
-R'(R' represents a hydrocarbon group), Y1,
Y2 represents a hydrocarbon group, Z represents an oxygen atom, a sulfur atom or an -NH- group, and X represents a sulfur atom or an oxygen atom.

【0132】上記一般式〔−O−L〕の官能基は分解に
よってヒドロキシル基を生成するものであり、以下更に
詳しく説明する。Lが−Si (R1 ′)(R2 ′
)(R3 ′)を表わす場合において、R1 ′,R2
 ′, R3 ′は互いに同じでも異なっていてもよく
、好ましくは水素原子、置換されてもよい炭素数1〜1
8の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、クロロエ
チル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基等)、
置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペンチル基、
シクロヘキシル基等)、置換されてもよい炭素数7〜1
2のアラルキル基(例えばベンジル基、フエネチル基、
フロロベンジル基、クロロベンジル基、メチルベンジル
基、メトキシベンジル基、3−フエニルプロピル基等)
又は置換されてもよい芳香族基(例えばフエニル基、ナ
フチル基、クロロフエニル基、トリル基、メトキシフエ
ニル基、メトキシカルボニルフエニル基、ジクロロフエ
ニル基等)又は−O−R′(R′は炭化水素基を表わし
、具体的には上記R1 ′R2 ′, R3 ′の炭化
水素基と同一の置換基類を示す)を表わす。
The functional group represented by the above general formula [--O--L] generates a hydroxyl group upon decomposition, and will be explained in more detail below. L is −Si (R1 ′)(R2 ′
)(R3 ′), R1 ′, R2
', R3' may be the same or different, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted carbon number of 1 to 1
8 linear or branched alkyl groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group, methoxypropyl group, etc.) ),
Optionally substituted alicyclic groups (e.g. cyclopentyl group,
cyclohexyl group, etc.), 7 to 1 carbon atoms that may be substituted
2 aralkyl groups (e.g. benzyl group, phenethyl group,
fluorobenzyl group, chlorobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, 3-phenylpropyl group, etc.)
or an aromatic group that may be substituted (e.g. phenyl group, naphthyl group, chlorophenyl group, tolyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, dichlorophenyl group, etc.) or -O-R'(R' is It represents a hydrocarbon group, and specifically represents the same substituents as the hydrocarbon groups of R1', R2' and R3' above.

【0133】Lが−CO−Y1 を表わす場合において
、Y1 は好ましくは置換されてもよい炭素数1〜6の
直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリク
ロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル
基、フエノキシメチル基、2,2,2−トリフルオロエ
チル基、t−ブチル基、ヘキサフルオロ−i−プロピル
基等)、置換されてもよい炭素数7〜9のアラルキル基
(例えばベンジル基、フエネチル基、メチルベンジル基
、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、メ
トキシベンジル基等)、置換されてもよい炭素数6〜1
2のアリール基(例えばフエニル基、ニトロフエニル基
、シアノフエニル基、メタンスルホニルフエニル基、メ
トキシフエニル基、ブトキシフエニル基、クロロフエニ
ル基、ジクロロフエニル基、トリフルオロメチルフエニ
ル基等)を表わす。
[0133] When L represents -CO-Y1, Y1 is preferably an optionally substituted straight or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, a trichloromethyl group, a trifluoromethyl group). , methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexafluoro-i-propyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.), optionally substituted with 6 to 1 carbon atoms
2 aryl group (eg, phenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, methanesulfonylphenyl group, methoxyphenyl group, butoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.).

【0134】Lが−CO−Z−Y2 を表わす場合にお
いて、Zは酸素原子、イオウ原子又は−NH−結合基を
表わし、Y2 は上記したY1 と同義である。更にL
が、
When L represents -CO-Z-Y2, Z represents an oxygen atom, a sulfur atom or an -NH- bonding group, and Y2 has the same meaning as Y1 described above. Further L
but,

【0135】[0135]

【化46】[C46]

【0136】を表わす場合において、Xは酸素原子又は
イオウ原子を表わす。R4 ′,R5 ′,R6 ′は
互いに同じでも異なっていてもよく、具体的には前記し
たR1 〜3 と同一の内容を表わす。
In the case where X represents an oxygen atom or a sulfur atom. R4', R5', and R6' may be the same or different, and specifically represent the same contents as R1 to R3 described above.

【0137】本発明に用いられる一般式〔−O−L〕の
群から選択される官能基を少なくとも1種含有する単量
体〔C〕の合成は、従来公知の有機合成反応によって容
易に合成することができる。
Monomer [C] containing at least one functional group selected from the group of general formula [-O-L] used in the present invention can be easily synthesized by conventionally known organic synthesis reactions. can do.

【0138】例えば、日本化学会編「新実験化学講座第
14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第2497頁
(丸善株式会社刊)、J.F.W.McOmie「Pr
otective  groups  in  Org
anic  Chemistry」(Plenum  
Press.1973年刊),T.W.Greene「
Protective  groups  in  O
rganic  Synthesis」(John  
Wiley  &  Sons−Interscien
ce,1981年刊)等に記載のヒドロキシル基への保
護基の導入の方法と同様の合成反応により製造できる。
For example, "New Experimental Chemistry Course Volume 14, Synthesis and Reactions of Organic Compounds [V]" edited by the Chemical Society of Japan, page 2497 (published by Maruzen Co., Ltd.), J. F. W. McOmie “Pr.
otective groups in Org
anic Chemistry” (Plenum
Press. (published in 1973), T. W. Greene
Protective groups in O
rganic Synthesis” (John
Wiley & Sons-Interscience
It can be produced by a synthetic reaction similar to the method for introducing a protecting group into a hydroxyl group as described in J. CE, 1981).

【0139】前述の如き、一般式〔−O−L〕の官能基
を含有する単量体(C)について更に具体的に述べると
、例えば下記一般式(V)の如き化合物が挙げられる。
More specifically, the monomer (C) containing a functional group represented by the general formula [--O--L] as described above may include, for example, a compound represented by the following general formula (V).

【0140】[0140]

【化47】[C47]

【0141】式(V)中、X′は−O−,−CO−,−
COO−,−OCO−,−N(Q1 )CO−,−CO
N(Q2 )−,−SO2−,−SO2 N(Q3 )
−,−N(Q4 )SO2 −,−CH2 COO−,
−CH2 OCO−,−〔C(g1 )(g2 )〕n
 −,芳香族基、又はヘテロ環基を示す〔但し、Q1 
,Q2 ,Q3 ,Q4 は各々水素原子、炭化水素基
、又は式(V)中の−〔Y′−O−L〕を表わし、g1
 ,g2 は同じでも異なっていてもよく、水素原子、
炭化水素基又は式(V)中の(Y′−O−L)を表わし
、nは0〜18の整数を示す〕。
In formula (V), X' is -O-, -CO-, -
COO-, -OCO-, -N(Q1)CO-, -CO
N(Q2)-,-SO2-,-SO2 N(Q3)
-, -N(Q4)SO2 -, -CH2 COO-,
-CH2 OCO-, -[C(g1)(g2)]n
-, aromatic group, or heterocyclic group [However, Q1
, Q2, Q3, and Q4 each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -[Y'-O-L] in formula (V), and g1
, g2 may be the same or different, and hydrogen atoms,
represents a hydrocarbon group or (Y'-O-L) in formula (V), and n represents an integer of 0 to 18].

【0142】Y′は結合基X′と結合基〔−O−L〕を
連結するヘテロ原子を介してもよい炭素−炭素結合を表
わし(ヘテロ原子としては酸素原子、イオウ原子又は窒
素原子が挙げられる)、例えば−〔C(g3 )(g4
 )〕−,−C6 H10−,−C6 H4 −,−(
CH=CH)−,−O−,−S−,−N(g5 )−,
−COO−,−CONH−,−SO2 −,−SO2 
NH−,−NHCOO−,−NHCONH−等の結合単
位の単独又は組合せの構成より成るものである(但しg
3 ,g4 ,g5 は各々前記g1 ,g2 と同義
である)。
[0142] Y' represents a carbon-carbon bond which may be via a hetero atom that connects the bonding group ), for example -[C(g3)(g4
)]-,-C6 H10-,-C6 H4-,-(
CH=CH)-, -O-, -S-, -N(g5)-,
-COO-, -CONH-, -SO2 -, -SO2
It consists of bonding units such as NH-, -NHCOO-, -NHCONH-, etc., singly or in combination (however, g
3, g4, and g5 have the same meanings as g1 and g2, respectively).

【0143】Lは式(IV)と同じ意味を有する。 d1 ,d2 は同じでも異なっていてもよく、水素原
子、炭化水素基(例えば−COOH等で置換されてもよ
い炭素数1〜12のアルキル基等)、−COOH又は−
COO−W〔Wは一般式(−O−L)基を含む置換基で
置換されてもよい炭素数1〜18のアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、脂環式基、芳香族基を示す〕を
表わす。
L has the same meaning as in formula (IV). d1 and d2 may be the same or different and are a hydrogen atom, a hydrocarbon group (for example, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with -COOH etc.), -COOH or -
COO-W [W represents a C1-C18 alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, aromatic group which may be substituted with a substituent containing the general formula (-OL) group ] represents.

【0144】更に具体的には、一般式〔−O−L〕の官
能基を含有する単量体として以下の様な化合物例を挙げ
ることができる。但し、Meはメチル基を表わす。
More specifically, the following compounds may be mentioned as monomers containing a functional group of the general formula [--O--L]. However, Me represents a methyl group.

【0145】[0145]

【化48】[C48]

【0146】[0146]

【化49】[C49]

【0147】[0147]

【化50】[C50]

【0148】[0148]

【化51】[C51]

【0149】[0149]

【化52】[C52]

【0150】本発明のもう1つの好ましい態様によれば
ヒドロキシル基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に
近い位置にある少なくとも2つのヒドロキシル基を1つ
の保護基で同時に保護した形で有する官能基を少なくと
も1種含有する樹脂である。
According to another preferred embodiment of the present invention, the hydroxyl group-generating functional group-containing resin has a functional group having at least two hydroxyl groups located sterically close to each other and simultaneously protected with one protecting group. It is a resin containing at least one kind of.

【0151】互いに立体的に近い位置にある少なくとも
2つのヒドロキシル基を1つの保護した形で有する官能
基の例としては例えば下記一般式(VI),(VII)
、(VIII)、(IX)で表わされるものを挙げるこ
とができる。
Examples of functional groups having at least two hydroxyl groups in a protected form that are sterically close to each other include the following general formulas (VI) and (VII).
, (VIII), and (IX).

【0152】[0152]

【化53】[C53]

【0153】式(VI)中、J1 ,J2 は互いに同
じでも異なってもよく、水素原子、炭化水素基又は−O
−O−R″(R″は炭化水素基を示す)を表わし、Uは
ヘテロ原子を介してもよい炭素−炭素結合を表わす(但
し、酸素原子間の原子数は5個以内である)。
In formula (VI), J1 and J2 may be the same or different and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group or -O
-O-R''(R'' represents a hydrocarbon group), and U represents a carbon-carbon bond which may be via a heteroatom (however, the number of atoms between oxygen atoms is 5 or less).

【0154】[0154]

【化54】[C54]

【0155】式(VII)中、Uは上記定義の通りであ
る。
In formula (VII), U is as defined above.

【0156】[0156]

【化55】[C55]

【0157】式(VIII)中、R7 ,R8 及びU
は上記定義の通りである。
In formula (VIII), R7, R8 and U
is as defined above.

【0158】[0158]

【化56】[C56]

【0159】式(IX)中、J1 ,J2 は上記定義
通りである。J3 は水素原子、又は炭素数1〜8の脂
肪族基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基等のアルキル基、あるいはベンジル基、フエネチル
基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロベ
ンジル基等のアラルキル基等を表わす)を表わす。
In formula (IX), J1 and J2 are as defined above. J3 is a hydrogen atom, or an aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms (for example, an alkyl group such as a methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, or a benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, or chlorobenzyl group) (represents an aralkyl group such as a group).

【0160】該官能基について更に詳しく説明すると以
下の通りとなる。式(VI)中、J1 ,J2 は互い
に同じでも異なってもよく、好ましくは水素原子、炭素
数1〜12の置換されてもよいアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、
2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭素数7〜9
の置換されてもよいアラルキル基(例えばベンジル基、
フエネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基
、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7の脂環式基(例
えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換さ
れてもよいアリール基(例えばフエニル基、クロロフエ
ニル基、メトキシフエニル基、メチルフエニル基、シア
ノフエニル基等)又は−O−R′′′(R′′′はJ1
 ,J2 における炭化水素基と同義である)を表わす
A more detailed explanation of the functional group is as follows. In formula (VI), J1 and J2 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, hexyl group,
2-methoxyethyl group, octyl group, etc.), carbon number 7-9
an optionally substituted aralkyl group (e.g. benzyl group,
phenethyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chlorobenzyl group, etc.), alicyclic groups having 5 to 7 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), optionally substituted aryl groups (e.g. phenyl group, chlorophenyl group) group, methoxyphenyl group, methylphenyl group, cyanophenyl group, etc.) or -O-R'''(R''' is J1
, J2).

【0161】Uはヘテロ原子を介してもよい炭素−炭素
結合を表わし、且つ酸素原子間の原子数は5個以内であ
る。以上の如き、少なくとも2つのヒドロキシル基を1
つの保護基で保護した形で有する単量体(C)は、前記
〔−O−L〕の合成方法で引用したと同一の公知技術文
献等に記載された方法で合成することができる。
[0161] U represents a carbon-carbon bond which may be via a heteroatom, and the number of atoms between oxygen atoms is 5 or less. At least two hydroxyl groups as described above
Monomer (C) protected with two protecting groups can be synthesized by the method described in the same known technical documents cited in the synthesis method of [-O-L].

【0162】更に具体的に、該官能基を含有する単量体
の例を挙げると以下の様なものがある。ただし、aは−
H又は−CH3 を示す。
More specifically, examples of monomers containing the functional group include the following. However, a is -
Indicates H or -CH3.

【0163】[0163]

【化57】[C57]

【0164】[0164]

【化58】[C58]

【0165】[0165]

【化59】[C59]

【0166】以上の様な分解してヒドロキシル基生成の
官能基含有の単量体(C)とともに共重合し得る、フッ
素原子及び/又はケイ素原子を少なくとも2個以上含有
する置換基を含む一官能性単量体(D)について説明す
ると、本発明の一官能性単量体(D)は、上記要件を満
たす化合物であれば何れでもよい。また、以下に具体的
な置換基の内容を説明するが、これらの化学構造に限定
されるものではない。
A monofunctional monofunctional compound containing a substituent containing at least two fluorine atoms and/or silicon atoms, which can be copolymerized with the monomer (C) containing a functional group that can be decomposed to form a hydroxyl group as described above. Regarding the monofunctional monomer (D), the monofunctional monomer (D) of the present invention may be any compound that satisfies the above requirements. Further, although the specific contents of the substituents will be explained below, they are not limited to these chemical structures.

【0167】フッ素原子含有の置換基としては、例えば
−C h F2h+1(hは1〜12の整数を表わす)
、−(CF 2 ) j CF2 H (jは1〜11
の整数を表わす)、−C 6 H l F l’〔(l
 、l’は各々1〜5の整数、但し、l+l’=5)又
は(l =5−l’、l’は1〜5の整数)〕等が挙げ
られる。
Examples of the fluorine atom-containing substituent include -C h F2h+1 (h represents an integer from 1 to 12)
, -(CF 2 ) j CF2 H (j is 1 to 11
), -C 6 H l F l' [(l
, l' are each an integer of 1 to 5, provided that l+l'=5) or (l=5-l', l' is an integer of 1 to 5).

【0168】ケイ素原子含有の置換基としては例えば、
−Si(R3 )(R 4 )(R 5 ) 、− S
i(R 6 )(R 7 )O  k −R8 (kは
1〜20の整数を表わす)、ポリシロキサン構造等が挙
げられる。
Examples of silicon atom-containing substituents include:
-Si(R3)(R4)(R5), -S
Examples include i(R 6 )(R 7 )O k -R8 (k represents an integer of 1 to 20), a polysiloxane structure, and the like.

【0169】但し、R 3 , R 4 , R 5は
、同じでも異なってもよく、置換されていてもよい炭化
水素基又は−OR9 基(R 9 は、R 3 の炭化
水素基と同一の内容を表わす)を表わす。
[0169] However, R 3 , R 4 , and R 5 may be the same or different, and may be a substituted hydrocarbon group or an -OR9 group (R 9 has the same content as the hydrocarbon group of R 3 ).

【0170】R 3 は、炭素数1〜18の置換されて
もよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、2−クロロエチル基、2
−ブロモエチル基、2,2,2−トリフロロエチル基、
2−シアノエチル基、3,3,3−トリフロロプロピル
基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2,2,2,2′,2
′,2′−ヘキサフロロイソプロピル基、等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペ
ンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキ
シル基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6
〜12の置換されていてもよい芳香族基(例えば、フェ
ニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピル
フェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、
ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフ
ェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピルアミドフェニル基、ドデシロイル
アミドフェニル基等)があげられる。
R 3 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group,
Dodecyl group, hexadecyl group, 2-chloroethyl group, 2
-bromoethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group,
2-cyanoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 2-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, 2
-methoxycarbonylethyl group, 2,2,2,2',2
',2'-hexafluoroisopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2
-Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-
methyl-2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group,
phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group,
methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), or carbon Number 6
~12 optionally substituted aromatic groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group,
Dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxy (carbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propylamidophenyl group, dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0171】−OR9 基において、R 9 は、上記
R 3 の炭化水素基と同一の内容を表わす。
In the -OR9 group, R 9 represents the same content as the hydrocarbon group of R 3 above.

