JP2980714B2 - Electrophotographic lithographic printing original plate - Google Patents

Electrophotographic lithographic printing original plate

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JP2980714B2
JP2980714B2 JP3079282A JP7928291A JP2980714B2 JP 2980714 B2 JP2980714 B2 JP 2980714B2 JP 3079282 A JP3079282 A JP 3079282A JP 7928291 A JP7928291 A JP 7928291A JP 2980714 B2 JP2980714 B2 JP 2980714B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式で製版さ
れる電子写真式平版印刷用原版に関するものであり、特
に、該平版印刷用原版の光導電層形成用組成物の改良に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electrophotographic lithographic printing plate precursor made by electrophotography, and more particularly to an improvement in a composition for forming a photoconductive layer of the lithographic printing plate precursor.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在ダイレクト製版用のオフセット原版
には多種のものが提案され且つ実用化されているが、中
でも、導電性支持体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子
及び結着樹脂を主成分とした光導電層を設けた感光体を
通常の電子写真工程を経て、感光体表面に親油性の高い
トナー画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言わ
れる不感脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化す
ることによってオフセット原版を得る技術が広く用いら
れている。
2. Description of the Related Art At present, various types of offset original plates for direct plate making have been proposed and put into practical use. Among them, photoconductive particles such as zinc oxide and a binder resin are mainly used on a conductive support. The photoreceptor provided with the photoconductive layer as a component undergoes a normal electrophotographic process to form a highly lipophilic toner image on the surface of the photoreceptor, and then the surface is treated with a desensitizing solution called an etch solution. A technique for obtaining an offset original plate by selectively hydrophilizing a non-image portion is widely used.

【0003】良好な印刷物を得るには、先ずオフセット
原版に、原画が忠実に複写されると共に、感光体表面が
不感脂化処理液となじみ易く、非画像部分が充分に親水
化されると同時に耐水性を有し、更に印刷においては画
像を有する表面導電層が離脱しないこと、及び湿し水と
のみじみがよく、印刷枚数が多くなっても汚れが発生し
ないように充分に非画像部の親水性が保持されること、
等の性能を有する必要がある。
In order to obtain a good printed matter, first, the original image is faithfully copied onto an offset original plate, the surface of the photoreceptor is easily compatible with the desensitizing solution, and the non-image portion is sufficiently hydrophilized. It has water resistance, and furthermore, in printing, the surface conductive layer having an image does not separate, and the fountain solution and bleeding are good, and the non-image portion is sufficiently formed so that even if the number of printed sheets is increased, stains do not occur. That hydrophilicity is maintained,
And the like.

【0004】これらの性能には、光導電層中の結着樹脂
の種類によって大きく左右されることが明らかになって
おり、特にオフセット原版としては、不感脂化性を向上
させる酸化亜鉛結着用樹脂が種々検討されている。特
に、メタクリレート(又はアクリレート)成分を少なく
とも含有する多元共重合体類が提案され、例えば特公昭
50−31011号、特開昭53−4027号、特開昭
57−202544号、特開昭58−68046号公報
に記載されている。
[0004] It has been found that these properties are greatly affected by the type of binder resin in the photoconductive layer. In particular, as an offset master, a zinc oxide binder resin having improved desensitization properties is used. Are variously studied. In particular, multi-component copolymers containing at least a methacrylate (or acrylate) component have been proposed, for example, Japanese Patent Publication Nos. 50-31011, 53-4027, 57-202544 and 58-58. No. 68046.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した不感
脂化性向上に効果があるとされる樹脂であっても、現実
に評価してみると、地汚れ、耐刷力において未だ満足で
きるものではなかった。更に特開平1−232356、
同1−261657各号公報では、光導電層に親水性基
を含有する樹脂粒子を添加することで保水性の向上に効
果があると記載されている。
However, even if the above-mentioned resin is said to be effective for improving the desensitization property, it is still satisfactory in terms of background stain and printing durability when actually evaluated. Was not. Further, JP-A-1-232356,
JP-A 1-261657 describes that addition of resin particles containing a hydrophilic group to a photoconductive layer is effective in improving water retention.

【0006】これら、光導電性組成物を改良することで
明らかに保水性は、著しく向上することが確認された。
しかし、平版印刷用原版として更に詳細に評価してみる
と、環境変動(高温・高湿あるいは低温・低湿)時に、
電子写真特性(特に暗中電荷保持性、光感度等)が変動
し、安定した良好な複写画像が得られなくなる場合が生
じた。これにより、結果として、これを印刷用原版とし
て用いた印刷物の印刷画像の劣化あるいは、地汚れ防止
効果の減少となってしまった。
[0006] It has been confirmed that the water retention is remarkably improved by improving the photoconductive composition.
However, a more detailed evaluation of the lithographic printing plate precursor reveals that when environmental changes (high temperature / high humidity or low temperature / low humidity) occur,
Electrophotographic characteristics (especially charge retention in the dark, light sensitivity, etc.) fluctuated, and a stable and good copied image could not be obtained. As a result, as a result, the printed image of a printed material using the same as a printing original plate is deteriorated, or the effect of preventing background contamination is reduced.

【0007】また、デジタルダイレクト平版印刷用原版
としての電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場
合、可視光による全面同時露光方式に比べ時間が長くな
り、また露光強度にも制約があることから、静電特性、
特に暗電荷保持特性、光感度に対して、より高い性能が
要求される。
In addition, when a scanning exposure method using a semiconductor laser beam is employed in an electrophotographic lithographic printing original plate as a digital direct lithographic printing original plate, the time becomes longer as compared with the whole-surface simultaneous exposure method using visible light. In addition, since the exposure intensity is limited, electrostatic characteristics,
In particular, higher performance is required for dark charge retention characteristics and light sensitivity.

【0008】これに対し、上記公知の原版では電子写真
特性が劣化し、実際の複写画像も地カブリが発生し易く
なり、且つ細線の飛びや文字のツブレが生じてしまい、
結果として、平版印刷用原版として印刷すると、印刷物
の画質は低下してしまい、結着樹脂の非画像部分の親水
性向上による地汚れ防止の効果がなくなってしまった。
On the other hand, in the above-mentioned known original plate, the electrophotographic characteristics are deteriorated, the ground fog is liable to occur in the actual copied image, and the thin lines are skipped and the characters are blurred.
As a result, when printed as a lithographic printing original plate, the image quality of the printed matter deteriorates, and the effect of preventing background contamination by improving the hydrophilicity of the non-image portion of the binder resin is lost.

【0009】本発明は、以上のような従来の電子写真式
平版印刷用原版の有する問題点を改良するものである。
すなわち、本発明の目的の1は、静電特性(特に暗電荷
保持性及び光感度)に優れ、原画に対して忠実な複写画
像を再現し、且つオフセット原版として全面一様な地汚
れは勿論、点状の地汚れをも発生させない、不感脂化性
の優れた平版印刷用原版を提供することである。本発明
の目的の2は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるい
は高温高湿のように変動する場合でも、鮮明で良質な画
像を有する平版印刷用原版を提供することである。本発
明の目的の3は、併用し得る増感色素の種類による影響
を受け難く、半導体レーザー光によるスキャニング露光
方式でも静電特性の優れた平版印刷用原版を提供するこ
とである。
The present invention is to improve the problems of the conventional electrophotographic lithographic printing plate precursor as described above.
That is, the first object of the present invention is to provide a copy image which is excellent in electrostatic characteristics (especially dark charge retention and light sensitivity), faithfully reproduces an original image, and is uniform as an offset original. Another object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor which does not generate dot-like background stains and has excellent desensitization properties. A second object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate having a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copied image fluctuates, such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. A third object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor that is hardly affected by the type of sensitizing dye that can be used in combination and has excellent electrostatic characteristics even in a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を、導
電性支持体上に、光導電性酸化亜鉛と分光増感色素と結
着樹脂とを含有してなる光導電層を少なくとも1層設け
てなる電子写真式平版印刷用原版において、該結着樹脂
として、下記の樹脂〔A〕を少なくとも1種含有し、更
に該光導電層中に、前記光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒
子径と同じかそれより小さい粒子径を有する下記の非水
溶媒系分散樹脂粒子を少なくとも1種含有することを特
徴とする電子写真式平版印刷用原版によって達成するこ
とができる。
According to the present invention, at least one photoconductive layer containing a photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye and a binder resin is provided on a conductive support. In the electrophotographic lithographic printing plate precursor provided, the binder resin contains at least one of the following resins [A], and further contains, in the photoconductive layer, a maximum particle size of the photoconductive zinc oxide particles. It can be achieved by an electrophotographic lithographic printing plate precursor characterized by containing at least one of the following nonaqueous solvent-based dispersed resin particles having the same or smaller particle size than that of the above.

【0011】樹脂〔A〕: 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上と、−PO3 2 ,−SO3H,−C
OOH,
Resin [A]: having a weight average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , containing 30% by weight or more of a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO 3 H 2 , -SO 3 H, -C
OOH,

【化8】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を
表す)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される
少なくとも1種の極性基を置換基として含有する繰り返
し単位を重合体成分として0.5〜20重量%を含有す
る共重合体: 一般式(I)
Embedded image [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] and a repeating unit containing, as a substituent, at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups. Copolymer containing 0.5 to 20% by weight as a polymer component: General formula (I)

【化9】 〔ただし上記一般式(I)において、a1 ,a2 は各
々、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基
を表す。R3 は炭化水素基を表す〕
Embedded image [However, in the above general formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group. R 3 represents a hydrocarbon group]

【0012】非水溶媒系分散樹脂粒子(L): 非水溶媒中において、分解によりチオール基、ホスホノ
基、アミノ基、スルホ基
Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles (L): thiol group, phosphono group, amino group, sulfo group

【化10】 基を生成する官能基を少なくとも1種含有して成る一官
能性単量体(A)を該溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の
存在下に分散重合反応させることにより得られる共重合
体樹脂粒子という特徴を有する。更には、該樹脂粒子
は、高次の網目構造を形成しているものが好ましい。
Embedded image Copolymer resin particles obtained by subjecting a monofunctional monomer (A) containing at least one functional group that forms a group to a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the solvent. It has the feature of Further, the resin particles preferably form a high-order network structure.

【0013】更に樹脂〔A〕は好ましくは一般式(I)
で示される共重合体成分として下記一般式(Ia)及び
下記一般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタク
リレート成分のうちの少なくとも1つを含有する。 一般式(Ia)
Further, the resin [A] is preferably of the general formula (I)
Contains at least one of the aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formula (Ia) and the following general formula (Ib). General formula (Ia)

【化11】 一般式(Ib)Embedded image General formula (Ib)

【化12】 〔ただし、上記式(Ia)又は(Ib)において、T1
及びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜10
の炭化水素基、ハロゲン原子、−COR4 又は−COO
5 (R4 及びR5 は各々炭素数1〜10の炭化水素基
を表す)を表し、L1 及びL2 は各々−COO−とベン
ゼン環を結合する単結合又は連結原子数1〜4個の連結
基を表す〕
Embedded image [However, in the above formula (Ia) or (Ib), T 1
And T 2 each independently represent a hydrogen atom, a carbon number of 1 to 10
Hydrocarbon group, halogen atom, -COR 4 or -COO
R 5 (R 4 and R 5 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and L 1 and L 2 each represent a single bond or a connecting atom number of 1 to 4 connecting —COO— and a benzene ring. Represents two linking groups)

【0014】本発明の平版印刷用原版は最上層である光
導電層中に光導電性酸化亜鉛、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層の非画像部を不感脂化
液で処理することにより表面を親水化して平版印刷用原
版とする方式の印刷用原版である。
The lithographic printing plate precursor according to the present invention is a liquid for desensitizing the non-image area of the photoconductive layer, which contains at least the photoconductive zinc oxide, the spectral sensitizing dye and the binder resin in the photoconductive layer as the uppermost layer. This is a printing original plate of a type in which the surface is made hydrophilic by treating with a method described above to form a lithographic printing original plate.

【0015】本発明の光導電層は、少なくとも光導電性
酸化亜鉛、分光増感色素、特定の共重合体成分から成る
低分量の樹脂〔A〕及び非水溶媒系分散樹脂粒子(以
下、樹脂粒子〔L〕と略記する場合もある)を各々含有
することを特徴とするものである。
The photoconductive layer of the present invention comprises at least a small amount of resin [A] composed of at least photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye, a specific copolymer component, and non-aqueous solvent-based dispersed resin particles (hereinafter referred to as resin). (Which may be abbreviated as particle [L]).

【0016】本発明に供される樹脂粒子は、その平均粒
子径が光導電性酸化亜鉛粒子の最大粒子径と同じか、そ
れよりも小さく且つ粒子径の分布が狭く粒子径がそろっ
ているものが好ましい。
The resin particles used in the present invention have an average particle diameter equal to or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles, and have a narrow particle diameter distribution and uniform particle diameter. Is preferred.

【0017】又該樹脂粒子は、少なくとも、一官能性単
量体(A)が重合反応により該非水溶媒に不溶性となっ
た重合体成分と、この反応時に物理化学的及び/又は化
学的に結合した該非水溶媒に可溶性である分散安定用樹
脂の重合体成分とから構成される。且つ、樹脂粒子
〔L〕の不溶性重合体成分は、不感脂化処理により、加
水分解反応、レドックス反応、光分解反応等で保護され
た官能基が化学反応し、上記した特定の親水性基を生成
し、粒子の性質が疎水性から親水性に変換される。
The resin particles are bonded to at least a polymer component in which the monofunctional monomer (A) has become insoluble in the non-aqueous solvent by a polymerization reaction, and physicochemically and / or chemically bond during the reaction. And a polymer component of a dispersion stabilizing resin which is soluble in the non-aqueous solvent. In addition, the insoluble polymer component of the resin particles [L] is subjected to a desensitizing treatment, whereby a functional group protected by a hydrolysis reaction, a redox reaction, a photolysis reaction, or the like chemically reacts to form the specific hydrophilic group described above. When formed, the properties of the particles are converted from hydrophobic to hydrophilic.

【0018】本発明において、該結着樹脂〔A〕は1×
103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、前記一般
式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分として3
0重量%以上と、−PO3 2 ,−SO3 H,−COO
H,
In the present invention, the binder resin [A] is 1 ×
It has a weight average molecular weight of 10 3 to 2 × 10 4, and the repeating unit represented by the above general formula (I) is used as a polymer component in an amount of 3
0 wt% or more and, -PO 3 H 2, -SO 3 H, -COO
H,

【化13】 〔R1 は炭化水素又は−OR2 (R2 は炭化水素を表
す)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1種の極性基を置換基として含有する繰り返し
単位を重合体成分として0.5〜20重量%を含有する
樹脂である。
Embedded image [R 1 represents a hydrocarbon or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon)] and a cyclic unit containing at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups as a polymer. It is a resin containing 0.5 to 20% by weight as a component.

【0019】本発明の光導電層は、光導電性酸化亜鉛粒
子、分光増感色素及び樹脂粒子〔L〕を含有するが、結
着樹脂として含有される樹脂〔A〕の働きによって、酸
化亜鉛粒子は微粒子化され且つ均一に分散されるととも
に、樹脂粒子〔L〕も均一に分散される。更には、酸化
亜鉛粒子と分光増感色素の相互作用が充分に行われ、特
に、該色素の種類が種々変わった場合でも、いずれの色
素でも光導電体である酸化亜鉛粒子と充分に相互作用す
ることができる状態を形成することができる。
The photoconductive layer of the present invention contains photoconductive zinc oxide particles, a spectral sensitizing dye, and resin particles [L], and zinc oxide is produced by the action of resin [A] contained as a binder resin. The particles are finely divided and uniformly dispersed, and the resin particles [L] are also uniformly dispersed. Further, the interaction between the zinc oxide particles and the spectral sensitizing dye is sufficiently performed. In particular, even when the type of the dye is variously changed, any of the dyes sufficiently interacts with the zinc oxide particles as the photoconductor. Can be formed.

【0020】例えば、近年特に注目されている半導体レ
ーザー光用分光増感色素を用いた場合、公知の結着樹脂
の系では、この相互作用が充分でなくなり、実際の電子
写真特性(例えば暗中電荷保持率、光感度等)が著しく
低下し、撮像した複写画像も実用に耐えるものでなくな
る程に劣化する。
For example, in the case of using a spectral sensitizing dye for semiconductor laser light, which has attracted particular attention in recent years, this interaction is not sufficient in a known binder resin system, and actual electrophotographic characteristics (for example, dark charge) (Retention rate, light sensitivity, etc.) are remarkably reduced, and the captured copied image is deteriorated to such an extent that it is not practically usable.

【0021】これらの現象は、詳細については不明であ
るが、本発明においては、酸化亜鉛粒子と分光増感色素
が樹脂粒子〔L〕及び樹脂〔A〕の共存下に分散された
時に、特定の極性基を特定の位置に結合して成る低分子
量の樹脂〔A〕と特定の極性基を含有する単分散で微小
粒子径の樹脂粒子の各々の極性基が光導電性酸化亜鉛の
化学量論的な欠陥に吸着し、且つ酸化亜鉛の表面の被覆
性及び吸着状態が適切に行われるので光導電性酸化亜鉛
のトラップを補償すると共に湿度特性を飛躍的に向上さ
せる一方、光導電性酸化亜鉛の分散が充分に行われ、凝
集を抑制するものと推定される。
Although the details of these phenomena are unknown, in the present invention, when the zinc oxide particles and the spectral sensitizing dye are dispersed in the co-presence of the resin particles [L] and the resin [A], the specific phenomena are determined. The low molecular weight resin [A] comprising a specific polar group bonded to a specific position and the monodisperse fine particle diameter resin particles containing the specific polar group have a stoichiometric amount of photoconductive zinc oxide. In addition, it is possible to absorb photo-conductive zinc oxide and to improve the humidity characteristics by compensating for the trap of photo-conductive zinc oxide and to improve the humidity characteristics dramatically. It is presumed that zinc is sufficiently dispersed to suppress aggregation.

【0022】本発明の平版印刷用原版では、該樹脂粒子
と樹脂〔A〕の両者の適切な存在によって初めて分光増
感色素を含めた光導電性酸化亜鉛のミクロな状態までも
の分散状態が制御されるので電子写真特性(特に実際の
撮像性)が良化し、且つ高温・高湿あるいは低温・低湿
という過酷条件下でも良好な性能を安定に維持できる様
になったと考えられる。
In the lithographic printing plate precursor according to the present invention, the dispersion state of the photoconductive zinc oxide including the spectral sensitizing dye to the microscopic state is controlled only by the appropriate presence of both the resin particles and the resin [A]. Therefore, it is considered that the electrophotographic characteristics (especially the actual image-capturing properties) are improved, and good performance can be stably maintained even under severe conditions of high temperature and high humidity or low temperature and low humidity.

【0023】即ち、本方式においては電子写真特性が優
れた性能を示さないと複写画像形成時に、非画像部に地
汚れが発生したり、画像部の原稿再現性が悪化し、結果
として印刷物の画質を満足するものが得られなくなるの
で、特に重要なことは、非画像部分が不感脂化処理によ
り充分に親水化され印刷時のインキ付着を生じない高保
水性を有することである。本発明の平版印刷用原版は、
酸化亜鉛粒子の不感脂化処理液による不感脂化ととも
に、樹脂粒子が不感脂化処理によって、特定の親水性基
による親水性を発現することで更に光導電層非画像部の
保水性が向上する機能をもつことを特徴としている。以
上の様な作用により本発明の印刷用原版の非画像部の保
水性が飛躍的に向上するもと推定される。
In other words, in the present system, if the electrophotographic characteristics do not show excellent performance, background contamination may occur in a non-image portion during reproduction of a copied image, or the reproducibility of a document in the image portion may deteriorate. What is particularly important is that the non-image portion is sufficiently hydrophilicized by the desensitizing treatment and has high water retention that does not cause ink adhesion at the time of printing, since it is impossible to obtain a product satisfying the image quality. The lithographic printing plate precursor of the present invention is:
With desensitizing by desensitizing solution of the zinc oxide particles, resin particles by desensitizing treatment to further improve the water retention of the photoconductive layer non-image portion by expressing hydrophilicity by specific parent aqueous base It is characterized by having a function. Water retention in the non-image area of the printing plate precursor of the present invention is estimated as also drastically improved by more such action.

【0024】更には、前記した様に樹脂〔A〕の働きに
より、親水化される各粒子が光導電層中に適切な状態で
分散されていることから酸化亜鉛粒子及び樹脂粒子の親
水化が容易・迅速且つ充分に進行すると考えられる。
Further, as described above, the particles to be hydrophilized are dispersed in the photoconductive layer in an appropriate state by the action of the resin [A], so that the zinc oxide particles and the resin particles can be hydrophilized. It is thought to proceed easily, quickly and sufficiently.

【0025】一方本発明の樹脂粒子において、酸化亜鉛
粒子径よりも大きな粒径の該樹脂粒子が存在すると、電
子写真特性が劣化してくる(特に均一な帯電性が得られ
なくなる)結果として、複写画像において画像部の濃度
ムラ、文字、細線の切れ、飛び、あるいは非画像部の地
カブリ等が発生してしまう。具体的には、本発明の樹脂
粒子は最大粒子の粒子径が2μm 以下であり、好ましく
は0.5μm 以下である。そして、粒子の平均粒子径は
0.8μm 以下であり、好ましくは0.5μm 以下であ
る。なお、樹脂粒子は、粒子径が小さい程比表面積が大
きくなり、上記の電子写真特性上良好な作用をもたら
し、コロイド粒子(0.01μm 以下)程度でも充分で
あるが、余り小さくなり過ぎると分子分散の場合と類似
してしまい、保水力向上への粒子であることの効果が薄
れてくるため、0.001μm 以上で用いるのが好まし
い。
On the other hand, in the resin particles of the present invention, if the resin particles having a particle diameter larger than the zinc oxide particle diameter are present, the electrophotographic characteristics are deteriorated (particularly, uniform chargeability cannot be obtained). In the copied image, density unevenness in the image portion, breakage or jumping of characters and fine lines, or background fog in the non-image portion occurs. Specifically, the maximum particle size of the resin particles of the present invention is 2 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The average particle size of the particles is 0.8 μm or less, preferably 0.5 μm or less. The smaller the particle diameter, the larger the specific surface area of the resin particles. The resin particles have a good effect on the above-mentioned electrophotographic properties, and the colloidal particles (0.01 μm or less) are sufficient. Since it is similar to the case of dispersion and the effect of the particles for improving the water holding power is weakened, it is preferable to use the particles having a particle diameter of 0.001 μm or more.

【0026】また、本発明において樹脂粒子は疎水性の
重合体成分、即ち、分散安定用樹脂が相当する重合体成
分を結合したものであり、この疎水性部分が光導電層の
結着樹脂と相互作用していることから、この部分のアン
カー効果によって印刷時の湿し水で溶出することはな
く、かなり多数枚の印刷を行っても良好な印刷特性を維
持することができる。
In the present invention, the resin particles are obtained by binding a hydrophobic polymer component, that is, a polymer component corresponding to the dispersion stabilizing resin, and the hydrophobic portion is combined with the binder resin of the photoconductive layer. Because of the interaction, it does not elute with the dampening solution at the time of printing due to the anchor effect of this portion, and it is possible to maintain good printing characteristics even when printing a considerably large number of sheets.

【0027】更に該分散安定用樹脂の重合体成分中に光
及び/又は熱硬化性官能基を含有する場合には、化学結
合することによりより一層の溶出抑制が可能となるもの
である。
Further, when the polymer component of the dispersion stabilizing resin contains a light and / or thermosetting functional group, it is possible to further suppress elution by chemical bonding.

【0028】更に、本発明において、高次の網目構造を
形成している樹脂粒子であれば更に水での溶出性が抑え
られ、他方水膨潤性が発現し、更に保水性が良好とな
る。本発明において、上記のような高次の網目構造を形
成していない樹脂粒子又は高次の網目構造を形成してい
る樹脂粒子(以下、単に網目樹脂粒子)は、光導電性酸
化亜鉛100重量部に対して0.01〜10重量%の使
用量で用いることが好ましい。樹脂粒子又は網目樹脂粒
子が0.01重量%より少ないと非画像部の親水性が充
分とならず、逆に10重量%より多いと非画像部の親水
性の向上は更に図られるが、厳しい条件下での電子写真
特性が劣化し、複写画像が悪化してしまう。
Further, in the present invention, if the resin particles form a high-order network structure, the dissolution property in water is further suppressed, while the water swelling property is exhibited, and the water retention property is further improved. In the present invention, the resin particles that do not form a higher-order network structure as described above or the resin particles that form a higher-order network structure (hereinafter simply referred to as “network resin particles”) are 100% by weight of photoconductive zinc oxide. It is preferably used in an amount of 0.01 to 10% by weight based on parts. If the amount of the resin particles or the network resin particles is less than 0.01% by weight, the hydrophilicity of the non-image portion is not sufficient, and if it is more than 10% by weight, the hydrophilicity of the non-image portion is further improved, but severe. The electrophotographic characteristics under the conditions deteriorate, and the copied image deteriorates.

【0029】次に、本発明の電子写真感光材料の光導電
層について説明する。本発明の光導電層は結着樹脂とし
て、下記の樹脂〔A〕の少なくとも1種を含有すること
を特徴とする。該樹脂〔A〕とは、下記一般式(I)で
示される特定の重合体成分を30重量%以上と、−PO
3 2 ,−SO3 H,−COOH,
Next, the photoconductive layer of the electrophotographic photosensitive material of the present invention will be described. The photoconductive layer of the present invention is characterized by containing at least one of the following resins [A] as a binder resin. The resin [A] comprises a specific polymer component represented by the following general formula (I) in an amount of 30% by weight or more and -PO
3 H 2, -SO 3 H, -COOH,

【化14】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素
基)、環状酸無水物含有基から選ばれる極性基を含有す
る重合体成分を0.5〜20重量%とを少なくとも含有
してなる低分子量の樹脂である。 一般式(I)
Embedded image [R 1 is a hydrocarbon group or -OR 2 group (R 2 is a hydrocarbon group), at least containing a 0.5 to 20% by weight of the polymer component containing a polar group selected from a cyclic acid anhydride-containing group It is a low molecular weight resin. General formula (I)

【化15】 〔式(I)中、a1 ,a2 は各々、水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表し、R3 は炭化水素
基を表す〕
Embedded image [In the formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group, and R 3 represents a hydrocarbon group.]

【0030】樹脂〔A〕において、重量平均分子量は1
×103 〜2×104 、好ましくは3×103 〜1×1
4 であり、樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−
30℃〜110℃、より好ましくは−20℃〜90℃で
ある。
In the resin [A], the weight average molecular weight is 1
× 10 3 to 2 × 10 4 , preferably 3 × 10 3 to 1 × 1
0 is 4, the glass transition point of the resin (A) is preferably -
30 ° C to 110 ° C, more preferably -20 ° C to 90 ° C.

【0031】樹脂〔A〕の分子量が103 より小さくな
ると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、一方
分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂であ
っても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体
において、高温・高湿、低温・低湿の酷な条件下での
暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、安定
した複写画像が得られるという本発明の効果が薄れてし
まう。
When the molecular weight of the resin [A] is smaller than 10 3 , the film-forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained. On the other hand, when the molecular weight is larger than 2 × 10 4 , even if the resin of the present invention is used, especially in photoreceptors using near infrared to infrared spectral sensitizing dyes, high temperature and high humidity, variation in the dark decay retention and photosensitivity in harsh conditions of the low-temperature and low humidity becomes somewhat large, stable The effect of the present invention that a copied image can be obtained is weakened.

【0032】樹脂〔A〕の一般式(I)の繰り返し単位
に相当する重合体成分の存在割合は30重量%以上、好
ましくは50〜97重量%、極性基を含有する共重合体
成分の割合は0.5〜20重量%、好ましくは1〜10
重量%である。樹脂〔A〕における極性基含有成分量が
0.5重量%より少ないと、初期電位が低くて充分な画
像濃度を得ることができない。一方該極性基含有成分量
が20重量%よりも多いと、いかに低分子量体といえど
も分散性が低下し、更にオフセットマスターとして用い
るときに地汚れが増大する。
The proportion of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) in the resin [A] is 30% by weight or more, preferably 50 to 97% by weight, and the proportion of the polar group-containing copolymer component. Is 0.5 to 20% by weight, preferably 1 to 10% by weight.
% By weight. If the content of the polar group-containing component in the resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential is too low to obtain a sufficient image density. On the other hand, when the content of the polar group-containing component is more than 20% by weight, the dispersibility of the low molecular weight compound is reduced, and the background smear increases when used as an offset master.