【0172】R 6 , R 7 , R 8 は同じ
でも異なってもよく、R 3 , R 4 , R 5
 と同一の記号の内容を表わす。
R 6 , R 7 , R 8 may be the same or different, and R 3 , R 4 , R 5
represents the same symbol content as .

【0173】次に、以上の様なフッ素原子及び/又はケ
イ素原子を含有した置換基を有する繰り返し単位の具体
例を以下に示す。ここで、bはH又はCH3 を示し、
Rfは−CH 2 C h C 2h+1 −(CH 
2 ) 2 −(CF2 ) j CF2 H を示し
、R 1 ′, R 2 ′, R 3 ′は炭素数1
〜12のアルキル基を示し、R″は−Si(CH 3 
) 3 を示し、hは1〜12の整数を示し、jは1〜
11の整数を示し、iは1〜3の整数を示し、lは1〜
5の整数を示し、qは1〜20の整数を示し、rは0又
は1〜20の整数を示し、およびtは2〜12の整数を
示す。しかし、本発明の範囲がこれらに限定されるもの
ではない。
Next, specific examples of repeating units having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom as described above are shown below. Here, b represents H or CH3,
Rf is -CH2ChC2h+1-(CH
2) 2-(CF2)j CF2H, R1', R2', R3' have 1 carbon number
~12 alkyl group, R'' is -Si(CH3
) 3, h is an integer from 1 to 12, and j is from 1 to
represents an integer of 11, i represents an integer of 1 to 3, and l represents an integer of 1 to 3.
q represents an integer of 1 to 20, r represents 0 or an integer of 1 to 20, and t represents an integer of 2 to 12. However, the scope of the present invention is not limited thereto.

【0174】[0174]

【化60】[C60]

【0175】[0175]

【化61】[C61]

【0176】[0176]

【化62】[C62]

【0177】[0177]

【化63】[C63]

【0178】[0178]

【化64】[C64]

【0179】[0179]

【化65】[C65]

【0180】[0180]

【化66】[C66]

【0181】[0181]

【化67】[C67]

【0182】以上の様な極性基含有の単量体(C)及び
フツ素原子及び/又はケイ素原子含有の単量体(D)と
ともに、これら以外の共重合し得る他の単量体を重合体
成分として含有してもよい。
[0182] Together with the polar group-containing monomer (C) and the fluorine atom- and/or silicon atom-containing monomer (D) as described above, other copolymerizable monomers other than these are polymerized. It may be contained as a combined component.

【0183】他の単量体としては後記する一般式(X)
の繰り返し単位に相当する単量体ちあるいは該式(X)
で示される成分に相当する単量体と共重合するものが挙
げられる。
Other monomers include the general formula (X) shown below.
A monomer corresponding to the repeating unit of formula (X)
Examples include those copolymerized with monomers corresponding to the components shown in .

【0184】この非水溶液に不溶となる重合成分として
重要なことは、前記した蒸留水に対する接触角で表され
る親水性が50度以下を満足できるものであればよい。
[0184] It is important that the polymeric component insoluble in this non-aqueous solution has a hydrophilicity of 50 degrees or less as expressed by the above-mentioned contact angle with distilled water.

【0185】本発明の分散安定用樹脂は、該非水溶媒に
可溶性の重合体であればいずれでもよいが、具体的には
、K.B.J.Barrett「Dispersion
  Polymerization  in  Org
anic  Media」JohnWiley  an
d  Sons(1975年刊)、R.Dowpenc
o,D.P.Hart,Ind.Eng.Chem.P
rod.Res.Develop.12,(No.1)
、14(1973)、丹下豊吉、日本接着協会誌  2
3(1),26(1987)、D.J.Walbrid
ge、NATO.Adv.Study  Inst.S
er.E.No.67,40(1983)、Y.Sas
aki  and  M.Yabuta,Proc,1
0th,Int.Conf.Org.Coat.Sci
.Technol,10,263(1984)等の総説
に引例の各重合体が挙げられる。
The dispersion stabilizing resin of the present invention may be any polymer as long as it is soluble in the non-aqueous solvent, but specifically, K. B. J. Barrett “Dispersion”
Polymerization in Org
anic Media” John Wiley an
d Sons (published in 1975), R. Dowpenc
o,D. P. Hart, Ind. Eng. Chem. P
rod. Res. Develop. 12, (No.1)
, 14 (1973), Toyokichi Tange, Japan Adhesive Association Journal 2
3(1), 26 (1987), D. J. Walbrid
ge, NATO. Adv. Study Inst. S
er. E. No. 67, 40 (1983), Y. Sas
aki and M. Yabuta,Proc,1
0th, Int. Conf. Org. Coat. Sci
.. Technol, 10, 263 (1984) and other reviews include cited polymers.

【0186】例えばオレフィン重合体、変性オレフィン
重合体、スチレン−オレフィン共重合体、脂肪族カルボ
ン酸ビニルエステル共重合体、変性無水マレイン酸共重
合体、ポリエステル重合体、ポリエーテル重合体、メタ
クリレートホモ重合体、アクリレートホモ重合体、メタ
クリレート共重合体、アクリレート共重合体、アルキッ
ド樹脂等である。
For example, olefin polymers, modified olefin polymers, styrene-olefin copolymers, aliphatic carboxylic acid vinyl ester copolymers, modified maleic anhydride copolymers, polyester polymers, polyether polymers, methacrylate homopolymers. acrylate homopolymers, methacrylate copolymers, acrylate copolymers, alkyd resins, etc.

【0187】より具体的には、本発明の分散安定用樹脂
の繰り返し単位として供される重合体成分としては、下
記一般式(X)で表される成分が挙げられる。
More specifically, examples of the polymer component serving as a repeating unit of the dispersion stabilizing resin of the present invention include a component represented by the following general formula (X).

【0188】[0188]

【化68】[C68]

【0189】式(X)中、X2 は式(II)のV0 
と同一の内容を表わし、詳細は式(II)のV0 の説
明に記載されている。
In formula (X), X2 is V0 of formula (II)
The details are described in the explanation of V0 in formula (II).

【0190】R21は、炭素数1〜22の置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ぺンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドサコ
ニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2
−(N−モルホリノ)エチル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−(α−チエニル)エチル基、2−カ
ルボキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、
2,3−エポキシプロピル基、2,3−ジアセトキシプ
ロピル基、3−クロロプロピル基、4−エトキシカルボ
ニルブチル基等)、炭素数3〜22の置換されてもよい
アルケニル基(例えばアリル基、ヘキセニル基、オクテ
ニル基、ドセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基等)、炭
素数7〜22の置換されてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
2−ナフチルメチル基、2−(2′−ナフチル)エチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、ブチルベ
ンジル基、メトキシカルボニルベンジル基等)、炭素数
4〜12の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダ
マンチル基、クロロシクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基等)、炭素数6〜
22の置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アン
トラニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、オクチルオキシフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、アセチルフ
ェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、ブチルメチ
ルフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N
−メチル−N−ドデシルフェニル基、チエニル基、ヒラ
ニル基等)等が挙げられる。
R21 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group,
Nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, dosaconyl group, 2-(N,N-dimethylamino)ethyl group, 2
-(N-morpholino)ethyl group, 2-chloroethyl group,
2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-(α-thienyl)ethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group,
2,3-epoxypropyl group, 2,3-diacetoxypropyl group, 3-chloropropyl group, 4-ethoxycarbonylbutyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 3 to 22 carbon atoms (e.g. allyl group, hexenyl group, octenyl group, docenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
octadecenyl group, oleyl group, linoleyl group), optionally substituted aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group,
2-naphthylmethyl group, 2-(2'-naphthyl)ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
methoxybenzyl group, dimethoxybenzyl group, butylbenzyl group, methoxycarbonylbenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 4 to 12 carbon atoms (e.g. cyclopentyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, adamantyl group, chloro cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, etc.), carbon number 6 or more
22 optionally substituted aromatic groups (e.g. phenyl group,
Tolyl group, xylyl group, mesityl group, naphthyl group, anthranyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, butylphenyl group, hexylphenyl group, octylphenyl group, decylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, Octyloxyphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, acetylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, butylmethylphenyl group, N,N-dibutylaminophenyl group, N
-methyl-N-dodecylphenyl group, thienyl group, hyranyl group, etc.).

【0191】c1 ,c2 は式(II)中のb1 ,
b2 と同一の内容を表わし、詳細は式(II)のb1
,b2 の説明に記載される。
c1 and c2 are b1 and c2 in formula (II),
b2 represents the same content as b1 in formula (II) for details.
, b2.

【0192】本発明の分散安定用樹脂中の重合体成分と
して、以上述べた成分とともに、他の重合体成分ととも
に、他の重合体成分を含有してもよい。
[0192] As the polymer component in the dispersion stabilizing resin of the present invention, other polymer components may be contained in addition to the above-mentioned components.

【0193】他の重合体成分としては、一般式(X)で
示される成分に相当する単量体と共重合するものであれ
ばいずれでもよく、相当する単量体としては、例えば、
α−オレフィン類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、ビニル含有複素環類(複素環としては例えばピラ
ン環、ピロリドン環、イミダゾール環、ピリジン環等)
、ビニル基含有のカルボン酸類(例えばアクリル酸、メ
タアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等
)、ビニル基含有のカルボキシアミド類(例えばアクリ
ルアミド、メタクリルアミド、クロトン酸アミド、イタ
コン酸アミド、イタコン酸半アミド、イタコン酸ジアミ
ド等)等が挙げられる。
[0193] Any other polymer component may be used as long as it copolymerizes with the monomer corresponding to the component represented by the general formula (X). Examples of the corresponding monomer include:
α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl-containing heterocycles (heterocycles include pyran ring, pyrrolidone ring, imidazole ring, pyridine ring, etc.)
, vinyl group-containing carboxylic acids (e.g. acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, etc.), vinyl group-containing carboxamides (e.g. acrylamide, methacrylamide, crotonic acid amide, itaconic acid amide, itaconic acid, etc.) acid hemiamide, itaconic acid diamide, etc.).

【0194】本発明の分散安定用樹脂において、一般式
(X)で示される重合体成分は、該樹脂の全重合体10
0重量部中30重量部以上、好ましくは50重量部以上
である。
In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the polymer component represented by the general formula (X) is 10% of the total polymer of the resin.
It is 30 parts by weight or more, preferably 50 parts by weight or more in 0 parts by weight.

【0195】又、本発明の分散安定用樹脂おいて、光及
び/又は熱硬化性官能基を該樹脂の全重合体100重量
部中30重量部以、好ましくは20重量部以下の範囲で
含有してもよい。含有される光及び/又は熱硬化性官能
基としては、重合性官能基以外のものが挙げられ、具体
的に後述する粒子の架橋構造形成の官能基があげられる
Further, the dispersion stabilizing resin of the present invention contains a photo- and/or thermosetting functional group in an amount of 30 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight or less based on 100 parts by weight of the total polymer of the resin. You may. Examples of the photo- and/or thermosetting functional groups contained include those other than polymerizable functional groups, and specific examples include functional groups for forming crosslinked structures of particles, which will be described later.

【0196】該分散安定用樹脂としての重合体成分の1
つとして、熱及び/又は光硬化性基を含有させた場合に
は、更に結着樹脂と化学結合することで溶出を更に抑制
することができる。
1 of the polymer components as the dispersion stabilizing resin
For example, when a heat-curable and/or photo-curable group is contained, elution can be further suppressed by further chemically bonding with the binder resin.

【0197】更には、本発明の分散安定用樹脂が、高分
子鎖中に前記した一般式(II)で示される重合性二重
結合基部分を少なくとも1種含有して成ることが好まし
い。
Furthermore, it is preferable that the dispersion stabilizing resin of the present invention contains at least one polymerizable double bond group moiety represented by the above-mentioned general formula (II) in the polymer chain.

【0198】以下に、該重合性二重結合基部分について
説明する。
The polymerizable double bond group portion will be explained below.

【0199】[0199]

【化69】[C69]

【0200】一般式(II)において、V0 は−O−
、−COO−、−OCO−、−(CH2 )p −OC
O−、−(CH2 )p −COO−、−SO2 −、
−CONR1 、−SO2 NR1 、−C6 H4 
−、−CONHCOO−、又は−CONHCONH−を
表わす(pは1〜4の整数を表す)。
In general formula (II), V0 is -O-
, -COO-, -OCO-, -(CH2)p -OC
O-, -(CH2)p-COO-, -SO2-,
-CONR1, -SO2NR1, -C6H4
-, -CONHCOO-, or -CONHCONH- (p represents an integer of 1 to 4).

【0201】ここでR1 は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば2−
メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基基、クロロベンジル基、ブ
ロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基
、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキ
シベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよ
い脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘ
キシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、等)、
又は、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基
(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル
基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチル
フェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基
、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオ
キシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、
アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、
ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。
In addition to a hydrogen atom, R1 is preferably a hydrocarbon group such as an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (such as 2-bromopropyl group),
Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group,
phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.),
Or, an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group) , ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group,
acetamidophenyl group, propioamidophenyl group,
dodecoylamidophenyl group, etc.).

【0202】V0 が−C6 H4 −を表わす場合、
ベンゼン環は、置換基を有してもよい。置換基としては
、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アル
キル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、クロロメチル基、メトキシメチル基、等)、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオ
キシ基、ブトキシ基等)等が挙げられる。
[0202] When V0 represents -C6 H4 -,
The benzene ring may have a substituent. Examples of substituents include halogen atoms (e.g., chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (e.g., methoxymethyl group, etc.). group, ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.).

【0203】b1 及びb2 は、互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(
例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜
4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基等)−COO−R2 又は炭化水素を介
したCOOR2 (R2 は、水素原子又は炭素数1〜
18のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環
式基又はアリール基を表わし、これらは置換されていて
もよく、具体的には、上記R1 について説明したもの
と同様の内容を表わす) を表わす。
b1 and b2 may be the same or different, preferably a hydrogen atom, a halogen atom (
For example, chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, carbon number 1~
4 alkyl group (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.) -COO-R2 or COOR2 via a hydrocarbon (R2 is a hydrogen atom or a carbon atom with 1 to 1 carbon atoms)
represents an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group of 18, which may be substituted, and specifically represents the same content as explained for R1 above) .

【0204】上記炭化水素を介した−COO−R2 基
における炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、
プロピレン基等が挙げられる。
[0204] Hydrocarbons in the -COO-R2 group via the hydrocarbon include methylene group, ethylene group,
Examples include propylene group.

【0205】更に好ましくは、一般式(II)において
、V0 は、−COO−、−OCO−、−CH2 OC
O−、−CH2 COO−、−O−、−CONH−、−
SO2 NH−、−CONHCOO−又は−C6 H4
 −を表わし、b1 ,b2 は互いに同じでも異なっ
てもよく、水素原子、メチル基、−COOR2 又は−
CH2 COOR2 を表し、(R2 は、水素原子又
は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等を表わす)を
表わす。更により好ましくはb1 ,b2 においてい
ずれか一方が必ず水素原子を表わす。
More preferably, in general formula (II), V0 is -COO-, -OCO-, -CH2OC
O-, -CH2 COO-, -O-, -CONH-, -
SO2 NH-, -CONHCOO- or -C6 H4
-, b1 and b2 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a methyl group, -COOR2 or -
CH2 COOR2 (R2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, etc.). Still more preferably b1, b2 One of these always represents a hydrogen atom.

【0206】即ち、一般式(II)で表わされる重合性
二重結合基含有部分として、具体的にはCH2 =CH
−CO−O−、CH2 =C(CH3 )−CO−O−
、CH(CH3 )=CH−CO−O−、CH2 =C
(CH2 COOCH3 )−CO−O−、CH2 =
C(CH2 COOH)−CO−O−、CH2 =CH
−CONH−、CH2 =C(CH3 )−CONH−
、CH(CH3 )=CH−CONH−、CH2 =C
(CH3 )−CONHCOO−、CH2 =CH−O
−CO−、CH2 =CH−CH2 −O−CO−、C
H2 =CH−O−、CH2 =C(COOH)−CH
2−CO−O−、CH2 =C(COOCH3 )−C
H2 −CO−O−、CH2 =CH−C6 H4 −
等が挙げられる。
Specifically, as the polymerizable double bond group-containing moiety represented by the general formula (II), CH2 = CH
-CO-O-, CH2=C(CH3)-CO-O-
, CH(CH3)=CH-CO-O-, CH2=C
(CH2COOCH3)-CO-O-, CH2=
C(CH2COOH)-CO-O-, CH2=CH
-CONH-, CH2=C(CH3)-CONH-
, CH(CH3)=CH-CONH-, CH2=C
(CH3)-CONHCOO-, CH2=CH-O
-CO-, CH2 = CH-CH2 -O-CO-, C
H2 = CH-O-, CH2 = C(COOH)-CH
2-CO-O-, CH2=C(COOCH3)-C
H2 -CO-O-, CH2 = CH-C6 H4 -
etc.

【0207】これらの重合性二重結合基含有部分は高分
子鎖の主鎖に直接結合されるか又は任意の連結基で結合
されたものである。連結する基として具体的には二価の
有機残基であって、−O−、−S−、−N(d1 )−
、−SO−、−SO2 −、−COO−、−OCO−、
−CONHCO−、−NHCONH−、−CON(d2
 )−SO2 (d3 )−及び−Si (d4 )(
d5 )から選ばれた結合基を介在させてもよい、二価
の脂肪族基もしくは二価の芳香族基、又はこれらの二価
の残基の組合せにより構成された有機残基を表わす。こ
こで、d1 〜d5 は式(II)におけるR1 と同
一の内容を表わす。
[0207] These polymerizable double bond group-containing moieties are bonded directly to the main chain of the polymer chain or via an arbitrary linking group. Specifically, the connecting group is a divalent organic residue, such as -O-, -S-, -N(d1)-
, -SO-, -SO2-, -COO-, -OCO-,
-CONHCO-, -NHCONH-, -CON(d2
)-SO2 (d3)- and -Si (d4)(
d5) represents an organic residue composed of a divalent aliphatic group, a divalent aromatic group, or a combination of these divalent residues, which may include a bonding group selected from d5). Here, d1 to d5 represent the same content as R1 in formula (II).

【0208】二価の脂肪族基として、例えば−(C(k
1 )(k2 ))−、−(C(k1 )=C(k2 
))−、−(C≡C)−、−C6 H10−、
As a divalent aliphatic group, for example, -(C(k
1 )(k2 ))-,-(C(k1)=C(k2
))-, -(C≡C)-, -C6 H10-,

【020
9】
020
9]

【化70】[C70]

【0210】が挙げられる{k1 及びk2 は、互い
に同じでも異なってもよく、各々水素原子、ハロゲン原
子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭
素数1〜12のアルキル基(例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等
)を表わす。Qは−O−、−S−又は−NR20−を表
わし、R20は炭素数1〜4のアルキル基、−CH2 
Cl又は−CH2 Brを表わす}。
[0210] {k1 and k2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms (for example, a methyl group, ethyl group, propyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, etc.). Q represents -O-, -S- or -NR20-, R20 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH2
Cl or -CH2Br}.

【0211】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原子
、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種含
有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を有
していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアルコ
キシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ
基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。
[0211] Examples of divalent aromatic groups include benzene ring groups, naphthalene ring groups, and 5- or 6-membered heterocyclic groups (the hetero atoms constituting the heterocycle are selected from oxygen atoms, sulfur atoms, and nitrogen atoms). containing at least one type of heteroatom). These aromatic groups may have a substituent, such as a halogen atom (e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group). , butyl group, hexyl group, octyl group, etc.), and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.) as examples of the substituent.

【0212】複素環基としては、例えばフラン環、チオ
フェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テ
トラヒドロフラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン
環、1,3−オキサゾリン環等が挙げられる。
Examples of the heterocyclic group include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydrofuran ring, a pyrrole ring, a tetrahydropyran ring, and a 1,3-oxazoline ring.

【0213】以上のような重合性二重結合基含有部分は
、具体的には高分子鎖中にランダム結合されている、又
は高分子鎖の主鎖の片末端にのみ結合されている。好ま
しくは、高分子鎖主鎖の片末端にのみ重合性二重結合基
含有部分が結合された重合体(以下、一官能性重合体〔
M〕と略記する)が挙げられる。
[0213] Specifically, the polymerizable double bond group-containing moiety as described above is bonded randomly within the polymer chain, or bonded only to one end of the main chain of the polymer chain. Preferably, a polymer (hereinafter referred to as a monofunctional polymer) in which a polymerizable double bond group-containing moiety is bonded only to one end of the main chain of the polymer chain is preferable.
(abbreviated as M)).

【0214】上記一官能性重合体〔M〕の一般式(II
)で示される重合性二重結合基含有部分と、これに連結
する有機残基で構成される部分の具体例として各々次の
ものが挙げられるが、これらに限定されるものではない
。但し、以下の各例において、P1 は−H、−CH3
 −、−CH2COOCH3 、−Cl、−Br又は−
CNを示し、P2 は−H又は−CH3 を示し、Xは
−Cl又は−Brを示し、nは2〜12の整数を示し、
mは1〜4の整数を示す。
General formula (II) of the above monofunctional polymer [M]
) The following are specific examples of the polymerizable double bond group-containing moiety and the moiety composed of an organic residue connected thereto, but the present invention is not limited thereto. However, in each of the following examples, P1 is -H, -CH3
-, -CH2COOCH3, -Cl, -Br or -
CN, P2 represents -H or -CH3, X represents -Cl or -Br, n represents an integer from 2 to 12,
m represents an integer of 1 to 4.

【0215】[0215]

【化71】[C71]

【0216】[0216]

【化72】[C72]

【0217】[0217]

【化73】[C73]

【0218】[0218]

【化74】[C74]

【0219】[0219]

【化75】[C75]

【0220】[0220]

【化76】[C76]

【0221】好ましくは本発明の分散安定用樹脂は重合
性二重結合基部分を高分子中の側鎖に含有するが、この
重合体の合成は従来公知の方法によって製造することが
できる。
Preferably, the dispersion stabilizing resin of the present invention contains a polymerizable double bond group moiety in the side chain of the polymer, and this polymer can be synthesized by a conventionally known method.

【0222】例えば、■重合反応性の異なる重合性二重
結合基を分子中に2個含有した単量体を共重合させる方
法、■分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシル基、ア
ミノ基、エポキシ基等の反応性基を含有した一官能性単
量体を共重合させて高分子を得た後、この高分子側鎖中
の反応基と化学結合しうる他の反応性基を含有した重合
性二重結合基を含む有機低分子化合物との反応を行う、
いわゆる高分子反応によって導入する方法、等が通常よ
く知られた方法として挙げられる。
For example, (1) a method of copolymerizing a monomer containing two polymerizable double bond groups with different polymerization reactivity in the molecule, (2) a method of copolymerizing a monomer containing two polymerizable double bond groups with different polymerization reactivity; After obtaining a polymer by copolymerizing a monofunctional monomer containing a reactive group such as Reacts with organic low-molecular compounds containing double bond groups,
Commonly known methods include a method of introducing a polymer through a so-called polymer reaction.

【0223】上記■の方法として、例えば特開昭60−
185962号公報に記載の方法等が挙げられる。上記
■の方法として、具体的には岩倉義男,栗田恵輔「反応
性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平「高分子
ファインケミカル」講談社(1976年刊)、特開昭6
1−43757号公報、特願平1−149305号とし
て出願した明細書等に詳細に記載されている。
[0223] As the method (①) above, for example,
Examples include the method described in Japanese Patent No. 185962. As for the above method (■), specifically, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita "Reactive Polymers" Kodansha (published in 1977), Ryohei Oda "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (published in 1976), JP-A-6
It is described in detail in Japanese Patent Application No. 1-43757 and the specification filed as Japanese Patent Application No. 1-149305.

【0224】例えば、下記表−1のA群の官能基とB群
の官能基の組み合わせによる高分子反応が、通常よく知
られた方法として挙げられる。なお表−1のR22,R
23は各々水素原子又は炭素数1〜7の置換されてもよ
い炭化水素基(好ましくは、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2−
ヒドロキシエチル基、3−ブロム−2−ヒドロキシプロ
ピル基、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロ
ピル基、4−カルボキシブチル基、3−スルホプロピル
基、ベンジル基、スルホベンジル基、メトキシベンジル
基、カルボキシベンジル基、フェニル基、スルホフェニ
ル基、カルボキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基、
2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基、2−
メタンスルホニルエチル基、2−シアノエチル基、N,
N(ジクロロエチル)アミノベンジル基、N,N(ジヒ
ドロキシエチル)アミノベンジル基、クロロベンジル基
、メチルベンジル基、N,N(ジヒドロキシエチル)ア
ミノフェニル基、メタンスルホニルフェニル基、シアノ
フェニル基、ジシアノフェニル基、アセチルフェニル基
等)を表わす。
[0224] For example, a polymer reaction using a combination of a group A functional group and a group B functional group shown in Table 1 below is a commonly known method. In addition, R22, R in Table-1
23 is each a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 7 carbon atoms (preferably, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-
Hydroxyethyl group, 3-bromo-2-hydroxypropyl group, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, 3-sulfopropyl group, benzyl group, sulfobenzyl group, methoxybenzyl group, carboxy benzyl group, phenyl group, sulfophenyl group, carboxyphenyl group, hydroxyphenyl group,
2-methoxyethyl group, 3-methoxypropyl group, 2-
methanesulfonylethyl group, 2-cyanoethyl group, N,
N(dichloroethyl)aminobenzyl group, N,N(dihydroxyethyl)aminobenzyl group, chlorobenzyl group, methylbenzyl group, N,N(dihydroxyethyl)aminophenyl group, methanesulfonylphenyl group, cyanophenyl group, dicyanophenyl group group, acetylphenyl group, etc.).

【0225】[0225]

【表1】[Table 1]

【0226】本発明の分散安定用樹脂として更に好まし
い、重合性二重結合基部分を主鎖の片末端に含有する−
官能性重合体〔M〕は、従来公知の合成方法によって製
造することができる。例えば、イ)アニオン重合あるい
はカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得
る、イオン重合法による方法、ロ)分子中にカルボキシ
ル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有し
た重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル
重合して得られる末端反応性基結合の重合体と種々の試
薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得るラジカル重
合法による方法、ハ)重付加あるいは重縮合反応により
得られた重合体に上記ラジカル重合法と同様にして、重
合性二重結合基を導入する重付加縮合法による方法等が
挙げられる。
[0226] More preferred as the dispersion stabilizing resin of the present invention is a -containing polymerizable double bond group moiety at one end of the main chain.
The functional polymer [M] can be produced by a conventionally known synthesis method. For example, a) a method using an ionic polymerization method in which a monofunctional polymer [M] is obtained by reacting various reagents with the ends of a living polymer obtained by anionic polymerization or cationic polymerization, and b) a method using carboxyl groups and hydroxyl groups in the molecule. Using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing a reactive group such as a group or an amino group, a polymer with terminal reactive groups bonded by radical polymerization is reacted with various reagents to form a monofunctional polymer. A method using a radical polymerization method to obtain the polymer [M]; c) a polyaddition condensation method in which a polymerizable double bond group is introduced into a polymer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as the above radical polymerization method. For example, the method by

【0227】具体的には、P.Dreyfuss  &
  R.P.Quirk,Bncycl.Polym.
Sci.Eng.,7,551(1987)、P.F.
Rempp,E.Franta,Adv.Polym.
Sci.,58,1(1984)、V.Percec,
Appl.Poly.Sci.,285,95(198
4)、R.Asami,M.Takari,Macro
mol.Chem.Suppl.,12,163(19
85)、P.Rempp.,et  al,Macro
mol.Chem.Suppl.,8,3(1984)
、川上雄資,化学工業,38,56(1987)、山下
雄也,高分子,31,988(1982)、小林四郎,
高分子,30,625(1981)、東村敏延,日本接
着協会誌,18,536(1982)、伊藤浩一,高分
子加工,35,262(1986)、東貴四郎,津田隆
,機能材料,1987,No.10,5等の総説及びそ
れに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成する
ことができる。
Specifically, P. Dreyfuss &
R. P. Quirk, Bncycle. Polym.
Sci. Eng. , 7, 551 (1987), P. F.
Rempp, E. Franta, Adv. Polym.
Sci. , 58, 1 (1984), V. Percec,
Appl. Poly. Sci. , 285, 95 (198
4), R. Asami, M. Takari, Macro
mol. Chem. Suppl. ,12,163(19
85), P. Rempp. ,et al,Macro
mol. Chem. Suppl. , 8, 3 (1984)
, Yuji Kawakami, Chemical Industry, 38, 56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, 31, 988 (1982), Shiro Kobayashi,
Polymer, 30, 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of Japan Adhesive Association, 18, 536 (1982), Koichi Ito, Polymer Processing, 35, 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987, No. It can be synthesized according to the methods described in reviews such as 10, 5 and the literature/patents cited therein.

【0228】以上の如き一官能性重合体〔M〕の合成方
法として更に具体的には、ラジカル重合性単量体に相当
する繰り返し単位を含有する重合体〔M〕は、特開平2
−67563号公報、特願昭63−64970、特願平
1−206989、同1−69011各号として出願の
明細書等に記載されており、又、ポリエステル構造又は
ポリエーテル構造を繰り返し単位として含有する重合体
〔M〕は、特願平1−56379、同1−58989、
同1−56380各号として出願の明細書等に各々記載
されている方法と同様にして得られる。
[0228] More specifically, as a method for synthesizing the monofunctional polymer [M] as described above, a polymer [M] containing repeating units corresponding to a radically polymerizable monomer can be synthesized by
-67563, Japanese Patent Application No. 63-64970, Japanese Patent Application No. 1-206989, No. 1-69011, etc., and contains a polyester structure or a polyether structure as a repeating unit. The polymer [M] is disclosed in Japanese Patent Application No. 1-56379, No. 1-58989,
It can be obtained in the same manner as the methods described in the specifications of the applications as No. 1-56380.

【0229】本発明の分散樹脂粒子は以上説明した様に
、極性基含有の一官能性単量体(C)、ケイ素原子及び
/又はフッ素原子含有の一官能性単量体(D)を上記分
散安定用樹脂の存在下で分散重合させて得られる共重合
体樹脂粒子である。
As explained above, the dispersed resin particles of the present invention contain the monofunctional monomer (C) containing a polar group and the monofunctional monomer (D) containing a silicon atom and/or a fluorine atom. These are copolymer resin particles obtained by dispersion polymerization in the presence of a dispersion stabilizing resin.

【0230】更に、本発明の分散樹脂粒子が網目構造を
有する場合は、上記した極性基含有一官能性単量体(C
)及びケイ素原子及び/又はフッ素原子含有の一官能性
単量体(D)を重合性成分〔重合体成分(C)と略記す
る〕として成る重合体の重合体間が橋架けされており、
高次の網目構造を形成している。
Furthermore, when the dispersed resin particles of the present invention have a network structure, the above polar group-containing monofunctional monomer (C
) and a silicon atom and/or fluorine atom-containing monofunctional monomer (D) as a polymerizable component [abbreviated as polymer component (C)], the polymers are bridged,
It forms a high-order network structure.

【0231】すなわち、本発明の分散樹脂粒子は重合体
成分(C)から構成される非水分散溶媒に不溶な部分と
、該溶媒に可溶となる重合体とで構成される、非水系ラ
テックスであり、網目構造を有する場合は、この該溶媒
に不溶な部分を形成している重合体成分(C)の分子間
が橋架けされているものである。
[0231] That is, the dispersed resin particles of the present invention are non-aqueous latex consisting of a portion insoluble in a non-aqueous dispersion solvent consisting of the polymer component (C) and a polymer soluble in the solvent. When the polymer component has a network structure, the molecules of the polymer component (C) forming the portion insoluble in the solvent are bridged.

【0232】これにより、網目樹脂粒子は水に対して難
溶性あるいは不溶性となったものである。具体的には、
該樹脂の水への溶解性は、80重量%以下好ましくは5
0重量%以下である。
[0232] As a result, the network resin particles become poorly soluble or insoluble in water. in particular,
The solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 5% by weight or less.
It is 0% by weight or less.

【0233】本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によ
って行うことができる。即ち、(a)該重合体成分(C
)を含有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤によ
って架橋する方法、(b)該重合体成分(C)に相当す
る単量体を少なくとも含有させて重合反応を行う際に、
重合性官能基を2個以上含有する多官能性単量体あるい
は多官能性オリゴマーを共存させることにより分子間に
網目構造を形成する方法、及び(c)該重合体成分(C
)と反応性基を含有する成分を含む重合体類とを重合反
応あるいは高分子反応によって架橋させる方法等の方法
によって行うことができる。
[0233] The crosslinking of the present invention can be carried out by conventionally known crosslinking methods. That is, (a) the polymer component (C
) A method of crosslinking a polymer containing (b) with various crosslinking agents or curing agents, (b) carrying out a polymerization reaction by containing at least a monomer corresponding to the polymer component (C),
A method of forming a network structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups, and (c) the polymer component (C
) and a polymer containing a component containing a reactive group through a polymerization reaction or a polymer reaction.

【0234】上記(a)の方法の架橋剤としては、通常
架橋剤として用いられる化合物を挙げることができる。 具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブッ
ク」大成社刊(1981年),高分子学会編「高分子デ
ータハンドブック基礎編」培風館(1986年)等に記
載されている化合物を用いることができる。
[0234] As the crosslinking agent in the above method (a), compounds commonly used as crosslinking agents can be mentioned. Specifically, the compounds described in "Crosslinking Agent Handbook" edited by Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, published by Taiseisha (1981), "Polymer Data Handbook Basic Edition" edited by The Polymer Society of Japan, Baifukan (1986), etc. Can be used.