【0033】次に樹脂〔A〕中に30重量%以上含有さ
れる、前記一般式(I)で示される繰り返し単位を更に
説明する。一般式(I)においてa1 ,a2 は、好まし
くは水素原子、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−COO−R3'又は炭化水素基を介した−COO
−R3'(R3'は水素原子又は炭素数1〜18のアルキル
基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリー
ル基を表し、これらは置換されていてもよく、具体的に
は、下記R3 について説明するものと同様の内容を表
す)を表す。上記炭化水素を介した−COO−R3'基に
おける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プ
ロピレン基などが挙げられる。R3 は炭化水素基を表
し、具体的にはアルキル基、アラルキル基、芳香族基を
表し、好ましくはベンゼン環又はナフタレン環を含有す
る炭化水素基であるアラルキル基又は芳香族基である。
即ち、R3 は、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル
基、2−エトキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基
等)、炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基
(例えばビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテ
ニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基
等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基
(例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、メトキシベンジル基、エト
キシベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8
の置換されてもよいシクロアルキル基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、
置換されていてもよいアリール基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、メト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニ
ル基、ジフルオロフェニル基、ブロモフェニル基、クロ
ロフェニル基、ジクロロフェニル基、ヨードフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、シアノフェニル基等)等が挙げられる。
Next, the repeating unit represented by the above formula (I), which is contained in the resin [A] in an amount of 30% by weight or more, will be further described. In the general formula (I), a 1 and a 2 are preferably a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), —COO—R 3 ' Or -COO via a hydrocarbon group
—R 3 ′ (R 3 ′ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group, which may be substituted, represents a represents) the same contents as those described below R 3. Examples of the hydrocarbon in the —COO—R 3 ′ group via the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, and a propylene group. R 3 represents a hydrocarbon group, specifically, an alkyl group, an aralkyl group or an aromatic group, preferably an aralkyl group or an aromatic group which is a hydrocarbon group containing a benzene ring or a naphthalene ring.
That is, R 3 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, a tridecyl group) , Tetradecyl group, 2-
Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-hydroxypropyl group, etc.), and may have 2 to 18 carbon atoms. An alkenyl group (eg, vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, naphthyl group) Methyl group, 2-naphthylethyl group, methoxybenzyl group, ethoxybenzyl group, methylbenzyl group, etc.), having 5 to 8 carbon atoms
Optionally substituted cycloalkyl group (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, etc.),
An aryl group which may be substituted (for example, a phenyl group,
Tolyl, xylyl, mesityl, naphthyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, fluorophenyl, difluorophenyl, bromophenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, iodophenyl, methoxycarbonylphenyl, ethoxycarbonylphenyl Group, cyanophenyl group, etc.).

【0034】このような置換基R3 を有するメタクリレ
ート成分である一般式(I)の繰り返し単位において、
より好ましくは下記一般式(Ia)及び/又は一般式
(Ib)で示される繰り返し単位に相当する重合体成分
が挙げられる。 一般式(Ia)
In the repeating unit of the general formula (I) which is a methacrylate component having such a substituent R 3 ,
More preferably, a polymer component corresponding to the repeating unit represented by the following general formula (Ia) and / or general formula (Ib) is exemplified. General formula (Ia)

【化16】 一般式(Ib)Embedded image General formula (Ib)

【化17】 〔式(Ia)及び(Ib)中、T1 及びT2 は互いに独
立に、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロゲ
ン原子、−COR4 、−COOR5 (R4 とR5は夫々
炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表す。L1 ,L
2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する直接結合又
は連結原子数1〜4個の連結基を表す〕
Embedded image [In the formulas (Ia) and (Ib), T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom,
And —COR 4 and —COOR 5 (R 4 and R 5 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms). L 1 , L
2 represents a direct bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms, each linking -COO- and a benzene ring]

【0035】式(Ia)において、好ましいT1 及びT
2 として、互に独立に各々水素原子、ハロゲン原子の外
に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好ましくは炭
素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等)、炭素数7〜9のアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプ
ロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル基、ブ
ロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル
基、クロロ−メチル−ベンジル基)及びアリール基(例
えばフェニル基、トリル基、シリル基、ブロモフェニル
基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基)、並びに−COR4 及び−COOR5 (好
ましいR4 及びR5 としては夫々上記の炭素数1〜10
の好ましい炭化水素基として記載したものを挙げること
ができる)を挙げることができる。
In the formula (Ia), preferred T 1 and T
As 2 independently independently of each other a hydrogen atom and a halogen atom , a C1 to C10 hydrocarbon group, preferably a C1 to C4 alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group,
A propyl group, a butyl group, etc., an aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, dichlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, chloro - methyl - benzyl) and aryl groups (e.g. phenyl group, a tolyl group, a silyl group, bromophenyl group, methoxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group), and -COR 4 and -COOR 5 (preferably R 4 and R 5 is the above-mentioned carbon number 1 to 10 respectively
And the preferred hydrocarbon groups described above can be mentioned).

【0036】式(Ia)及び(Ib)において、L1
びL2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する直接結
合又は−(CH2 n1−( n1 は1〜3の整数を表
す)、−CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−
(CH2 m1−( m1 は1又は2の整数を表す),−C
2 CH2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基で
あり、より好ましくは直接結合又は結合原子数1〜2個
の連結基を挙げることができる。
In the formulas (Ia) and (Ib), L 1 and L 2 each represent a direct bond connecting —COO— to a benzene ring or — (CH 2 ) n1 — (n 1 represents an integer of 1 to 3) ), - CH 2 OCO -, - CH 2 CH 2 OCO -, -
(CH 2) m1 - (m 1 represents an integer of 1 or 2), - C
H 2 CH 2 O-such as a such as linking atoms 1-4 linking groups, more preferably it may be mentioned direct bond or bond atoms 1-2 linking groups.

【0037】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(I
a)又は(Ib)で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。以下の(a−1)〜(a−20)におい
て、nは1〜4の整数、mは0又は1〜3の整数、p1
は1〜3の整数、R8 〜R11はいずれも−Cn 2n+1
は−(CH2 m −C6 5 (ただし、n,mは上記と
同じ)、X1 及びX2 は同じでも異なってもよく、水素
原子、−Cl、−Br、−Iのいずれかを表す。 (a−1)
The formula (I) used in the resin [A] of the present invention
Specific examples of the repeating unit represented by a) or (Ib) are shown below. However, the scope of the present invention is not limited to this. In the following (a-1) to (a-20), n is an integer of 1 to 4, m is 0 or an integer of 1 to 3, and p 1
Is an integer of 1 to 3, R 8 to R 11 are both -C n H 2n + 1 or - (CH 2) m -C 6 H 5 ( except, n, m are as defined above), X 1 and X 2 may be the same or different and represents a hydrogen atom, -Cl, -Br, or -I. (A-1)

【化18】 (a−2)Embedded image (A-2)

【化19】 (a−3)Embedded image (A-3)

【化20】 (a−4)Embedded image (A-4)

【化21】 (a−5)Embedded image (A-5)

【化22】 (a−6)Embedded image (A-6)

【化23】 (a−7)Embedded image (A-7)

【化24】 (a−8)Embedded image (A-8)

【化25】 (a−9)Embedded image (A-9)

【化26】 (a−10)Embedded image (A-10)

【化27】 (a−11)Embedded image (A-11)

【化28】 (a−12)Embedded image (A-12)

【化29】 (a−13)Embedded image (A-13)

【化30】 (a−14)Embedded image (A-14)

【化31】 (a−15)Embedded image (A-15)

【化32】 (a−16)Embedded image (A-16)

【化33】 (a−17)Embedded image (A-17)

【化34】 (a−18)Embedded image (A-18)

【化35】 (a−19)Embedded image (A-19)

【化36】 (a−20)Embedded image (A-20)

【化37】 Embedded image

【0038】次に低分子量の樹脂〔A〕の極性基含有成
分について説明する。該極性基は、−PO3 2 、−S
3 H、−COOH、
Next, the polar group-containing component of the low molecular weight resin [A] will be described. Polar group, -PO 3 H 2, -S
O 3 H, -COOH,

【化38】 環状酸無水物含有基から少なくとも1種選ばれるもので
あることが好ましい。
Embedded image It is preferable that at least one selected from cyclic acid anhydride-containing groups is used.

【化39】 基とは、上記R1 が炭化水素基又は−OR2 基(R2
炭化水素基を表す)を表し、具体的にはR1 は炭素数1
〜6の置換されていてもよい炭化水素基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロムエチル基、2−フロロエチル基、3−
クロロプロピル基、3−メトキシプロピル基、2−メト
キシブチル基、ベンジル基、フェニル基、プロペニル
基、メトキシ、エトキシメチル基、2−エトキシエチル
基)等であり、R2 はR1 と同一の内容である。また、
環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状酸無水
物を含有する基であり、含有される環状酸無水物として
は、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボン酸無
水物が挙げられる。脂肪族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、コハク酸無水物環、グルタコン酸無水物環、マレ
イン酸無水物環、シクロペンタン−1,2−ジカルボン
酸無水物環、シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無
水物環、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物
環、2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタジカルボン
酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
ブチル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されてい
てもよい。また、芳香族ジカルボン酸無水物の例として
は、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水
物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−
ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例
えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒド
ロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニ
ル基(アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エト
キシ基等)等が置換されていてもよい。
Embedded image In the group, R 1 represents a hydrocarbon group or an —OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group), and specifically, R 1 has 1 carbon atom.
To 6 optionally substituted hydrocarbon groups (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-fluoroethyl, 3-
Chloropropyl group, 3-methoxypropyl group, 2-methoxybutyl group, benzyl group, phenyl group, propenyl group, methoxy, ethoxymethyl group, 2-ethoxyethyl group) and the like, and R 2 is the same as R 1 It is. Also,
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the contained cyclic acid anhydride include an aliphatic dicarboxylic anhydride and an aromatic dicarboxylic anhydride. Examples of the aliphatic dicarboxylic anhydride include a succinic anhydride ring, a glutaconic anhydride ring, a maleic anhydride ring, a cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, and cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid. An anhydride ring, a cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride ring, a 2,3-bicyclo [2,2,2] octadicarboxylic anhydride ring and the like are mentioned, and these rings are, for example, a chlorine atom, a bromine atom Such as halogen atom, methyl group, ethyl group,
An alkyl group such as a butyl group and a hexyl group may be substituted. Examples of the aromatic dicarboxylic anhydride include a phthalic anhydride ring, a naphthalene-dicarboxylic anhydride ring, a pyridine-dicarboxylic anhydride ring, and a thiophene-
Dicarboxylic anhydride rings and the like, these rings are, for example, a chlorine atom, a halogen atom such as a bromine atom, a methyl group,
An alkyl group such as an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (an alkoxy group such as a methoxy group and an ethoxy group) may be substituted.

【0039】樹脂〔A〕の極性基を含有する共重合成分
は、例えば一般式(I)〔一般式(Ia),(Ib)も
含む〕で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重
合し得る該極性基を含有するビニル系化合物であればい
ずれでもよく、例えば、高分子学会編「高分子データ・
ハンドブック〔基礎編〕」培風館(1986年刊)等に
記載されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又
はβ置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−ア
セトキシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−
クロロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチ
ルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ
体、α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体
等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケ
ニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル
−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−
ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン又はスルホン酸のエステル誘導体、
アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合物等
が挙げられる。
The copolymer component containing a polar group of the resin [A] is, for example, copolymerized with a monomer corresponding to a repeating unit represented by the general formula (I) (including the general formulas (Ia) and (Ib)). Any vinyl compound containing the polar group that can be polymerized may be used. For example, “Polymer Data ・
Handbook [Basic Edition], Baifukan (1986) and the like. Specifically, acrylic acid, α- and / or β-substituted acrylic acid (for example, α-acetoxy, α-acetoxymethyl, α- (2-amino) methyl, α-
Chloro, α-bromo, α-fluoro, α-tributylsilyl, α-cyano, β-chloro, β-bromo, α-chloro-β-methoxy, α, β-dichloro, etc. ), Methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid semiamides, crotonic acid, 2-alkenylcarboxylic acids (eg, 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, -Methyl-2-
Hexenoic acid, 4-ethyl-2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half-esters, maleic acid half-amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acid Half-ester derivatives of vinyl or allyl groups, and ester derivatives of these carboxylic or sulfonic acids,
Compounds containing the polar group in the substituent of the amide derivative are exemplified.

【0040】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b1 はH又はCH3 を示し、b2
H、CH3 又はCH2 COOCH3 を示し、R12は炭素
数1〜4のアルキル基を示し、R13は炭素数1〜6のア
ルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、cは1〜
3の整数を示し、dは2〜11の整数を示し、eは1〜
11の整数を示し、fは2〜4の整数を示し、gは2〜
10の整数を示す。 (b−1)
Examples of the copolymer component containing a polar group are described below. Here, b 1 represents H or CH 3 , b 2 represents H, CH 3 or CH 2 COOCH 3 , R 12 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and R 13 represents 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkyl group, a benzyl group or a phenyl group, and c represents 1 to
3 represents an integer, d represents an integer of 2 to 11, and e represents 1 to
11 represents an integer of 11, f represents an integer of 2 to 4, and g represents 2 to
Indicates an integer of 10. (B-1)

【化40】 (b−2)Embedded image (B-2)

【化41】 (b−3)Embedded image (B-3)

【化42】 (b−4)Embedded image (B-4)

【化43】 (b−5)Embedded image (B-5)

【化44】 (b−6)Embedded image (B-6)

【化45】 (b−7)Embedded image (B-7)

【化46】 (b−8)Embedded image (B-8)

【化47】 (b−9)Embedded image (B-9)

【化48】 (b−10)Embedded image (B-10)

【化49】 (b−11)Embedded image (B-11)

【化50】 (b−12)Embedded image (B-12)

【化51】 (b−13)Embedded image (B-13)

【化52】 (b−14)Embedded image (B-14)

【化53】 (b−15)Embedded image (B-15)

【化54】 (b−16)Embedded image (B-16)

【化55】 (b−17)Embedded image (B-17)

【化56】 (b−18)Embedded image (B-18)

【化57】 (b−19)Embedded image (B-19)

【化58】 (b−20)Embedded image (B-20)

【化59】 (b−21)Embedded image (B-21)

【化60】 (b−22)Embedded image (B-22)

【化61】 (b−23)Embedded image (B-23)

【化62】 (b−24)Embedded image (B-24)

【化63】 (b−25)Embedded image (B-25)

【化64】 (b−26)Embedded image (B-26)

【化65】 (b−27)Embedded image (B-27)

【化66】 (b−28)Embedded image (B-28)

【化67】 (b−29)Embedded image (B-29)

【化68】 (b−30)Embedded image (B-30)

【化69】 (b−31)Embedded image (B-31)

【化70】 (b−32)Embedded image (B-32)

【化71】 (b−33)Embedded image (B-33)

【化72】 (b−34)Embedded image (B-34)

【化73】 (b−35)Embedded image (B-35)

【化74】 (b−36)Embedded image (B-36)

【化75】 (b−37)Embedded image (B-37)

【化76】 (b−38)Embedded image (B-38)

【化77】 (b−39)Embedded image (B-39)

【化78】 (b−40)Embedded image (B-40)

【化79】 (b−41)Embedded image (B-41)

【化80】 (b−42)Embedded image (B-42)

【化81】 (b−43)Embedded image (B-43)

【化82】 (b−44)Embedded image (B-44)

【化83】 (b−45)Embedded image (B-45)

【化84】 (b−46)Embedded image (B-46)

【化85】 (b−47)Embedded image (B-47)

【化86】 (b−48)Embedded image (B-48)

【化87】 (b−49)Embedded image (B-49)

【化88】 (b−50)Embedded image (B-50)

【化89】 (b−51)Embedded image (B-51)

【化90】 (b−52)Embedded image (B-52)

【化91】 Embedded image

【0041】更に低分子量体の樹脂〔A〕は、前記した
一般式(I),(Ia)及び/又は(Ib)の単量体及
び該極性基を含有した単量体と共に、これら以外の他の
単量体を共重合成分として含有してもよい。
Further, the low molecular weight resin [A] may be used together with the above-mentioned monomers of the general formulas (I), (Ia) and / or (Ib) and the monomer containing the polar group, and other resins. Other monomers may be contained as a copolymer component.

【0042】このような他の共重合成分としては、例え
ば一般式(I)で説明した以外の置換基を含有するメタ
クリル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン
酸エステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビ
ニル又はアクリル酸エステル類(例えばカルボン酸とし
て、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナ
フタレンカルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類
(例えばジメチルエステル、ジエチルエステル等)、ア
クリルアミド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例
えばスチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒド
ロキシスチレン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレ
ン、メトキシカルボニルスチレン、メタンスルホニルオ
キシスチレン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン
含有化合物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類
(例えばビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイ
ミダゾール、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、
ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリ
ン、ビニルテトラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙
げられる。
Examples of such other copolymerization components include methacrylates, acrylates and crotonates having substituents other than those described in the general formula (I), and α-olefins. , Vinyl carboxylate or acrylic acid esters (for example, carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, benzoic acid, naphthalene carboxylic acid, etc.), acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, itaconic esters (for example, Dimethyl ester, diethyl ester, etc.), acrylamides, methacrylamides, styrenes (for example, styrene, vinyltoluene, chlorostyrene, hydroxystyrene, N, N-dimethylaminomethylstyrene, methoxycarbonylstyrene, methanesulfonyloxystyrene, Le naphthalene), vinyl sulfone-containing compounds, vinyl ketones containing compounds, heterocyclic vinyl compounds (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylthiophene, vinylimidazoline,
Vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinyltetrazole, vinyloxazine, etc.).

【0043】樹脂〔A〕は、重量平均分子量が1×10
3 〜2×104 の低分子量のランダム共重合体である
が、これらの重合方法は、従来公知の方法において、重
合条件を選択することによりラジカル重合、イオン重合
等の方法で容易に合成することができる。重合する単量
体、重合溶媒、反応設定温度等からラジカル重合反応
が、精製、装置、反応方法等から有利で好ましい。
The resin [A] has a weight average molecular weight of 1 × 10
These are random copolymers having a low molecular weight of 3 to 2 × 10 4 , and these polymerization methods are easily synthesized by a conventionally known method such as radical polymerization or ionic polymerization by selecting polymerization conditions. be able to. A radical polymerization reaction is advantageous and preferred from the viewpoint of purification, equipment, reaction method, etc., based on the monomer to be polymerized, the polymerization solvent, the reaction set temperature, and the like.

【0044】具体的には、重合開始剤として、通常知ら
れているアゾビス系開始剤、過酸化物等が挙げられる。
特に低分子量体を合成する特徴としては、該開始剤の使
用量の増量、あるいは重合設定温度を高くするといった
公知の方法を適用すればよい。具体的には、開始剤使用
量としては全単量体量100重量部に対して、0.1〜
20重量部の範囲で又重合設定温度は30℃〜200℃
の範囲で行う。
Specifically, examples of the polymerization initiator include generally known azobis-based initiators and peroxides.
In particular, as a feature of synthesizing a low molecular weight compound, a known method such as increasing the amount of the initiator used or increasing the set polymerization temperature may be applied. Specifically, the amount of the initiator used is 0.1 to 100 parts by weight of the total amount of the monomers.
In the range of 20 parts by weight, the polymerization set temperature is 30 ° C. to 200 ° C.
Perform within the range.

【0045】更には、連鎖移動剤を併用する方法も知ら
れている。例えばメルカプト化合物、ハロゲン化化合物
等を、全単量体量100重量部に対して0.01〜10
重量部の範囲で用いることで所望の重量平均分子量に調
整することができる。
Further, a method in which a chain transfer agent is used in combination is also known. For example, a mercapto compound, a halogenated compound, or the like is used in an amount of 0.01 to 10 based on 100 parts by weight of the total amount of the monomers.
When used in the range of parts by weight, it can be adjusted to a desired weight average molecular weight.

【0046】以上の如き低分子量の樹脂〔A〕は、前記
した光導電性亜鉛用の公知の樹脂と併用することが好ま
しい。低分子量体の樹脂と他の樹脂との使用割合は5〜
50/95〜50(重量比)が好ましい。併用する他の
樹脂としては、重量平均分子量3×104 〜1×1
6 、好ましくは5×104 〜5×105 の中〜高分子
量体である。また、併用する樹脂のガラス転移点は−1
0℃〜120℃、好ましくは0℃〜90℃である。
The resin [A] having a low molecular weight as described above is preferably used in combination with the above-mentioned known resin for photoconductive zinc. The ratio of the low molecular weight resin to the other resin is 5 to 5.
50/95 to 50 (weight ratio) is preferred. Other resins used in combination include a weight average molecular weight of 3 × 10 4 to 1 × 1.
0 6, preferably from 5 × 10 4 ~ high molecular weight in the to 5 × 10 5. The glass transition point of the resin used in combination is -1.
The temperature is from 0 ° C to 120 ° C, preferably from 0 ° C to 90 ° C.

【0047】例えば、代表的なものは塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチ
レン−メタクリレート共重合体、メタクリレート共重合
体、アクリレート共重合体、酢酸ビニル共重合体、ポリ
ビニルブチラール、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、エ
ポキシ樹脂、エポキシエステル樹脂、ポリエステル樹脂
等である。
For example, typical ones are vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, vinyl acetate copolymer, polyvinyl Butyral, alkyd resin, silicone resin, epoxy resin, epoxy ester resin, polyester resin and the like.

【0048】具体的には、柴田隆治・石渡次郎「高分
子」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視,
武井秀彦「イメージング」1973(No. 8),第9
頁、中村孝一編,「絶縁材料用バインダーの実際技術」
第10章,C.H.C.出版(1985年刊)、D. D.
Tatt , S. C. Heidecker , Tappi ,49(No. 10),
439(1966)、E. S. Baltazzi , R. G. Blanclo
tte et al , Phot. Sci. Eng. 16(No. 5),354
(1972)、グエン・チャン・ケー,清水勇,井上英
一,電子写真学会誌18(No. 2),28(198
0)、特公昭50−31011、特開昭53−5402
7、同54−20735、同57−202544、同5
8−68046各号公報等に開示の材料が挙げられる。
Specifically, Ryuji Shibata and Jiro Ishiwatari, “Polymer,” Vol. 17, p. 278 (1968), Harumi Miyamoto,
Hidehiko Takei "Imaging" 1973 (No. 8), 9th
Page, edited by Koichi Nakamura, "Practical technology of binders for insulating materials"
Chapter 10, C.I. H. C. Publishing (1985), DD
Tatt, SC Heidecker, Tappi, 49 (No. 10),
439 (1966), ES Baltazzi, RG Blanclo
tte et al, Phot. Sci. Eng. 16 (No. 5), 354
(1972), Nguyen Chan K, Isamu Shimizu, Eiichi Inoue, Journal of the Institute of Electrophotography 18 (No. 2), 28 (198)
0), JP-B-50-31011, JP-A-53-5402.
7, 54-20735, 57-202544, 5
The materials disclosed in JP-A-8-68046 and the like are listed.

【0049】更に併用する好ましい樹脂である中〜高分
子量体の樹脂として、前記した物性を満たし、好ましく
は下記一般式(III)で示される繰り返し単位の重合体成
分を30重量%以上含有する重合体が挙げられる。 一般式(III)
Further, as a resin of a medium to high molecular weight, which is a preferable resin to be used in combination, a resin which satisfies the above-mentioned physical properties and preferably contains a polymer component of a repeating unit represented by the following general formula (III) in an amount of 30% by weight or more. Coalescence. General formula (III)

【化92】 〔式(III)中、Vは−COO−、−OCO−、−(CH
2 h −OCO−、−(CH2 h −COO−、−O−
または−SO2 −を表す。但しhは1〜4の整数を表
す〕一般式(III)において、b3 及びb4 は、水素原
子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シア
ノ基又は炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基等)を表す。R14は、
炭素数1〜18の置換されていてもよいアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、トリデトシル基、テトラデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
ヒドロキシエチル基、2−メトキシエチル基、2−エト
キシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基等)、炭素数
2〜18の置換されていてもよいアルケニル基(例えば
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、
ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素
数7〜12の置換されていてもよいアラルキル基(例え
ばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、2−
ナフチルエチル基、メトキシベンジル基、エトキシベン
ジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の置換さ
れていてもよいシクロアルキル基(例えばシクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)、置換
されていてもよいアリール基(例えばフェニル基、トリ
ル基、キシル基、メシチル基、ナフチル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、フルオロフェニル基、
ジフルオレロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロフ
ェニル基、ジクロロフェニル基、ヨードフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、シアノフェニル基、ニトロフェニル基等)が挙
げられる。
Embedded image [In the formula (III), V represents -COO-, -OCO-,-(CH
2) h -OCO -, - ( CH 2) h -COO -, - O-
Or -SO 2 - represents a. Wherein h represents an integer of 1 to 4] In the general formula (III), b 3 and b 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. (For example, a methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, etc. ) . R 14 is
An optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, 2 -Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
A hydroxyethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, a 3-hydroxypropyl group and the like, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms (for example, a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, Butenyl group,
A hexenyl group, a heptenyl group, an octenyl group and the like, an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, naphthylmethyl group, 2-
A naphthylethyl group, a methoxybenzyl group, an ethoxybenzyl group, a methylbenzyl group, etc., an optionally substituted cycloalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (eg, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, etc.), Aryl groups (eg, phenyl, tolyl, xyl, mesityl, naphthyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, fluorophenyl,
Difluorophenyl group, bromophenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, iodophenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, cyanophenyl group, nitrophenyl group, etc.).

【0050】一般式(III)で示される重合体成分を含有
する中〜高分子量の結着樹脂〔B〕としては、例えば式
(III)で示される重合体成分含有のランダム共重合体の
樹脂(特開昭63−49817、同63−22014
9、同63−220148各号公報等)、該ランダム共
重合体と架橋性樹脂との併用樹脂(特開平1−2117
66、同1−102573各号公報等)、式(III)で示
される重合体成分を含有し予め部分架橋されている共重
合体(特開平2−34860、同2−40660各号公
報特開昭−号公報)、特定の繰り返し単位の重合体成分
から成る一官能性マクロモノマーと式(III)で示される
成分に相当する単量体との重合によるグラフト型ブロッ
ク共重合体(特願昭63−203933、同63−20
7317、特開平1−163796、同1−21299
4、同1−229379、同1−189245各号とし
て本発明者等がすでに出願中)等が挙げられる。
Examples of the medium to high molecular weight binder resin [B] containing the polymer component represented by the general formula (III) include, for example, a resin of a random copolymer containing the polymer component represented by the formula (III). (Japanese Unexamined Patent Publication Nos. 63-49817 and 63-22014)
9, 63-220148, etc.), and a resin used in combination with the random copolymer and a crosslinkable resin (JP-A 1-2117)
66, JP-A-1-102573, etc.) and copolymers containing a polymer component represented by the formula (III) and partially crosslinked in advance (JP-A-2-34860, JP-A-2-40660). And a graft-type block copolymer obtained by polymerization of a monofunctional macromonomer composed of a polymer component having a specific repeating unit and a monomer corresponding to the component represented by the formula (III) (Japanese Patent Application No. 63-203933, 63-20
7317, JP-A-1-163796 and JP-A-12-21299
4, No. 1-229379 and No. 1-189245), and the like.