【0235】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤等)
、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレンジ
イソシアナート、o−トルイレンジイソシアナート、ジ
フェニルメタンジイソシアナート、トリフェニルメタン
トリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニルイソシ
アナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロ
ンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート等)、
ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジオール
、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシアルキ
レングリコール、1,1,1−トリメチロールプロパン
等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジアミン
、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、フェニ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−アミノエ
チルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、ポリエ
ポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、垣内弘
編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年刊)、橋本
邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社(1969年
刊)等に記載された化合物類)、メラミン樹脂(例えば
,三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラミン樹脂」日
刊工業新聞社(1969年刊)等に記載された化合物類
)、ポリ(メタ)アクリレート系化合物(例えば、大河
原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマー」講談社(1
976年刊)、大森英三「機能性アクリル系樹脂」テク
ノシステム(1985年刊)等に記載された化合物類が
挙げられ、具体的には、ポリエチレングリコールジアク
リレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1
,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールポ
リアクリレート、ビスフェノールA−ジグリシジルエー
テルジアクリレート、オリゴエステルアクリレート及び
これらのメタクリレート体等がある。
For example, organic silane compounds (such as vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
Silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.)
, polyisocyanate compounds (e.g. toluylene diisocyanate, o-toluylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate) , polymeric polyisocyanate, etc.),
Polyol compounds (e.g. 1,4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine compounds (e.g. ethylenediamine, γ-hydroxypropylated ethylenediamine, phenylene diamine, hexamethylene diamine, N-aminoethyl piperazine, modified aliphatic polyamines, etc.), polyepoxy group-containing compounds and epoxy resins (for example, "New Epoxy Resins" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (published in 1985), Kuniyuki Hashimoto Compounds described in "Epoxy Resin" edited by Nikkan Kogyo Shinbunsha (1969), etc.), melamine resin (for example, described in "Uria Melamine Resin" edited by Ichiro Miwa and Hideo Matsunaga, Nikkan Kogyo Shinbunsha (1969), etc.) poly(meth)acrylate compounds (e.g., "Oligomer" edited by Makoto Okawara, Takeo Saegusa, and Toshinobu Higashimura, Kodansha (1)
(published in 1976), Eizo Omori "Functional Acrylic Resin" Technosystem (published in 1985), etc. Specific examples include polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1
, 6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacrylate, bisphenol A-diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate, and methacrylates thereof.

【0236】又、上記(b)の方法で共存させる重合性
官能基を2個以上含有する多官能性単量体〔多官能性単
量体(E)とも称する〕あるいは多官能性オリゴマーの
重合性官能基としては、具体的にはCH2 =CH−C
H2 −、CH2 =CH−CO−O−、CH2 =C
H−、CH2 =C(CH3 )−CO−O−、CH(
CH3 )=CH−CO−O−、CH2 =CH−CO
NH−、CH2 =C(CH3 )−CONH−、CH
(CH3 )=CH−CONH−、CH2 =CH−O
−CO−、CH2 =C(CH3 )−O−CO−、C
H2 =CH−CH2 −O−CO−、CH2 =CH
−NHCO−、CH2 =CH−CH2 −NHCO−
、CH2 =CH−SO2 −、CH2 =CH−CO
−、CH2 =CH−O−、CH2 =CH−S−等を
挙げることができる。これらの重合性官能基の同一のも
のあるいは異なったものを2個以上有した単量体あるい
はオリゴマーであればよい。
[0236] Furthermore, in the method (b) above, polymerization of a polyfunctional monomer (also referred to as polyfunctional monomer (E)) or polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups (also referred to as polyfunctional monomer (E)) Specifically, the sexual functional group is CH2=CH-C
H2-, CH2=CH-CO-O-, CH2=C
H-, CH2=C(CH3)-CO-O-, CH(
CH3)=CH-CO-O-, CH2=CH-CO
NH-, CH2=C(CH3)-CONH-, CH
(CH3)=CH-CONH-, CH2=CH-O
-CO-, CH2=C(CH3)-O-CO-, C
H2=CH-CH2-O-CO-, CH2=CH
-NHCO-, CH2 = CH-CH2 -NHCO-
, CH2=CH-SO2-, CH2=CH-CO
-, CH2 = CH-O-, CH2 = CH-S-, and the like. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.

【0237】重合性官能基を2個以上有した単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例えば
、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ポリエチレングリコール#200、
#400、#600、1,3−ブチレングリコール、ネ
オペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、ポリ
プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、トリ
メチロールエタン、ペンタエリスリトールなど)、又は
ポリヒドロキシフェノール(例えばヒドリキノン、レゾ
ルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)のメタクリ
ル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル類、ビニル
エーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸(例えばマ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等)のビニルエ
ステル類、アリルエステル類、ビニルアミド類又はアリ
ルアミド類:ポリアミン(例えばエチレンジアミン、1
,3−プロピレンジアミン、1,4−ブチレンジアミン
等)とビニル基を含有するカルボン酸(例えば、メタク
リル酸、アクリル酸、クロトン酸、アリル酢酸等)との
縮合体などが挙げられる。
Specific examples of monomers having two or more polymerizable functional groups include styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene: polyvalent monomers or oligomers having the same polymerizable functional group. Alcohol (e.g. ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol #200,
#400, #600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, etc.), or polyhydroxyphenols (such as hydriquinone, resorcinol, catechol, etc.) esters, vinyl ethers or allyl ethers of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid (derivatives of methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid); dibasic acids (e.g. malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itacon) vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allylamides of polyamines (e.g. ethylene diamine,
, 3-propylene diamine, 1,4-butylene diamine, etc.) and a vinyl group-containing carboxylic acid (for example, methacrylic acid, acrylic acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

【0238】又、異なる重合性官能基を有する単量体あ
るいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有す
るカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタ
クリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプ
ロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロイ
ル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水
物等)とアルコール又はアミンの反応体(例えばアリル
オキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニ
ル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリル
アミノカルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有
したエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリ
ル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メ
タクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリ
ル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピ
オン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メ
タクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、ア
クリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニ
ルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミド
、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又はア
ミノアルコール類(例えばアミノエタノール、1−アミ
ノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノヘ
キサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を含
有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。
Monomers or oligomers having different polymerizable functional groups include, for example, carboxylic acids containing vinyl groups (such as methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloylpropionic acid, aryloyl Reactants of alcohols or amines (e.g. allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropion) and alcohols or amines ester derivatives or amide derivatives containing vinyl groups such as vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, vinyl methacryloyl acetate, vinyl methacryloyl propionate, Allyl methacryloylpropionate, vinyloxycarbonyl methyl methacrylate, vinyloxycarbonyl methyloxycarbonyl ethylene acrylate, N-allylacrylamide, N-
allyl methacrylamide, N-allyl itaconic acid amide, methacryloyl propionic acid allyl amide, etc.) or amino alcohols (e.g. aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and a vinyl group. Examples include condensates with carboxylic acids containing .

【0239】本発明に用いられる2個以上の重合性官能
基を有する単量体あるいはオリゴマーは、単量体(C)
及び(C)と共存する他の単量体との総量に対して10
モル%以下、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹
脂を形成する。
The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention is monomer (C)
and 10 relative to the total amount of other monomers coexisting with (C)
Polymerization is performed using mol % or less, preferably 5 mol % or less, to form a resin.

【0240】更には、上記(c)の方法の高分子間の反
応性基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋
架けを行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と
同様に行うことができる。具体的には、分散安定用樹脂
の合成法において記載したと同様の方法に従って合成す
ることができる。
Furthermore, in the case of forming a chemical bond and bridging between polymers by the reaction of the reactive groups between the polymers in the method (c) above, it is possible to use a method similar to the reaction of ordinary organic low-molecular compounds. The same can be done. Specifically, it can be synthesized according to the same method as described in the method for synthesizing the dispersion stabilizing resin.

【0241】分散重合において、粒子の粒径が揃った単
分散性の粒子が得られること及び0.5μm以下の微小
粒子が得られ易いこと等から、網目構造形成の方法とし
ては、多官能性単量体を用いる(b)の方法が好ましい
[0241] In dispersion polymerization, monodisperse particles with a uniform particle size can be obtained, and microparticles of 0.5 μm or less can be easily obtained, so polyfunctional polymerization is recommended as a method for forming a network structure. Method (b) using monomers is preferred.

【0242】以上の如く、本発明の網目分散樹脂粒子は
、極性基を含有する繰り返し単位と、該非水溶媒に可溶
性の重合体成分とを含有し、且つ分子鎖間が高次に橋架
けされた構造を有する重合体の粒子である。
As described above, the network-dispersed resin particles of the present invention contain a repeating unit containing a polar group and a polymer component soluble in the non-aqueous solvent, and the molecular chains are highly cross-linked. It is a particle of a polymer having a similar structure.

【0243】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、それは単独であるいは2種以上を
混合して使用してもよい。
[0243] As the non-aqueous solvent used for producing the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles, any organic solvent with a boiling point of 200°C or less may be used, and it may be used alone or in a mixture of two or more. good.

【0244】この有機溶媒の具体例は、メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、フッ化アルコー
ル、ベンジルアルコール等のアルコール類、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケト
ン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のカルボン酸エ
ステル類、ヘキサン、オクタン、デカン、ドデカン、ト
リデカン、シクロヘキサン、シクロオクタン等の炭素数
6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、メチレ
ンクロリド、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ク
ロロホルム、メチルクロロホルム、ジクロロプロパン、
トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等が挙げら
れる。ただし、以上述べた化合物例に限定されるもので
はない。
Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol, benzyl alcohol, acetone,
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethyl ketone, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, carboxylic acid esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, hexane, octane, decane, dodecane, tridecane , C6-14 aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane and cyclooctane, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane,
Examples include halogenated hydrocarbons such as trichloroethane. However, it is not limited to the compound examples described above.

【0245】これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散
重合法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は
容易に0.8μm以下となり、しかも粒子径の分布が非
常に狭く且つ単分散の粒子とすることができる。
[0245] By synthesizing dispersed resin particles in these non-aqueous solvent systems by dispersion polymerization, the average particle size of the resin particles can easily be 0.8 μm or less, and the particle size distribution is extremely narrow and monodisperse. particles.

【0246】具体的には、K.B.J.Barrett
「DispersionPolymerization
  in  Organic  Media」John
Wiley(1975年)、村田耕一郎、高分子加工、
23、20(1974)、松本恒隆・丹下豊吉、日本接
着協会誌9、183(1973)、丹下豊吉、日本接着
協会誌23、26(1987)、D.J.Walbri
dge、NATO.Adv.study.Inst.S
er.B.No.67、40(1983)、英国特許第
893429、同934038各号明細書、米国特許第
1122397、同3900412、同4606989
各号明細書、特開昭60−179751、同60−18
5963各号公報等にその方法が開示されている。
Specifically, K. B. J. Barrett
“Dispersion Polymerization
in Organic Media"John
Wiley (1975), Koichiro Murata, Polymer Processing,
23, 20 (1974), Tsunetaka Matsumoto and Toyokichi Tange, Journal of Japan Adhesive Association 9, 183 (1973), Toyokichi Tange, Journal of Japan Adhesive Association 23, 26 (1987), D. J. Walbri
dge, NATO. Adv. study. Inst. S
er. B. No. 67, 40 (1983), British Patent Nos. 893429 and 934038, U.S. Patent Nos. 1122397, 3900412, and 4606989
Specifications of each issue, JP-A-60-179751, JP-A-60-18
The method is disclosed in 5963 publications and the like.

【0247】本発明の分散樹脂粒子は、単量体(C)及
び単量体(D)と、分散安定用樹脂の少なくとも各々1
種以上から成り、網目構造を形成する場合には必要に応
じて多官能性単量体(E)を共存させて成り、いずれに
しても重要な事は、これら単量体から合成された樹脂粒
子が該非水溶媒に不溶であれば、所望の分散樹脂粒子を
得ることができる。より具体的には、不溶化する単量体
(C)及び単量体(D)に対して、分散安定用樹脂を1
〜50重量%使用することが好ましく、さらに好ましく
は2〜30重量%である。又本発明の分散樹脂粒子の分
子量は104 〜106 であり、好ましくは104 
〜5×105 である。
The dispersed resin particles of the present invention contain at least 1 portion each of monomer (C), monomer (D), and dispersion stabilizing resin.
When a network structure is formed, a polyfunctional monomer (E) is coexisting as necessary.In any case, the important thing is that the resin synthesized from these monomers If the particles are insoluble in the non-aqueous solvent, desired dispersed resin particles can be obtained. More specifically, 1 part of the dispersion stabilizing resin is added to the monomer (C) and monomer (D) to be insolubilized.
It is preferable to use 50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight. Further, the molecular weight of the dispersed resin particles of the present invention is 104 to 106, preferably 104
~5×105.

【0248】以上の如き本発明で用いられる分散樹脂粒
子を製造するには、一般に、単量体(C)、単量体(D
)、分散安定用樹脂更には、多官能性単量体(E)とを
非水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニ
トリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存在下に加熱
重合させればよい。具体的には、(i)単量体(C),
単量体(D)、分散安定用樹脂及び多官能性単量体(E
)の混合溶液中に重合開始剤を添加する方法、(ii)
非水溶媒中に、上記重合性化合物及び重合開始剤の混合
物を滴下又は任意に添加する方法等があり、これらに限
定されずいかなる方法を用いても製造することができる
[0248] In order to produce the dispersed resin particles used in the present invention as described above, monomers (C) and monomers (D
), a dispersion stabilizing resin, and a polyfunctional monomer (E) are further heated and polymerized in the presence of a polymerization initiator such as benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, butyllithium in a nonaqueous solvent. That's fine. Specifically, (i) monomer (C),
Monomer (D), dispersion stabilizing resin and polyfunctional monomer (E
) A method of adding a polymerization initiator to the mixed solution of (ii)
There is a method in which a mixture of the polymerizable compound and a polymerization initiator is added dropwise or optionally to a non-aqueous solvent, and the method is not limited to these, and any method can be used for production.

【0249】重合性化合物の総量は非水溶媒100重量
部に対して5〜80重量部程度であり、好ましくは10
〜50重量部である。
[0249] The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight, preferably 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the nonaqueous solvent.
~50 parts by weight.

【0250】重合開始剤の量は、重合性化合物の総量の
0.1〜5重量%である。又、重合温度は30〜180
℃程度であり、好ましくは40〜120℃である。反応
時間は1〜15時間が好ましい。
The amount of polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight based on the total amount of polymerizable compounds. In addition, the polymerization temperature is 30 to 180
℃, preferably 40 to 120℃. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.

【0251】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とな
る。
[0251] The non-aqueous dispersion resin produced according to the present invention as described above becomes fine particles with a uniform particle size distribution.

【0252】本発明に使用する無機光導電材料は、光導
電性酸化亜鉛である。さらに他の無機光導電体として酸
化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウム
、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テルル
、硫化鉛等を併用してもよい。
The inorganic photoconductive material used in the present invention is photoconductive zinc oxide. Furthermore, other inorganic photoconductors such as titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, etc. may be used in combination.

【0253】しかし、これら他の光導電材料は、光導電
性酸化亜鉛の40重量%以下であり、好ましくは20重
量%以下である。
However, these other photoconductive materials account for less than 40% by weight of the photoconductive zinc oxide, preferably less than 20% by weight.

【0254】他の光導電材料が40重量%を越えると、
平版印刷用原版としての非画像部の親水性向上の効果が
薄れてしまう。
[0254] When the amount of other photoconductive materials exceeds 40% by weight,
The effect of improving the hydrophilicity of the non-image area as a lithographic printing original plate is weakened.

【0255】本発明に係る光導電性酸化亜鉛としては、
この種の技術分野で従来公知のものを使用すればよく、
いわゆる酸化亜鉛のみならず、酸化亜鉛を酸処理したも
の色素と前処理したもの,練り込み再度粉砕したもの(
いわゆるプレス処理)等のいずれでもよく、特に限定さ
れるところはない。
[0255] The photoconductive zinc oxide according to the present invention includes:
It is sufficient to use what is conventionally known in this type of technical field.
Not only so-called zinc oxide, but also zinc oxide treated with acid, zinc oxide pretreated with pigment, and kneaded and re-pulverized (
It may be a so-called press treatment) or the like, and is not particularly limited.

【0256】無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の
総量は、光導電体100重量部に対して、結着樹脂を1
0〜100重量部なる割合、好ましくは15〜50重量
部なる割合で使用する。
[0256] The total amount of binder resin used for the inorganic photoconductive material is 1 part by weight of the binder resin per 100 parts by weight of the photoconductor.
It is used in a proportion of 0 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight.

【0257】又、本発明の光導電層において用いられる
分光増感色素は従来公知のいずれの色素でもよくこれら
を単独あるいは組み合わせて使用することができる。例
えば、宮本晴視,武井英彦:イメージング1973(N
o.8)第12頁、C.J.Young等:RCA  
Review  15,469頁(1954)、清田航
平等:電気通信学会論文誌  J63−C(No.2)
97頁(1980)、原崎勇次等、工業化学雑誌66,
78及び188頁(1963)、谷忠昭、日本写真学会
誌35、208頁(1972)等の総説引例のカーボニ
ウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタ
ン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメ
チン色素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色
素、シアニン色素、ロダシアニン色素、シチリル色素等
)、フタロシアニン色素(金属を含有してもよい)等が
挙げられる。
The spectral sensitizing dye used in the photoconductive layer of the present invention may be any conventionally known dye and these may be used alone or in combination. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (N
o. 8) Page 12, C. J. Young et al.: RCA
Review 15, 469 pages (1954), Wataru Kiyota: Journal of the Institute of Electrical Communication J63-C (No. 2)
97 pages (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Magazine 66,
78 and 188 pages (1963), carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes ( Examples include oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, cytylyl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metal), and the like.

【0258】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−114227
、同53−39130、同53−82353各号公報、
米国特許第3052540、同第4054450各号明
細書、特開昭57−16456号公報等に記載のものが
挙げられる。
More specifically, as carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, and phthalein dyes, there are
52, JP-A No. 50-90334, No. 50-114227
, 53-39130, 53-82353 publications,
Examples include those described in U.S. Pat. No. 3,052,540, U.S. Pat.

【0259】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer  「The  Cya
nineDyes  and  Related  C
ompounds」等に記載の色素類が使用可能であり
、更に具体的には、米国特許第3047384、同31
10591、同3121008、同3125447、同
3128179、同3132942、同3622317
各号明細書、英国特許第1226892、同13092
74、同1405898各号明細書、特公昭48−78
14、同55−18892各号公報等に記載の色素が挙
げられる。
Polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and rhodacyanine dyes include F. M. Hammer “The Cya”
nine Dyes and Related C
It is possible to use pigments described in US Pat. No. 3,047,384 and US Pat.
10591, 3121008, 3125447, 3128179, 3132942, 3622317
Specifications of each issue, British Patent No. 1226892, British Patent No. 13092
74, 1405898 specifications, Japanese Patent Publication No. 1978-1978
14, No. 55-18892, and the like.

【0260】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜
赤外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭
47−840、同47−44180、特公昭51−41
061、特開昭49−5034、同49−45122、
同57−46245、同56−35141、同57−1
57254、同61−26044、同61−27551
各号公報、米国特許第361954、同4175956
各号明細書、「Research  Disclosu
re」1982年、216、第117〜118頁等に記
載のものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色
素を併用させても、その性能が増感色素により変動しに
くい点においても優れている。
[0260] Furthermore, near-infrared light with a long wavelength of 700 nm or more
As a polymethine dye that spectrally sensitizes the infrared light region, JP-A-47-840, JP-A-47-44180, and JP-A-51-41
061, JP-A No. 49-5034, JP-A No. 49-45122,
57-46245, 56-35141, 57-1
57254, 61-26044, 61-27551
Publications, U.S. Patent No. 361954, U.S. Patent No. 4175956
Specifications of each issue, “Research Disclosure
re'', 1982, 216, pp. 117-118. The photoreceptor of the present invention is also excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together.

【0261】更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば前記した総説:イメージング19
73(No.8)第12頁等の総説引例の電子受容性化
合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、
酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光
導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:日
本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のポ
リアリールアルカン化合物、ヒンダートフェノール化合
物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers such as chemical sensitizers may be used in combination. For example, the review mentioned above: Imaging 19
73 (No. 8), page 12, etc., electron-accepting compounds (e.g., halogens, benzoquinone, chloranil,
Acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., “Recent development and practical application of photoconductive materials and photoreceptors” Chapters 4 to 6: Nihon Kagaku Information Co., Ltd. Publishing Department (1986) Examples include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, and p-phenylenediamine compounds cited in the review.

【0262】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
01〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜10
0μ、特には10〜50μが好適である。
[0262] The amount of these various additives added is not particularly limited, but is usually 0.0 parts by weight per 100 parts by weight of the photoconductor.
01 to 2.0 parts by weight. The thickness of the photoconductive layer is 1 to 10
0μ, especially 10-50μ is suitable.

【0263】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特には、0.05〜0
.5μが好適である。
[0263] When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of a photoconductor with a stacked charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 1μ. 0
.. 5μ is suitable.

【0264】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。
Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, triphenylmethane dyes, and the like. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 microns, particularly 10 to 30 microns.

【0265】電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては、
代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂
、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹脂
、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
[0265] As the resin used for forming the charge transport layer,
Typical examples are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride acid copolymer resin, polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, and epoxy. Thermoplastic resins and curable resins such as resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.

【0266】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、さらにはカール防止
を図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの
、前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記
支持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプ
レコート層を設けたもの、Al等を蒸着した基体導電化
プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, a base material such as metal, paper, or plastic sheet impregnated with a low-resistance substance is used in the same manner as in the past. The substrate is coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and preventing curling, etc.; Those with a water-resistant adhesive layer on the surface of the body, those with at least one pre-coat layer provided as necessary on the surface layer of the support, and those with a conductive plastic substrate on which Al or the like is vapor-deposited and laminated with paper. Things can be used.

【0267】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14、(No.1
)、p2〜11(1975)、森賀弘之,「入門特殊紙
の科学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoov
er,J.Macromol.Sci.Chem.A−
4(6),第1327〜1417頁(1970)等に記
載されているもの等を用いる。
[0267] Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material, see Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1
), p2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to the Science of Special Paper", Kobunshi Publishing Association (1975), M. F. Hoov
er, J. Macromol. Sci. Chem. A-
4(6), pp. 1327-1417 (1970), etc. are used.

【0268】実際に本発明の平版印刷物用原版を作るに
は、常法に従って導電性支持体上に本発明の樹脂、更に
は必要により前記した添加剤等を沸点が200℃以下の
揮発性炭化水素溶剤に溶解又は分散し、これを塗布・乾
燥することによって電子写真感光層(光導電層)を形成
して製造することができる。用いる有機溶剤としては、
具体的には特にジクロロメタン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、ジクロロプロ
パンまたはトリクロロエタンなどの如き、炭素数1〜3
のハロゲン化炭化水素が好ましい。その他クロロベンゼ
ン、トルエン、キシレンまたはベンゼンなどの如き芳香
族炭化水素、アセトンまたは2−ブタノン等の如きケト
ン類、テトラヒドロフランなどの如きエーテルおよびメ
チレンクロリドなど、塗布用組成物に用いられる各種の
溶剤及び上記溶剤の混合物も使用可能である。
[0268] In order to actually produce the original plate for lithographic printing of the present invention, the resin of the present invention and, if necessary, the above-mentioned additives, etc. are placed on a conductive support by volatile carbonization with a boiling point of 200°C or less. An electrophotographic photosensitive layer (photoconductive layer) can be produced by dissolving or dispersing it in a hydrogen solvent, coating it, and drying it. The organic solvent used is
Specifically, dichloromethane, chloroform, 1,2
- 1 to 3 carbon atoms, such as dichloroethane, tetrachloroethane, dichloropropane or trichloroethane;
Preferred are halogenated hydrocarbons. Other various solvents used in coating compositions, such as aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene, toluene, xylene or benzene, ketones such as acetone or 2-butanone, ethers such as tetrahydrofuran, and methylene chloride, and the above-mentioned solvents. Mixtures of can also be used.

【0269】本発明の平版印刷用原版を用いた印刷版の
作製は、上記した構成から成る電子写真用原版に常法に
より複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理する事
で作成される。本発明に供される不感脂化処理は、本発
明の樹脂粒子を、処理液を通すことで加水分解する方法
、レドックス反応で分解する方法あるいは光照射処理し
て分解する方法等によりヒドロキシル基を生成する方法
あるいは、樹脂粒子の親水化処理とともに酸化亜鉛を不
感脂化処理液で不感脂化するという方法が挙げられる。   後者の場合は、■酸化亜鉛粒子と樹脂粒子とを同時
に不感脂化反応を行なう。■酸化亜鉛粒子を不感脂化後
樹脂粒子を分解処理を行なう。■樹脂粒子を分解処理後
酸化亜鉛粒子の不感脂化反応を行なう等いずれの手順で
もの行なうことができる。
[0269] A printing plate using the lithographic printing original plate of the present invention is prepared by forming a copy image on the electrophotographic original plate having the above-mentioned structure by a conventional method, and then subjecting the non-image area to a desensitization treatment. be done. The desensitization treatment used in the present invention involves hydrolyzing the resin particles of the present invention by passing them through a treatment solution, decomposing them by redox reaction, decomposing them by light irradiation, etc. to remove hydroxyl groups. Examples include a method in which resin particles are hydrophilized and zinc oxide is desensitized with a desensitization treatment liquid. In the latter case, (1) desensitizing zinc oxide particles and resin particles is carried out simultaneously. ■ After making the zinc oxide particles desensitized, the resin particles are decomposed. (2) Any procedure can be used, such as decomposing the resin particles and then subjecting the zinc oxide particles to a desensitizing reaction.

【0270】酸化亜鉛の不感脂化方法としては、従来公
知の処理液のいずれをも用いることができる。例えば、
フェロシアン系化合物を不感脂化の主剤として用いた、
特開昭62−239158、同62−292492、同
63−99993、同63−9994、特公昭40−7
334、同45−33683、特開昭57−10788
9、特公昭46−21244、同44−9045、同4
7−32681、同55−9315、特開昭52−10
1102各号公報等が挙げられる。しかし、該処理液の
安全性の点から以下の処理液が好ましい。
[0270] As a method for desensitizing zinc oxide, any conventionally known treatment liquid can be used. for example,
Using a ferrocyanic compound as the main desensitizing agent,
JP 62-239158, JP 62-292492, JP 63-99993, JP 63-9994, JP 40-7
334, 45-33683, JP-A-57-10788
9, Special Publication No. 46-21244, No. 44-9045, No. 4
7-32681, 55-9315, Japanese Patent Application Publication No. 52-10
1102 publications, etc. However, from the viewpoint of the safety of the treatment liquid, the following treatment liquids are preferred.

【0271】例えば、フィチン酸系化合物を主剤として
用いた、特公昭43−28408、同45−24609
、特開昭51−103501、同54−10003号、
同53−83805、同53−83806、同53−1
27002、同54−44901、同56−2189、
同57−2796、同57−20394、同59−20
7290各号公報に記載のもの、金属キレート形成可能
な水溶性ポリマーを主剤として用いた、特公昭38−9
665、同39−22263、同40−763、同43
−28404、同47−29642、特開昭52−12
6302、同52−134501、同53−49506
、同53−59502、同53−104302各号公報
等に記載のもの、金属錯体系化合物を主剤として用いた
、特開昭53−104301、特公昭55−15313
、同54−41924各号公報等に記載のもの、あるい
は無機及び有機酸系化合物を主剤として用いた、特公昭
39−13702、同40−10308、同46−26
124、特開昭51−118501、同56−1116
95各号公報等に記載されたもの等が挙げられる。
For example, Japanese Patent Publications No. 43-28408 and No. 45-24609 using a phytic acid compound as the main ingredient
, JP-A-51-103501, JP-A No. 54-10003,
53-83805, 53-83806, 53-1
27002, 54-44901, 56-2189,
57-2796, 57-20394, 59-20
7290, which uses a water-soluble polymer capable of forming a metal chelate as the main ingredient,
665, 39-22263, 40-763, 43
-28404, 47-29642, JP-A-52-12
6302, 52-134501, 53-49506
, No. 53-59502, No. 53-104302, etc., JP-A No. 53-104301, No. 55-15313 using a metal complex compound as the main ingredient.
, No. 54-41924, etc., or Japanese Patent Publications No. 39-13702, No. 40-10308, No. 46-26 using inorganic and organic acid compounds as main ingredients.
124, JP-A-51-118501, JP-A No. 56-1116
Examples include those described in each No. 95 publication.

【0272】樹脂粒子の不感脂化方法、即ち、保護され
たヒドロキシル基を分解する方法としては、保護された
ヒドロキシル基の分解反応性により任意に選択される。 その1つとしてpH1〜6の酸性条件、pH8〜12の
アルカリ性条件の水溶液で加水分解する方法が挙げられ
る。これらのpHの調整は、公知の化合物によって容易
に調整することができる。あるいは還元性又は酸化性の
水溶性化合物によるレドックス反応による方法が可能で
あり、これらの化合物としては公知の化合物を用いるこ
とができ、例えば無水ヒドラジン、亜硫酸塩、リポ酸、
ハイドロキノン類、ギ酸、チオ硫酸塩、過酸化水素、過
硫酸塩、キノン類等が挙げられる。
[0272] The method for desensitizing the resin particles, ie, the method for decomposing the protected hydroxyl groups, is arbitrarily selected depending on the decomposition reactivity of the protected hydroxyl groups. One such method is a method of hydrolyzing with an aqueous solution under acidic conditions of pH 1 to 6 or alkaline conditions of pH 8 to 12. These pH values can be easily adjusted using known compounds. Alternatively, a method using a redox reaction using a reducing or oxidizing water-soluble compound is possible, and known compounds can be used as these compounds, such as anhydrous hydrazine, sulfite, lipoic acid,
Examples include hydroquinones, formic acid, thiosulfates, hydrogen peroxide, persulfates, quinones, and the like.

【0273】該処理液は、反応促進あるいは処理液の保
存安定性を改良するために他の化合物を含有してもよい
。例えば水に可溶性の有機溶媒を水100重量部中に1
〜50重量部含有してもよい。このような水に可溶性の
有機溶媒としては、例えばアルコール類(メタノール、
エタノール、プロパノール、プロパギルアルコール、ベ
ンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノン等
)、エーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロピラン
等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、
ギ酸エチル等)等が挙げられ、これらは単独又は2種以
上を混合して用いてもよい。
[0273] The processing solution may contain other compounds in order to promote the reaction or improve the storage stability of the processing solution. For example, add 1 part by weight of a water-soluble organic solvent to 100 parts by weight of water.
It may contain up to 50 parts by weight. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol,
ethanol, propanol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate,
ethyl formate, etc.), and these may be used alone or in combination of two or more.

【0274】また、界面活性剤を水100重量部中に0
.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤としては
、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオン
性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新界
面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田良
平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店(
1980年刊)等に記載される化合物を用いることがで
きる。
[0274] In addition, 0 parts of surfactant was added to 100 parts by weight of water.
.. It may be contained in an amount of 1 to 20 parts by weight. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic, and nonionic surfactants. For example, Hiroshi Horiguchi, “New Surfactants,” Sankyo Publishing Co., Ltd. (published in 1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura, “Synthesis of Surfactants and Their Applications,” Maki Shoten (
(1980), etc. can be used.

【0275】本発明の範囲は、上記した具体的化合物例
に限定されるものではない。処理の条件は、温度15℃
〜60℃で浸漬時間は10秒〜5分間が好ましい。更に
は、特定の官能基を光照射で分解する方法としては、製
版におけるトナー画像を得た後のいずれかの間で「化学
的活性光線」で光照射する行程を入れる様にすればよい
。即ち、電子写真現像後、トナー画像の定着時に定着を
兼ねて光照射を行ってもよいし、或いは従来公知の他の
定着法、例えば加熱定着、圧力定着、溶剤定着などによ
り定着した後、光照射を行うものである。
[0275] The scope of the present invention is not limited to the above-mentioned specific compound examples. The processing conditions are a temperature of 15°C.
The immersion time is preferably 10 seconds to 5 minutes at ~60°C. Furthermore, as a method for decomposing a specific functional group by light irradiation, a step of irradiating it with "chemically active light" may be included sometime after the toner image is obtained during plate making. That is, after electrophotographic development, light irradiation may be performed during fixing of the toner image, or after fixing by other conventionally known fixing methods, such as heat fixing, pressure fixing, solvent fixing, etc., light irradiation may be performed. It performs irradiation.

【0276】本発明に用いられる「化学的活性光線」と
しては、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線、
γ線、α線などいずれでもよいが、好ましくは紫外線が
挙げられる。より好ましくは波長310nmから波長5
00nmの範囲での光線を発しうるものが好ましく、一
般には高圧あるいは超高圧の水銀ランプ等が用いられる
。光照射の処理は通常5cm〜50cmの距離から10
秒〜10分間の照射で充分に行うことができる。
[0276] Examples of the "chemically active light" used in the present invention include visible light, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X-rays,
Any radiation such as γ rays or α rays may be used, but ultraviolet rays are preferred. More preferably wavelength 310 nm to wavelength 5
It is preferable to use one that can emit light in the 00 nm range, and generally a high-pressure or ultra-high pressure mercury lamp or the like is used. Light irradiation treatment is usually performed from a distance of 5cm to 50cm.
Irradiation for seconds to 10 minutes is sufficient.