【0051】本発明では、樹脂〔A〕が特定の置換基を
もつメタクリレート共重合体成分と特定の極性基を含有
する重合体成分を含む低分子量の共重合体であり、該極
性基が光導電層の光導電体の化学量論的な欠陥に吸着
し、且つ低分子量体であることから、光導電体の表面の
被覆性を向上させることで光導電性体のトラップを補償
すると共に温度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電
体の分散が充分に行われ、凝集を抑制することが判っ
た。そのことにより、電子写真感光体としての電子写真
特性が優れたものとなり、特に、半導体レーザー光用の
分光増感色素を用いた場合でも、極めて優れた性能を発
揮することが見い出された。
In the present invention, the resin [A] is a low-molecular-weight copolymer containing a methacrylate copolymer component having a specific substituent and a polymer component containing a specific polar group, and the polar group is a photopolymer. Since it is adsorbed on the stoichiometric defect of the photoconductor of the conductive layer and is a low molecular weight material, the trapping of the photoconductor is improved by improving the covering property of the surface of the photoconductor, and the temperature is improved. It was found that while the properties were dramatically improved, the photoconductor was sufficiently dispersed and aggregation was suppressed. As a result, it has been found that the electrophotographic properties of the electrophotographic photoreceptor are excellent, and particularly, even when a spectral sensitizing dye for semiconductor laser light is used, extremely excellent performance is exhibited.

【0052】そして中〜高分子量の樹脂〔B〕を併用す
れば、樹脂〔A〕を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂〔A〕のみの場合より光導
電性層の機械的強度を充分に向上できるものと判った。
即ち、光導電体と結着樹脂の吸着・被覆の相互作用が適
切に行われ、且つ被覆導電層の膜強度が保持されるもの
である。これは、本発明にかかる結着樹脂の下記のよう
な作用によるものと考えられる。即ち、本発明において
は結着樹脂として樹脂〔A〕と樹脂〔B〕を併用し、各
々の樹脂の重量平均分子量Mw及び樹脂中の極性基の含
有量を特定することにより、光導電体と樹脂との相互作
用の強さを変えることができる。これにより相互作用の
より強い樹脂〔A〕が選択的に且つ適切に光導電体に吸
着し、樹脂〔A〕に比べ相互作用の弱い樹脂〔B〕は、
樹脂中の重合体主鎖に対して、特定の位置に結合した極
性基が電子写真特性を阻害しない程度に光導電体とゆる
やかに相互作用し、且つ長い分子鎖長及びグラフト分子
鎖長を有する樹脂〔B〕同士の分子鎖鎖同士の相互作用
をもすることで、上記した如く電子写真特性及び膜の機
械的強度を共に著しく向上させることができたと考えら
れる。
When the resin [B] having a medium to high molecular weight is used in combination, the high performance of the electrophotographic properties due to the use of the resin [A] is not impaired at all, and the photoconductive property is higher than that of the resin [A] alone. It was found that the mechanical strength of the conductive layer could be sufficiently improved.
That is, the interaction between the adsorption and coating of the photoconductor and the binder resin is appropriately performed, and the film strength of the coated conductive layer is maintained. This is considered to be due to the following effects of the binder resin according to the present invention. That is, in the present invention, the resin [A] and the resin [B] are used in combination as the binder resin, and the weight average molecular weight Mw of each resin and the content of the polar group in the resin are specified, whereby the photoconductor and the resin are used. The strength of the interaction with the resin can be changed. Thereby, the resin [A] having a stronger interaction is selectively and appropriately adsorbed to the photoconductor, and the resin [B] having a weaker interaction than the resin [A] is
A polar group bonded to a specific position with respect to the polymer main chain in the resin slowly interacts with the photoconductor so as not to inhibit the electrophotographic properties, and has a long molecular chain length and a graft molecular chain length. It is considered that both the electrophotographic properties and the mechanical strength of the film were significantly improved as described above by having the interaction between the molecular chains of the resins [B].

【0053】次に本発明の樹脂粒子〔L〕について詳し
く説明する。本発明において用いられる分解して少なく
とも1個のチオール基、ホスホノ基、スルホ基、アミノ
基等の親水性基を生成する官能基(以下単に、親水性基
生成官能基と称することもある)について詳しく説明す
る。本発明の親水性基生成官能基は分解によって少なく
とも1つの親水性基を生成するが、1つの官能基から生
成する親水性基は1個でも2個以上でもよい。
Next, the resin particles [L] of the present invention will be described in detail. The functional group used in the present invention, which decomposes to form at least one hydrophilic group such as a thiol group, a phosphono group, a sulfo group, or an amino group (hereinafter sometimes simply referred to as a hydrophilic group-forming functional group). explain in detail. Although the hydrophilic group-forming functional group of the present invention generates at least one hydrophilic group by decomposition, one or two or more hydrophilic groups may be generated from one functional group.

【0054】以下、分解により少なくとも1個のチオー
ル基を生成する官能基(チオール基生成官能基)につい
て詳述する。本発明の1つの好ましい態様によれば、チ
オール基生成官能基含有単量体は、例えば下記一般式
(IV)〔−S−LA 〕で示される官能基を少なくとも1
種含有するものである。 一般式(IV):〔−S−LA 〕 式中、LA は、
Hereinafter, the functional group that generates at least one thiol group by decomposition (thiol group-forming functional group) will be described in detail. According to one preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing monomer is a compound represented by general formula (IV) - the [S-L A] functional group represented by at least
It contains species. Formula (IV): [- S-L A] wherein, L A is

【化93】 但し、RA 1 ,RA 2 及びRA 3 は互いに同じでも異な
ってもよく、各々炭化水素基又は−O−RAI(RAIは炭
化水素基を示す)を表わし、RA 4 、RA 5 、RA 6
A 7 、RA 8 、RA 9 及びRA 10、RA 11、RA 12
A 13は各々独立に炭化水素基を表わす。
Embedded image However, R A 1, R A 2 and R A 3 may be the same or different, each represents a hydrocarbon group or -O-R AI (R AI is a hydrocarbon group), R A 4, R A 5 , RA 6 ,
R A 7, R A 8, R A 9 and R A 10, R A 11, R A 12,
R A 13 each independently represents a hydrocarbon group.

【0055】上記一般式〔−S−LA 〕の官能基は、分
解によって、チオール基を生成するものであり、以下更
に詳しく説明する。LA
[0055] functional group of the general formula [-S-L A] is degraded by, is intended to generate a thiol group, is described below in more detail. L A is

【化94】 を表す場合において、RA 1 、RA 2 及びRA 3 は互い
に同じでも異なってもよく、好ましくは水素原子、置換
されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、
メトキシプロピル基等)、置換されてもよい脂環式基
(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置
換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メトシ
キベンジル基等)又は置換されてもよい芳香族基(例え
ばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、ジクロロフェニル基等)又は−O−RAI(RAIは炭
化水素基を表わし、具体的には上記RA 1 、RA 2 、R
A 3 の炭化水素基の置換基類を例として挙げることがで
きる)を表わす。
Embedded image In case of representing a, R A 1, R A 2 and R A 3 may be the same as or different from each other, preferably a hydrogen atom, an unsubstituted or good C1-18 linear or branched alkyl group ( For example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group,
Octadecyl group, chloroethyl group, methoxyethyl group,
A methoxypropyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, phenethyl group, chlorobenzyl group, A methoxybenzyl group) or an optionally substituted aromatic group (eg, phenyl, naphthyl, chlorophenyl, tolyl, methoxyphenyl, methoxycarbonylphenyl, dichlorophenyl, etc.) or —O—R AI (R AI represents a hydrocarbon group. Specifically, R A 1 , R A 2 , R
Substituents of the hydrocarbon group for A 3 may be mentioned as examples).

【0056】LA L A

【化95】 又は−S−RA 8 を表す場合において、RA 4
A 5 、RA 6 、RA 7 、RA 8 は各々好ましくは置換
されてもよい炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状アルキ
ル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、トリフル
オロメチル基、メトキシメチル基、エチル基、プロピル
基、n−ブチル基、ヘキシル基、3−クロロプロピル
基、フェノキシメチル基、2,2,2−トリフルオロエ
チル基、t−ブチル基、ヘキサフルオロ−i−プロピル
基、オクチル基、デシル基等)、置換されてもよい炭素
数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチ
ル基、メチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ヘプ
タメチルベンジル基、メトキシベンジル基等)、置換さ
れてもよい炭素数6〜12のアリール基(例えばフェニ
ル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メタンス
ルホニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ト
リフルオロメチルフェニル基等)を表わす。
Embedded image Or in the case of representing the -S-R A 8, R A 4,
R A 5, R A 6, R A 7, R A 8 are each preferably having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted linear or branched alkyl group (e.g. methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl Group, methoxymethyl group, ethyl group, propyl group, n-butyl group, hexyl group, 3-chloropropyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, t-butyl group, hexafluoro-i -Propyl group, octyl group, decyl group, etc., and optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms (for example, benzyl group, phenethyl group, methylbenzyl group, trimethylbenzyl group, heptamethylbenzyl group, methoxybenzyl group, etc.) ), An optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl, nitrophenyl, cyanophenyl, methanesulfonylphenyl, Toxiphenyl, butoxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, trifluoromethylphenyl, etc.).

【0057】LA L A

【化96】 を表す場合において、RA 9 及びRA 10は各々同じでも
異なっていてもよく、好ましい例としては前記RA 4
A 8 で好ましいとした置換基を表わす。
Embedded image In case of representing a, R A 9 and R A 10 may be the same or different from each other, the preferred examples R A 4 ~
Represent preferred and the substituents R A 8.

【0058】LA L A is

【化97】 を表す場合において、Y1 は酸素原子又はイオウ原子を
表す。RA 11、RA 12、RA 13は互いに同じでも異なっ
ていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよい
炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。
好ましい例としては前記RA 4 〜RA 8 と同じ内容を表
す。またp1 は5又は6の整数を表す。
Embedded image In the formula, Y 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. R A 11, R A 12, R A 13 may be the same or different, each preferably represents a hydrogen atom, an unsubstituted or a good 1-12 carbon linear or branched alkyl group.
Preferred examples are the same contents as the R A 4 ~R A 8. P 1 represents an integer of 5 or 6.

【0059】本発明の他の好ましいチオール基生成官能
基含有単量体は、一般式(V)又は一般式(VI)で示さ
れるチイラン環を少なくとも1種含有するものである。 一般式(V)
Another preferred thiol group-forming functional group-containing monomer of the present invention contains at least one thiirane ring represented by the general formula (V) or (VI). General formula (V)

【化98】 一般式(VI)Embedded image General formula (VI)

【化99】 式(V)において、RA 14及びRA 15は互いに同じでも
異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表す。
好ましくは、水素原子又は前記RA 4 〜RA 7で好まし
いとした置換基を表わす。式(VI)において、XA は水
素原子又は脂肪族基を表す。脂肪族基として好ましく
は、炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基等)を表わす。
Embedded image In formula (V), R A 14 and R A 15 may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.
Preferably represents a hydrogen atom or a substituent and preferred R A 4 ~R A 7. In the formula (VI), X A represents a hydrogen atom or an aliphatic group. The aliphatic group preferably represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.).

【0060】本発明の更に他の好ましいチオール基生成
官能基含有単量体は、一般式(VII)で示されるイオウ原
子含有のヘテロ環基を少なくとも1種含有する単量体で
ある。 一般式(VII)
Still another preferred thiol group-forming functional group-containing monomer of the present invention is a monomer containing at least one sulfur atom-containing heterocyclic group represented by the general formula (VII). General formula (VII)

【化100】 式(VII)において、YA は酸素原子又は−NH−基を表
わす。RA 16、RA 17及びRA 18は同じでも異なってい
てもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表す。好まし
くは、水素原子又は前記RA 4 〜RA 7 で好ましいとし
た置換基を表す。RA 19及びRA 20は同じでも異なって
いてもよく、水素原子、炭化水素基又は−O−R
AII (RAII は炭化水素基を表す)を表す。好ましく
は、前記RA 1 〜RA 3 で好ましいとした置換基を表
す。
Embedded image In formula (VII), Y A represents an oxygen atom or -NH- group. RA 16 , RA 17 and RA 18 may be the same or different and each represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably represents a hydrogen atom or a substituent and preferred R A 4 ~R A 7. R A 19 and R A 20 may be the same or different, a hydrogen atom, a hydrocarbon group or -O-R
AII (R AII represents a hydrocarbon group). Preferably represents a substituent and preferred by the R A 1 ~R A 3.

【0061】本発明の更にもう一つの好ましい態様によ
れば、チオール基生成官能基含有単量体は、互いに立体
的に近い位置にある少なくとも2つのチオール基を1つ
の保護基で同時に保護した形で有する官能基を少なくと
も1種含有する単量体である。互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基としては、例えば下記一
般式(VIII)、(IX)及び(X)で表わされるものを挙
げることができる。 一般式(VIII)
According to still another preferred embodiment of the present invention, the thiol group-forming functional group-containing monomer is a form in which at least two thiol groups located sterically close to each other are simultaneously protected by one protecting group. Is a monomer containing at least one functional group having Examples of the functional group having at least two thiol groups at positions sterically close to each other in a form protected simultaneously by one protective group include those represented by the following general formulas (VIII), (IX) and (X). Can be mentioned. General formula (VIII)

【化101】 一般式(IX)Embedded image General formula (IX)

【化102】 一般式(X)Embedded image General formula (X)

【化103】 式(VIII)及び式(IX)において、ZA はヘテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はC−S結合同志を直接
連結する化学結合を表す(但し、イオウ原子間の原子数
は4個以内である)。更に一方の−(ZA ・・・C) −
結合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様になっ
ていてもよい。
Embedded image In the formulas (VIII) and (IX), Z A represents a carbon-carbon bond or a chemical bond directly connecting CS bonds which may be via a hetero atom (provided that the number of atoms between sulfur atoms is 4 ). Furthermore one - (Z A ··· C) -
The bond represents a mere bond, and may be, for example, as described below.

【化104】 式(IX)において、RA 21、RA 22は同じでも異なって
いてもよく、水素原子、炭化水素基又は−O−R
AII (RAII は炭化水素基を表わす)を表わす。式(I
X)において、RA 21及びRA 22は好ましくは互いに同
じでも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12
の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、2−メトキ
シエチル基、オクチル基等)、炭素数7〜9の置換され
てもよいアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル
基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基、クロロベ
ンジル基等)、炭素数5〜7の脂環式基(例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基等)又は置換されてもよ
いアリール基(例えばフェニル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、メチルフェニル基、シアノフェニ
ル基等)又は−O−RAII (RAII はRA 21、RA 22
おける炭化水素基と同義である)を表す。式(X)にお
いて、RA 23、RA 24、RA 25、RA 26は互いに同じで
も異なっていてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を
表わす。好ましくは、水素原子又は上記RA 21、RA 22
において好ましいとした炭化水素基と同義の内容を表わ
す。
Embedded image In the formula (IX), RA 21 and RA 22 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, or -OR.
AII ( RAII represents a hydrocarbon group). The formula (I
In X), R A 21 and R A 22 preferably may be the same or different, a hydrogen atom, a carbon number 1 to 12
An optionally substituted alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a 2-methoxyethyl group, an octyl group, etc.) and an optionally substituted aralkyl group having 7 to 9 carbon atoms ( For example, a benzyl group, a phenethyl group, a methylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a chlorobenzyl group, etc., an alicyclic group having 5 to 7 carbon atoms (eg, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.) or an aryl group which may be substituted (for example, Phenyl group, chlorophenyl group,
Methoxyphenyl group, a methylphenyl group, cyanophenyl group) or -O-R AII (R AII has the same meaning as the hydrocarbon group for R A 21, R A 22) . In formula (X), representative of the R A 23, R A 24, R A 25, R A 26 may be the same or different, each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Preferably, a hydrogen atom or the above R A 21 , R A 22
Represents the same meaning as the above-mentioned preferred hydrocarbon group.

【0062】本発明に用いられる上記のような一般式
(IV)〜(X)で示される官能基を少なくとも1種含有
する単量体(A)は、例えば岩倉義男・栗田恵輔著「反
応性高分子」230頁〜237頁(講談社:1977年
刊)、日本化学会編「新実験化学講座第14巻、有機化
合物の合成と反応〔III 〕」第8章、第1700頁〜1
713頁(丸善株式会社、1978年刊)、J.F.W.McOm
ie「Protective Groupsin Organic Chemistry 」第7
章(Plenum Press. 1973年刊)、S.Patai 「The Ch
emistry of the thiol group Part 2 」第12章、第1
4章(John Wiley& Sons , 1974年刊)等に記載の
方法等を適用することができる。
The monomer (A) containing at least one of the functional groups represented by the above general formulas (IV) to (X) used in the present invention is described, for example, in "Reactivity by Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita" Polymers, pp. 230-237 (Kodansha: 1977), edited by The Chemical Society of Japan, "New Experimental Chemistry Course, Vol. 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [III]", Chapter 8, pages 1700-1.
713 pages (Maruzen Co., Ltd., published in 1978), JFWMcOm
ie Protective Groups in Organic Chemistry 7
Chapter (Plenum Press. 1973), S. Patai "The Ch
emistry of the thiol group Part 2 ", Chapter 12, Chapter 1
The method described in Chapter 4 (John Wiley & Sons, 1974) or the like can be applied.

【0063】更に具体的には、一般式(IV)〜(X)の
官能基を含有する単量体(A)として、例えば以下の様
な化合物を挙げることができる。 (1)
More specifically, examples of the monomer (A) having a functional group represented by any of the general formulas (IV) to (X) include the following compounds. (1)

【化105】 (2)Embedded image (2)

【化106】 (3)Embedded image (3)

【化107】 (4)Embedded image (4)

【化108】 (5)Embedded image (5)

【化109】 (6)Embedded image (6)

【化110】 (7)Embedded image (7)

【化111】 (8)Embedded image (8)

【化112】 (9)Embedded image (9)

【化113】 (10)Embedded image (10)

【化114】 (11)Embedded image (11)

【化115】 (12)Embedded image (12)

【化116】 (13)Embedded image (13)

【化117】 (14)Embedded image (14)

【化118】 (15)Embedded image (15)

【化119】 (16)Embedded image (16)

【化120】 (17)Embedded image (17)

【化121】 (18)Embedded image (18)

【化122】 (19)Embedded image (19)

【化123】 (20)Embedded image (20)

【化124】 (21)Embedded image (21)

【化125】 (22)Embedded image (22)

【化126】 (23)Embedded image (23)

【化127】 (24)Embedded image (24)

【化128】 (25)Embedded image (25)

【化129】 (26)Embedded image (26)

【化130】 (27)Embedded image (27)

【化131】 (28)Embedded image (28)

【化132】 (29)Embedded image (29)

【化133】 (30)Embedded image (30)

【化134】 (31)Embedded image (31)

【化135】 (32)Embedded image (32)

【化136】 (33)Embedded image (33)

【化137】 (34)Embedded image (34)

【化138】 (35)Embedded image (35)

【化139】 (36)Embedded image (36)

【化140】 (37)Embedded image (37)

【化141】 (38)Embedded image (38)

【化142】 (39)Embedded image (39)

【化143】 (40)Embedded image (40)

【化144】 (41)Embedded image (41)

【化145】 (42)Embedded image (42)

【化146】 (43)Embedded image (43)

【化147】 (44)Embedded image (44)

【化148】 (45)Embedded image (45)

【化149】 Embedded image

【0064】次に、分解により少なくとも1個のホスホ
ノ基、例えば下記一般式(XI)又は(XII)の基を生成す
る官能基について詳しく説明する。 一般式(XI)
Next, the functional group which forms at least one phosphono group, for example, a group represented by the following general formula (XI) or (XII) upon decomposition will be described in detail. General formula (XI)

【化150】 一般式(XII)Embedded image General formula (XII)

【化151】 式(XI)において、RB は炭化水素基又は−ZB 2 −R
BI (ここでRBIは炭化水素を示し、ZB 2 は酸素原子又
はイオウ原子を示す)を表わす。QB 1 は酸素原子又は
イオウ原子を表わす。ZB 1 は酸素原子又はイオウ原子
を表わす。式(XII)において、QB 2 、ZB 3 及びZB
4 は各々独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。好ま
しくは、RB は置換されてもよい炭素数1〜4のアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基)又は−ZB 2 −RBI (ここでZB 2 は酸素原子又
はイオウ原子を表す。RBIはRB と同一の内容を表
す。)QB 1 、QB 2 、ZB 1 、ZB 3 、ZB 4 は各々
独立に酸素原子又はイオウ原子を表す。
Embedded image In the formula (XI), R B is a hydrocarbon group or —Z B 2 —R
BI (where R BI represents a hydrocarbon, and Z B 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom). Q B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. Z B 1 represents an oxygen atom or a sulfur atom. In the formula (XII), Q B 2 , Z B 3 and Z B
4 each independently represents an oxygen atom or a sulfur atom. Preferably, R B is an optionally substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group) or —Z B 2 —R BI (where Z B 2 is oxygen .R BI representing the atom or sulfur atom represents R B. represents the same content as) Q B 1, Q B 2 , Z B 1, Z B 3, Z B 4 each independently represent an oxygen atom or a sulfur atom .

【0065】以上の如き分解により式(XI)又は(XII)
で示されるホスホノ基を生成する官能基としては、一般
式(XIII) 及び/又は(XIV)で示される官能基が挙げら
れる。 一般式(XIII)
By the decomposition as described above, the compound represented by the formula (XI) or (XII)
Examples of the functional group that generates a phosphono group represented by are the functional groups represented by general formulas (XIII) and / or (XIV). General formula (XIII)

【化152】 一般式(XIV)Embedded image General formula (XIV)

【化153】 式(XIII) 及び(XIV)において、QB 1 、QB 2 、ZB
1 、ZB 3 、ZB 4 及びRB はそれぞれ式(XI)及び
(XII)で定義した通りの内容を表す。LB 1 、LB 2
びLB 3 は互いに独立にそれぞれ
Embedded image In formulas (XIII) and (XIV), Q B 1 , Q B 2 , Z B
1, Z B 3, Z B 4 and R B represent the content as defined by the respective formulas (XI) and (XII). L B 1, L B 2 and L B 3 are each independently of one another

【化154】 を表す。LB 1 〜LB 3 Embedded image Represents L B 1 ~L B 3 is

【化155】 を表わす場合において、RB 1 〜RB 2 は互いに同じで
も異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子、フッ素原子等)又はメチル基を表
す。XB 1 及びXB 2 は電子吸引性基(ここで、電子吸
引性基とは、ハメットの置換基定数が正値を示す置換基
であり、例えばハロゲン原子、
Embedded image In case of representing a, R B 1 ~R B 2 may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom) or a methyl group. X B 1 and X B 2 each represent an electron-withdrawing group (here, the electron-withdrawing group is a substituent having a positive Hammett's substituent constant, such as a halogen atom,

【化156】 等が挙げられる)を表し、好ましくはハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、−CN、
CONH2 、−NO2 又は−SO2 BII (RBII はメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基等の如き炭化水素基を表す)を表す。nは1
又は2を表わす。更にXB 1 がメチル基の場合には、R
B 1 及びRB 2 がメチル基でn=1を表す。
Embedded image And the like), preferably a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom, etc.), -CN, -
CONH 2 , —NO 2 or —SO 2 RBII ( RBII is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, a benzyl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group,
Represents a hydrocarbon group such as a mesityl group). n is 1
Or 2 is represented. Further, when X B 1 is a methyl group, R
B 1 and R B 2 represents n = 1 with a methyl group.

【0066】LB 1 〜LB 3 L B 1 to L B 3

【化157】 を表す場合において、RB 3 、RB 4 及びRB 5 は互い
に同じでも異なっていてもよく、好ましくは水素原子、
置換されてもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状ア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、オクタデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル
基、メトキシプロピル基等)、置換されてもよい脂環式
基(例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、
置換されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例え
ばベンジル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メト
キシベンジル基等)、置換されてもよい芳香族基(例え
ばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル
基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、ジクロロフェニル基等)又は−O−RBIII(RBIII
は炭化水素基を表し、具体的には、上記RB 3
B 4 、RB 5 の置換基類を例として挙げることができ
る)を表す。
Embedded image In the case of representing, R B 3 , R B 4 and R B 5 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom,
A linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, chloroethyl group , A methoxyethyl group, a methoxypropyl group, etc.), an alicyclic group which may be substituted (for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.),
An optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl, phenethyl, chlorobenzyl, methoxybenzyl, etc.), an optionally substituted aromatic group (e.g., phenyl, naphthyl, chlorophenyl, A toryl group, a methoxyphenyl group, a methoxycarbonylphenyl group, a dichlorophenyl group, etc.) or -ORBIII ( RBIII
Represents a hydrocarbon group, and specifically, R B 3 ,
Represents a R B 4, substituents such R B 5 can be cited as an example).

【0067】LB 1 〜LB 3 L B 1 to L B 3 are

【化158】 を表す場合において、RB 6 、RB 7 、RB 8 、RB 9
及びRB 10は各々独立に炭化水基を表す。好ましくは置
換されていてもよい炭素数1〜の直鎖状又は分岐状ア
ルキル基(例えばメチル基、トリクロロメチル基、トリ
フルオロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチ
ル基、2,2,2−トリフルオロエチル基、エチル基、
プロピル基、ヘキシル基、t−ブチル基、ヘキサフルオ
ロ−i−プロピル基等)、置換されてもよい炭素数7〜
9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、
メチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチ
ルベンジル基、メトキシベンジル基等)、置換されても
よい炭素数6〜12のアリール基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、ニトロフェニル基、シアノフェ
ニル基、メタンスルホニルフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロ
ロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基等)を表
す。
Embedded image In case of representing a, R B 6, R B 7 , R B 8, R B 9
And R B 10 each independently represents a hydrocarbon group. Preferably, an optionally substituted linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, methyl group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, methoxymethyl group, phenoxymethyl group, 2,2,2- Trifluoroethyl group, ethyl group,
Propyl group, hexyl group, t-butyl group, hexafluoro-i-propyl group, etc.),
9 aralkyl groups (for example, benzyl group, phenethyl group,
A methylbenzyl group, a trimethylbenzyl group, a heptamethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, etc., an aryl group having 6 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a phenyl group,
Tolyl, xylyl, nitrophenyl, cyanophenyl, methanesulfonylphenyl, methoxyphenyl, butoxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, trifluoromethylphenyl, etc.).

【0068】更にLB 1 〜LB 3 [0068] further L B 1 ~L B 3

【化159】 を表す場合において、YB 1 及びYB 2 は酸素原子又は
イオウ原子を表す。
Embedded image In the formula, Y B 1 and Y B 2 represent an oxygen atom or a sulfur atom.

【0069】本発明に用いられる官能基を少なくとも1
種含有する単量体は、従来公知の方法に従い、保護基を
導入することにより合成することができる。保護基を導
入する方法としては、同様の合成反応を用いることがで
きる。具体的には、J.F.W.McOmie「Protective groups
in Organic Chemistry」第6章(Plenum Press ,197
3年刊)に記載の方法、あるいは日本化学会編「新実験
化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔V〕」第
2497頁(丸善株式会社刊、1978年)等に記載の
ヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反
応、あるいは S.Patai「 The Chemistry of the Triol
Group Part 2 」第13章、第14章(Wiley-Intersci
ence 1974年刊)、T.W.Greene「Protective group
s in Organic Synthesis 」第6章(Wiley-Interscien
ce1981年刊)等に記載のチオール基への保護基導入
の方法と同様の合成反応により製造できる。
The functional group used in the present invention has at least one functional group.
The seed-containing monomer can be synthesized by introducing a protecting group according to a conventionally known method. The same synthetic reaction can be used as a method for introducing a protecting group. Specifically, JFWMcOmie “Protective groups
in Organic Chemistry ", Chapter 6 (Plenum Press, 197
Or the hydroxyl group described in “New Experimental Chemistry Lecture Vol. 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [V]” edited by The Chemical Society of Japan, page 2497 (published by Maruzen Co., Ltd., 1978). Synthetic reaction similar to the method of introducing a protecting group into S. Patai, or `` The Chemistry of the Triol
Group Part 2 ”Chapters 13 and 14 (Wiley-Intersci
ence 1974), TWGreene "Protective group
s in Organic Synthesis ", Chapter 6 (Wiley-Interscien
1981) and the like, and can be produced by the same synthetic reaction as the method for introducing a protecting group into a thiol group.