【0277】0277]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。結着樹脂〔
A〕の合成例1:〔A−1〕ベンジルメタクリレート9
5g、アクリル酸5g及びトルエン200gの混合溶液
を窒素気流下90℃の温度に加温した後、2,2’−ア
ゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.)6
.0gを加え4時間反応させた。更にA.I.B.N.
  2gを加え2時間反応させた。得られた共重合体〔
A−1〕の重量平均分子量は8500であった。結着樹
脂〔A〕の合成例2/28:〔A−2〕〜〔A−28〕
樹脂〔A〕の合成例1の重合条件と同様に操作して下記
表−2の各樹脂〔A−2〕〜〔A−28〕を合成した。
[Examples] Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto. Binder resin [
A] Synthesis Example 1: [A-1] Benzyl methacrylate 9
After heating a mixed solution of 5 g of acrylic acid, 5 g of acrylic acid, and 200 g of toluene to a temperature of 90°C under a nitrogen stream, 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviated as A.I.B.N.) 6
.. 0g was added and reacted for 4 hours. Furthermore, A. I. B. N.
2 g was added and reacted for 2 hours. The obtained copolymer [
A-1] had a weight average molecular weight of 8,500. Synthesis example 2/28 of binder resin [A]: [A-2] to [A-28]
Resins [A-2] to [A-28] in Table 2 below were synthesized under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 for Resin [A].

【0278】[0278]

【表2】[Table 2]

【0279】0279]

【表3】[Table 3]

【0280】0280]

【表4】[Table 4]

【0281】0281]

【表5】[Table 5]

【0282】0282]

【表6】[Table 6]

【0283】0283

【表7】[Table 7]

【0284】0284

【表8】[Table 8]

【0285】結着樹脂〔A〕の合成例29:〔A−29
〕 2,6−ジクロロフェニルメタクリレート95g、アク
リル酸5g、n−ドデシルメルカプタン2g及びトルエ
ン200gの混合溶液を窒素気流下80℃の温度に加温
した後、A.I.B.N.  2gを加え4時間反応し
、次にA.I.B.N.  0.5gを加え2時間、更
にA.I.B.N.  0.5gを加え3時間反応した
。冷却後、メタノール/水(9/1)の混合溶液2リッ
トル中に再沈し、沈殿物をデカンテーションで捕集し、
減圧乾燥した。得られたワックス状の共重合体の収量は
78gで、重量平均分子量は6.3×103 であった
Synthesis Example 29 of Binder Resin [A]: [A-29
] After heating a mixed solution of 95 g of 2,6-dichlorophenyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, 2 g of n-dodecyl mercaptan, and 200 g of toluene to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream, A. I. B. N. 2g was added and reacted for 4 hours, then A. I. B. N. Add 0.5g and continue for 2 hours. I. B. N. 0.5 g was added and reacted for 3 hours. After cooling, reprecipitate into 2 liters of a mixed solution of methanol/water (9/1), collect the precipitate by decantation,
Dry under reduced pressure. The yield of the waxy copolymer obtained was 78 g, and the weight average molecular weight was 6.3 x 103.

【0286】次に分散安定用樹脂及び樹脂粒子の製造例
を具体的に例示する。分散安定用樹脂の製造例1:〔P
−1〕 ドデシルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレ
ート3g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流
下攪拌しながら、温度75℃に加温した。2,2′−ア
ゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.)1
.0gを加え4時間攪拌し、更にA.I.B.N.0.
5gを加え4時間攪拌した。次に、この反応混合物にメ
タアクリル酸5g、N,N−ジメチルドデシルアミン1
.0g、t−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、温
度110℃にて、8時間攪拌した。冷却後、メタノール
2リットル中に再沈し、やや褐色気味の油状物を補集後
、乾燥した。収量73gで重量平均分子量3.6×10
4 であった。
Next, specific examples of manufacturing the dispersion stabilizing resin and resin particles will be described. Production example 1 of resin for dispersion stabilization: [P
-1] A mixed solution of 97 g of dodecyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate, and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation A.I.B.N.) 1
.. 0g was added and stirred for 4 hours, and further A. I. B. N. 0.
5 g was added and stirred for 4 hours. Next, 5 g of methacrylic acid and 1 g of N,N-dimethyldodecylamine were added to the reaction mixture.
.. 0g of t-butylhydroquinone and 0.5g of t-butylhydroquinone were added thereto, and the mixture was stirred at a temperature of 110°C for 8 hours. After cooling, the mixture was reprecipitated into 2 liters of methanol, a slightly brownish oil was collected, and then dried. Yield: 73g, weight average molecular weight: 3.6 x 10
It was 4.

【0287】0287]

【化77】[C77]

【0288】分散安定用樹脂の製造例2:〔P−2〕2
−エテルヘキシルメタクリレート100g、トルエン1
50g及びイソプロパノール50gの混合溶液を、窒素
気流下攪拌しながら温度75℃に加温した。2,2′−
アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.V.)を
2g加え4時間反応し、更にA.C.V.0.8gを加
えて4時間反応した。冷却後、メタノール2リットル中
に再沈し、油状物を補集し乾燥した。
[0288] Production example 2 of resin for dispersion stabilization: [P-2] 2
-100 g of ethylhexyl methacrylate, 1 part of toluene
A mixed solution of 50 g and isopropanol was heated to 75° C. with stirring under a nitrogen stream. 2,2'-
2g of azobis(4-cyanovaleric acid) (abbreviated as A.C.V.) was added and reacted for 4 hours, and further A.C.V. C. V. 0.8 g was added and reacted for 4 hours. After cooling, the mixture was reprecipitated into 2 liters of methanol, and the oil was collected and dried.

【0289】得られた油状物50g、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート6g、テトラヒドロフラン150g
の混合物を溶解し、これにジシクロヘキシルカルボンジ
イミド(D.C.C.)8g、4−(N,N−ジメチル
アミノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混
合溶液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時
間攪拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時
間攪拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタ
ノール1リットル中に再沈し油状物を補集した。更に、
この油状物をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不
溶物を濾別後再びメタノール1リットル中に再沈し、油
状物を補集し乾燥した。収量32gで重量平均分子量4
.2×104 であった。
[0289] 50 g of the obtained oil, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 150 g of tetrahydrofuran.
A mixed solution of 8 g of dicyclohexylcarbondiimide (D.C.C.), 0.2 g of 4-(N,N-dimethylamino)pyridine, and 20 g of methylene chloride was added dropwise to the mixture at a temperature of 25 to 30°C. The mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. After filtering off the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol to collect the oily matter. Furthermore,
This oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, and after filtering off insoluble matter, it was reprecipitated again in 1 liter of methanol, and the oily substance was collected and dried. Yield: 32g, weight average molecular weight: 4
.. It was 2×104.

【0290】0290]

【化78】[C78]

【0291】分散安定用樹脂の製造例3:〔P−3〕ブ
チルメタクリレート96g、チオグリコール酸4g及び
トルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しなが
ら、温度70℃に加温した。A.I.B.N.を1.0
gを加え8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシジ
ルメタクリレート8g、N,N−ジメチルドデシルアミ
ン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0.5gを加
え、温度100℃にて、12時間攪拌した。冷却後この
反応溶液をメタノール2リットル中に再沈し、油状物を
82g得た。重量平均分子量は8×103 であった。
Production Example 3 of Dispersion Stabilizing Resin: [P-3] A mixed solution of 96 g of butyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to 70° C. with stirring under a nitrogen stream. A. I. B. N. 1.0
g was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine, and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction solution, and the mixture was stirred at a temperature of 100° C. for 12 hours. After cooling, this reaction solution was reprecipitated into 2 liters of methanol to obtain 82 g of an oily substance. The weight average molecular weight was 8 x 103.

【0292】0292

【化79】[C79]

【0293】分散安定用樹脂の製造例4:P−4n−ブ
チルメタクリレート100g、β−メルカプトプロピオ
ン酸4g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流
下攪拌しながら温度70℃に加温した。これにA.I.
B.N.1gを加え6時間反応した。この反応混合物を
冷却し、温度25℃に設定した後、2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート10g及びジカルボキシルカルボンジ
イミド(D.C.C.)8g、4−(N,N−ジメチル
アミノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混
合溶液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時
間攪拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時
間攪拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタ
ノール1リットル中に再沈し油状物を濾集した。更に、
この油状物をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不
溶物を濾別後再びメタノール2リットル中に再沈し、油
状物を補集し乾燥した。収量68gで重量平均分子量6
.6×103 であった。
Production Example 4 of Dispersion Stabilizing Resin: A mixed solution of 100 g of P-4n-butyl methacrylate, 4 g of β-mercaptopropionic acid and 200 g of toluene was heated to 70° C. with stirring under a nitrogen stream. To this A. I.
B. N. 1 g was added and reacted for 6 hours. After cooling the reaction mixture and setting the temperature to 25°C, 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 8 g of dicarboxycarbondiimide (D.C.C.), and 0.2 g of 4-(N,N-dimethylamino)pyridine were added. A mixed solution of 20 g of methylene chloride was added dropwise at a temperature of 25 to 30°C, and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to this reaction mixture and stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol, and the oily matter was collected by filtration. Furthermore,
This oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, and after filtering off insoluble matter, it was reprecipitated again in 2 liters of methanol, and the oily substance was collected and dried. Yield: 68g, weight average molecular weight: 6
.. It was 6×103.

【0294】0294

【化80】[C80]

【0295】分散安定用樹脂の製造例5〜12:P−5
〜P−12 製造例4において、n−ブチルメタクリレート100g
の代わりに下記表−3に相当する単量体群に代えた他は
、製造例4と同様にして各樹脂を製造した。各樹脂の重
量平均分子量は5.5×103 〜7×103 の範囲
であった。
[0295] Production examples 5 to 12 of resin for dispersion stabilization: P-5
~P-12 In Production Example 4, 100 g of n-butyl methacrylate
Each resin was produced in the same manner as in Production Example 4, except that the monomer groups corresponding to Table 3 below were used instead. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 5.5 x 103 to 7 x 103.

【0296】0296

【表9】[Table 9]

【0297】分散安定用樹脂の製造例13〜16:P−
13〜P−16 製造例4において、2−ヒドロキシメタクリレートの代
わりに表−4に相当する化合物を用いた他は製造例4と
同様に操作して各樹脂を製造した。各樹脂の重量平均分
子量は6×103 〜7×103 の範囲であった。
[0297] Production examples 13 to 16 of dispersion stabilizing resin: P-
13 to P-16 Each resin was produced in the same manner as in Production Example 4, except that compounds corresponding to Table 4 were used instead of 2-hydroxymethacrylate. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 6 x 103 to 7 x 103.

【0298】0298

【表10】[Table 10]

【0299】分散安定用樹脂の製造例17:P−17ヘ
キシルメタクリレート80g、グリシジルメタクリレー
ト20g、2−メルカプトエタノール2g及びテトラヒ
ドロフラン300gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら温度60℃に加温した。これに2,2′−アゾビス
(イソバレロニトリル)(略称:A.I.V.N.)0
.8gを加え4時間反応し、更にA.I.V.N  0
.4gを加えて4時間反応した。この反応間を温度25
℃に冷却した後、メタクリル酸4gを加え攪拌下にD.
C.C.6g、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジ
ン0.1g及び塩化メチレン15gの混合溶液を1時間
で滴下し、そのまま更に3時間攪拌した。次に、水10
gを加え、1時間攪拌し析出した不溶物を濾別後、濾液
をメタノール1リットル中に再沈し油状物を補集した。 更にこの油状物をベンゼン150gに溶解し不溶物を濾
別後、再びメタノール1リットル中に再沈し油状物を補
集し乾燥した。収量は56gで重量平均分子量8×10
3 であった。
Production Example 17 of Dispersion Stabilizing Resin: A mixed solution of 80 g of P-17 hexyl methacrylate, 20 g of glycidyl methacrylate, 2 g of 2-mercaptoethanol and 300 g of tetrahydrofuran was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 2,2'-azobis(isovaleronitrile) (abbreviation: A.I.V.N.) 0
.. 8g was added and reacted for 4 hours, and then A. I. V. N 0
.. 4 g was added and reacted for 4 hours. During this reaction, the temperature was 25
After cooling to ℃, 4 g of methacrylic acid was added and D.C. was added under stirring.
C. C. A mixed solution of 6 g, 0.1 g of 4-(N,N-dimethylamino)pyridine, and 15 g of methylene chloride was added dropwise over 1 hour, and the mixture was stirred for an additional 3 hours. Next, water 10
After stirring for 1 hour and filtering off the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated into 1 liter of methanol to collect the oily matter. Furthermore, this oily substance was dissolved in 150 g of benzene, and after filtering off the insoluble matter, it was reprecipitated again into 1 liter of methanol, and the oily substance was collected and dried. Yield: 56g, weight average molecular weight: 8x10
It was 3.

【0300】0300]

【化81】[Chemical formula 81]

【0301】分散安定用樹脂の製造例18〜22:P−
18〜P−22 製造例17に示した様な反応を行なうことで下記表−5
の分散安定用樹脂を各々合成した。各樹脂の重量平均分
子量は6×103 〜9×103 の範囲であった。
[0301] Production examples 18 to 22 of dispersion stabilizing resin: P-
18 to P-22 By performing the reaction shown in Production Example 17, the following Table-5
Each of these dispersion stabilizing resins was synthesized. The weight average molecular weight of each resin was in the range of 6 x 103 to 9 x 103.

【0302】0302]

【表11】[Table 11]

【0303】0303]

【表12】[Table 12]

【0304】樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕分散安定
用樹脂〔P−17〕10g及びn−オクタン200gの
混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度60℃に加温し
た。これに、下記単量体〔C−1〕47g、下記単量体
〔D−1〕3g、エチレングリコールジメタクリレート
5g、A.I.V.N.0.5g及びn−オクタン24
0gの混合溶液を2時間で滴下し、そのまま2時間反応
した。更にA.I.V.N.0.5gを加え2時間反応
した。冷却後、200メッシュのナイロン布を通して白
色分散物を得た。平均粒径0.18μmのラテックスで
あった。{:CAPA−500〔堀場製作所(株)〕製
で粒径測定}
Production Example 1 of Resin Particles: [L-1] A mixed solution of 10 g of dispersion stabilizing resin [P-17] and 200 g of n-octane was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, 47 g of the following monomer [C-1], 3 g of the following monomer [D-1], 5 g of ethylene glycol dimethacrylate, A. I. V. N. 0.5g and n-octane 24
0 g of the mixed solution was added dropwise over 2 hours, and the reaction was continued for 2 hours. Furthermore, A. I. V. N. 0.5 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, a white dispersion was obtained through a 200 mesh nylon cloth. The latex had an average particle size of 0.18 μm. {: Particle size measurement using CAPA-500 [Horiba, Ltd.]}

【0305】0305]

【化82】[C82]

【0306】樹脂粒子の製造例2〜11:〔L−2〕〜
〔L−11〕 樹脂粒子の製造例1において、単量体〔C−1〕及び〔
D−1〕の代わりに下記表−6の本単量体に代えた他は
、製造例1と同様にして樹脂粒子を製造した。各粒子の
平均粒径は0.65〜0.30の範囲内であった。
[0306] Production examples 2 to 11 of resin particles: [L-2] to
[L-11] In Production Example 1 of resin particles, monomers [C-1] and [
Resin particles were produced in the same manner as in Production Example 1, except that the present monomer shown in Table 6 below was used instead of [D-1]. The average particle size of each particle was within the range of 0.65 to 0.30.

【0307】0307]

【表13】[Table 13]

【0308】0308

【表14】[Table 14]

【0309】0309]

【表15】[Table 15]

【0310】樹脂粒子の製造例12:〔L−12〕分散
安定用樹脂AA−6〔東亜合成(株)製マクロモノマー
:メチルメタクリレートを繰り返し単位とするマクロモ
ノマー:重量平均分子量1.5×104 〕7.5g及
びメチルエチルケトン133gの混合溶液を窒素気流下
攪拌しながら60℃に加温した。これに、下記単量体〔
C−12〕20g、下記単量体〔D−11〕5gジエチ
レングリコールジメタクリレート5g、A.I.V.N
.0.5g及びメチルエチルケトン150gの混合溶液
を1時間で滴下し更にA.I.V.N.0.25gを加
えて2時間反応した。冷却後、200メッシュのナイロ
ン布を通して得られた分散物の平均粒径は0.25μm
であった。
Production Example 12 of Resin Particles: [L-12] Dispersion Stabilizing Resin AA-6 [manufactured by Toagosei Co., Ltd. Macromonomer: Macromonomer having methyl methacrylate as a repeating unit: Weight average molecular weight 1.5×104 ] A mixed solution of 7.5 g and 133 g of methyl ethyl ketone was heated to 60° C. with stirring under a nitrogen stream. To this, the following monomer [
C-12] 20 g, the following monomer [D-11] 5 g, diethylene glycol dimethacrylate 5 g, A. I. V. N
.. A mixed solution of 0.5 g and 150 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 1 hour. I. V. N. 0.25g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the average particle size of the obtained dispersion was 0.25 μm through a 200 mesh nylon cloth.
Met.