【0070】本発明に用いられる一般式(XIII)及び/
又は(XIV)のホスホノ基を生成する官能基を含有する重
合成分の繰り返し単位となり得る具体的な化合物例とし
て以下の様な例を挙げることができる。 (1)
The formula (XIII) used in the present invention and / or
Alternatively, the following examples can be given as specific examples of the compound which can be a repeating unit of a polymerization component containing a functional group capable of forming a phosphono group of (XIV). (1)

【化160】 (2)Embedded image (2)

【化161】 (3)Embedded image (3)

【化162】 (4)Embedded image (4)

【化163】 (5)Embedded image (5)

【化164】 (6)Embedded image (6)

【化165】 (7)Embedded image (7)

【化166】 (8)Embedded image (8)

【化167】 (9)Embedded image (9)

【化168】 (10)Embedded image (10)

【化169】 (11)Embedded image (11)

【化170】 (12)Embedded image (12)

【化171】 (13)Embedded image (13)

【化172】 (14)Embedded image (14)

【化173】 (15)Embedded image (15)

【化174】 (16)Embedded image (16)

【化175】 (17)Embedded image (17)

【化176】 (18)Embedded image (18)

【化177】 Embedded image

【0071】次に、分解によりアミノ基、例えば−NH
2 基及び/又は−NHRC 基を生成する官能基として
は、例えば下記一般式(XV)〜(XVII) で表わされる基
を挙げることができる。 一般式(XV)
Next, an amino group such as —NH
Examples of the functional group that forms two groups and / or a —NHR C group include groups represented by the following general formulas (XV) to (XVII). General formula (XV)

【化178】 一般式(XVI)Embedded image General formula (XVI)

【化179】 一般式(XVII)Embedded image General formula (XVII)

【化180】 式(XV)及び式(XVII) 中、RC 0 は各々水素原子、炭
素数1〜12の置換されてもよいアルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、3−クロロプロピル基、
2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、2−エト
キシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、3−
メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等)、炭素
数5〜8の脂環式基 (例えばシクロペンチル基、シク
ロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル基、クロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベンジル基、
メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置換されても
よいアリール基(例えばフェニル基、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、メトキシ
フェニル基、エトキシフェニル基、クロロメトキシフェ
ニル基等)等を表す。好ましくはRC 0 が該炭化水素基
を表す場合は、炭素数1〜8の炭化水素基類が挙げられ
る。
Embedded image In the formulas (XV) and (XVII), R C 0 is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl) Group, decyl group, dodecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3-chloropropyl group,
2-cyanoethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-ethoxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 3-
A methoxypropyl group, a 6-chlorohexyl group, etc.), an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an aralkyl group which may be substituted having 7 to 12 carbon atoms (eg, benzyl group, Phenethyl group, 3-
Phenylpropyl group, 1-phenylpropyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, bromobenzyl group,
An optionally substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms (e.g., phenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, tolyl, xylyl, mesityl, chloromethyl, chlorophenyl, methoxyphenyl); Ethoxyphenyl group, chloromethoxyphenyl group, etc.). When R C 0 represents the hydrocarbon group, hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms are preferred.

【0072】式(XV)で表される官能基において、RC
1 は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表
し、更に具体的にはRC 1 は下記式(XVIII)で示される
基を表す。 式(XVIII)
In the functional group represented by the formula (XV), R C
1 represents an aliphatic group having 2 to 12 carbon atoms which may be substituted, and more specifically, R C 1 represents a group represented by the following formula (XVIII). Formula (XVIII)

【化181】 式(XVIII)中、a6 , a7 は各々水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1〜12
の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベン
ジル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
クロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル
基等)を表わし、YC は水素原子、ハロゲン原子(例え
ば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4の
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(例え
ばフェニル基、トリル基、シアノフェニル基、2,6−
ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル
基、ヘプタメチルフェニル基、2,6−ジメトキシフェ
ニル基、2,4,6−トリメトキシフェニル基、2−プ
ロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−クロロ
−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−SO2
−RC 6 (RC 6 はYC の炭化水素基と同様の内容を表
す)等を表す。nは1又は2を表す。
Embedded image In the formula (XVIII), a 6 and a 7 each represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom or the like) or a carbon atom having 1 to 12 carbon atoms.
Which may be substituted (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, methoxymethyl, ethoxymethyl, 2-methoxyethyl, 2
-Chloroethyl group, 3-bromopropyl group, cyclohexyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methoxybenzyl group, methylbenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl A methoxyphenyl group, a dichlorophenyl group, a chloromethylphenyl group, a naphthyl group, etc.), and Y C is a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. (E.g., methyl, ethyl, propyl,
Butyl group, etc.), and an aromatic group which may contain a substituent (for example, phenyl group, tolyl group, cyanophenyl group, 2,6-
Dimethylphenyl group, 2,4,6-trimethylphenyl group, heptamethylphenyl group, 2,6-dimethoxyphenyl group, 2,4,6-trimethoxyphenyl group, 2-propylphenyl group, 2-butylphenyl group, 2-chloro-6-methylphenyl group, furanyl group, etc.) or -SO 2
-R C 6 (R C 6 is Y represent similar content and C hydrocarbon group) and the like. n represents 1 or 2.

【0073】より好ましくは、YC が水素原子又はアル
キル基の場合には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する
炭素上のa6 及びa7 は水素原子以外の置換基を表す。
C が水素原子又はアルキル基でない場合には、a6
びa7 は上記内容のいずれの基でもよい。即ち、
More preferably, when Y C is a hydrogen atom or an alkyl group, a 6 and a 7 on carbon adjacent to the oxygen atom of the urethane bond represent a substituent other than a hydrogen atom.
When Y C is not a hydrogen atom or an alkyl group, a 6 and a 7 may be any of the groups described above. That is,

【化182】 において、少なくとも1つ以上の電子吸引性基を含有す
る基を形成する場合あるいはウレタン結合の酸素原子に
隣接する炭素が立体的にかさ高い基を形成する場合が好
ましい例であることを示すものである。
Embedded image In the above, it is preferable to form a group containing at least one or more electron-withdrawing groups or a case where carbon adjacent to an oxygen atom of a urethane bond forms a sterically bulky group. is there.

【0074】又、RC 1 は脂環式基{例えば単環式炭化
水素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキ
シル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭
化水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、
ビシクロノナン基、トリシクロヘプタン基等)等}を表
す。
R C 1 is an alicyclic group such as a monocyclic hydrocarbon group (cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 1-methyl-cyclohexyl group, 1-methylcyclobutyl group, etc.) Or a bridged cyclic hydrocarbon group (bicyclooctane group, bicyclooctene group,
Bicyclononane group, tricycloheptane group, etc.).

【0075】一般式(XVI)において、RC 2 及びRC 3
は同じでも異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の
炭化水素基を表わし、具体的には、式(XV)のYC にお
ける脂肪族基又は芳香族基と同様の内容を表す。一般式
(XVII)において、XC 1 及びXC 2 は同じでも異なっ
ていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を表わす。
C 4 及びRC 5 は同じでも異なっていてもよく、各々
炭素数1〜8の炭化水素基を表し、具体的には、式(X
V)のYCにおける脂肪族基又は芳香族基を表す。
In the general formula (XVI), R C 2 and R C 3
May be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, specifically, representing the same contents as the aliphatic group or an aromatic group in Y C of formula (XV). In the general formula (XVII), X C 1 and X C 2 may be the same or different and each represent an oxygen atom or a sulfur atom.
R C 4 and R C 5 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
It represents an aliphatic group or an aromatic group in Y C of V).

【0076】式(XV)〜(XVII)の官能基の具体例を以
下に示す。これら官能基を含有する具体的単量体として
は前記したチオール基あるいはホスホノ基を生成する官
能基を含有する単量体の具体例において、該チオール基
生成官能基、ホスホノ基生成官能基に代えて連結した単
量体等が挙げられる。 (1)
Specific examples of the functional groups of formulas (XV) to (XVII) are shown below. As specific monomers containing these functional groups
Is a thiol group or phosphono group
In specific examples of the monomer containing a functional group, the thiol group
Unit instead of a functional group or phosphono group functional group
And the like. (1)

【化183】 (2)Embedded image (2)

【化184】 (3)Embedded image (3)

【化185】 (4)Embedded image (4)

【化186】 (5)Embedded image (5)

【化187】 (6)Embedded image (6)

【化188】 (7)Embedded image (7)

【化189】 (8)Embedded image (8)

【化190】 (9)Embedded image (9)

【化191】 (10)Embedded image (10)

【化192】 (11)Embedded image (11)

【化193】 (12)Embedded image (12)

【化194】 (13)Embedded image (13)

【化195】 (14)Embedded image (14)

【化196】 (15)Embedded image (15)

【化197】 (16)Embedded image (16)

【化198】 (17)Embedded image (17)

【化199】 (18)Embedded image (18)

【化200】 (19)Embedded image (19)

【化201】 (20)Embedded image (20)

【化202】 (21)Embedded image (21)

【化203】 (22)Embedded image (22)

【化204】 (23)Embedded image (23)

【化205】 (24)Embedded image (24)

【化206】 (25)Embedded image (25)

【化207】 (26)Embedded image (26)

【化208】 (27)Embedded image (27)

【化209】 Embedded image

【0077】本発明に用いられる分解によりアミノ基
(例えば−NH2 基及び/又は−NHR基)を生成する
官能基、例えば上記一般式(XV)〜(XVII)の群から選
択される官能基を少なくとも1種含有する単量体は、例
えば日本化学編「新実験化学講座第14巻、有機化合物
の合成と反応〔V〕」第2555頁(丸善株式会社
刊)、J.F.W.McOmie「Protective groups in Organic C
hemistry」第2章( PlenumPress 1973年刊)、「P
rotective groups in Organic Sinthesis」第7章(Joh
n Wiley & Sons 、1981年刊)等に記載の方法によ
って製造することができる。
The functional group used in the present invention to generate an amino group (for example, a —NH 2 group and / or a —NHR group) by decomposition, for example, a functional group selected from the group of the above general formulas (XV) to (XVII) Monomers containing at least one compound are described, for example, in "Nippon Kagaku Koza Koza Vol. 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds [V]", page 2555 (published by Maruzen Co., Ltd.), JFW McOmie, "Protective groups in Organic". C
hemistry ”Chapter 2 (PlenumPress 1973),“ P
rotective groups in Organic Sinthesis ", Chapter 7 (Joh
n Wiley & Sons, 1981) and the like.

【0078】更に又、分解により少なくとも1つのスル
ホ基を生成する官能基としては、例えば一般式(XIX)又
は(XX)で表わされる官能基が挙げられる。 一般式(XIX) −SO2 −O−RD 1 一般式(XX) −SO2 −S−RD 2 式(XIX)中RD 1
Further, examples of the functional group that forms at least one sulfo group upon decomposition include a functional group represented by the general formula (XIX) or (XX). Formula (XIX) -SO 2 -O-R D 1 formula (XX) -SO 2 -S-R D 2 formula (XIX) Medium R D 1 is

【化210】 又は−NHCORD 7 を表す。式(XX)中、RD 2 は、
炭素数1〜18の置換されてもよい脂肪族基、又は炭素
数6〜22の置換基を有してもよいアリール基を表わ
す。
Embedded image Or an -NHCOR D 7. In the formula (XX), R D 2 is
Represents an optionally substituted aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms, or an optionally substituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms.

【0079】上記一般式(XIX)、(XX)の官能基は分解
によって、スルホ基を生成するものであり、以下に更に
詳しく説明する。RD 1
The functional groups of the general formulas (XIX) and (XX) generate a sulfo group by decomposition, and will be described in more detail below. R D 1

【化211】 を表す場合において、RD 3 、RD 4 は同じでも異なっ
てもよく、水素原子、ハロゲン原子(例えば弗素原子、
塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜6のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基)を表わす。YD は炭素数1〜
18の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシ
ル基、トリフロロメチル基、メタンスルホニルメチル
基、シアノメチル基、2−メトキシエチル基、エトキシ
メチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリク
ロロメチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
プロポキシカルボニルエチル基、メチルチオメチル基、
エチルチオメチル基等)、炭素数2〜18の置換されて
もよいアルケニル基(例えばビニル基、アリル基等)、
炭素数6〜12の置換基を含有してもよいアリール基
(例えばフェニル基、ナフチル基、ニトロフェニル基、
ジニトロフェニル基、シアノフェニル基、トリフロロメ
チルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ブト
キシカルボニルフェニル基、メタンスルホニルフェニル
基、ベンゼンスルホニルフェニル基、トリル基、キシリ
ル基、アセトキシフェニル基、ニトロナフチル基等)又
Embedded image In the formula, R D 3 and R D 4 may be the same or different, and represent a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a fluorine atom,
A chlorine atom, a bromine atom, etc.) or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group,
Pentyl group, hexyl group). Y D has 1 to 1 carbon atoms
18 optionally substituted alkyl groups (for example, methyl group,
Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, trifluoromethyl group, methanesulfonylmethyl group, cyanomethyl group, 2-methoxyethyl group, ethoxymethyl group, Chloromethyl group, dichloromethyl group, trichloromethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
Propoxycarbonylethyl group, methylthiomethyl group,
Ethylthiomethyl group, etc.), an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, vinyl group, allyl group, etc.),
An aryl group which may have a substituent having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group, a naphthyl group, a nitrophenyl group,
Dinitrophenyl, cyanophenyl, trifluoromethylphenyl, methoxycarbonylphenyl, butoxycarbonylphenyl, methanesulfonylphenyl, benzenesulfonylphenyl, tolyl, xylyl, acetoxyphenyl, nitronaphthyl, etc.) or

【化212】 (RD 8 は脂肪族基又は芳香族基を表し、具体的には上
記YD の置換基の内容と同一のものを表す)を表す。n
は0、1又は2を表す。より好ましくは、置換基:
Embedded image (R D 8 represents an aliphatic group or an aromatic group, and specifically represents the same as the above-mentioned substituent of Y D ). n
Represents 0, 1 or 2. More preferably, the substituent:

【化213】 において、少なくとも1つの電子吸引性基を含有する官
能基が挙げられる。具体的には、nが0で、YD が置換
基として電子吸引性基を含有しない炭化水素基の場合、
Embedded image In the above, a functional group containing at least one electron-withdrawing group is exemplified. Specifically, when n is 0 and Y D is a hydrocarbon group containing no electron-withdrawing group as a substituent,

【化214】 において、少なくとも1ケ以上のハロゲン原子を含有す
る。又nが0、1又は2で、YD が電子吸引性基を少な
くとも1つ含有する。更には、n=1又は2で、
Embedded image Contains at least one halogen atom. Further, n is 0, 1 or 2, and Y D contains at least one electron-withdrawing group. Further, when n = 1 or 2,

【化215】 等が挙げられる。Embedded image And the like.

【0080】もう1つの好ましい置換基として、−SO
2 −O−RD において酸素原子に隣接する炭素原子に少
なくとも2つの炭化水素基が置換するかあるいは、n=
0又は1で、YD がアリール基の場合に、アリール基の
2−位及び6−位に置換基を有する場合が挙げられる。
Another preferred substituent is -SO
In 2- O- RD , the carbon atom adjacent to the oxygen atom is substituted by at least two hydrocarbon groups, or n =
When 0 or 1 and Y D is an aryl group, the aryl group may have a substituent at the 2-position and the 6-position.

【0081】RD 1 R D 1 is

【化216】 を表す場合において、ZD は、環状イミド基を形成する
有機残基を表す。好ましくは、一般式(XXI)又は(XXI
I)で示される有機残基を表す。 一般式(XXI)
Embedded image In the case of, Z D represents an organic residue forming a cyclic imide group. Preferably, the formula (XXI) or (XXI)
Represents an organic residue represented by I). General formula (XXI)

【化217】 一般式(XXII)Embedded image General formula (XXII)

【化218】 式(XXI)中、RD 9 、RD 10は各々同じでも異なっても
よく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、
臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、3
−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル)エチル
基、2−(エトキシオキシ)エチル基等)、炭素数7〜
12の置換されてもよいアラルキル基(例えばベンジル
基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、メチルベ
ンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシベンジル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、炭素数3〜
18の置換されてもよいアルケニル基(例えばアリル
基、3−メチル−2−プロペニル基等)、
Embedded image Wherein (XXI), R D 9, R D 10 may be the same or different and each are each a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. a chlorine atom,
A bromine atom etc., an alkyl group which may be substituted and has 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl, ethyl, propyl, butyl, hexyl, octyl, decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3
-Chloropropyl group, 2- (methanesulfonyl) ethyl group, 2- (ethoxyoxy) ethyl group, etc.), having 7 to 7 carbon atoms.
12 aralkyl groups which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, methoxybenzyl group,
Chlorobenzyl group, bromobenzyl group, etc.), having 3 to 3 carbon atoms
18 optionally substituted alkenyl groups (e.g., allyl, 3-methyl-2-propenyl, etc.),

【0082】RD 1 R D 1

【化219】 を表す場合において、RD 5 、RD 6 は各々水素原子、
脂肪族基(具体的にはRD 3 、RD 4 のそれと同一の内
容を表す)又はアリール基(具体的にはRD 3 、RD 4
のそれと同一の内容を表す)を表す。但し、RD 5 及び
D 6 がともに水素原子を表すことはない。RD 1 が−
NHCORD 7 を表す場合において、RD 7 は脂肪族基
又はアリール基を表し、具体的にはRD 3 、RD 4 のそ
れと同一の内容を各々表す。式(XX)中、RD 2 は炭素
数1〜18の置換されてもよい脂肪族基又は炭素数6〜
22の置換基を有してもよいアリール基を表す。更に具
体的には前記した式(XIX)で表されるYD における脂肪
族基又はアリール基と同様の内容を表す。
Embedded image In the case of representing, R D 5 and R D 6 are each a hydrogen atom,
(R D 3 in particular, R D represents a identical to that of the content of 4) aliphatic group or an aryl group (in particular R D 3, R D 4
Represents the same content as that of. However, R D 5 and R D 6 never both represent hydrogen atoms. R D 1 is-
When representing the NHCOR D 7, R D 7 represents an aliphatic group or an aryl group, in particular represent respectively identical contents of R D 3, R D 4. Formula (XX) in, R D 2 from 6 aliphatic group or a carbon atoms which may be substituted having 1 to 18 carbon atoms
Represents an aryl group which may have 22 substituents. More specifically, it has the same contents as the aliphatic group or the aryl group in Y D represented by the formula (XIX).

【0083】本発明に用いられる一般式〔−SO2 −O
−RD 1 〕又は〔−SO2 −O−RD 2 〕群から選択さ
れる官能基を少なくとも1種含有する単量体は、従来公
知の有機反応の知見に基づいて合成する事ができる。例
えばJ.F.W.McOmie、「Protective Groups in Organic C
hemistry」;PlenumPress(1973年刊)、T.W.Green
e、「Protective Groups in Organic Sinthesis」John
Wiley & Sons (1980年刊)等のカルボキシル基の
保護反応と同様にして合成できる。
The general formula [—SO 2 —O used in the present invention]
-R D 1) or (monomer contains at least one functional group selected from -SO 2 -O-R D 2] group, it can be synthesized based on the knowledge of the conventionally known organic reactions . For example, JFWMcOmie, "Protective Groups in Organic C
hemistry "; PlenumPress (1973), TWGreen
e, `` Protective Groups in Organic Sinthesis '' John
It can be synthesized in the same manner as in the carboxyl group protection reaction of Wiley & Sons (1980).

【0084】更に具体的に一般式(XIX)−SO2 −O−
D 1 又は一般式(XX)−SO2 −O−RD 2 の官能基
として以下の様な例を挙げることができるが、本発明の
範囲はこれらに限定されるものではない。
More specifically, the compound represented by the general formula (XIX) -SO 2 -O-
Mention may be made of the following as an example as R D 1 or the general formula (XX) -SO 2 -O-R D 2 functional groups, but the scope of the present invention is not limited thereto.

【化220】 Embedded image

【化221】 Embedded image

【化222】 Embedded image

【化223】 Embedded image

【化224】 Embedded image

【0085】本発明の樹脂粒子〔L〕は、単量体(A)
とともに他の単量体を共存下に重合されてもよい。他の
単量体は、単量体(A)と共重合しうること及び共重合
体が該非水溶媒に不溶性重合体となるものであればいず
れでもよい。これらの単量体と共重合しうる他の単量体
としては、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪
酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸アリル等の如き脂
肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエステル類、アク
リル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレ
イン酸、フマール酸等の如き不飽和カルボン酸のエステ
ル類又はアミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メ
チルスチレンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン
類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、N−ビニ
ルピロリドンの如きビニル基置換のヘテロ環化合物等が
挙げられる。これら他の単量体は不溶化する全重合体成
分100重量部中60重量部以下であり、好ましくは5
0重量部以下である。他の単量体が60重量部を越える
と、オフセット印刷用原版としての保水性向上効果が低
下する。
The resin particles [L] of the present invention can be obtained from the monomer (A)
Further, it may be polymerized in the presence of another monomer. The other monomer may be any as long as it can be copolymerized with the monomer (A) and the copolymer becomes an insoluble polymer in the non-aqueous solvent. Other monomers copolymerizable with these monomers include, for example, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, allyl acetate, allyl esters, allyl esters such as allyl propionate, and acrylic acid. Esters or amides of unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, styrene, vinyltoluene, styrene derivatives such as α-methylstyrene, α-olefins, acrylonitrile, Examples include vinyl group-substituted heterocyclic compounds such as methacrylonitrile and N-vinylpyrrolidone. These other monomers account for 60 parts by weight or less, preferably 5 parts by weight, of 100 parts by weight of the total polymer component to be insolubilized.
0 parts by weight or less. If the amount of the other monomer exceeds 60 parts by weight, the effect of improving the water retention as an offset printing original plate is reduced.

【0086】次に本発明の分散安定用樹脂について説明
する。該分散安定用樹脂は非水溶媒と溶媒和し可溶性で
あることが重要であり、いわゆる非水系分散重合におけ
る分散安定化作用を担うものであり、具体的には該溶媒
100重量部に対し、温度25℃において少なくとも5
重量%溶解するものであればよい。
Next, the dispersion stabilizing resin of the present invention will be described. It is important that the dispersion stabilizing resin is solvated and soluble with a non-aqueous solvent, and is responsible for the dispersion stabilizing effect in so-called non-aqueous dispersion polymerization.Specifically, with respect to 100 parts by weight of the solvent, At least 5 at 25 ° C
Any substance that dissolves by weight% may be used.

【0087】該分散安定用樹脂の重量平均分子量は1×
103 〜5×105 であり、好ましくは2×103 〜1
×105 であり、特に好ましくは×103 ×10
4 である。該樹脂の重量平均分子量が1×103 未満に
なると、生成した分散樹脂粒子の凝集が発生し、平均粒
径が揃った微粒子が得られなくなってしまう。一方5×
105 を越えると、光導電層中に添加した時に電子写真
特性を満足しつつ保水性向上するという本発明の効果が
薄れてしまう。
The weight average molecular weight of the dispersion stabilizing resin is 1 ×
10 3 to 5 × 10 5 , preferably 2 × 10 3 to 1
× 10 5 , particularly preferably 2 × 10 3 to 1 × 10 5
4 If the weight average molecular weight of the resin is less than 1 × 10 3 , the resulting dispersed resin particles will aggregate, making it impossible to obtain fine particles having a uniform average particle size. 5x
If it exceeds 10 5 , the effect of the present invention of improving water retention while satisfying electrophotographic properties when added to the photoconductive layer will be diminished.

【0088】本発明の分散安定用樹脂は該非水溶媒に可
溶性の重合体であればいずれでもよいが、具体的には、
K. E. J. Barrett「 Dispersion Polymerization in Or
ganic Media 」John Wiley and Sons (1975年
刊)、R. Dowpenco , D. P. Hart, Ind. Eng. Chem. Pr
od. Res. Develop. 12,(No. 1)、14(197
3)、丹下豊吉、日本接着協会誌 23(1),26
(1987)、D. J. Walbridge 、NATO. Adv. Study I
nst. Ser.E. No.67,40(1983)、Y. Sasakia
nd M. Yabuta , Proc, 10th, Int. Conf. Org. Coat. S
ci. Technol, 10,263(1984)等の総説に引
例の各重合体が挙げられる。
The dispersion stabilizing resin of the present invention may be any polymer as long as it is a polymer soluble in the non-aqueous solvent.
KEJ Barrett `` Dispersion Polymerization in Or
ganic Media "John Wiley and Sons (1975), R. Dowpenco, DP Hart, Ind. Eng. Chem. Pr.
od. Res. Develop. 12 , (No. 1), 14 (197
3), Tokichi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 23 (1), 26
(1987), DJ Walbridge, NATO. Adv. Study I
nst. Ser. E. No. 67, 40 (1983), Y. Sasakia
nd M. Yabuta, Proc, 10th, Int. Conf. Org. Coat. S
Review articles such as ci. Technol, 10 , 263 (1984) include each polymer of the reference.

【0089】例えばオレフィン重合体、変性オレフィン
重合体、スチレン−オレフィン共重合体、脂肪族カルボ
ン酸ビニルエステル共重合体、変性無水マレイン酸共重
合体、ポリエステル重合体、ポリエーテル重合体、メタ
クリレートホモ重合体、アクリレートホモ重合体、メタ
クリレート共重合体、アクリレート共重合体、アルキッ
ド樹脂等である。
For example, olefin polymers, modified olefin polymers, styrene-olefin copolymers, aliphatic carboxylic acid vinyl ester copolymers, modified maleic anhydride copolymers, polyester polymers, polyether polymers, methacrylate homopolymers Coalescent, acrylate homopolymer, methacrylate copolymer, acrylate copolymer, alkyd resin and the like.

【0090】より具体的には、本発明の分散安定用樹脂
の繰り返し単位として供される重合体成分としては、下
記一般式(XXIII)で表される成分が挙げられる。 一般式(XXIII)
More specifically, the polymer component used as a repeating unit of the dispersion stabilizing resin of the present invention includes a component represented by the following general formula (XXIII). General formula (XXIII)

【化225】 式(XXIII)中、X3 は式(II)のV0 と同一の内容を表
わし、詳細は式(II)のV0 の説明に記載されている。
Embedded image In formula (XXIII), X 3 has the same content as V 0 in formula (II), and details are described in the description of V 0 in formula (II).

【0091】R15は、炭素数1〜22の置換されてもよ
いアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ドサコ
ニル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2
−(N−モルホリノ)エチル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−シ
アノエチル基、2−(α−チエニル)エチル基、2−カ
ルボキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、
2,3−エポキシプロピル基、2,3−ジアセトキシプ
ロピル基、3−クロロプロピル基、4−エトキシカルボ
ニルブチル基等)、炭素数3〜22の置換されてもよい
アルケニル基(例えばアリル基、ヘキセニル基、オクテ
ニル基、ドセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
オクタデセニル基、オレイル基、リノレイル基等)、炭
素数7〜22の置換されてもよいアラルキル基(例えば
ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、
2−ナフチルメチル基、2−(2′−ナフチル)エチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、ブチルベ
ンジル基、メトキシカルボニルベンジル基等)、炭素数
4〜12の置換されてもよい脂環式基(例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、アダ
マンチル基、クロロシクロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基等)、炭素数6〜
22の置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基、アン
トラニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ブ
チルフェニル基、ヘキシルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、デシルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、オクチルオキシフ
ェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、アセチルフ
ェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、ブチルメチ
ルフェニル基、N,N−ジブチルアミノフェニル基、N
−メチル−N−ドデシルフェニル基、チエニル基、ヒラ
ニル基等)等が挙げられる。c1 , c2 は式(II)中の
3 , a4 と同一の内容を表わし、詳細は式(II)
3 , a 4 の説明に記載される。
R 15 is an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, octyl,
Nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, dosaconyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl group, 2
-(N-morpholino) ethyl group, 2-chloroethyl group,
2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2- (α-thienyl) ethyl group, 2-carboxyethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group,
A 2,3-epoxypropyl group, a 2,3-diacetoxypropyl group, a 3-chloropropyl group, a 4-ethoxycarbonylbutyl group and the like, an alkenyl group having 3 to 22 carbon atoms which may be substituted (for example, an allyl group, Hexenyl group, octenyl group, dodecenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
An octadecenyl group, an oleyl group, a linoleyl group, etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms (eg, a benzyl group, a phenethyl group, a 3-phenylpropyl group,
2-naphthylmethyl group, 2- (2'-naphthyl) ethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
A methoxybenzyl group, a dimethoxybenzyl group, a butylbenzyl group, a methoxycarbonylbenzyl group, etc., an alicyclic group having 4 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclooctyl group, an adamantyl group, a chloro group) Cyclohexyl group, methylcyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, etc.)
22 optionally substituted aromatic groups (for example, phenyl group,
Tolyl, xylyl, mesityl, naphthyl, anthranyl, chlorophenyl, bromophenyl, butylphenyl, hexylphenyl, octylphenyl, decylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, Octyloxyphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, acetylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, butylmethylphenyl group, N, N-dibutylaminophenyl group, N
-Methyl-N-dodecylphenyl group, thienyl group, hydranyl group and the like). c 1 and c 2 represent the same contents as a 3 and a 4 in the formula (II) .
Described in the description of a 3 and a 4 .

【0092】本発明の分散安定用樹脂中の重合体成分と
して、以上述べた成分とともに、他の重合体成分を含有
してもよい。他の重合体成分としては、一般式(XXIII)
で示される成分に相当する単量体と共重合するものであ
ればいずれでもよく、相当する単量体としては、例え
ば、α−オレフィン類、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、ビニル含有複素環類(複素環としては例えば
ピラン環、ピロリドン環、イミダゾール環、ピリジン環
等)、ビニル基含有のカルボン酸類(例えばアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン
酸等)、ビニル基含有のカルボキシアミド類(例えばア
クリルアミド、メタクリルアミド、クロトン酸アミド、
イタコン酸アミド、イタコン酸半アミド、イタコン酸ジ
アミド等)等が挙げられる。
As the polymer component in the dispersion stabilizing resin of the present invention, other polymer components may be contained in addition to the components described above. Other polymer components include those represented by the general formula (XXIII)
Any copolymerizable monomer may be used as long as it copolymerizes with a monomer corresponding to the component represented by the following formula. Examples of the corresponding monomer include α-olefins, acrylonitrile, methacrylonitrile, and vinyl-containing heterocycles (heterocycles). As the ring, for example, a pyran ring, a pyrrolidone ring, an imidazole ring, a pyridine ring, etc.), a carboxylic acid containing a vinyl group (eg, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, etc.), a carboxamide containing a vinyl group (Eg acrylamide, methacrylamide, crotonic amide,
Itaconamide, itaconic half-amide, itaconic diamide and the like).

【0093】本発明の分散安定用樹脂において、一般式
(XXIII)で示される重合体成分は、該樹脂の全重合体1
00重量部中30重量部以上、好ましくは50重量部以
上である。
In the dispersion stabilizing resin of the present invention, the polymer component represented by the general formula (XXIII) is the total polymer 1 of the resin.
The amount is at least 30 parts by weight, preferably at least 50 parts by weight in 00 parts by weight.

【0094】更には、本発明の分散安定用樹脂が、高分
子鎖中に前記した一般式(II)で示される重合性二重結
合基部分を少なくとも1種含有して成ることが好まし
い。以下に、該重合性二重結合基部分について説明す
る。 一般式(II)
Further, it is preferable that the dispersion stabilizing resin of the present invention contains at least one polymerizable double bond group represented by the general formula (II) in the polymer chain. Hereinafter, the polymerizable double bond group portion will be described. General formula (II)

【化226】 一般式(II)において、V0 は−O−、−COO−、−
OCO−、−(CH2 p −OCO−、−(CH2 p
−COO−、−SO2 −、
Embedded image In the general formula (II), V 0 represents -O-, -COO-,-
OCO -, - (CH 2) p -OCO -, - (CH 2) p
-COO -, - SO 2 -,

【化227】 −CONHCOO−、又は−CONHCONH−を表わ
す(pは1〜4の整数を表す)。
Embedded image Represents -CONHCOO- or -CONHCONH- (p represents an integer of 1 to 4).

【0095】ここでR6 は水素原子のほか、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば2−
メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペン
テニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテ
ニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メ
チル−2−ヘキセニル基、等)、炭素数7〜12の置換
されていてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチ
ル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロ
モベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、
メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシ
ベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されていてもよい
脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキ
シルエチル基、2−シクロペンチルエチル基、等)、又
は、炭素数6〜12の置換されていてもよい芳香族基
(例えばフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル
基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチル
フェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシル
オキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチル
フェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル
基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェニル
基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙げられる。
Here, R 6 is a hydrogen atom, and a preferable hydrocarbon group is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group). , Hexyl group, octyl group,
Decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-
A methoxyethyl group, a 3-bromopropyl group, etc., an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example, 2-
Methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, Etc.), an optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group,
Phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group,
A methoxybenzyl group, a dimethylbenzyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (eg, a cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) Or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl) Group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl Group, propionitrile amido phenyl group, such as dodecane white ylamide phenyl group).

【0096】V0 が、V 0 is

【化228】 を表わす場合、ベンゼン環は、置換基を有してもよい。
置換基としては、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素
原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、メトキシメチ
ル基、等)、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が挙げられ
る。
Embedded image In the case where is represented, the benzene ring may have a substituent.
Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group,
A propyl group, a butyl group, a chloromethyl group, a methoxymethyl group and the like; an alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group and a butoxy group).

【0097】a3 及びa4 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4の
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等)−COO−R7 又は炭化水素を介した
COOR7 (R7 は、水素原子又は炭素数1〜18のア
ルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又は
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記R6 について説明したものと同様の内
容を表わす)を表わす。
A 3 and a 4 may be the same or different from each other, and are preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, COOR 7 (R 7 via the butyl group) -COO-R 7 or hydrocarbons, hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group, an aralkyl group, fat Represents a cyclic group or an aryl group, which may be substituted;
Specifically, represent represent) the same contents as those described above R 6.

【0098】上記炭化水素を介した−COOR7 基にお
ける炭化水素としては、メチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基等が挙げられる。更に好ましくは、一般式(I
I)において、V0 は、−COO−、−OCO−、−C
2 OCO−、−CH2 COO−、−O−、−CONH
−、−SO2 NH−、−CONHCOO−又は
The hydrocarbon in the —COOR 7 group via the above hydrocarbon includes a methylene group, an ethylene group, a propylene group and the like. More preferably, the compound represented by the general formula (I
In I), V 0 represents -COO-, -OCO-, -C
H 2 OCO -, - CH 2 COO -, - O -, - CONH
-, - SO 2 NH -, - CONHCOO- or

【化229】 を表わし、a3 及びa4 は互いに同じでも異なっていて
もよく、水素原子、メチル基、−COOR7 又は−CH
2 COOR7 を表し、(R7 は水素原子又は炭素数1〜
6のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基等を表わす)を表わす。更に
より好ましくはa3 及びa4 においていずれか一方が必
ず水素原子を表わす。
Embedded image A 3 and a 4 may be the same or different from each other, and represent a hydrogen atom, a methyl group, -COOR 7 or -CH
Represents 2 COOR 7, (R 7 is 1 a hydrogen atom or carbon atoms
6 represents an alkyl group (for example, represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, etc.). Even more preferably, one of a 3 and a 4 always represents a hydrogen atom.

【0099】即ち、一般式(II) で表わされる重合性二
重結合基含有部分として、具体的には
That is, as the polymerizable double bond group-containing moiety represented by the general formula (II), specifically,

【化230】 Embedded image

【化231】 等が挙げられる。Embedded image And the like.

【0100】これらの重合性二重結合基含有部分は高分
子鎖の主鎖に直接結合されるか又は任意の連結基で結合
されたものである。連結する基として具体的には二価の
有機残基であって、−O−、−S−、
These polymerizable double bond group-containing portions are bonded directly to the main chain of the polymer chain or bonded with an arbitrary linking group. Specifically, the linking group is a divalent organic residue, such as -O-, -S-,

【化232】 から選ばれた結合基を介在させてもよい、二価の脂肪族
基もしくは二価の芳香族基、又はこれらの二価の残基の
組合せにより構成された有機残基を表わす。ここで、d
1 〜d5 は式(II)におけるR6 と同一の内容を表わ
す。
Embedded image Represents a divalent aliphatic group or a divalent aromatic group, or an organic residue composed of a combination of these divalent residues, which may have a bonding group selected from the group consisting of: Where d
1 to d 5 represents the same meaning as R 6 in formula (II).

【0101】二価の脂肪族基として、例えばAs the divalent aliphatic group, for example,

【化233】 が挙げられる{e1 及びe2 は、互いに同じでも異なっ
てもよく、各々水素原子、ハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)又は炭素数1〜12のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ク
ロロメチル基、ブロモメチル基、ブチル基、ヘシキル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基等)を表わす。Q
は−O−、−S−又は−NR16−を表わし、R16は炭素
数1〜4のアルキル基、−CH2 Cl又は−CH2 Br
を表わす}。
Embedded image {E 1 and e 2 which include may be the same or different, each represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g. fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom) or an alkyl group (e.g. methyl group having 1 to 12 carbon atoms , Ethyl, propyl, chloromethyl, bromomethyl, butyl, hexyl, octyl, nonyl, decyl, etc.). Q
Is -O -, - S- or -NR 16 - represents, R 16 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, -CH 2 Cl or -CH 2 Br
}.

【0102】二価の芳香族基としては、例えばベンゼン
環基、ナフタレン環基及び5又は6員の複素環基(複素
環を構成するヘテロ原子として、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を少なくとも1種
含有する)が挙げられる。これらの芳香族基は置換基を
有していてもよく、例えばハロゲン原子(例えばフッ素
原子、塩素原子、臭素原子等)、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基等)、炭素数1〜6のアル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキ
シ基、ブトキシ基等)が置換基の例として挙げられる。
複素環基としては、例えばフラン環、チオフェン環、ピ
リジン環、ピラジン環、ピペラジン環、テトラヒドロフ
ラン環、ピロール環、テトラヒドロピラン環、1,3−
オキサゾリン環等が挙げられる。
The divalent aromatic group includes, for example, a benzene ring group, a naphthalene ring group and a 5- or 6-membered heterocyclic group (hetero atoms constituting a heterocyclic ring are selected from oxygen, sulfur and nitrogen atoms. Containing at least one heteroatom). These aromatic groups may have a substituent, for example, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group) , A butyl group, a hexyl group, an octyl group, etc.) and a C1-C6 alkoxy group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc.) are mentioned as examples of the substituent.
Examples of the heterocyclic group include a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a piperazine ring, a tetrahydrofuran ring, a pyrrole ring, a tetrahydropyran ring, and a 1,3-
Oxazoline ring and the like.

【0103】以上のような重合性二重結合基含有部分
は、具体的には高分子鎖中にランダム結合されている
か、又は高分子鎖の主鎖の片末端にのみ結合されてい
る。好ましくは、高分子鎖主鎖の片末端にのみ重合性二
重結合基含有部分が結合された重合体(以下、一官能性
重合体〔M〕と略記する)が挙げられる。
The above-mentioned polymerizable double bond group-containing portion is specifically bonded to the polymer chain at random or only to one end of the main chain of the polymer chain. Preferably, a polymer in which a polymerizable double bond group-containing portion is bonded to only one end of a polymer chain main chain (hereinafter, abbreviated as a monofunctional polymer [M]) is used.

【0104】上記一官能性重合体〔M〕の一般式(II)
で示される重合性二重結合基含有部分と、これに連結す
る有機残基で構成される部分の具体例として各々次のも
のが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
但し、以下の各例において、P1 は−H、−CH3 、−
CH2 COOCH3 、−Cl、−Br又は−CNを示
し、P2 は−H又は−CH3 を示し、X4 は−Cl又は
−Brを示し、n2 は2〜12の整数を示し、m2 は1
〜4の整数を示す。(c−1)
The monofunctional polymer [M] represented by the general formula (II)
Specific examples of the polymerizable double bond group-containing portion represented by and the portion composed of an organic residue linked thereto include the following, but are not limited thereto.
However, in each of the following examples, P 1 is -H, -CH 3 ,-
CH 2 COOCH 3, -Cl, shows -Br or -CN, P 2 represents -H or -CH 3, X 4 represents a -Cl or -Br, n 2 represents an integer of 2 to 12, m 2 is 1
Shows an integer of ~ 4. (C-1)

【化234】 (c−2)Embedded image (C-2)

【化235】 (c−3)Embedded image (C-3)

【化236】 (c−4)Embedded image (C-4)

【化237】 (c−5)Embedded image (C-5)

【化238】 (c−6)Embedded image (C-6)

【化239】 (c−7)Embedded image (C-7)

【化240】 (c−8)Embedded image (C-8)

【化241】 (c−9)Embedded image (C-9)

【化242】 (c−10)Embedded image (C-10)

【化243】 (c−11)Embedded image (C-11)

【化244】 (c−12)Embedded image (C-12)

【化245】 (c−13)Embedded image (C-13)

【化246】 (c−14)Embedded image (C-14)

【化247】 (c−15)Embedded image (C-15)

【化248】 (c−16)Embedded image (C-16)

【化249】 (c−17)Embedded image (C-17)

【化250】 (c−18)Embedded image (C-18)

【化251】 (c−19)Embedded image (C-19)

【化252】 (c−20)Embedded image (C-20)

【化253】 (c−21)Embedded image (C-21)

【化254】 (c−22)Embedded image (C-22)

【化255】 (c−23)Embedded image (C-23)

【化256】 (c−24)Embedded image (C-24)

【化257】 (c−25)Embedded image (C-25)

【化258】 (c−26)Embedded image (C-26)

【化259】 (c−27)Embedded image (C-27)

【化260】 (c−28)Embedded image (C-28)

【化261】 (c−29)Embedded image (C-29)

【化262】 (c−30)Embedded image (C-30)

【化263】 Embedded image

【0105】好ましくは本発明の分散安定用樹脂は重合
性二重結合基部分を高分子中の側鎖に含有するが、この
重合体の合成は従来公知の方法によって製造することが
できる。例えば、重合反応性の異なる重合性二重結合
基を分子中に2個含有した単量体を共重合させる方法、
分子中に、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ
基、エポキシ基等の反応性基を含有した一官能性単量体
を共重合させて高分子を得た後、この高分子側鎖中の反
応基と化学結合しうる他の反応性基を含有した重合性二
重結合基を含む有機低分子化合物との反応を行う、いわ
ゆる高分子反応によって導入する方法、等が通常よく知
られた方法として挙げられる。
Preferably, the dispersion stabilizing resin of the present invention contains a polymerizable double bond group in a side chain in a polymer, and the synthesis of this polymer can be carried out by a conventionally known method. For example, a method of copolymerizing a monomer containing two polymerizable double bond groups having different polymerization reactivity in a molecule,
After polymerizing a monofunctional monomer containing a reactive group such as a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, or an epoxy group in the molecule to obtain a polymer, the reactive group in the polymer side chain is obtained. A method of conducting a reaction with an organic low-molecular compound containing a polymerizable double bond group containing another reactive group capable of chemically bonding with, for example, a method of introducing the compound by a so-called polymer reaction, and the like, are commonly known methods. Can be

【0106】上記の方法として、例えば特開昭60−
185962号公報に記載の方法等が挙げられる。上記
の方法として、具体的には岩倉義男,栗田恵輔「反応
性高分子」講談社(1977年刊)、小田良平「高分子
ファインケミカル」講談社(1976年刊)、特開昭6
1−43757号公報、特願平1−149305号とし
て出願した明細書等に詳細に記載されている。
As the above-mentioned method, for example,
185962. As the above method, specifically, Yoshio Iwakura and Keisuke Kurita, “Reactive Polymers” Kodansha (1977), Ryohei Oda “Polymer Fine Chemicals” Kodansha (1976),
This is described in detail in the specification and the like filed as Japanese Patent Application No. 1-43757 and Japanese Patent Application No. 1-149305.

【0107】例えば、下記表−1のA群の官能基とB群
の官能基の組み合わせによる高分子反応が、通常よく知
られた方法として挙げられる。なお表−1のR17, R18
は炭化水素基で、前出の式(II)におけるR6 と同一の
内容を表す。
For example, a polymer reaction by a combination of a functional group of Group A and a functional group of Group B shown in Table 1 below is a well-known method. In Table 1, R 17 and R 18
Is a hydrocarbon group and has the same contents as R 6 in the above formula (II).

【表1】 [Table 1]

【0108】本発明の分散安定用樹脂として更に好まし
い、重合性二重結合基部分を主鎖の片末端に含有する一
官能性重合体〔M〕は、従来公知の合成方法によって製
造することができる。例えば、イ)アニオン重合あるい
はカチオン重合によって得られるリビングポリマーの末
端に種々の試薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得
る、イオン重合法による方法、ロ)分子中にカルボキシ
ル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有し
た重合開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル
重合して得られる末端反応性基結合の重合体と種々の試
薬を反応させて一官能性重合体〔M〕を得るラジカル重
合法による方法、ハ)重付加あるいは重縮合反応により
得られた重合体に上記ラジカル重合法と同様にして、重
合性二重結合基を導入する重付加縮合法による方法等が
挙げられる。
The monofunctional polymer [M] containing a polymerizable double bond group at one end of the main chain, which is more preferable as the dispersion stabilizing resin of the present invention, can be produced by a conventionally known synthesis method. it can. For example, a) a method using an ionic polymerization method, in which various reagents are reacted with the terminal of a living polymer obtained by anionic or cationic polymerization to obtain a monofunctional polymer [M], b) a carboxyl group or a hydroxyl group in the molecule. Using a polymerization initiator and / or a chain transfer agent containing a reactive group such as an amino group or an amino group to react a polymer having a terminal reactive group bond obtained by radical polymerization with various reagents to obtain a monofunctional compound A method by a radical polymerization method for obtaining a polymer [M]; c) a polyaddition condensation method for introducing a polymerizable double bond group into a polymer obtained by a polyaddition or polycondensation reaction in the same manner as in the radical polymerization method described above. And the like.

【0109】具体的には、P. Dreyfuss & R. P. Quirk
, Encycl. Polym. Sci. Eng., ,551(198
7)、P. F. Rempp, E. Franta, Adv. Polym. Sci.,
,1(1984)、V. Percec, Appl. Poly. Sci.,
85,95(1984)、R. Asami, M. Takari, Macro
mol. Chem. Suppl.,12,163(1985)、P. Rem
pp., et al, Macromol. Chem. Suppl., ,3(198
4)、川上雄資,化学工業,38,56(1987)、
山下雄也,高分子,31,988(1982)、小林四
郎,高分子,30,625(1981)、東村敏延,日
本接着協会誌,18,536(1982)、伊藤浩一,
高分子加工,35,262(1986)、東貴四郎,津
田隆,機能材料,1987,No. 10,5等の総説及び
それに引例の文献・特許等に記載の方法に従って合成す
ることができる。
Specifically, P. Dreyfuss & RP Quirk
, Encycl. Polym. Sci. Eng., 7 , 551 (198
7), PF Rempp, E. Franta, Adv. Polym. Sci., 5
8 , 1 (1984), V. Percec, Appl. Poly. Sci., 2
85 , 95 (1984), R. Asami, M. Takari, Macro
mol. Chem. Suppl., 12 , 163 (1985), P. Rem.
pp., et al, Macromol. Chem. Suppl., 8 , 3 (198
4), Yusuke Kawakami, Chemical Industry, 38, 56 (1987),
Yuya Yamashita, High Polymer, 31 , 988 (1982), Shiro Kobayashi, High Polymer, 30 , 625 (1981), Toshinobu Higashimura, Journal of the Adhesion Society of Japan, 18 , 536 (1982), Koichi Ito,
Polymer synthesis, 35 , 262 (1986), Kishiro Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 , No. 10, 5, and the like, and synthesis can be performed according to the methods described in the references and patents.

【0110】以上の如き一官能性重合体〔M〕の合成方
法として更に具体的には、ラジカル重合性単量体に相当
する繰り返し単位を含有する重合体〔M〕は、特開平2
−67563号公報、特願昭63−64970、特願平
1−206989、同1−69011各号として出願の
明細書等に記載されており、又、ポリエステル構造又は
ポリエーテル構造を繰り返し単位として含有する重合体
〔M〕は、特願平1−56379、同1−58989、
同1−56380各号として出願の明細書等に各々記載
されている方法と同様にして得られる。
More specifically, as a method for synthesizing the above monofunctional polymer [M], a polymer [M] containing a repeating unit corresponding to a radical polymerizable monomer is disclosed in
No. 67563, Japanese Patent Application No. 63-64970, Japanese Patent Application Nos. 1-206989 and 1-69011, each of which is described in the specification of the application, and contains a polyester structure or a polyether structure as a repeating unit. The polymer [M] to be obtained is disclosed in Japanese Patent Application Nos. 1-56379 and 1-58989.
It is obtained in the same manner as the method described in the specification of the application as each of the above-mentioned 1-56380.

【0111】本発明の分散樹脂粒子は以上説明した様
に、極性基含有の一官能性単量体(A)を上記分散安定
用樹脂の存在下で分散重合させて得られる共重合体樹脂
粒子である。更に、本発明の分散樹脂粒子が網目構造を
有する場合は、上記した極性基含有一官能性単量体
(A)を主成分とする重合体成分〔重合体成分(A)と
略記する〕として成る重合体の重合体間が橋架けされて
おり、高次の網目構造を形成している。
As described above, the dispersed resin particles of the present invention are copolymer resin particles obtained by dispersion-polymerizing the polar group-containing monofunctional monomer (A) in the presence of the dispersion stabilizing resin. It is. Further, when the dispersed resin particles of the present invention have a network structure, the polymer component having the above-mentioned polar group-containing monofunctional monomer (A) as a main component [abbreviated as polymer component (A)] is used. The polymers are bridged to form a higher-order network structure.

【0112】すなわち、本発明の分散樹脂粒子は、重合
体成分(A)から構成される非水分散溶媒に不溶な部分
と、該溶媒に可溶となる重合体とで構成される、非水系
ラテックスであり、網目構造を有する場合は、この該溶
媒に不溶な部分を形成している重合体成分(A)の分子
間が橋架けされているものである。これにより、網目樹
脂粒子は水に対して難溶性あるいは不溶性となったもの
である。具体的には、該樹脂の水への溶解性は、80重
量%以下好ましくは50重量%以下である。
That is, the dispersed resin particles of the present invention are composed of a non-aqueous solvent composed of a portion insoluble in a non-aqueous dispersion solvent composed of the polymer component (A) and a polymer soluble in the solvent. When it is a latex and has a network structure, the molecules of the polymer component (A) forming a part insoluble in the solvent are bridged. Thereby, the network resin particles become hardly soluble or insoluble in water. Specifically, the solubility of the resin in water is 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less.

【0113】本発明の架橋は、従来公知の架橋方法によ
って行うことができる。即ち、(a)該重合体成分
(A)を含有する重合体を種々の架橋剤あるいは硬化剤
によって架橋する方法、(b)該重合体成分(A)に相
当する単量体を少なくとも含有させて重合反応を行う際
に、重合性官能基を2個以上含有する多官能性単量体あ
るいは多官能性オリゴマーを共存させることにより分子
間に網目構造を形成する方法、及び(c)該重合体成分
(A)と反応性基を含有する成分を含む重合体類とを重
合反応あるいは高分子反応によって架橋させる方法等の
方法によって行うことができる。
The crosslinking of the present invention can be carried out by a conventionally known crosslinking method. That is, (a) a method of crosslinking a polymer containing the polymer component (A) with various crosslinking agents or curing agents, and (b) a method of containing at least a monomer corresponding to the polymer component (A). A method of forming a network structure between molecules by coexisting a polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups when performing a polymerization reaction by It can be carried out by a method such as a method of cross-linking the united component (A) with a polymer containing a component containing a reactive group by a polymerization reaction or a polymer reaction.

【0114】上記(a)の方法の架橋剤としては、通常
架橋剤として用いられる化合物を挙げることができる。
具体的には、山下晋三、金子東助編「架橋剤ハンドブッ
ク」大成社刊(1981年),高分子学会編「高分子デ
ータハンドブック 基礎編」培風館(1986年)等に
記載されている化合物を用いることができる。
As the cross-linking agent in the method (a), there can be mentioned compounds which are usually used as a cross-linking agent.
Specifically, compounds described in Shinzo Yamashita and Tosuke Kaneko, “Handbook of Crosslinking Agents” Taiseisha (1981), edited by the Society of Polymer Science, “Basic Edition of Polymer Data Handbook”, Baifukan (1986), etc. Can be used.

【0115】例えば、有機シラン系化合物(例えば、ビ
ニルトリメトキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン等のシランカップリング剤
等)、ポリイソシアナート系化合物(例えば、トルイレ
ンジイソシアナート、o−トルイレンジイソシアナー
ト、ジフェニルメタンジイソシアナート、トリフェニル
メタントリイソシアナート、ポリメチレンポリフェニル
イソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イ
ソホロンジイソシアナート、高分子ポリイソシアナート
等)、ポリオール系化合物(例えば、1,4−ブタンジ
オール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシ
アルキレングリコール、1,1,1−トリメチロールプ
ロパン等)、ポリアミン系化合物(例えば、エチレンジ
アミン、γ−ヒドロキシプロピル化エチレンジアミン、
フェニレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、N−ア
ミノエチルピペラジン、変性脂肪族ポリアミン類等)、
ポリエポキシ基含有化合物及びエポキシ樹脂(例えば、
垣内弘編著「新エポキシ樹脂」昭晃堂(1985年
刊)、橋本邦之編著「エポキシ樹脂」日刊工業新聞社
(1969年刊)等に記載された化合物類)、メラミン
樹脂(例えば,三輪一郎、松永英夫編著「ユリア・メラ
ミン樹脂」日刊工業新聞社(1969年刊)等に記載さ
れた化合物類)、ポリ(メタ)アクリレート系化合物
(例えば、大河原信、三枝武夫、東村敏延編「オリゴマ
ー」講談社(1976年刊)、大森英三「機能性アクリ
ル系樹脂」テクノシステム(1985年刊)等に記載さ
れた化合物類が挙げられ、具体的には、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールポリアクリレート、ビスフエノールA−
ジグリシジルエーテルジアクリレート、オリゴエステル
アクリレート及びこれらのメタクリレート体等がある。
For example, organic silane compounds (for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltributoxysilane,
silane coupling agents such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, etc.), polyisocyanate-based compounds (eg, toluylene diisocyanate, o-toluene) Range isocyanate, diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, polymethylene polyphenyl isocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, polymer polyisocyanate, etc.), polyol compounds (for example, 1, 4-butanediol, polyoxypropylene glycol, polyoxyalkylene glycol, 1,1,1-trimethylolpropane, etc.), polyamine-based compounds (for example, ethylenediamine, γ-hydroxyp Pill of ethylene diamine,
Phenylenediamine, hexamethylenediamine, N-aminoethylpiperazine, modified aliphatic polyamines, etc.),
Polyepoxy group-containing compound and epoxy resin (for example,
"New epoxy resin" edited by Hiroshi Kakiuchi, Shokodo (1985), "Epoxy resin" edited by Kuniyuki Hashimoto, compounds described in Nikkan Kogyo Shimbun (1969), etc., melamine resin (for example, Ichiro Miwa, Hideo Matsunaga) Compounds described in “Uria Melamine Resin” edited by Nikkan Kogyo Shimbun (1969) and the like, and poly (meth) acrylate compounds (for example, “Oligomer” Kodansha (1976) edited by Shin Okawara, Takeo Saegusa, Toshinobu Higashimura Compounds described in Eizo Omori, “Functional Acrylic Resin” Techno System (published in 1985) and the like. Specifically, polyethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6- Hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol polyacryle Door, bisphenol A-
Examples include diglycidyl ether diacrylate, oligoester acrylate, and methacrylates thereof.