【0311】0311]

【化83】[Chemical formula 83]

【0312】樹脂粒子の製造例13:〔L−13〕分散
安定用樹脂P−20  7.5g及びメチルエチルケト
ン230gの混合溶液を窒素気流下、攪拌しながら60
℃に加温した。これに単量体〔C−12〕22g、単量
体〔D−7〕3g、アクリルアミド15g、A.I.V
.N.0.5g及びメチルエチルケトン200gの混合
溶液を2時間で滴下し、更にそのまま1時間反応した。 更に、A.I.V.N.0.25gを加え、2時間反応
した後、冷却し200メッシュナイロン布を通して得ら
れた分散物の平均粒径は0.20μmであった。樹脂粒
子の製造例14:〔L−14〕 単量体〔C−12〕46g、単量体〔D−7〕4g、エ
チレングリコールジアクリレート2g、分散安定用樹脂
P−19  8g及びジプロピルケトン230gを窒素
気流下温度60℃に加温したジプロピルケトン200g
の溶液中に攪拌しながら2時間で滴下した。そのまま1
時間反応後、更にA.I.V.N.0.3gを加え2時
間反応した。冷却後200メッシュナイロン布を通して
得られた分散物の平均粒径は0.25μmであった。樹
脂粒子の製造例15〜25:〔L−15〕〜〔L−25
〕樹脂粒子の製造例14において、エチレングリコール
ジアクリレート2gに代えて、下記表−7の多官能性化
合物を用いた他は製造例14と同様にして樹脂粒子〔L
−15〕〜〔L−25〕を製造した。各粒子とも重合率
は95〜98%で平均粒径は0.15〜0.25μmで
あった。
Production Example 13 of Resin Particles: [L-13] A mixed solution of 7.5 g of dispersion stabilizing resin P-20 and 230 g of methyl ethyl ketone was heated for 60 hours while stirring under a nitrogen stream.
Warmed to ℃. To this, 22 g of monomer [C-12], 3 g of monomer [D-7], 15 g of acrylamide, A. I. V
.. N. A mixed solution of 0.5 g and 200 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the reaction was further continued for 1 hour. Furthermore, A. I. V. N. After adding 0.25 g and reacting for 2 hours, the resulting dispersion was cooled and passed through a 200 mesh nylon cloth, and the average particle size of the obtained dispersion was 0.20 μm. Production example 14 of resin particles: [L-14] 46 g of monomer [C-12], 4 g of monomer [D-7], 2 g of ethylene glycol diacrylate, 8 g of dispersion stabilizing resin P-19, and dipropyl ketone 200g of dipropyl ketone heated to 60℃ under a nitrogen stream
was added dropwise to the solution over 2 hours while stirring. As is 1
After the time reaction, A. I. V. N. 0.3 g was added and reacted for 2 hours. After cooling, the resulting dispersion was passed through a 200 mesh nylon cloth, and the average particle size of the resulting dispersion was 0.25 μm. Production examples 15 to 25 of resin particles: [L-15] to [L-25
] In Production Example 14 of Resin Particles, resin particles [L
-15] to [L-25] were produced. The polymerization rate of each particle was 95 to 98%, and the average particle size was 0.15 to 0.25 μm.

【0313】0313]

【表16】[Table 16]

【0314】樹脂粒子の製造例26〜31:〔L−26
〕〜〔L−31〕 樹脂粒子の製造例12において、分散安定用樹脂AA−
6の代わりに下記表−8の各分散安定用樹脂を用いた他
は製造例12と同様にして、各粒子を製造した。各粒子
の平均粒径は0.20〜0.25の範囲であった。
[0314] Production examples 26 to 31 of resin particles: [L-26
] ~ [L-31] In Production Example 12 of resin particles, dispersion stabilizing resin AA-
Particles were produced in the same manner as in Production Example 12, except that each dispersion stabilizing resin shown in Table 8 below was used instead of Sample 6. The average particle size of each particle was in the range of 0.20 to 0.25.

【0315】0315]

【表17】[Table 17]

【0316】樹脂粒子の製造例32〜35:〔L−32
〕〜〔L−35〕 樹脂粒子の製造例13において、単量体〔C−12〕ア
クリルアミド及び反応溶媒:メチルエチルケトンの代わ
りに下記表−9の各々の化合物を用いた他は、製造例1
3と同様にして各粒子を製造した。各粒子の平均粒径は
0.15〜0.30の範囲であった。
[0316] Production examples 32 to 35 of resin particles: [L-32
] ~ [L-35] Production Example 1 except that in Production Example 13 of resin particles, each compound in Table 9 below was used instead of the monomer [C-12] acrylamide and the reaction solvent: methyl ethyl ketone.
Each particle was manufactured in the same manner as in Example 3. The average particle size of each particle was in the range of 0.15 to 0.30.

【0317】0317]

【表18】[Table 18]

【0318】実施例1及び比較例A〜B実施例1 樹脂〔A−8〕6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂〔B−1〕33g(固形分量として)、光導電性酸化
亜鉛200g下記構造のメチン色素〔I〕0.018g
、サリチル酸0.15g及びトルエン300gの混合物
を、ホモジナイザー(日本精機(株)製)中で、7×1
03 r.p.m.の回転数で10分間分散した。これ
に分散樹脂粒子〔L−1〕1.0g(固形分量として)
、無水フタル酸0.01gを加えて、回転数1×103
 r.p.m.で1分間分散した。この感光層形成用分
散物を導電処理した紙に乾燥付着量が25g/m2 と
なるようにワイヤーバーで塗布し、100℃で30秒間
乾燥し、更に120℃で1時間加熱した。ついで暗所で
20℃、65%RHの条件下で24時間放置することに
より、電子写真感光材料を作製した。
Example 1 and Comparative Examples A to B Example 1 6 g (as solid content) of resin [A-8], 33 g (as solid content) of resin [B-1] having the following structure, 200 g of photoconductive zinc oxide Methine dye [I] with the following structure 0.018g
, 0.15 g of salicylic acid, and 300 g of toluene in a 7×1 homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.).
03 r. p. m. Dispersion was carried out for 10 minutes at a rotation speed of . Dispersed resin particles [L-1] 1.0g (as solid content)
, add 0.01 g of phthalic anhydride, and rotate at 1×103
r. p. m. Dispersion was performed for 1 minute. This dispersion for forming a photosensitive layer was applied to conductively treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g/m2, dried at 100°C for 30 seconds, and further heated at 120°C for 1 hour. Then, an electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it in a dark place for 24 hours at 20° C. and 65% RH.

【0319】0319]

【化84】[Chemical formula 84]

【0320】0320]

【化85】[Chemical formula 85]

【0321】比較例A 実施例1において、樹脂〔A−4〕6g及び樹脂〔B−
1〕33gの代わりに樹脂〔B−1〕のみ39gを用い
た他は実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を作
製した。比較例B 比較用分散樹脂粒子:〔LR−1〕 樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕において、単量体〔C
−1〕47g及び〔D−1〕3gの代わりに〔C−1〕
のみ50gとした他は、製造例1と同様にして合成した
。得られたラテックスの平均粒径は0.17μmであっ
た。
Comparative Example A In Example 1, 6 g of resin [A-4] and resin [B-
1] An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 39 g of resin [B-1] was used instead of 33 g. Comparative Example B Comparative dispersed resin particles: [LR-1] Resin particle production example 1: [L-1], monomer [C
-1] instead of 47g and [D-1] 3g [C-1]
Synthesis was carried out in the same manner as in Production Example 1, except that the amount was changed to 50 g. The average particle size of the obtained latex was 0.17 μm.

【0322】0322]

【化86】[C86]

【0323】比較用感光体 実施例1において、樹脂粒子〔L−1〕1gの代わりに
、樹脂粒子〔LR−1〕1g(固形分量として)を用い
た他は、実施例1と同様にして電子写真感光材料を作製
した。
Comparative photoreceptor Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that 1 g of resin particles [LR-1] (as solid content) was used instead of 1 g of resin particles [L-1]. An electrophotographic light-sensitive material was produced.

【0324】これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度
)、静電特性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後
の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性を調べ
た。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士写真
フィルム(株)製)に現像剤ELP−Tを用いて、露光
・現像処理して画像を形成し、不感脂化処理をして得ら
れた平版印刷板を用いて調べた。(なお印刷機にはハマ
ダスター(株)製ハマダスター800SX型を用いた)
以上の結果をまとめて、表−10に示す。
Film properties (surface smoothness), electrostatic properties, desensitization properties of the photoconductive layer (represented by contact angle with water of the photoconductive layer after desensitization treatment), and printing of these photosensitive materials I looked into gender. Printability was determined using a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using developer ELP-T to form an image through exposure and development, followed by desensitization. It was investigated using a printing board. (The printing machine used was Hamadastar 800SX manufactured by Hamadastar Co., Ltd.)
The above results are summarized in Table-10.

【0325】0325]

【表19】[Table 19]

【0326】表−10に記した評価項目の実施の態様は
以下の通りである。 注1)  光導電層の平滑性: 得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工(
株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。 注2)  静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペー
パーアナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライ
ザー−SP−428型)を用いて−6kVで20秒間コ
ロナ放電させた後、10秒間放置し、この時の表面電位
V10を測定した。次いでそのまま暗中で120秒間静
置させた後の電位V120 を測定し、120秒間暗減
衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔DR
R(%)〕を〔(V120 /V10)×100(%)
〕で求めた。
[0326] The implementation of the evaluation items listed in Table 10 is as follows. Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was tested using a Beck smoothness tester (Kumagai Riko).
The smoothness (sec/cc) was measured under the condition of an air volume of 1 cc. Note 2) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 65% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (Paper Analyzer - Model SP-428, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). After allowing it to stand for 10 seconds, the surface potential V10 at this time was measured. Next, the potential V120 was measured after being allowed to stand still in the dark for 120 seconds, and the retention of the potential after dark decay for 120 seconds, that is, the dark decay retention rate [DR
R (%)] [(V120 /V10) x 100 (%)
].

【0327】また、コロナ放電により光導電層表面を−
500Vに帯電させた後、波長780nmの単色光で照
射し、表面電位V10が1/10に減衰するまでの時間
を求め、これから露光量E1/10(erg/cm2 
)を算出する。撮像時の環境条件はI(20℃,65%
RH)と、II(30℃,80%RH)で実施した。 注3)  撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。次に−
5kVで帯電し、光源として2.0mW出力のガリウム
−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780
nm)を用いて、感光材料表面上で、45erg/cm
2 の照射量下、ピッチ25μm及びスキャニング速度
330m/secのスピード露光後、液体現像剤として
、ELP−T(富士写真フィルム(株)製)を用いて現
像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、画像
の画質)を目視評価した。 注4)  生版保水性: 各感光材料そのものを(製版しない原版:即ち、生版と
略称)富士写真フィルム(株)製不感脂化処理液ELP
−EXを蒸留水で2倍に希釈した水溶液を用いて、エッ
チングマシーンを1回通し、更に下記処方の不感脂化処
理液:E−1中に3分間浸漬した。次に、これらの版を
ハマダスター(株)製ハマダスター8005X型を用い
て印刷し、刷り出しから50枚目の印刷物の地汚れの有
無を目視で評価した。 不感脂化処理液:E−1       モノエタノールアミン         
                   60g   
     ネオソープ(松本油脂(株)製)     
               8g        
ベンジルアルコール                
            100g  を蒸留水で希釈
し全量を1.0リットルにした後、水酸化カリウムでp
H10.5に調整した。 注5)  印刷物の地汚れ: 各感光材料を上記注3)と同一の操作で製版した後、E
LP−EXを用いて、エッチングマシーンを1回通した
後、湿し水として、前記E−1を水で5倍に希釈した溶
液を用いてこれらのオフセットマスター用原版を印刷し
、印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印刷枚数を
調べた。
[0327] Furthermore, the surface of the photoconductive layer is -
After charging to 500V, irradiate it with monochromatic light with a wavelength of 780nm, calculate the time until the surface potential V10 attenuates to 1/10, and calculate the exposure amount E1/10 (erg/cm2).
) is calculated. The environmental conditions during imaging were I (20°C, 65%
RH) and II (30°C, 80% RH). Note 3) Imaging properties: Each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions. Next -
A gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780
45erg/cm on the surface of the photosensitive material using
2. After exposure at a pitch of 25 μm and a scanning speed of 330 m/sec under an irradiation dose of Images (fogging, image quality) were visually evaluated. Note 4) Raw plate water retention: Each photosensitive material itself (original plate without plate making: i.e., abbreviated as raw plate) is treated with desensitizing treatment liquid ELP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
Using an aqueous solution prepared by diluting -EX twice with distilled water, the sample was passed through an etching machine once, and then immersed in a desensitizing solution E-1 having the following formulation for 3 minutes. Next, these plates were printed using Hamadastar Model 8005X manufactured by Hamadastar Co., Ltd., and the presence or absence of background smear on the 50th printed matter after printing was visually evaluated. Desensitization treatment liquid: E-1 Monoethanolamine
60g
Neosoap (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.)
8g
benzyl alcohol
Dilute 100g with distilled water to make a total volume of 1.0 liters, and then dilute with potassium hydroxide.
Adjusted to H10.5. Note 5) Background stains on printed matter: After making each photosensitive material in the same manner as in Note 3) above,
After passing through an etching machine once using LP-EX, these offset master original plates were printed using a solution prepared by diluting E-1 5 times with water as a dampening solution, and the background of the printed material was The number of prints until stains could be visually identified was determined.

【0328】本発明及び比較例Bの静電特性が良好で実
際の撮像性も、複写画像はいずれも鮮明な画質であった
。しかし、比較例Aは、光感度が低下しており撮像性も
、細線・文字・低濃度の細線部の欠落、不鮮明が生じた
[0328] The electrostatic properties of the present invention and Comparative Example B were good, and in terms of actual imaging performance, the copied images were all clear in quality. However, in Comparative Example A, the photosensitivity was lowered, and the imaging performance was affected by loss of thin lines, characters, and thin line portions with low density, and blurring.

【0329】これら各感光体を不感脂化処理して、非画
像部の親水化の度合(生版保水性)を評価した所、比較
例Bは、ともに印刷インキ付着による地汚れが著しく、
非画像部の親水化が充分に行なわれなかった。
[0329] When each of these photoreceptors was desensitized and the degree of hydrophilization of the non-image area (green plate water retention) was evaluated, Comparative Example B showed significant scumming due to printing ink adhesion.
The non-image area was not made sufficiently hydrophilic.

【0330】更に実際に製版した後不感脂化処理して印
刷した所、本発明の平版は地汚れの発生も見られず且つ
鮮明な画像の印刷画質の印刷物が1万枚得られた。他方
、樹脂粒子を用いるが樹脂〔A〕を併用しない比較例A
は、被写画像の再現性不良により、印刷物は刷り出しよ
り不良であった。又公知の樹脂と樹脂粒子を用いるが、
樹脂粒子は、本発明の感光体と同様の使用量に減量した
比較例Bでは3千枚程で地汚れが発生してしまった。
[0330] Furthermore, when the lithographic plate of the present invention was actually printed after being subjected to a desensitization treatment after plate making, 10,000 prints with clear images and print quality were obtained without any occurrence of scumming. On the other hand, Comparative Example A using resin particles but not using resin [A]
Due to poor reproducibility of the photographic image, the printed matter was inferior to the printed material. Although known resins and resin particles are used,
In Comparative Example B, in which the amount of resin particles used was reduced to the same amount as in the photoreceptor of the present invention, scumming occurred after about 3,000 sheets were printed.

【0331】以上の様に、非画像部の親水性が充分進行
し地カブリを発生しない電子写真式平版印刷用原版は、
本発明のもののみであった。 実施例2 実施例1において、樹脂〔A−8〕6g、樹脂〔B−1
〕33g、及び樹脂粒子〔L−1〕1.0gの代わりに
、樹脂〔A−17〕4g、下記構造の樹脂〔B−2〕3
5.0g及び樹脂粒子〔L−26〕0.8gを用いた他
は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を作製
した。
As described above, the electrophotographic lithographic printing original plate in which the hydrophilicity of the non-image area has sufficiently progressed and does not cause background fog, is
It was only the one of the present invention. Example 2 In Example 1, 6 g of resin [A-8], 6 g of resin [B-1]
] 33 g, and instead of 1.0 g of resin particles [L-1], 4 g of resin [A-17], and resin [B-2] 3 having the following structure.
An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 5.0 g of resin particles [L-26] and 0.8 g of resin particles [L-26] were used.

【0332】0332]

【化87】[Chemical formula 87]

【0333】実施例1と同様にして各特性を測定した。 以下に特に過酷な環境条件である(30℃、80%RH
)下での測定結果を示す。
[0333] Each characteristic was measured in the same manner as in Example 1. The following are particularly harsh environmental conditions (30°C, 80% RH).
) shows the measurement results below.

【0334】静電特性  V10        : 
 −660VD.R.R  :  82% E1/10      :  27erg/cm2 E
1/100     :  48erg/cm2 撮像
性    :  非常に良好(◎)生版保水性:   
   〃    (◎)印刷物の地汚れ:1万枚まで地
汚れなし但し、不感脂化処理において、実施例1で用い
たE−1の代わりに下記処方の不感脂化処理液E−2を
用いた。
[0334] Electrostatic characteristics V10:
-660VD. R. R: 82% E1/10: 27erg/cm2 E
1/100: 48erg/cm2 Imaging performance: Very good (◎) Raw plate water retention:
〃 (◎) Background stains on printed matter: No background stains up to 10,000 sheets However, in the desensitization treatment, desensitization treatment liquid E-2 with the following formulation was used in place of E-1 used in Example 1. .