【0116】又、上記(b)の方法で共存させる重合性
官能基を2個以上含有する多官能性単量体〔多官能性単
量体(D)とも称する〕あるいは多官能性オリゴマーの
重合性官能基としては、具体的には
The polymerization of a polyfunctional monomer (also referred to as a polyfunctional monomer (D)) or a polyfunctional oligomer containing two or more polymerizable functional groups coexisting by the method (b). As the functional functional group, specifically,

【化264】 等を挙げることができる。これらの重合性官能基の同一
のものあるいは異なったものを2個以上有した単量体あ
るいはオリゴマーであればよい。
Embedded image And the like. Any monomer or oligomer having two or more of the same or different polymerizable functional groups may be used.

【0117】重合性官能基を2個以上有した単量体の具
体例は、例えば同一の重合性官能基を有する単量体ある
いはオリゴマーとして、ジビニルベンゼン、トリビニル
ベンゼン等のスチレン誘導体:多価アルコール(例え
ば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ポリエチレングリコール♯20
0、♯400、♯600、1,3−ブチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパ
ン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールな
ど)、又はポリヒドロキシフェノール(例えばヒドロキ
ノン、レゾルシン、カテコールおよびそれらの誘導体)
のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸のエステル
類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類:二塩基酸
(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタコン酸
等)のビニルエステル類、アリルエステル類、ビニルア
ミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例えばエチレ
ンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1,4−ブ
チレンジアミン等)とビニル基を含有するカルボン酸
(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、ア
リル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
Specific examples of the monomer having two or more polymerizable functional groups include, as monomers or oligomers having the same polymerizable functional group, styrene derivatives such as divinylbenzene and trivinylbenzene; Alcohol (eg, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, polyethylene glycol # 20)
0, $ 400, $ 600, 1,3-butylene glycol, neopentyl glycol, dipropylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, or the like, or polyhydroxyphenol (e.g., hydroquinone, resorcin, catechol) And their derivatives)
Methacrylic acid, acrylic acid or crotonic acid esters, vinyl ethers or allyl ethers: dibasic acids (eg, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, maleic acid, phthalic acid, itaconic acid, etc.) Vinyl esters, allyl esters, vinyl amides or allyl amides: polyamines (eg, ethylenediamine, 1,3-propylenediamine, 1,4-butylenediamine, etc.) and carboxylic acids containing vinyl groups (eg, methacrylic acid, acrylic Acid, crotonic acid, allyl acetic acid, etc.).

【0118】又、異なる重合性官能基を有する単量体あ
るいはオリゴマーとしては、例えば、ビニル基を含有す
るカルボン酸(例えばメタクリル酸、アクリル酸、メタ
クリロイル酢酸、アクリロイル酢酸、メタクリロイルプ
ロピオン酸、アルリロイルプロピオン酸、イタコニロイ
ル酢酸、イタコニロイルプロピオン酸、カルボン酸無水
物等)とアルコール又はアミンの反応体(例えばアリル
オキシカルボニルプロピオン酸、アリルオキシカルボニ
ル酢酸、2−アリルオキシカルボニル安息香酸、アリル
アミノカルボニルプロピオン酸等)等のビニル基を含有
したエステル誘導体又はアミド誘導体(例えばメタクリ
ル酸ビニル、アクリル酸ビニル、イタコン酸ビニル、メ
タクリル酸アリル、アクリル酸アリル、イタコン酸アリ
ル、メタクリロイル酢酸ビニル、メタクリロイルプロピ
オン酸ビニル、メタクリロイルプロピオン酸アリル、メ
タクリル酸ビニルオキシカルボニルメチルエステル、ア
クリル酸ビニルオキシカルボニルメチルオキシカルボニ
ルエチレンエステル、N−アリルアクリルアミド、N−
アリルメタクリルアミド、N−アリルイタコン酸アミ
ド、メタクリロイルプロピオン酸アリルアミド等)又は
アミノアルコール類(例えばアミノエタノール、1−ア
ミノプロパノール、1−アミノブタノール、1−アミノ
ヘキサノール、2−アミノブタノール等)とビニル基を
含有したカルボン酸との縮合体などが挙げられる。
Examples of the monomer or oligomer having a different polymerizable functional group include carboxylic acids having a vinyl group (eg, methacrylic acid, acrylic acid, methacryloyl acetic acid, acryloyl acetic acid, methacryloyl propionic acid, allyloyl) Reactants of propionic acid, itaconiloyl acetic acid, itaconiloyl propionic acid, carboxylic anhydride, etc. with alcohols or amines (eg, allyloxycarbonylpropionic acid, allyloxycarbonylacetic acid, 2-allyloxycarbonylbenzoic acid, allylaminocarbonylpropion) Ester derivative or amide derivative containing a vinyl group such as an acid or the like (eg, vinyl methacrylate, vinyl acrylate, vinyl itaconate, allyl methacrylate, allyl acrylate, allyl itaconate, methacryloy) Vinyl acetate, methacryloyl propionic acid vinyl, methacryloyl propionic acid allyl, vinyl methacrylate oxycarbonyl ester, vinyl acrylate oxycarbonyl methyloxycarbonyl ethylene ester, N- allyl acrylamide, N-
Allyl methacrylamide, N-allylitaconic acid amide, methacryloylpropionic acid allylamide, etc.) or amino alcohols (eg, aminoethanol, 1-aminopropanol, 1-aminobutanol, 1-aminohexanol, 2-aminobutanol, etc.) and vinyl group And a condensate with a carboxylic acid containing the same.

【0119】本発明に用いられる2個以上の重合性官能
基を有する単量体あるいはオリゴマーは、単量体(A)
及び(A)と共存する他の単量体との総量に対して10
モル%以下、好ましくは5モル%以下用いて重合し、樹
脂を形成する。
The monomer or oligomer having two or more polymerizable functional groups used in the present invention may be a monomer (A)
And 10% based on the total amount of other monomers coexisting with (A).
Polymerization is carried out using not more than 5 mol%, preferably not more than 5 mol% to form a resin.

【0120】更には、上記(c)の方法の高分子間の反
応性基同志の反応により化学結合を形成し高分子間の橋
架けを行う場合には、通常の有機低分子化合物の反応と
同様に行うことができる。具体的には、分散安定用樹脂
の合成法において記載したと同様の方法に従って合成す
ることができる。分散重合において、粒子の粒径が揃っ
た単分散性の粒子が得られること及び0.5μm 以下の
微小粒子が得られ易いこと等から、網目構造形成の方法
としては、多官能性単量体を用いる(b)の方法が好ま
しい。以上の如く、本発明の網目分散樹脂粒子は、保護
された極性基を含有する繰り返し単位と、該非水溶媒に
可溶性の重合体成分とを含有し、且つ分子鎖間が高次に
橋架けされた構造を有する重合体の粒子である。
Further, when a chemical bond is formed by a reaction between reactive groups between polymers in the above method (c) to form a bridge between the polymers, the reaction between the ordinary organic low-molecular compound and The same can be done. Specifically, it can be synthesized according to the same method as described in the synthesis method of the dispersion stabilizing resin. In dispersion polymerization, monodisperse particles having a uniform particle diameter are obtained, and fine particles of 0.5 μm or less are easily obtained. (B) is preferred. As described above, the network-dispersed resin particles of the present invention are protected.
A repeating unit containing a polar group, and contains a polymer component soluble in the nonaqueous solvent, and between molecular chains are particles of a polymer having a bridged structure in order.

【0121】非水溶媒系分散樹脂粒子の製造に用いられ
る非水溶媒としては、沸点200℃以下の有機溶媒であ
ればいずれでもよく、それは単独であるいは2種以上を
混合して使用してもよい。この有機溶媒の具体例は、メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、フ
ッ化アルコール、ベンジルアルコール等のアルコール
類、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ジエチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル
等のカルボン酸エステル類、ヘキサン、オクタン、デカ
ン、ドデカン、トリデカン、シクロヘキサン、シクロオ
クタン等の炭素数6〜14の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭
化水素類、メチレンクロリド、ジクロロエタン、テトラ
クロロエタン、クロロホルム、メチルクロロホルム、ジ
クロロプロパン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類等が挙げられる。ただし、以上述べた化合物例に
限定されるものではない。
The non-aqueous solvent used in the production of the non-aqueous solvent-based dispersed resin particles may be any organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower, and may be used alone or as a mixture of two or more. Good. Specific examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, fluorinated alcohol and benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ketones such as diethyl ketone, diethyl ether,
Ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; carboxylic esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and methyl propionate; and fats having 6 to 14 carbon atoms such as hexane, octane, decane, dodecane, tridecane, cyclohexane and cyclooctane. Group hydrocarbons, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene; and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, dichloroethane, tetrachloroethane, chloroform, methylchloroform, dichloropropane, and trichloroethane. However, the present invention is not limited to the compound examples described above.

【0122】これらの非水溶媒系で分散樹脂粒子を分散
重合法で合成することにより、樹脂粒子の平均粒子径は
容易に1μm 以下となり、しかも粒子径の分布が非常に
狭く且つ単分散の粒子とすることができる。具体的に
は、K. E. J. Barrett「 Dispersion Polymerization i
n Organic Media 」John Wiley(1975年)、村田耕
一郎、高分子加工、23、20(1974)、松本恒隆
・丹下豊吉、日本接着協会誌、183(1973)、
丹下豊吉、日本接着協会誌23、26(1987)、D.
J. Walbridge 、NATO. Adv. study. Inst. Ser. E. N
o. 67、40(1983)、英国特許第89342
9、同934038各号明細書、米国特許第11223
97、同3900412、同4606989各号明細
書、特開昭60−179751、同60−185963
各号公報等にその方法が開示されている。
By synthesizing the dispersed resin particles in these non-aqueous solvent systems by the dispersion polymerization method, the average particle diameter of the resin particles can be easily reduced to 1 μm or less, and the particle diameter distribution is very narrow and the monodispersed particles are dispersed. It can be. Specifically, KEJ Barrett "Dispersion Polymerization i
n Organic Media "John Wiley (1975), Koichiro Murata, Polymer Processing, 23 , 20 (1974), Tsunetaka Matsumoto and Toyoyoshi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 9 , 183 (1973),
Tokichi Tange, Journal of the Adhesion Society of Japan 23 , 26 (1987), D.
J. Walbridge, NATO. Adv. Study. Inst. Ser. E. N
o. 67, 40 (1983), UK Patent 89342
9, No. 934038, U.S. Pat. No. 11,223
97, 3900412, 46068989, JP-A-60-179751, 60-185963
The method is disclosed in each publication.

【0123】本発明の分散樹脂粒子は、単量体(A)と
分散安定用樹脂の少なくとも各々1種以上から成り、網
目構造を形成する場合には必要に応じて多官能性単量体
(D)を共存させて成り、いずれにしても重要な事は、
これら単量体から合成された樹脂が該非水溶媒に不溶で
あれば、所望の分散樹脂粒子を得ることができる。より
具体的には、不溶化する単量体(A)に対して分散安定
用樹脂を1〜50重量%使用することが好ましく、さら
に好ましくは2〜30重量%である。又本発明の分散樹
脂粒子の分子量は104 〜106 であり、好ましくは1
4 〜5×105 である。
The dispersion resin particles of the present invention comprise at least one of each of the monomer (A) and the dispersion stabilizing resin. When forming a network structure, a polyfunctional monomer ( D) coexist, and in any case the important thing is
If the resin synthesized from these monomers is insoluble in the non-aqueous solvent, desired dispersed resin particles can be obtained. More specifically, it is preferable to use 1 to 50% by weight, more preferably 2 to 30% by weight of the dispersion stabilizing resin based on the monomer (A) to be insolubilized. The molecular weight of the dispersed resin particles of the present invention is 10 4 to 10 6 , preferably 1 to 10.
0 4 to 5 × 10 5 .

【0124】以上の如き本発明で用いられる分散樹脂粒
子を製造するには、一般に、単量体(A),分散安定用
樹脂、更には、多官能性単量体(D)とを非水溶媒中で
過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル、ブチ
ルリチウム等の重合開始剤の存在下に加熱重合させれば
よい。具体的には、(i)単量体(A),分散安定用樹
脂及び多官能性単量体(D)の混合溶液中に重合開始剤
を添加する方法、(ii)非水溶媒中に、上記重合性化合
物及び重合開始剤の混合物を滴下又は任意に添加する方
法等があり、これらに限定されずいかなる方法を用いて
も製造することができる。
In order to produce the dispersed resin particles used in the present invention as described above, generally, the monomer (A), the dispersion stabilizing resin, and the polyfunctional monomer (D) are mixed with a non-aqueous solution. What is necessary is just to heat-polymerize in a solvent in presence of a polymerization initiator, such as benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, and butyllithium. Specifically, (i) a method of adding a polymerization initiator to a mixed solution of a monomer (A), a dispersion stabilizing resin and a polyfunctional monomer (D), and (ii) a method of adding a polymerization initiator to a non-aqueous solvent. And a method in which a mixture of the above-mentioned polymerizable compound and polymerization initiator is added dropwise or arbitrarily, and the like.

【0125】重合性化合物の総量は非水溶媒100重量
部に対して5〜80重量部程度であり、好ましくは10
〜50重量部である。重合開始剤の量は、重合性化合物
の総量の0.1〜5重量%である。又、重合温度は30
〜180℃程度であり、好ましくは40〜120℃であ
る。反応時間は1〜15時間が好ましい。
The total amount of the polymerizable compound is about 5 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the non-aqueous solvent, preferably 10 to 80 parts by weight.
5050 parts by weight. The amount of the polymerization initiator is 0.1 to 5% by weight based on the total amount of the polymerizable compound. The polymerization temperature is 30
To 180 ° C, preferably 40 to 120 ° C. The reaction time is preferably 1 to 15 hours.

【0126】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子とな
る。
The non-aqueous dispersion resin produced according to the present invention as described above becomes fine particles having a uniform particle size distribution.

【0127】本発明に使用する無機光導電材料は、光導
電性酸化亜鉛である。さらに他の無機光導電体として酸
化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、、セレン化テ
ルル、硫化鉛、等を併用してもよい。しかし、これら他
の光導電材料は、光導電性酸化亜鉛の40重量%以下で
あり、好ましくは20重量%以下である。他の光導電材
料が40重量%を越えると、平版印刷用原版としての非
画像部の親水性向上の効果が薄れてしまう。
The inorganic photoconductive material used in the present invention is photoconductive zinc oxide. Further, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, or the like may be used in combination as another inorganic photoconductor. However, these other photoconductive materials comprise up to 40% by weight of the photoconductive zinc oxide, preferably up to 20% by weight. If the amount of the other photoconductive material exceeds 40% by weight, the effect of improving the hydrophilicity of the non-image area as a lithographic printing original plate is diminished.

【0128】無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の
総量は、光導電体100重量部に対して、結着樹脂を1
0〜100重量部なる割合、好ましくは15〜50重量
部なる割合で使用する。
The total amount of the binder resin used for the inorganic photoconductive material was such that 1 part of the binder resin was used for 100 parts by weight of the photoconductor.
It is used in a proportion of 0 to 100 parts by weight, preferably in a proportion of 15 to 50 parts by weight.

【0129】本発明では、各種の色素を分光増感剤とし
て単独もしくは組合せて適宜用いる。例えば、宮本晴
視,武井秀彦:イメージング1973(No.8)第12
頁、C.J.Young 等,RCA Review 15,469(195
4年)、清田航平等:電気通信学会論文誌 J63−C
(No.2),97頁(1980年)、原崎勇次等、工業化
学雑誌 66,78及び188頁(1963年)、谷忠
昭,日本写真学会誌 35、208頁(1972年)等
の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色
素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタ
レイン系色素、ポリメチン色素(例えばオキソノール色
素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダシアニン色
素、スチリル色素等) 、フタロシアニン色素( 金属を含
有してもよい)等が挙げられる。
In the present invention, various dyes are appropriately used alone or in combination as spectral sensitizers. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei: Imaging 1973 (No. 8) No. 12
RCA Review 15 , 469 (195)
4), Kohei Kiyota: IEICE Transactions J63-C
(No. 2), p. 97 (1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Magazine 66 , 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Photographic Society of Japan 35 , p. 208 (1972), etc. Carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes, xanthene dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (e.g. oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (including metals) And the like).

【0130】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、フタレイ
ン系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−4
52、特開昭50−90334、同50−11422
7、同53−39130、同53−82353各号公
報、米国特許第3,052,540、同第4,054,450各
号明細書、特開昭57−16456号公報等に記載のも
のが挙げられる。
More specifically, examples of those mainly using a carbonium-based dye, a triphenylmethane-based dye, a xanthene-based dye, and a phthalein-based dye include JP-B-51-4.
52, JP-A-50-90334 and 50-11422
7, 53-39130, 53-82353, U.S. Pat. Nos. 3,052,540, 4,054,450, and JP-A-57-16456. No.

【0131】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F. M. Harmmer 「 The Cyanine Dyesand Rela
tedCompounds 」等に記載の色素類が使用可能であり、
更に具体的には、米国特許第3047384、同311
0591、同3121008、同3125447、同3
128179、同3132942、同3622,317
各号明細書、英国特許第1226892、同13092
74、同1405898各号明細書、特公昭48−78
14、同55−18892各号公報等に記載の色素が挙
げられる。
Examples of polymethine dyes such as oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, and rhodacyanine dyes include FM Harmmer “The Cyanine Dyesand Relais”.
tedCompounds '' etc. can be used,
More specifically, US Pat.
0591, 312008, 312547, 3
128179, 3132942, 3622,317
Each specification, British Patent Nos. 1226892 and 13092
74, 1405898, JP-B-48-78
14, 55-18892, and the like.

【0132】更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840、同47−44180、特公昭51−410
61、特開昭49−5034、同49−45122、同
57−46245、同56−35141、同57−15
7254、同61−26044、同61−27551各
号公報、米国特許第3619154、同4175956
各号明細書、「 Research Disclosure
」1982年,216,第117〜118頁等に記載
のものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素
を併用させても、その性能が増感色素により変動しにく
い点においても優れている。
Further, as a polymethine dye for spectrally sensitizing the near-infrared to infrared light region having a long wavelength of 700 nm or more, JP-A No.
7-840, 47-44180, JP-B-51-410
61, JP-A-49-5034, JP-A-49-45122, JP-A-57-46245, JP-A-56-35141, and JP-A-57-15-15
Nos. 7254, 61-26044 and 61-27551, U.S. Pat. Nos. 3,619,154 and 4,175,956.
Each specification, "Research Disclosure
1982, 216, pp. 117-118 and the like. The photoreceptor of the present invention is also excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dye.

【0133】更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説:イメージング
973(No. 8)第12頁等の総説引例の電子受容性化
合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、
酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光
導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:日
本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引例のポ
リアリールアルカン化合物、ヒンダートフェノール化合
物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
Further, if necessary, various conventionally known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer can be used in combination. For example, the review mentioned above : Imaging 1
973 (No. 8), page 12, etc., as electron-accepting compounds (for example, halogen, benzoquinone, chloranil,
Acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., "Recent development and commercialization of photoconductive materials and photoconductors", Chapters 4 to 6: Japan Science Information Publishing Co., Ltd. (1986) Polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, p-phenylenediamine compounds, and the like described in the above-cited references.

【0134】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
01〜2.0重量部である。
The amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.00.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoconductor.
01 to 2.0 parts by weight.

【0135】光導電層の厚さは1〜100μ、特に10
〜50μが好適である。
The thickness of the photoconductive layer is 1 to 100 μm, especially 10 μm.
~ 50μ is preferred.

【0136】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは0.01〜1μ、特には0.05〜0.
5μが好適である。
When a photoconductive layer is used as the charge generation layer of the photoreceptor having the charge generation layer and the charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1 μm, particularly 0.05 to 0 μm. .
5μ is preferred.

【0137】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては、
代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酸ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン
樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
Examples of the charge transporting material for the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes. The thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 μm, particularly preferably 10 to 30 μm. As the resin used for forming the charge transport layer,
Typical ones are polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-co-copolymer resin, polyacryl resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy Resins, melamine resins, thermoplastic resins such as silicone resins, and curable resins are appropriately used.

【0138】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1層以上のプレ
コート層を設けたもの、Al等を蒸着した基体導電化プ
ラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男,電子写真、14、(No. 1)、p2〜11
(1975)、森賀弘之,「入門特殊紙の化学」高分子
刊行会(1975)、M. F. Hoover, J. Macromol. Sc
i. Chem. A−4(6),第1327〜1417頁(1
970)等に記載されているもの等を用いる。
The photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support. Generally, the support of the electrophotographic photosensitive layer is preferably conductive. As the conductive support, a base material such as a metal, paper, or a plastic sheet is impregnated with a low-resistance substance in the same manner as in the related art. A substrate that has been subjected to a conductive treatment, for example, by applying a conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided), and further has at least one layer coated for the purpose of preventing curling,
A substrate provided with a water-resistant adhesive layer on the surface of the support, a substrate provided with at least one or more pre-coat layers as necessary on the surface layer of the support, or a substrate conductive plastic on which Al or the like is deposited on paper. Laminated ones can be used.
Specifically, as an example of a conductive substrate or a conductive material,
Yukio Sakamoto, Electrophotography, 14, (No. 1), pp. 2-11
(1975), Hiroyuki Moriga, "Introduction to Special Paper Chemistry", Polymer Publishing Association (1975), MF Hoover, J. Macromol. Sc
i. Chem. A-4 (6), pp. 1327-1417 (1
970).

【0139】本発明の電子写真印刷用原版を用いた印刷
物の作成は、上記した構成から成る電子写真用原版に常
法により複写画像を形成後、非画像部を不感脂化処理す
ることで作成される。本発明に供される不感脂化処理
は、本発明の樹脂粒子を、処理液を通すことで加水分解
する方法、レドックス反応で分解する方法あるいは光照
射処理して分解する方法等によりチオール基、ホスホノ
基、アミノ基又はスルホ基を生成する方法あるいは樹脂
粒子の親水化処理とともに酸化亜鉛を不感脂化処理液で
不感脂化するという方法が挙げられる。後者の場合は、
酸化亜鉛粒子と樹脂粒子とを同時に不感脂化反応を行
う、酸化亜鉛粒子を不感脂化後樹脂粒子の分解処理を
行う、樹脂粒子を分解処理後酸化亜鉛粒子の不感脂化
反応を行う等いずれかの手順でも行うことができる。
The printed matter using the electrophotographic printing master of the present invention is prepared by forming a copy image on the electrophotographic master having the above-described structure by a conventional method, and then subjecting the non-image portion to desensitization processing. Is done. Desensitizing to be used in the present invention, the resin particles of the present invention, a method of hydrolyzing by passing a treatment liquid, a thiol group by decomposing the like by methods or light irradiation treatment degrades in a redox reaction, Phosphono
A method of generating a group, an amino group or a sulfo group , or a method of desensitizing zinc oxide with a desensitizing solution together with a hydrophilic treatment of resin particles. In the latter case,
Perform desensitization reaction of zinc oxide particles and resin particles simultaneously, decompose resin particles after desensitizing zinc oxide particles, perform desensitization reaction of zinc oxide particles after decomposing resin particles, etc. This procedure can also be used.

【0140】酸化亜鉛の不感脂化方法としては、従来公
知の処理液のいずれをも用いることができる。例えば、
フェロシアン系化合物を不感脂化の主剤として用いた、
特開昭61−239158、同62−292492、同
63−99993、同63−9994、特公昭40−7
334、同45−33683、特開昭57−10788
9、特公昭46−21244、同44−9045、同4
7−32681、同55−9315、特開昭52−10
1102各号公報等が挙げられる。しかし、該処理液の
安全性の点から以下の処理液が好ましい。例えば、フィ
チン酸系化合物を主剤として用いた、特公昭43−28
408、同45−24609、特開昭51−10350
1、同54−10003号、同53−83805、同5
3−83806、同53−127002、同54−44
901、同56−2189、同57−2796、同57
−20394、同59−207290各号公報に記載の
もの、金属キレート形成可能な水溶性ポリマーを主剤と
して用いた、特公昭38−9665、同39−2226
3、同40−763、同43−28404、同47−2
9642、特開昭52−126302、同52−134
501、同53−49506、同53−59502、同
53−104302各号公報等に記載のもの、金属錯体
系化合物を主剤として用いた、特開昭53−10430
1、特公昭55−15313、同54−41924各号
公報等に記載のもの、あるいは無機及び有機酸系化合物
を主剤として用いた、特公昭39−13702、同40
−10308、同46−26124、特開昭51−11
8501、同56−111695各号公報等に記載され
たもの等が挙げられる。
As the method for desensitizing zinc oxide, any of conventionally known treatment solutions can be used. For example,
Using a ferrocyanide compound as the main agent of desensitization,
JP-A-61-239158, JP-A-62-292492, JP-A-63-99993, JP-A-63-9994, JP-B-40-7
334, 45-33683, JP-A-57-10788
9. JP-B 46-21244, 44-9045, 4
7-32681, 55-9315, JP-A-52-10
No. 1102, and the like. However, the following treatment liquids are preferred from the viewpoint of the safety of the treatment liquid. For example, JP-B-43-28 using a phytic acid-based compound as a main ingredient
408, 45-24609, JP-A-51-10350
1, 54-10003, 53-83805, 5
3-83806, 53-127002, 54-44
901, 56-2189, 57-2796, 57
JP-B-38-9656 and JP-B-39-2226, each using a water-soluble polymer capable of forming a metal chelate as described in JP-B-20394 and JP-B59-207290.
3, 40-763, 43-28404, 47-2
9642, JP-A-52-126302 and JP-A-52-134.
Nos. 501, 53-49506, 53-59502 and 53-104302, and JP-A-53-10430 using a metal complex compound as a main agent.
1, JP-B-55-15313 and JP-B-54-41924, or JP-B-39-13702, JP-B-40-13, using inorganic and organic acid compounds as main agents.
-10308, 46-26124, JP-A-51-11
8501, 56-1111695, and the like.

【0141】樹脂粒子の不感脂化方法即ち、保護された
本発明の特定の官能基を分解する方法としては、その1
つとして保護された本発明の特定の官能基の分解反応性
により任意に選択される。pH1〜6の酸性条件、pH
8〜12のアルカリ性条件の水溶液で加水分解する方法
が挙げられる。これらのpH調整は、公知の化合物によ
って、容易に行うことができる。あるいは還元性又は酸
化性の水溶性化合物によるレドックス反応による方法も
可能であり、これらの化合物としては公知の化合物を用
いることができ、例えば包水ヒドラジン、亜硫酸塩、リ
ポ酸、ハイドロキノン類、ギ酸、チオ硫酸塩、過酸化水
素、過硫酸塩、キノン類等が挙げられる。
The method for desensitizing resin particles, that is, the method for decomposing the protected specific functional group of the present invention, is as follows.
It is arbitrarily selected according to the decomposition reactivity of the protected specific functional group of the present invention. acidic conditions of pH 1-6, pH
Hydrolysis with an aqueous solution under alkaline conditions of 8 to 12 may be mentioned. These pH adjustments can be easily performed using known compounds. Alternatively, a method based on a redox reaction with a reducing or oxidizing water-soluble compound is also possible, and as these compounds, known compounds can be used, for example, hydrous hydrazine, sulfite, lipoic acid, hydroquinones, formic acid, Thiosulfate, hydrogen peroxide, persulfate, quinones and the like.

【0142】該処理液は、反応促進あるいは処理液の保
存安定性を改良するために他の化合物を含有してもよ
い。例えば、水に可溶性の有機溶媒を水100重量部中
に1〜50重量部含有してもよい。このような水に可溶
性の有機溶媒としては、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、プロパギルアルコー
ル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等)、
ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェ
ノン等)、エーテル類(ジオキサン、トリオキサン、テ
トラヒドロフラン、エチレングリコール、プロピレング
リコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロ
ピラン等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エ
チル、ギ酸エチル等)等が挙げられ、これらは単独又は
2種以上を混合して用いてもよい。
The treatment liquid may contain another compound for accelerating the reaction or improving the storage stability of the treatment liquid. For example, 1 to 50 parts by weight of an organic solvent soluble in water may be contained in 100 parts by weight of water. Examples of such water-soluble organic solvents include alcohols (methanol, ethanol, propanol, propargyl alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol, etc.),
Ketones (acetone, methyl ethyl ketone, acetophenone, etc.), ethers (dioxane, trioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol, propylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydropyran, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.) ), Esters (methyl acetate, ethyl acetate, ethyl formate, etc.) and the like, and these may be used alone or in combination of two or more.

【0143】また、界面活性剤を水100重量部中に
0.1〜20重量部含有してもよい。界面活性剤として
は、従来公知のアニオン性、カチオン性あるいはノニオ
ン性の各界面活性剤が挙げられる。例えば、堀口博「新
界面活性剤」三共出版(株)、(1975年刊)、小田
良平、寺村一広「界面活性剤の合成とその応用」槇書店
(1980年刊)等に記載される化合物を用いることが
できる。
Further, 0.1 to 20 parts by weight of a surfactant may be contained in 100 parts by weight of water. Examples of the surfactant include conventionally known anionic, cationic or nonionic surfactants. For example, compounds described in Hiroshi Horiguchi “New Surfactant” Sankyo Publishing Co., Ltd. (1975), Ryohei Oda, Kazuhiro Teramura “Synthesis of Surfactant and Its Application” Maki Shoten (1980) Can be used.

【0144】本発明の範囲は、上記した具体的化合物例
に限定されるものではない。処理の条件は、温度15〜
60℃で浸漬時間は10秒〜5分間が好ましい。更に
は、特定の官能基を光照射で分解する方法としては、製
版におけるトナー画像を得た後のいずれかの間で「化学
的活性光線」で光照射する行程を入れる様にすればよ
い。即ち、電子写真現像後、トナー画像の定着時に定着
を兼ねて光照射を行ってもよいし、或いは従来公知の他
の定着法、例えば加熱定着、圧力定着、溶剤定着などに
より定着した後、光照射を行うものである。本発明に用
いられる「化学的活性光線」としては、可視光線、紫外
線、遠紫外線、電子線、X線、γ線、α線などいずれで
もよいが、好ましくは紫外線が挙げられる。より好まし
くは波長310nmから波長500nmの範囲での光線を発
しうるものが好ましく、一般には高圧あるいは超高圧の
水銀ランプ等が用いられる。光照射の処理は通常5cm〜
50cmの距離から10秒〜10分間の照射で充分に行う
ことができる。
The scope of the present invention is not limited to the specific compound examples described above. The processing conditions are temperature 15 ~
The immersion time at 60 ° C. is preferably 10 seconds to 5 minutes. Further, as a method of decomposing a specific functional group by light irradiation, a step of irradiating light with "chemically active light" may be inserted between any of the steps after obtaining a toner image in plate making. That is, after the electrophotographic development, light irradiation may be performed also to fix the toner image at the time of fixing, or after fixing by other conventionally known fixing methods, for example, heat fixing, pressure fixing, solvent fixing, etc. Irradiation is performed. The “chemically active light” used in the present invention may be any of visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, γ-ray, α-ray, etc., and preferably includes ultraviolet light. More preferably, it can emit light in the wavelength range of 310 nm to 500 nm, and generally a high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamp or the like is used. Light irradiation treatment is usually 5cm ~
Irradiation for 10 seconds to 10 minutes from a distance of 50 cm can be performed sufficiently.

【0145】[0145]

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 結着樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 ベンジルメタクリレート95g、アクリル酸5g及びト
ルエン200gの混合溶液を窒素気流下90℃の温度に
加温した後、A.I.B.N. 6.0gを加え4時間反応させ
た。更にA.I.B.N. 2gを加え2時間反応させた。得ら
れた共重合体〔A−1〕のMwは8500であった。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the content of the present invention is not limited to these examples. Synthesis Example 1 of Binder Resin [A]: [A-1] A mixed solution of 95 g of benzyl methacrylate, 5 g of acrylic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 90 ° C. under a stream of nitrogen, and 6.0 g of AIBN was added. Allowed to react for hours. Further, 2 g of AIBN was added and reacted for 2 hours. Mw of the obtained copolymer [A-1] was 8,500.

【0146】結着樹脂〔A〕の合成例2〜28:〔A−
2〕〜〔A−28〕 樹脂〔A〕の合成例1の重合条件と同様に操作して下記
表−2の各樹脂〔A−2〕〜〔A−28〕を合成した。
Synthesis Examples 2 to 28 of Binder Resin [A]: [A-
2] to [A-28] Resins [A-2] to [A-28] in Table 2 below were synthesized in the same manner as in the polymerization conditions of Synthesis Example 1 for Resin [A].

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【表5】 [Table 5]

【表6】 [Table 6]

【0147】結着樹脂〔A〕の合成例29:〔A−2
9〕 2,6−ジクロロフェニルメタクリレート95g、アク
リル酸5g、n−ドデシルメルカプタン2g及びトルエ
ン200gの混合溶液を窒素気流下80℃の温度に加温
した後、A.I.B.N. 2gを加え4時間反応し、次にA.I.
B.N. 0.5gを加え2時間、更にA.I.B.N. 0.5g
を加え3時間反応した。冷却後、メタノール/水(9/
1)の混合溶液2l中に再沈し、沈澱物をデカンテーシ
ョンで集し、減圧乾燥した。得られたワックス状の共
重合体の収量は78gで、Mwは6.3×103 であっ
た。
Synthesis Example 29 of Binder Resin [A]: [A-2]
9] A mixed solution of 95 g of 2,6-dichlorophenyl methacrylate, 5 g of acrylic acid, 2 g of n-dodecylmercaptan and 200 g of toluene was heated to a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream, and 2 g of AIBN was added and reacted for 4 hours. AI
Add 0.5 g of BN and 2 hours, then 0.5 g of AIBN
And reacted for 3 hours. After cooling, methanol / water (9 /
Was reprecipitated in a mixed solution of 2l of 1), the precipitate was collecting capturing by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained waxy copolymer was 78 g, and Mw was 6.3 × 10 3 .

【0148】分散安定用樹脂の製造例1:〔P−1〕 ドデシルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレ
ート3g及びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流
下攪拌しながら、温度75℃に加温した。2,2′−ア
ゾビスイソブチロニトリル(略称A.I.B.N.)1.0gを
加え4時間攪拌し、更にA.I.B.N. 0.5gを加え4時
間攪拌した。次に、この反応混合物にメタアクリル酸5
g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.0g、t−ブ
チルハイドロキノン0.5gを加え、温度110℃に
て、8時間攪拌した。冷却後、メタノール2l中に再沈
し、やや褐色気味の油状物を集後、乾燥した。収量7
3gで重量平均分子量(Mw)3.6×104 であっ
た。 〔P−1〕
Production Example 1 of Dispersion Stabilizing Resin [P-1] A mixed solution of 97 g of dodecyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate and 200 g of toluene was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviation: AIBN) was added and stirred for 4 hours, and 0.5 g of AIBN was further added and stirred for 4 hours. Next, methacrylic acid 5 was added to the reaction mixture.
g, N, N-dimethyldodecylamine (1.0 g) and t-butylhydroquinone (0.5 g) were added, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 8 hours. After cooling, it was reprecipitated in methanol 2l, after slightly collector capturing a brown oil Pounds, and dried. Yield 7
The weight average molecular weight (Mw) of 3 g was 3.6 × 10 4 . [P-1]

【化265】 Embedded image

【0149】分散安定用樹脂の製造例2:〔P−2〕 2−エチルヘキシルメタクリレート100g、トルエン
150g及びイソプロパノール50gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度75℃に加温した。2,2′
−アゾビス(4−シアノ吉草酸)(略称A.C.V.) を2g
加え4時間反応し、更にA.C.V. 0.8gを加えて4時
間反応した。冷却後、メタノール2l中に再沈し、油状
物を集し乾燥した。
Production Example 2 of Dispersion Stabilizing Resin: [P-2] A mixed solution of 100 g of 2-ethylhexyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropanol was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2 '
2 g of -azobis (4-cyanovaleric acid) (abbreviation: ACV)
The mixture was reacted for 4 hours, and 0.8 g of ACV was further added and reacted for 4 hours. After cooling, it was reprecipitated in methanol 2l, and then collecting capturing an oil drying.

【0150】得られた油状物50g、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート6g、テトラヒドロフラン150g
の混合物を溶解し、これにジシクロヘキシルカルボンジ
イミド(D.C.C.) 8g、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混合溶
液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時間攪
拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時間攪
拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタノー
ル1リットル中に再沈し油状物を濾集した。更に、この
油状物をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不溶物
を濾別後再びメタノール1リットル中に再沈し、油状物
集し乾燥した。収量32gでMw 4.2×104
であった。 〔P−2〕
50 g of the obtained oil, 6 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 150 g of tetrahydrofuran
And a mixed solution of 8 g of dicyclohexylcarbondiimide (DCC), 0.2 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride was added dropwise at a temperature of 25 to 30 ° C. Stirred for hours. Next, 5 g of formic acid was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the oily substance was collected by filtration. Further, the oil was dissolved in tetrahydrofuran 200 g, and reprecipitated again one liter of methanol The insoluble material was filtered off, and was then current capturing an oil drying. Mw 4.2 × 10 4 with a yield of 32 g
Met. [P-2]

【化266】 Embedded image

【0151】分散安定用樹脂の製造例3:〔P−3〕 ブチルメタクリレート96g、チオグリコール酸4g及
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度70℃に加温した。A.I.B.N.を1.0gを加
え8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシジルメタ
クリレート8g、N,N−ジメチルドデシルアミン1.
0g及びt−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、温
度100℃にて、12時間攪拌した。冷却後この反応溶
液をメタノール2l中に再沈し、油状物を82g得た。
重合体の数平均分子量は5600であった。 〔P−3〕
Production Example 3 of Dispersion Stabilizing Resin: [P-3] A mixed solution of 96 g of butyl methacrylate, 4 g of thioglycolic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 1.0 g of AIBN was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate and N, N-dimethyldodecylamine were added to the reaction solution.
0 g and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added, and the mixture was stirred at a temperature of 100 ° C. for 12 hours. After cooling, the reaction solution was reprecipitated in 2 l of methanol to obtain 82 g of an oily substance.
The number average molecular weight of the polymer was 5,600. [P-3]

【化267】 Embedded image

【0152】分散安定用樹脂の製造例4:〔P−4〕 n−ブチルメタクリレート107g、β−メルカプトプ
ロピオン酸4g及びトルエン200gの混合溶液を、窒
素気流下攪拌しながら温度70℃に加温した。これにA.
I.B.N. 1gを加え6時間反応させた。この反応混合物
を冷却し、温度25℃に設定した後、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート10g及びジカルボキシルカルボン
ジイミド(D.C.C.) 8g、4−(N,N−ジメチルアミ
ノ)ピリジン0.2g及び塩化メチレン20gの混合溶
液を温度25〜30℃で滴下し、更にそのまま4時間攪
拌した。次にこの反応混合物にギ酸5gを加え1時間攪
拌した。析出した不溶物を濾別した後、濾液をメタノー
ル1リットル中に再沈し油状物を濾集した。更に、この
油状物をテトラヒドロフラン200gに溶解し、不溶物
を濾別後再びメタノール2リットル中に再沈し、油状物
を補集し乾燥した。収量68gでMw 6.6×103
であった。 〔P−4〕
Production Example 4 of dispersion stabilizing resin: [P-4] A mixed solution of 107 g of n-butyl methacrylate, 4 g of β-mercaptopropionic acid and 200 g of toluene was heated to a temperature of 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. did. A.
1 g of IBN was added and reacted for 6 hours. After cooling the reaction mixture and setting the temperature at 25 ° C., 10 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 8 g of dicarboxylcarboxylic diimide (DCC), 0.2 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 20 g of methylene chloride were added. The mixed solution was added dropwise at a temperature of 25 to 30 ° C., and the mixture was further stirred for 4 hours. Next, 5 g of formic acid was added to the reaction mixture, and the mixture was stirred for 1 hour. After filtering out the precipitated insoluble matter, the filtrate was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the oily substance was collected by filtration. Further, this oily substance was dissolved in 200 g of tetrahydrofuran, and the insoluble substance was separated by filtration and then reprecipitated again in 2 liters of methanol. The oily substance was collected and dried. Mw 6.6 × 10 3 with a yield of 68 g.
Met. [P-4]

【化268】 Embedded image

【0153】分散安定用樹脂の製造例5〜12:〔P−
5〕〜〔P−12〕製造例4において、n−ブチルメタ
クリレート100gの代わりに下記表−3に相当する単
量体群に代えた他は、製造例4と同様にして各樹脂を製
造した。各樹脂のMwは5.5×103 〜7×103
範囲であった。
Production Examples of Dispersion Stabilizing Resins 5 to 12: [P-
5] to [P-12] In Production Example 4, each resin was produced in the same manner as in Production Example 4, except that 100 g of n-butyl methacrylate was replaced with a monomer group corresponding to Table 3 below. . Mw of each resin was in the range of 5.5 × 10 3 to 7 × 10 3 .

【表7】 [Table 7]

【0154】分散安定用樹脂の製造例13〜16:〔P
−13〕〜〔P−16〕 製造例4において、2−ヒドロキシメタクリレートの代
わりに下記の表−4に相当する化合物を用いた他は、製
造例4と同様に操作して各樹脂を製造した。各樹脂のM
wは6×103 〜7×103 の範囲であった。
Production Examples of Resin for Stabilizing Dispersion 13 to 16: [P
-13] to [P-16] In Production Example 4, each resin was produced in the same manner as in Production Example 4 except that compounds corresponding to Table 4 below were used instead of 2-hydroxymethacrylate. . M of each resin
w was in the range of 6 × 10 3 to 7 × 10 3 .

【表8】 [Table 8]

【0155】分散安定用樹脂の製造例17:〔P−1
7〕 オクチルメタクリレート97g、グリシジルメタクリレ
ート3g及びベンゾトリフルオリド200gの混合溶液
を、窒素気流下攪拌しながら、温度75℃に加温した。
A.I.B.N. 1.0gを加え4時間反応させた。更にA.I.
B.N. 0.5gを加え4時間反応した。次にこの反応混
合物に、メタクリル酸5g、N,N−ジメチルドデシル
アミン1.0g、t−ブチルハイドロキノン0.5gを
加え、温度110℃にて8時間攪拌した。冷却後メタノ
ール2リットル中に再沈し、やや褐色気味の油状物を
集後、乾燥した。収量73gで重量平均分子量(Mw)
3.6×104 であった。 〔P−17〕
Production Example 17 of dispersion stabilizing resin: [P-1
7] A mixed solution of 97 g of octyl methacrylate, 3 g of glycidyl methacrylate and 200 g of benzotrifluoride was heated to a temperature of 75 ° C. while stirring under a nitrogen stream.
1.0 g of AIBN was added and reacted for 4 hours. Further AI
0.5 g of BN was added and reacted for 4 hours. Next, 5 g of methacrylic acid, 1.0 g of N, N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to the reaction mixture, and the mixture was stirred at 110 ° C. for 8 hours. Reprecipitated in methanol in a 2 liter After cooling, after <br/> current slightly capturing a brown oil Pounds, and dried. Weight average molecular weight (Mw) with a yield of 73 g
It was 3.6 × 10 4 . [P-17]

【化269】 Embedded image

【0156】分散安定用樹脂の製造例18:〔P−1
8〕 ブチルメタクリレート85g、グリシジルメタクリレー
ト15g、2−メルカプトエタノール2g及びテトラヒ
ドロフラン300gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度60℃に加温した。これに2,2′−アゾビ
ス(イソバレロニトリル)(略称:A.I.V.N.)0.8g
を加え4時間反応し、更にA.I.V.N. 0.4gを加えて
4時間反応した。この反応物を温度25℃に冷却した
後、メタクリル酸4gを加え、攪拌下にD.C.C. 6g、
4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジン0.1g及び
塩化メチレン15gの混合溶液を1時間で滴下し、その
まま更に3時間攪拌した。次に水10gを加え、1時間
攪拌し析出した不溶物を濾別後、濾液をメタノール1リ
ットル中に再沈し油状物を集した。更にこの油状物を
ベンゼン150gに溶解し、不溶物を濾別後再びメタノ
ール1リットル中に再沈し油状物を集し乾燥した。収
量は56gでMw 8×103 であった。 〔P−18〕
Production Example 18 of dispersion stabilizing resin: [P-1
8] A mixed solution of 85 g of butyl methacrylate, 15 g of glycidyl methacrylate, 2 g of 2-mercaptoethanol and 300 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 0.8 g of 2,2'-azobis (isovaleronitrile) (abbreviation: AIVN)
Was added, and the mixture was reacted for 4 hours. Then, 0.4 g of AIVN was further added and reacted for 4 hours. After the reaction was cooled to a temperature of 25 ° C., 4 g of methacrylic acid was added, and 6 g of DCC was added with stirring.
A mixed solution of 0.1 g of 4- (N, N-dimethylamino) pyridine and 15 g of methylene chloride was added dropwise over 1 hour, and the mixture was further stirred for 3 hours. Then water 10g was added, the insoluble material was filtered off which was stirred for 1 hour to precipitate, the filtrate was collecting capturing the reprecipitated with oil in 1 liter of methanol. Further, this oil was dissolved in benzene 150 g, was then current capturing the reprecipitated with oil dried insolubles filtered off again after 1 liter of methanol to. The yield was 56 g and the Mw was 8 × 10 3 . [P-18]

【化270】 Embedded image

【0157】分散安定用樹脂の製造例19〜25:〔P
−19〕〜〔P−25〕製造例18に示した様な反応を
行うことで下記の表−5の分散安定用樹脂を各々合成し
た。各樹脂のMwは6×103 〜9×103 の範囲であ
った。
Production Examples of Dispersion Stabilizing Resins 19 to 25: [P
-19] to [P-25] By performing the reaction as shown in Production Example 18, the following dispersion-stabilizing resins in Table 5 were synthesized. The Mw of each resin ranged from 6 × 10 3 to 9 × 10 3 .

【表9】 [Table 9]

【表10】 [Table 10]

【0158】樹脂粒子の製造例1:〔L−1〕 分散安定用樹脂〔P−18〕10g及びメチルエチルケ
トン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度
60℃に加温した。これに、下記単量体〔A−1〕40
g、エチレングリコールジメタクリレート10g、A.I.
V.N. 0.5g及びメチルエチルケトン240gの混合
溶液を2時間で滴下し、そのまま2時間反応した。更に
A.I.V.N. 0.5gを加え2時間反応した。冷却後、2
00メッシュのナイロン布を通して白色分散物を得た。
平均粒子径0.20μm のラテックスであった。(CA
PA−500 堀場製作所(株)製で粒径測定)。 単量体〔A−1〕
Production Example 1 of Resin Particles: [L-1] A mixed solution of 10 g of dispersion stabilizing resin [P- 18 ] and 200 g of methyl ethyl ketone was heated to a temperature of 60 ° C. while stirring under a nitrogen stream. To this, the following monomer [A-1] 40
g, ethylene glycol dimethacrylate 10 g, AI
A mixed solution of 0.5 g of VN and 240 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the mixture was reacted for 2 hours. Further
0.5 g of AIVN was added and reacted for 2 hours. After cooling, 2
A white dispersion was obtained through a 00 mesh nylon cloth.
The latex had an average particle size of 0.20 μm. (CA
PA-500, manufactured by HORIBA, Ltd., particle size measurement). Monomer [A-1]

【化271】 Embedded image

【0159】樹脂粒子の製造例2〜12:〔L−2〕〜
〔L−12〕 樹脂粒子の製造例1において、樹脂〔P−18〕及び単
量体〔A−1〕の代わりに下記表−6の各化合物に代え
た他は、製造例1と同様にして樹脂粒子を製造した。各
粒子の平均粒径は0.15〜0.30μm の範囲内であ
った。
Production Examples 2-12 of Resin Particles: [L-2]-
[L-12] In the same manner as in Production Example 1 except that the compounds of Production Example 1 of the resin particles were replaced with the compounds shown in Table 6 below in place of the resin [P-18] and the monomer [A-1], respectively. To produce resin particles. The average particle size of each particle was in the range of 0.15 to 0.30 μm.

【表11】 [Table 11]

【表12】 [Table 12]

【0160】樹脂粒子の製造例13〜23:〔L−1
3〕〜〔L−23〕 樹脂粒子の製造例1において、エチレングリコールジメ
タクリレートに代えて、下記表−7の多官能性化合物を
用いた他は製造例1と同様にして樹脂粒子〔L−13〕
〜〔L−23〕を製造した。各粒子とも重合率は95〜
98%で平均粒径は0.15〜0.25μm であった。
Production Examples of Resin Particles 13 to 23: [L-1
3] to [L-23] In the same manner as in Production Example 1 except that the polyfunctional compound shown in Table 7 below was used instead of ethylene glycol dimethacrylate in Production Example 1 of the resin particles, 13]
To [L-23]. The polymerization rate of each particle is 95-
At 98%, the average particle size was 0.15 to 0.25 µm.

【表13】 [Table 13]

【0161】樹脂粒子の製造例24:〔L−24〕 分散安定用樹脂〔P−21〕8g及びメチルエチルケト
ン130gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら60℃
に加温した。これに、下記単量体〔A−13〕45g、
ジエチレングリコールジメタクリレート5g、A.I.V.N.
0.5g及びメチルエチルケトン150gの混合溶液
を1時間で滴下し更にA.I.V.N. 0.25gを加えて2
時間反応した。冷却後、200メッシュのナイロン布を
通して得られた分散物の平均粒径は0.25μm であっ
た。 単量体〔A−13〕
Production Example 24 of Resin Particles: [L-24] A mixed solution of 8 g of dispersion stabilizing resin [P-21] and 130 g of methyl ethyl ketone was stirred at 60 ° C. under a nitrogen stream.
Was heated. To this, 45 g of the following monomer [A-13],
5 g of diethylene glycol dimethacrylate, AIVN
A mixed solution of 0.5 g and 150 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 1 hour, and 0.25 g of AIVN was further added to obtain a solution.
Reacted for hours. After cooling, the dispersion obtained through a 200 mesh nylon cloth had an average particle size of 0.25 μm. Monomer [A-13]

【化272】 Embedded image

【0162】樹脂粒子の製造例25:〔L−25〕 分散安定用樹脂〔P−12〕7.5g及びメチルエチル
ケトン230gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら6
0℃に加温した。これに、単量体〔A−12〕25g、
アクリルアミド15g、A.I.V.N. 0.5g及びメチル
エチルケトン200gの混合溶液を2時間で滴下し、更
にそのまま1時間反応した。更に、A.I.V.N. 0.25
gを加え、2時間反応した後、冷却し、200メッシュ
のナイロン布を通して得られた分散物の平均粒径は0.
25μm であった。
Production Example 25 of Resin Particles: [L-25] A mixed solution of 7.5 g of dispersion stabilizing resin [P-12] and 230 g of methyl ethyl ketone was stirred for 6 hours under a nitrogen stream.
Warmed to 0 ° C. Thereto, single-mer [A-12] 25 g,
A mixed solution of 15 g of acrylamide, 0.5 g of AIVN and 200 g of methyl ethyl ketone was added dropwise over 2 hours, and the mixture was further reacted for 1 hour. In addition, AIVN 0.25
After reacting for 2 hours, the mixture was cooled and the average particle size of the dispersion obtained through a 200-mesh nylon cloth was 0.1 mm.
It was 25 μm.

【0163】樹脂粒子の製造例26:〔L−26〕 下記の単量体〔A−14〕42g、エチレングリコール
ジアクリレート8g、分散安定用樹脂〔P−23〕8g
及びジプロピルケトン230gを窒素気流下温度60℃
に加温した。これをジプロピルケトン200gの溶液中
に攪拌しながら2時間で滴下した。そのまま1時間反応
後、更にA.I.V.N. 0.3gを加え2時間反応した。冷
却後、200メッシュのナイロン布を通して得られた分
散物の平均粒径は0.20μm であった。 単量体〔A−14〕
Production Example 26 of Resin Particles: [L-26] 42 g of the following monomer [A-14], 8 g of ethylene glycol diacrylate, and 8 g of dispersion stabilizing resin [P-23]
And 230 g of dipropyl ketone in a nitrogen stream at a temperature of 60 ° C.
Was heated. This was dropped into a solution of 200 g of dipropyl ketone over 2 hours with stirring. After reacting for 1 hour, 0.3 g of AIVN was further added and reacted for 2 hours. After cooling, the dispersion obtained through a 200 mesh nylon cloth had an average particle size of 0.20 μm. Monomer [A-14]

【化273】 Embedded image

【0164】樹脂粒子の製造例27〜36:〔L−2
7〕〜〔L−36〕 樹脂粒子の製造例26において、分散安定用樹脂〔P−
23〕の代わりに下記表−8の各分散安定用樹脂を用い
た他は製造例26と同様にして各粒子を製造した。各粒
子の平均粒径は0.20μm 〜0.25μm の範囲であ
った。
Production Examples of Resin Particles 27 to 36: [L-2
7] to [L-36] In Resin Particle Production Example 26, the dispersion stabilizing resin [P-
Each particle was produced in the same manner as in Production Example 26 except that each dispersion stabilizing resin shown in Table 8 below was used instead of [23]. The average size of each particle ranged from 0.20 μm to 0.25 μm.

【表14】 [Table 14]

【0165】樹脂粒子の製造例37〜42:〔L−3
7〕〜〔L−42〕 樹脂粒子の製造例25において、単量体〔A−12〕、
アクリルアミド及び反応溶媒、メチルエチルケトンの代
わりに下記表−9の各々の化合物を用いた他は製造例
と同様にして各粒子を製造した。各粒子の平均粒径は
0.15μm 〜0.30μm の範囲であった。
Production Examples of Resin Particles 37 to 42: [L-3
7] to [L-42] In Production Example 25 of the resin particles, a monomer [A-12],
Production Example 2 except that each of the compounds shown in Table 9 below was used instead of acrylamide, the reaction solvent, and methyl ethyl ketone
Each particle was produced in the same manner as in No. 5 . The average particle size of each particle ranged from 0.15 μm to 0.30 μm.

【表15】 [Table 15]

【表16】 [Table 16]

【0166】実施例1及び比較例A 実施例1 樹脂〔A−3〕6g(固形分量として)、下記構造の樹
脂〔B−1〕30g(固形分量として)、光導電性酸化
亜鉛200g、下記構造のメチン色素〔I〕0.018
g、サリチル酸0.15g及びトルエン300gの混合
物を、ホモジナイザー(日本精機(株)製)中で7×1
3 r.p.m.の回転数で10分間分散した。これに分散樹
脂粒子〔L−1〕4g(固形分量として)、無水フタル
酸0.05g、o−クロロフェノール0.003gを添
加し更に回転数1×103 r.p.m.で1分間分散した。こ
の感光層形成用分散物を導電処理した紙に乾燥付着量が
25g/m2 となるようにワイヤーバーで塗布し、10
0℃で3分間乾燥した。ついで暗所で20℃、65%R
Hの条件下で24時間放置することにより、電子写真感
光材料を作成した。 〔B−1〕
Example 1 and Comparative Example A Example 1 6 g of resin [A-3] (as solid content), 30 g of resin [B-1] having the following structure (as solid content), 200 g of photoconductive zinc oxide, Methine dye of structure [I] 0.018
g, 0.15 g of salicylic acid and 300 g of toluene were mixed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at 7 × 1.
0 3 was rpm dispersed in rpm for 10 minutes. 4 g (as solid content) of dispersed resin particles [L-1], 0.05 g of phthalic anhydride and 0.003 g of o-chlorophenol were added thereto, and the mixture was further dispersed at 1 × 10 3 rpm for 1 minute. This dispersion for forming a photosensitive layer was applied to a conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 25 g / m 2 ,
Dry at 0 ° C. for 3 minutes. Then, at 20 ° C, 65% R in the dark
The mixture was allowed to stand for 24 hours under the condition of H to prepare an electrophotographic photosensitive material. [B-1]

【化274】 Embedded image

【0167】比較例A 実施例1において、樹脂粒子〔L−1〕4gを除いた他
は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料を作製し
た。
Comparative Example A An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 4 g of the resin particles [L-1] were omitted.