【0335】   不感脂化処理液:E−2           ジエタノールアミン      
                      80g
          ニューコールB4SN(日本東レ
化剤(株)製)    8g          メチ
ルエチルケトン                  
        100gを蒸留水に溶かし、全量1.
0リットルとし水酸化カリウムでpH10.0に調整し
た。
[0335] Desensitizing treatment liquid: E-2 diethanolamine
80g
Nucor B4SN (manufactured by Japan Toray Kayaku Co., Ltd.) 8g Methyl ethyl ketone
Dissolve 100g in distilled water and bring the total amount to 1.
The volume was brought to 0 liters and the pH was adjusted to 10.0 with potassium hydroxide.

【0336】本発明の各感光材料は、いずれも帯電性、
暗電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像及び印刷
物も高温高湿(30℃、80%RH)の過酷な条件にお
いても、地カブリの発生のない鮮明な画像を得た。 実施例3〜14 実施例1において用いた、樹脂粒子「L」、樹脂〔A〕
、樹脂〔B〕の代わりに、下記表−11の本発明の樹脂
粒子〔L〕0.9g(固形分量として)及び樹脂〔A〕
5g又下記構造の樹脂〔B−3〕34gを用いた他は、
実施例1と同様にして各感光材料を作製した。
Each of the photosensitive materials of the present invention has chargeability,
It has excellent dark charge retention and photosensitivity, and even in harsh conditions of high temperature and high humidity (30° C., 80% RH), clear images with no background fog were obtained in actual copied images and printed matter. Examples 3 to 14 Resin particles “L” and resin [A] used in Example 1
, instead of resin [B], 0.9 g (as solid content) of the resin particles [L] of the present invention shown in Table 11 below and resin [A]
5g and 34g of resin [B-3] having the following structure were used.
Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1.

【0337】静電特性及び印刷特性を実施例2と同様に
操作して評価した。
[0337] The electrostatic properties and printing properties were evaluated in the same manner as in Example 2.

【0338】0338]

【化88】[Chemical formula 88]

【0339】0339]

【表20】[Table 20]

【0340】各感光材料について、実施例2と同様に操
作して静電特性、印刷特性を測定したところ、いずれも
帯電性、暗電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像
も高温高湿(30℃、80%RH)の過酷な条件におい
ても地カブリの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画
像を与えた。
[0340] When the electrostatic properties and printing properties of each photosensitive material were measured in the same manner as in Example 2, all of them had excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images were also stable at high temperatures. Even under harsh humid conditions (30°C, 80% RH), clear images were produced without background fog or skipped fine lines.

【0341】又、不感脂化処理してオフセット平版原版
の性能を評価した所、いずれも生版保水性は良好で実際
の製版後の印刷結果でも1万枚印刷できた。実施例15
及び比較例C〜D実施例15の樹脂〔A−1〕6.0g
、下記構造の樹脂〔B−4〕34g、酸化亜鉛200g
、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04g、ブ
ロムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸0.2
5g及びトルエン300gの混合物を、ホモジナイザー
中、1×104 r.p.m.の回転数で5分間分散し
た。これに樹脂粒子〔L−24〕1.0g(固形分量と
して)を添加し更に回転数1×103 r.p.m.で
1分間分散した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量
が22g/m2 となる様に、ワイヤーバーで塗布し、
100℃で3分間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%
RHの条件下で24時間放置することにより、電子写真
感光材料を作成した。
[0341] Furthermore, when the performance of the offset lithographic plate precursors was evaluated after being desensitized, the water retention properties of the raw plates were good, and 10,000 sheets could be printed even after actual plate making. Example 15
and Comparative Examples C to D Resin of Example 15 [A-1] 6.0 g
, 34g of resin [B-4] with the following structure, 200g of zinc oxide
, uranine 0.02g, rose bengal 0.04g, bromophenol blue 0.03g, phthalic anhydride 0.2
A mixture of 5 g and 300 g of toluene was heated to 1×10 4 r.m. in a homogenizer. p. m. Dispersion was carried out for 5 minutes at a rotation speed of . 1.0 g (as solid content) of resin particles [L-24] was added to this, and the rotation speed was further increased to 1 x 103 r. p. m. Dispersion was performed for 1 minute. This was applied to conductive-treated paper using a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g/m2.
Dry at 100℃ for 3 minutes, then dry at 20℃ in the dark at 65%
An electrophotographic light-sensitive material was prepared by leaving it for 24 hours under RH conditions.

【0342】0342]

【化89】[Chemical formula 89]

【0343】比較例C 実施例15において樹脂粒子〔L−24〕1.0gを加
えない他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。 比較例D 実施例15において樹脂〔A−1〕6g及び樹脂〔B−
4〕34gの代わりに、下記構造の樹脂〔R−2〕39
gを用いた他は、実施例15と同様に操作して電子写真
感光材料を作製した。
Comparative Example C An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1.0 g of resin particles [L-24] in Example 15 was not added. Comparative Example D In Example 15, 6 g of resin [A-1] and resin [B-
4] Instead of 34g, resin [R-2] 39 with the following structure
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 15 except that g was used.

【0344】0344

【化90】[C90]

【0345】これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度
)、膜強度、静電特性、撮像性及び環境条件を30℃、
80%RHとした時の静電特性撮像体を調べた。更に、
これらの感光材料をオフセットマスター用原版として用
いた時の光導電性の不感脂化性(保水性)及び印刷性(
地汚れ、耐刷性等)を調べた。
[0345] The film properties (surface smoothness), film strength, electrostatic properties, imaging properties, and environmental conditions of these photosensitive materials were measured at 30°C,
The electrostatic characteristics of the image pickup body at 80% RH were investigated. Furthermore,
When these photosensitive materials are used as original plates for offset masters, the photoconductive desensitization (water retention) and printability (
Background stains, printing durability, etc.) were investigated.

【0346】以上の結果をまとめて、表−12に示す。[0346] The above results are summarized in Table 12.

【0347】0347]

【表21】[Table 21]

【0348】表−12に記した評価項目の実施の態様の
中で、以下の項目については、下記内容に従がい操作し
た。 注6)  静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペー
パーアナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライ
ザー−SP−428型)を用いて−6kVで20秒間コ
ロナ放電をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位
をV10を測定した。ついでそのまま暗中で60秒間静
置した後の電位V70を測定し、60秒間暗減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔D.R.R(
%)〕を〔(V70/V70)×100(%)〕で求め
た。又、コロナ放電により光導電層表面を−400Vに
帯電させた後、ついで光導電層表面を照度2.0ルック
スの可視光で照射し、表面電位V10が1/10に減衰
するまでの時間を求め、これから露光量E1/10(ル
ックス・秒)を算出する。同様にV10が1/100に
減衰するまでの時間を求め、これから露光量E1/10
0 (lux・sec)を算出する。注7)  撮像性
:各感光材料及び全自動製版機ELP404V(富士写
真フィルム(株)製)を1昼夜常温・常湿(20℃、6
5%)に放置した後、製版して複写画像を形成し、得ら
れた複写原版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観
察する(これをIとする)。複写画像の画質IIは、製
版を高温・高湿(30℃、80%)で行なう他は、前記
Iと同様の方法で試験する。
[0348] Among the implementation modes of the evaluation items listed in Table 12, the following items were operated according to the following contents. Note 6) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 65% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (Paper Analyzer - Model SP-428, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). After this, the sample was left for 10 seconds, and the surface potential at this time was measured as V10. Then, the potential V70 was measured after being allowed to stand still in the dark for 60 seconds, and the retention of the potential after dark decay for 60 seconds, that is, the dark decay retention rate [D. R. R(
%)] was calculated as [(V70/V70)×100(%)]. In addition, after the surface of the photoconductive layer was charged to -400 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer was then irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux, and the time required for the surface potential V10 to attenuate to 1/10 was measured. From this, the exposure amount E1/10 (lux/second) is calculated. Similarly, find the time until V10 attenuates to 1/100, and then calculate the exposure amount E1/10.
0 (lux・sec) is calculated. Note 7) Imaging performance: Each photosensitive material and a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) were used for one day and night at room temperature and humidity (20℃, 6
5%), plate making is performed to form a copy image, and the image (fogging, image quality) of the obtained copy original plate is visually observed (this is referred to as I). Image quality II of the copied image is tested in the same manner as in I above, except that plate making is performed at high temperature and high humidity (30° C., 80%).

【0349】本発明実施例15及び比較例Cの感光体は
、静電特性及び撮像性ともに良好であった。一方比較例
Dは、静電特性が低下し、特に環境条件が変動した時に
その影響を著しく受け、実際の複写画像でも、地カブリ
や文字・細線の切れが発生した。
The photoreceptors of Example 15 of the present invention and Comparative Example C had good electrostatic properties and good imaging properties. On the other hand, in Comparative Example D, the electrostatic properties deteriorated and were significantly affected especially when the environmental conditions changed, and even in actual copied images, background fog and breakage of characters and thin lines occurred.

【0350】一方、不感脂化処理した原版では、本発明
のもののみ、非画像部の親水化が充分で印刷インキ等の
付着が見られず1万枚まで印刷できた。比較例Cは、親
水化が不充分であり、比較例Dは、実際に製版後の原版
では、複写画像が劣化しているため、印刷物でもその影
響で刷り出しから不充分な印刷物しか得られなかった。 実施例16〜29 実施例15において、樹脂〔A〕及び樹脂粒子〔L〕の
代わりに下記表−13の各樹脂〔A〕5g(固形分量と
して)及び樹脂粒子〔L〕0.9g(固形分量として)
を用い、又樹脂〔B〕として下記構造の樹脂〔B−5〕
33.5gを用いた他は実施例15と同様にして電子写
真感光材料を作製した。
On the other hand, among the desensitized original plates, only the one of the present invention had sufficient hydrophilicity in the non-image area and could print up to 10,000 sheets without any adhesion of printing ink or the like. In Comparative Example C, the hydrophilization was insufficient, and in Comparative Example D, the copied image was actually deteriorated in the original plate after plate making, and due to this influence, only unsatisfactory printed matter was obtained from the beginning of printing. There wasn't. Examples 16-29 In Example 15, 5 g (as solid content) of each resin [A] and 0.9 g (solid amount) of resin particles [L] in Table 13 below were used instead of resin [A] and resin particles [L]. (as quantity)
Also, as resin [B], resin [B-5] with the following structure
An electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 15 except that 33.5 g was used.

【0351】0351]

【化91】[Chemical formula 91]

【0352】0352]

【表22】[Table 22]

【0353】各感光材料はいずれも高温高湿(30℃、
80%RH)下でも、本発明では優れた静電特性が得ら
れた。
[0353] Each photosensitive material is exposed to high temperature and high humidity (30°C,
Even under conditions of 80% RH), excellent electrostatic properties were obtained in the present invention.

【0354】又撮像性及び保水性はいずれも良好で、オ
フセットマスター原版として用いて印刷した所、地汚れ
のない鮮明な画質の印刷物が1万枚以上得られた。
[0354] Both the imaging properties and the water retention properties were good, and when printing was performed using it as an offset master original plate, more than 10,000 prints with clear image quality and no background smudge were obtained.

【0355】0355]

【発明の効果】本発明によれば、過酷な条件下において
も優れた静電特性と機械的特性を有する電子写真感光体
を得ることができ、また、平版印刷用原版としても、地
汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが
できる。
Effects of the Invention According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor can be obtained which has excellent electrostatic properties and mechanical properties even under severe conditions. It is possible to print a large number of prints with extremely clear image quality.

【0356】更にまた、本発明の原版は半導体レーザー
光を用いたスキャニング露光方式に有効である。
Furthermore, the original plate of the present invention is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  導電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛
、分光増感色素及び結着樹脂とを少なくとも含有してな
る光導電層を少なくとも1層設けてなる電子写真式平版
印刷用原版において、前記光導電層中に該結着樹脂とし
て、下記の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有し、更に該
光導電層中に前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と
同じかそれより小さい粒子径を有する下記の非水溶媒系
分散樹脂粒子を少なくとも1種含有することを特徴とす
る電子写真式平版印刷用原版。樹脂〔A〕:1×103
 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記一般式
(I)で示される繰り返し単位を重合体成分として30
重量%以上と、−PO3 H 2 , −SO3 H 
,−COOH,−P(=O)(OH)R01〔R01は
炭化水素基又は−OR02(R02は炭化水素基を表す
)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される少な
くとも1種の極性基を有する重合体成分として0.5〜
15重量%とを含有する樹脂。 【化1】 〔ただし上記式(I)において、a 1 , a 2 
は各々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水
素基を表す。R03は炭化水素基を表す〕非水溶媒系分
散樹脂粒子:非水溶媒中において、該非水溶媒には可溶
であるが重合することにより不溶化する、分解により少
なくとも一つのヒドロキシル基を生成する官能基を少な
くとも1種含有してなる一官能性単量体(C)と、ケイ
素原子及び/又はフッ素原子を含有する置換基を含み該
一官能性単量体(C)と共重合可能な一官能性単量体(
D)とを、該非水溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存在
下に分散重合反応させることにより得られる共重合体樹
脂粒子。
1. An original plate for electrophotographic lithography, comprising at least one photoconductive layer containing at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, and a binder resin on a conductive support. The photoconductive layer contains at least one of the following resins [A] as the binder resin, and the photoconductive layer further contains at least one of the following resins [A] with a maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles or larger. An original plate for electrophotographic lithographic printing, characterized in that it contains at least one type of non-aqueous solvent-based dispersed resin particles having a small particle size as described below. Resin [A]: 1 x 103
It has a weight average molecular weight of ~2 x 104 and has a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component.
weight% or more, -PO3 H 2 , -SO3 H
, -COOH, -P(=O)(OH)R01 [R01 represents a hydrocarbon group or -OR02 (R02 represents a hydrocarbon group]] and a cyclic acid anhydride-containing group. 0.5 to 0.5 as a polymer component having a polar group
15% by weight. [Formula (I) above, a 1 , a 2
each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R03 represents a hydrocarbon group] Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles: A functional group that is soluble in a non-aqueous solvent but becomes insolubilized by polymerization, and that produces at least one hydroxyl group upon decomposition. A monofunctional monomer (C) containing at least one group, and a monofunctional monomer (C) containing a substituent containing a silicon atom and/or a fluorine atom and copolymerizable with the monofunctional monomer (C). Functional monomer (
Copolymer resin particles obtained by subjecting D) to a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent.
【請求項2】  上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示
される共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記
一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレ
ート成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴
とする請求項1記載の電子写真式平版印刷用原版。 【化2】 〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)において、T1 
及びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜1
0の炭化水素基、塩素原子、−COR04  又は−C
OOR05(R04及びR05は各々炭素数1〜10の
炭化水素基を表す)を表し、L1 及びL2 は各々−
COO−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子数
1〜4個の連結基を表す〕
2. The resin [A] is one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) and the following general formula (Ib) as the copolymer component represented by the general formula (I). The electrophotographic lithographic printing original plate according to claim 1, characterized in that it contains at least one of the following. [Formula (Ia) and (Ib) above, T1
and T2 are each independently a hydrogen atom and a carbon number of 1 to 1
0 hydrocarbon group, chlorine atom, -COR04 or -C
OOR05 (R04 and R05 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and L1 and L2 each represent -
Represents a single bond or a linking group with 1 to 4 linking atoms that connects COO- and a benzene ring]
【請求項3】  上記非水溶媒系分散樹脂粒子が高次の
綱目構造を形成していることを特徴とする請求項1また
は2に記載の電子写真式平版印刷用原版。
3. The electrophotographic lithographic printing original plate according to claim 1, wherein the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles form a high-order mesh structure.
【請求項4】  上記分散安定用樹脂が、高分子鎖中に
、下記一般式(II)で示される重合性二重結合基部分
を少なくとも1種含有していることを特徴とする請求項
1〜3のいずれかに記載の電子写真式平版印刷用原版。 【化3】 〔一般式(II)において、V0 は−O−、−COO
−、−OCO−、−(CH2 ) p OCO−、−(
CH2 ) p COO−、−SO2 −、−CONR
1 −、−SO2 NR1 −、−C6 H4 −、−
CONHCOO−、又は−CONHCONH−を表わす
(但し、pは1〜4の整数を表わし、R1 は水素原子
又は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、b1 ,
 b2 は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子
、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R
2 又は炭化水素基を介した−COO−R2 (R2 
は水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を
表わす〕
4. Claim 1, wherein the dispersion stabilizing resin contains at least one kind of polymerizable double bond group moiety represented by the following general formula (II) in the polymer chain. The original plate for electrophotographic planographic printing according to any one of items 1 to 3. [In general formula (II), V0 is -O-, -COO
-, -OCO-, -(CH2) p OCO-, -(
CH2 ) p COO-, -SO2 -, -CONR
1 -, -SO2 NR1 -, -C6 H4 -, -
CONHCOO- or -CONHCONH- (where p represents an integer of 1 to 4, R1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), b1,
b2 may be the same or different, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R
2 or -COO-R2 (R2
represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group that may be substituted]
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