【0168】比較例B 実施例1において、樹脂〔A−3〕6g及び樹脂〔B−
1〕30gの代わりに、樹脂〔B−1〕のみ36gを用
いた他は実施例1と同様に操作して電子写真感光材料を
作製した。
Comparative Example B In Example 1, 6 g of the resin [A-3] and the resin [B-
1] An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 36 g of the resin [B-1] alone was used instead of 30 g.

【0169】これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑
度)、静電特性、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理
後の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性を調
べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V(富士写
真フィルム(株)製)に現像剤ELP−Tを用いて、露
光・現像処理して画像を形成し、不感脂化処理をして得
られた平版印刷板を用いて調べた。(なお印刷機にはハ
マダスター(株)製ハマダスター800SX型を用い
た)以上の結果をまとめて、表−10に示す。
The film properties (surface smoothness), electrostatic properties, desensitization property of the photoconductive layer (expressed by the contact angle of the photoconductive layer with water after desensitization treatment) and printing of these photosensitive materials. The sex was examined. The lithographic printing plate obtained by exposing and developing an image on a fully automatic plate making machine ELP404V (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) using a developer ELP-T to form an image and performing desensitization processing was used. The examination was performed using a printing plate. (The printing machine used was Hamadastar 800SX manufactured by Hamadastar Co., Ltd.) The above results are summarized in Table-10.

【表17】 [Table 17]

【0170】表−10に記した評価項目の実施の態様は
以下の通りである。 注1) 光導電層の平滑性: 得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工
(株)製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑
度(sec/cc)を測定した。
The embodiments of the evaluation items shown in Table 10 are as follows. Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc. It was measured.

【0171】注2) 静電特性: 温度20℃、65%RHの暗室中で、各感光材料にペー
パーアナライザー(川口電機(株)製ペーパーアナライ
ザー−SP−428型)を用いて−6kVで20秒間コロ
ナ放電をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位を
10を測定した。次いでそのまま暗中で120秒間静置
した後の電位V120 を測定し、120秒間暗減衰させた
後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率〔DRR(%) 〕
を〔(V120 /V10)×100(%)〕で求めた。ま
た、コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯電
させた後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位
(V10)が1/10に減衰するまでの時間を求め、これから
露光量E1/10 (erg/cm2 ) を算出する。更にE1/10測定
と同様にコロナ放電により−500Vに帯電させた後、
波長780nmの単色光で照射し、表面電位(V10)が1/
100 に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/100 (erg/cm 2 ) を算出する。撮像時の環境条件はI
(20℃、65%RH)と、II(30℃、80%RH)
で実施した。
Note 2) Electrostatic characteristics: In a dark room at a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 65%, each photosensitive material was subjected to -20 kV at −6 kV using a paper analyzer (Paper Analyzer-SP-428, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.). After a corona discharge for 2 seconds, the device was left for 10 seconds, and the surface potential at this time was measured as V 10 . Next, the potential V 120 after standing still in the dark for 120 seconds was measured, and the potential retention after dark decay for 120 seconds, that is, the dark decay retention rate [DRR (%)]
Was determined by [(V 120 / V 10 ) × 100 (%)]. After charging the surface of the photoconductive layer to −500 V by corona discharge, irradiation with monochromatic light having a wavelength of 780 nm was performed, and the time required for the surface potential (V 10 ) to decrease to 1/10 was determined. Calculate 1/10 (erg / cm 2 ). Further, after charging to -500 V by corona discharge as in the E 1/10 measurement,
Irradiation with monochromatic light having a wavelength of 780 nm results in a surface potential (V 10 ) of 1 /
The time required to decay to 100 is calculated, and the exposure
Calculate 1/100 (erg / cm 2 ). Environmental conditions at the time of imaging are I
(20 ° C, 65% RH) and II (30 ° C, 80% RH)
It was carried out in.

【0172】注3) 撮像性: 各感光材料を環境条件I又はIIで1昼夜放置した。次に
−5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガリウ
ム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長78
0nm)を用いて、感光材料表面上で50erg/cm2 の照射
量下、ピッチ25μm 及びスキャニング速度330m/
sec のスピード露光後、液体現像剤としてELP−T
(富士写真フイルム(株)製)を用いて現像し、定着す
ることで得られた複写画像につき、カブリ、画像の画質
を目視で評価した。
Note 3) Image-capturing property: Each photosensitive material was left under environmental conditions I or II all day and night. Next, it is charged at -5 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 78
0 nm), a pitch of 25 μm and a scanning speed of 330 m / cm 2 at an irradiation dose of 50 erg / cm 2 on the surface of the photosensitive material.
sec speed exposure, ELP-T as liquid developer
(Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used to develop and fix the copy image obtained, and the fog and image quality of the image were visually evaluated.

【0173】注4) 生版保水性: 感光材料を印刷用原版として用いる際の不感脂化処理に
よる親水化の程度を、下記の強制条件で処理して調べ
た。各感光材料そのものを(製版しない原版:即ち、生
版と略称)富士写真フイルム(株)製不感脂化処理液E
LP−EXを蒸留水で5倍に希釈した水溶液を用いて、
エッチングマシーンを1回通した。更にこれを、0.5
モルモノエタノールアミンを1リットルの蒸留水に希釈
した溶液(E−1)中に3分間浸漬した。次に、これら
の版をハマダスター(株)製ハマダスター8005X型
を用いて印刷し、刷り出しから50枚目の印刷物の地汚
れの有無を目視で評価した。
Note 4) Raw plate water retention: The degree of hydrophilization due to desensitization treatment when the photosensitive material was used as a printing plate was examined under the following forced conditions. Each light-sensitive material itself was used as a desensitizing solution E (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.).
Using an aqueous solution obtained by diluting LP-EX five times with distilled water,
The etching machine was passed once. In addition, 0.5
It was immersed in a solution (E-1) obtained by diluting mol monoethanolamine in 1 liter of distilled water for 3 minutes. Next, these plates were printed using a Hamadastar 8005X manufactured by Hamadastar Co., Ltd., and the fiftyth printed matter from the start of printing was visually evaluated for the presence or absence of background stain.

【0174】表−10に示すように、本発明及び比較例
Aの感光材料は光導電層の平滑性及び静電特性が良好で
実際の複写画像も地カブリがなく、複写画質も鮮明であ
った。次にオフセットマスター原版として用いた場合、
製版しない感光材料を不感脂化処理液を希釈して、厳し
い条件下で不感脂化処理して実際に印刷して保水性を調
べたところ、本発明のものは刷り出しから地汚れのない
良好な保水性を示し、更に実際に製版した原版を用いて
も地汚れのない鮮明な印刷物が1万枚得られた。これに
対し、親水化を促進する樹脂粒子が添加されていない比
較例Aは保水性が不充分で、印刷物の地汚れが刷り出し
から発生し、刷り込んでも解消されることはなかった。
As shown in Table 10, the photosensitive materials of the present invention and Comparative Example A had good smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer, no actual fogged image, and clear image quality. Was. Next, when used as an offset master master,
Diluting the photosensitive material that is not made into a plate with a desensitizing solution, desensitizing under severe conditions, actually printing and examining the water retention, the present invention is good in that there is no background stain from printing. It showed excellent water retention and produced 10,000 clear prints without background stains even when the original plate was actually made. On the other hand, Comparative Example A, to which no resin particles for promoting hydrophilicity were added, had insufficient water retention, and the background stain of the printed matter was generated from printing, and was not eliminated by printing.

【0175】比較例Bは静電特性が著しく低下し、実際
の撮像性において満足な複写画像が得られなかった。一
方、オフセット原版としての保水性は、インキ付着が著
しく汚れが顕著であった。これは親水化が充分になされ
ないものによるもので、実際に通常の不感脂化条件で親
水化処理した原版で印刷しても、印刷物の地汚れが著し
く且つ製版後の原版では、複写画像が劣化しており、満
足な印刷原版の印刷物は刷り出しから得られなかった。
In Comparative Example B, the electrostatic characteristics were remarkably deteriorated, and a satisfactory copied image could not be obtained in the actual imaging performance. On the other hand, the water retention as an offset original plate was markedly stained with ink and markedly stained. This is due to the fact that hydrophilization is not sufficiently performed.Even when printing is performed on an original plate that has been subjected to hydrophilization treatment under normal desensitizing conditions, the printed image is significantly stained and the copied image is not obtained on the original plate after plate making. The printed matter was deteriorated and a satisfactory printing original plate was not obtained from printing.

【0176】注5) 印刷物の地汚れ: 各感光材料を上記注3)と同一の操作で製版した後、EL
P−EXを用いて、エッチングマシーンを1回通した
後、注4)のモルエタノールアミン含有水溶液(E−1)
に3分間浸した後水洗した。これらのオフセットマスタ
ー用原版を、湿し水としてELP−FX(富士写真フイ
ルム(株)製湿し水)を用いて印刷し、印刷物の地汚れ
が目視で判別できるまでの印刷枚数を調べた。
Note 5) Smear of printed matter: After making each photosensitive material in the same operation as in the above note 3), EL was applied.
After passing through the etching machine once using P-EX, the aqueous solution containing molar ethanolamine (E-1) of Note 4)
And then washed with water. These offset master masters were printed using ELP-FX (fountain solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a fountain solution, and the number of printed sheets until the background stain on the printed material could be visually discriminated was examined.

【0177】以上のことより、本発明の樹脂〔A〕及び
樹脂粒子〔L〕の両者を用いた場合のみ、静電特性及び
印刷特性を満足する電子写真感光体が得られることが判
る。
From the above, it can be seen that an electrophotographic photosensitive member satisfying electrostatic characteristics and printing characteristics can be obtained only when both the resin [A] and the resin particles [L] of the present invention are used.

【0178】実施例2 樹脂〔A−10〕5.5g(固形分量として)、下記構
造の樹脂〔B−2〕30g、樹脂粒子〔L−12〕4.
5g(固形分量として)、下記構造のメチン色素〔II〕
0.02gの他は実施例1と同様に操作して電子写真感
光材料を作成した。 樹脂〔B−2〕
Example 2 5.5 g of resin [A-10] (as solid content), 30 g of resin [B-2] having the following structure, and resin particles [L-12] 4.
5 g (as solid content), methine dye [II] having the following structure
An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except for 0.02 g. Resin [B-2]

【化275】 得られた感光材料の電子写真特性及び印刷適性について
実施例1と同様にして測定し、下記の結果を得た。 以上の如く、電子写真特性、印刷適性共に良好なもので
あった。
Embedded image The electrophotographic properties and printability of the obtained photosensitive material were measured in the same manner as in Example 1, and the following results were obtained. As described above, both electrophotographic characteristics and printability were good.

【0179】実施例3〜18 下記表−6の樹脂〔A〕各5g(固形分量として)、樹
脂粒子〔L〕4g(固形分量として)、下記構造の樹脂
〔B−3〕31g及びメチン色素〔III 〕0.018g
の他は実施例1と同様にして各感光材料を作成した。 樹脂〔B−3〕
Examples 3 to 18 Resins [A] shown in Table 6 below, each 5 g (as solid content), resin particles [L] 4 g (as solid content), 31 g of resin [B-3] having the following structure and methine dye [III] 0.018 g
Other than the above, each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1. Resin [B-3]

【化276】 各感光材料について実施例と同様にして、静電特性、
印刷適性を調べた。結果を表−11に示す。
Embedded image In the same manner as in Example 1 for each of the photosensitive material, the electrostatic characteristics,
Printability was examined. The results are shown in Table-11.

【表18】 [Table 18]

【0180】静電特性は表−11に示した如く、30
℃、80%RHの過酷な条件でも大変良好な結果を示し
た。実際の撮像性も良好であり、これらのオフセットマ
スター用原版としての保水性も良好で且つ耐刷性もいず
れも1万枚まで印刷できた。
As shown in Table 11, the electrostatic characteristics were 30
Very good results were obtained even under severe conditions of ℃ and 80% RH. The actual image-capturing properties were also good, the water retention of these masters for offset masters was good, and the printing durability was able to print up to 10,000 sheets.

【0181】実施例19及び比較例C 樹脂〔A−1〕6.0g、下記構造の樹脂〔B−5〕2
9.5g、樹脂粒子〔L−24〕4.5g、酸化亜鉛2
00g、ウラニン0.02g、ローズベンガル0.04
g、ブロムフェノールブルー0.03g、無水フタル酸
0.20g及びトルエン300gの混合物をホモジナイ
ザー中で回転数6×103 r.p.m.で10分間分散し更
に、3,3′,5,5′−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸ジ無水物0.08gを添加し回転数1×103 r.p.
m.で1分間分散して感光層形成物を調製し、これを導電
処理した紙に、乾燥付着量が22g/m2 となるように
ワイヤーバーで塗布し、110℃で20秒間乾燥し、更
に120℃で2時間加熱した。次いで暗所で20℃、6
5%RHの条件下で24時間放置することにより下記表
−12に示す各電子写真感光材料を作成した。 樹脂〔B−5〕
Example 19 and Comparative Example C 6.0 g of resin [A-1] and resin [B-5] 2 having the following structure
9.5 g, 4.5 g of resin particles [L-24], zinc oxide 2
00g, Uranine 0.02g, Rose Bengal 0.04
g, bromophenol blue 0.03 g, phthalic anhydride 0.20 g and toluene 300 g were dispersed in a homogenizer at a rotation speed of 6 × 10 3 rpm for 10 minutes, and further dispersed in 3,3 ′, 5,5′-benzophenone tetrachloride. 0.08 g of carboxylic dianhydride was added, and the number of rotations was 1 × 10 3 rp
m. for 1 minute to prepare a photosensitive layer-formed product, which was applied to a conductive treated paper with a wire bar so that the dry adhesion amount was 22 g / m 2, and dried at 110 ° C. for 20 seconds. Further heating was performed at 120 ° C. for 2 hours. Then at 20 ° C, 6 in the dark
Each of the electrophotographic photosensitive materials shown in Table 12 below was prepared by being left for 24 hours under the condition of 5% RH. Resin [B-5]

【化277】 Embedded image

【0182】比較例C 実施例19において、樹脂〔A−1〕6.0g及び樹脂
〔B−5〕29.5gの代わりに樹脂〔B−5〕のみ3
5.5gを用いた他は実施例19と同様にして電子写真
感光材料を作製した。各感光体を実施例1と同様にして
各特性を調べその結果を表−12に記した。
Comparative Example C In Example 19, 6.0 g of the resin [A-1] and 29.5 g of the resin [B-5] were replaced with only the resin [B-5].
An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example 19 except that 5.5 g was used. The characteristics of each photoreceptor were examined in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table-12.

【表19】 上記の測定において、静電特性及び撮像性については下
記の操作に従った他は、実施例1と同様の操作で行っ
た。
[Table 19] In the above measurement, the same operation as in Example 1 was performed, except that the following operation was performed for the electrostatic characteristics and the image capturing property.

【0183】注6) 静電特性のE1/10及びE1/100 の測
定方法: コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で
照射し、表面電位(V10)が1/10又はE1/100に減衰す
るまでの時間を求め、これから露光量E1/10又はE
1/100 (ルックス・秒)を算出する。
Note 6) Method for measuring E 1/10 and E 1/100 of electrostatic characteristics: After charging the surface of the photoconductive layer to −400 V by corona discharge, the illuminance of the photoconductive layer was 2.0 lux. And the time required for the surface potential (V 10 ) to attenuate to 1/10 or E 1/100 was determined, and the exposure amount E 1/10 or E
Calculate 1/100 (looks per second).

【0184】注7) 撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)
製)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像につき、カブリ、画像の画質を目視評価し
た。撮像時の環境条件は、20℃、65%RH(I)と
30℃、80%RH(II)で実施した。
Note 7) Image-capturing property After leaving each photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, a fully automatic plate making machine EPL-404V (Fuji Photo Film Co., Ltd.)
The fogging and image quality of the copied image obtained by making a plate using EPL-T as a toner were evaluated by visual inspection. Environmental conditions during imaging were 20 ° C. and 65% RH (I) and 30 ° C. and 80% RH (II).

【0185】注8) 保水性及び耐刷性 注4)及び注5)において、不感脂化処理液(E−1)
の代わりに下記(E−2)を用いた他は、実施例1と同
様にして実施した。 不感脂化処理液:E−2 ホウ酸 55g ネオソープ(松本油脂(株)製) 6g テトラヒドロフラン 80g を蒸留水で溶解し、全量を1.0リットルにした後、水
酸化カリウムでpH11.0に調整した。
Note 8) Water retention and printing durability In notes 4) and 5), the desensitizing solution (E-1)
Was carried out in the same manner as in Example 1 except that the following (E-2) was used instead of Desensitizing solution: E-2 55 g of boric acid Neosoap (manufactured by Matsumoto Yushi Co., Ltd.) 6 g of tetrahydrofuran 80 g is dissolved in distilled water to make the total volume 1.0 liter, and then adjusted to pH 11.0 with potassium hydroxide. did.

【0186】本発明実施例19及び比較例Cともに、静
電特性が良好で、鮮明な画質の複写画像を得ることがで
きた。また、オフセトマスター原版として用いた場
合、本発明は保水性は良好で、耐刷性は1万枚まで可能
であった。しかし、樹脂粒子を除いた比較例Cは強制条
件である親水化を行った保水性が充分でなく、又実際に
通常の条件で不感脂化し印刷してみた所、非画像部の地
汚れが見られない印刷物は5千枚までであった。以上の
ことより、本発明の感光材料のみが、静電特性、印刷特
性ともに優れた性能で維持できるものであった。
In both Example 19 and Comparative Example C of the present invention, a copied image having good electrostatic characteristics and clear image quality could be obtained. Furthermore, when used as offset master plate precursor, the present invention is water retention is good, printing durability was possible until 10,000 sheets. However, Comparative Example C, from which the resin particles were removed, did not have sufficient water-retention due to the hydrophilization, which is a forced condition, and when it was made insensitive under actual conditions and printed, the background stain on the non-image area was reduced. Unprinted printed matter was up to 5,000 sheets. From the above, only the photosensitive material of the present invention was able to maintain excellent performance in both electrostatic characteristics and printing characteristics.

【0187】実施例20〜27 実施例19において、下記表−13の樹脂〔A〕5g
(固形分量として)、樹脂粒子〔L〕4g(固形分量と
して)、樹脂〔B〕31gの他は実施例19と同様に操
作して、各感光材料を作成した。
Examples 20 to 27 In Example 19, 5 g of resin [A] shown in Table 13 below
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 19, except that (as a solid content), 4 g of resin particles [L] (as a solid content) and 31 g of resin [B].

【表20】 [Table 20]

【0188】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の過酷な条件においけも地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。更にオフセットマスター原版として印刷したとこ
ろ、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の
印刷物が得られた。
The light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and actual copied images can be subjected to severe conditions of high temperature and high humidity (30 ° C., 80% RH). A clear image without generation of fine lines and skipping of fine lines was given. Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background smear was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0189】実施例28〜31 実施例19において、樹脂〔A−1〕5.5g、樹脂
〔B−1〕31.5gを用いた他は実施例19と同様に
して、電子写真感光体を作成した(実施例28)。さら
に実施例19において樹脂〔A−1〕5.5g、及び下
記表−14の結着樹脂31.5gを用いた他は実施例1
9と同様にして、各電子写真感光体を作成した(実施例
29〜31)
Examples 28 to 31 In Example 19, 5.5 g of resin [ A-1]
[B-1] Same as Example 19 except that 31.5 g was used.
Thus, an electrophotographic photosensitive member was prepared (Example 28). Further
5.5 g of the resin [A-1] in Example 19, and
Example 1 except that 31.5 g of the binder resin shown in Table 14 was used.
Each electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example 9.
29-31) .

【表21】 [Table 21]

【0190】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の酷な条件においも地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。更にオフセットマスター原版として印刷したとこ
ろ、1万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の
印刷物が得られた。
[0190] sensitive material Any chargeable present invention, dark charge retention rate, excellent light sensitivity, the actual copy image is also high temperature and high humidity (30 ℃, 80% RH) of the harsh conditions odor land be fog A clear image without generation of fine lines and skipping of fine lines was given. Further, when printing was performed as an offset master plate, a printed matter of clear image quality free of background smear was obtained even after printing 10,000 sheets.

【0191】実施例32〜35 下記表−15の各感光体を製版した後の原版をELP−
EX中に4分間浸せきして不感脂化処理した後、実施例
1と同様にして印刷した所、地汚れの発生のない鮮明な
画質の印刷物が各々1万枚得られた。
Examples 32 to 35 Each of the photoreceptors shown in Table 15 below was subjected to plate making to prepare an original plate of ELP-
After immersion in EX for 4 minutes to make it desensitized, printing was performed in the same manner as in Example 1. As a result, 10,000 prints of clear image quality free of background smear were obtained.

【表22】 [Table 22]

【0192】実施例36〜41 下記表−16の各感光体を製版した後の原版をELP−
EXを用いてエッチングマシーンを1回通した後、下記
処方の樹脂粒子不感脂化液(E−3)中に3分間浸漬し
て不感脂化処理した。 樹脂粒子不感脂化液:E−3 ジエタノールアミン 80g ニューコールBSN(日本乳化剤(株)製) 6g ベンジルアルコール 100g を蒸留水に溶解して全量を1リットルとした後水酸化カ
リウムでpH10.5に調整した水溶液。
Examples 36 to 41 Each of the photoreceptors shown in Table 16 below was subjected to plate making to prepare an original plate of ELP-
After passing through the etching machine once using EX, it was immersed in a resin particle desensitizing solution (E-3) having the following formulation for 3 minutes to perform desensitization treatment. Resin particle desensitizing solution: E-3 Diethanolamine 80 g Newcol BSN (manufactured by Nippon Emulsifier Co., Ltd.) 6 g Benzyl alcohol 100 g is dissolved in distilled water to make the total volume 1 liter, and then adjusted to pH 10.5 with potassium hydroxide. Aqueous solution.

【表23】 [Table 23]

【0193】これを実施例1と同様にして印刷した所、
各原版とも地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が各
々1万枚以上得られた。
When this was printed in the same manner as in Example 1,
In each of the masters, 10,000 or more prints of clear image quality free of background stain were obtained.

【0194】実施例42〜45 実施例19において、本発明の結着樹脂粒子〔L−2
4〕4.5gの代わりに下記表−17の粒子〔L〕各4
gを用いた他は、実施例19と同様にして各感光材料を
作成した。
Examples 42 to 45 In Example 19, the binder resin particles of the present invention [L-2
4] In place of 4.5 g, each of the particles [L] in Table 17 below was 4
Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 19 except that g was used.

【表24】 [Table 24]

【0195】各感光体を実施例19と同様にして製版し
た後、400Wの高圧水銀灯を光源として、その光源か
ら10cmの距離下に、これら製版感材を5分間光照射し
た。後にELP−FX(富士写真フィルム(株)製)を
用いてエッチングプロセッサーを1回通すことで不感脂
化処理した。これらの印刷用原版を、実施例19と同様
にして印刷した所、保水性も良好で且つ耐刷性もいずれ
も1万枚まで印刷できた。
After the respective photoreceptors were plate-produced in the same manner as in Example 19, these plate-making photosensitive materials were irradiated with light for 5 minutes at a distance of 10 cm from a 400 W high-pressure mercury lamp as a light source. After that, desensitization treatment was performed by passing through an etching processor once using ELP-FX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). When these printing original plates were printed in the same manner as in Example 19, the water retention was good and the printing durability was able to be printed up to 10,000 sheets.

【0196】[0196]

【発明の効果】本発明によれば、苛酷な条件下において
も、優れた印刷画像と高耐刷性を有する電子写真式平版
印刷用原版を得ることができる。また、本発明の平版印
刷用原版は、半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式に有効である。
According to the present invention, an electrophotographic lithographic printing plate precursor having excellent printed images and high printing durability can be obtained even under severe conditions. Further, the lithographic printing original plate of the present invention is effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03G 13/28 G03G 13/28 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03G 5/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 identification code FI G03G 13/28 G03G 13/28 (58) Fields investigated (Int.Cl. 6 , DB name) G03G 5/00

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 導電性支持体上に、少なくとも1層の、
光導電性酸化亜鉛、分光増感色素および結着樹脂を含有
する光導電層を設けてなる電子写真式平版印刷用原版に
おいて、該結着樹脂として下記の樹脂〔A〕を少なくと
も1種含有し、更に該光導電層中に、前記光導電性酸化
亜鉛粒子の最大粒子径と同じかそれより小さい粒子径を
有する下記の非水溶媒系分散樹脂粒子を少なくとも1種
含有することを特徴とする電子写真式平版印刷用原版。 樹脂〔A〕: 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、下記
一般式(I)で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て30重量%以上及び−PO3 2 ,−SO3H,−C
OOH, 【化1】 〔R1 は炭化水素基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を
表す)を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される
少なくとも1種の極性基を置換基として含有する繰り返
し単位を重合体成分として0.5〜20重量%含有して
成る共重合体、 一般式(I) 【化2】 〔ただし上記式(I)において、a1 ,a2 は各々、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表
し、R3 は炭化水素基を表す〕 非水溶媒系分散樹脂粒子: 非水溶媒中において、分解によりチオール基、ホスホノ
基、アミノ基、スルホ基、 【化3】 基〔R1 は炭化水素基又は−OR2 基(R2 は炭化水素
基を表す)を表す〕を生成する官能基から選ばれる官能
基を少なくとも1種含有する一官能性単量体(A)
該非水溶媒に可溶性の分散安定用樹脂の存在下に分散重
合反応させることにより得られる共重合体樹脂粒子。
1. The method according to claim 1, wherein at least one layer is formed on the conductive support.
In an electrophotographic lithographic printing plate precursor provided with a photoconductive layer containing a photoconductive zinc oxide, a spectral sensitizing dye and a binder resin, the binder resin contains at least one of the following resins [A] as the binder resin. The photoconductive layer further comprises at least one kind of the following non-aqueous solvent-based dispersed resin particles having a particle diameter equal to or smaller than the maximum particle diameter of the photoconductive zinc oxide particles. Electrophotographic lithographic printing original plate. Resin [A]: having a weight-average molecular weight of 1 × 10 3 to 2 × 10 4 , containing at least 30% by weight of a repeating unit represented by the following general formula (I) as a polymer component, and -PO 3 H 2 ,- SO 3 H, -C
OOH, embedded image [R 1 represents a hydrocarbon group or —OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group)] and a cyclic unit containing at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups as a substituent. A copolymer containing 0.5 to 20% by weight as a polymer component, represented by the general formula (I): [However, in the above formula (I), a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group or a hydrocarbon group, and R 3 represents a hydrocarbon group.] Non-aqueous solvent-based dispersed resin particles: In an aqueous solvent, a thiol group, a phosphono group, an amino group, a sulfo group, A monofunctional monomer (A) containing at least one functional group selected from functional groups that form a group [R 1 represents a hydrocarbon group or an —OR 2 group (R 2 represents a hydrocarbon group)] a),
Copolymer resin particles obtained by performing a dispersion polymerization reaction in the presence of a dispersion stabilizing resin soluble in the non-aqueous solvent.
【請求項2】 上記樹脂〔A〕が、一般式(I)で示さ
れる共重合体成分として下記一般式(Ia)及び下記一
般式(Ib)で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも1つを含有することを特徴と
する請求項1又は2記載の電子写真式平版印刷用原版。 一般式(Ia) 【化4】 一般式(Ib) 【化5】 〔ただし上記式(Ia)及び(Ib)において、T1
びT2 は互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜10の
炭化水素基、ハロゲン原子、−COR4 又は−COOR
5 (R4 及びR5 は各々炭素数1〜10の炭化水素基を
表す)を表し、L1 及びL2 は各々−COO−とベンゼ
ン環を結合する単結合又は連結原子数1〜4個の連結基
を表す〕
2. The resin [A] is a copolymer component represented by the general formula (I), which is selected from aryl group-containing methacrylate components represented by the following general formulas (Ia) and (Ib). The electrophotographic lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the lithographic printing plate precursor comprises at least one. General formula (Ia) General formula (Ib) [However, in the above formulas (Ia) and (Ib), T 1 and T 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, a halogen atom, —COR 4 or —COOR
5 (R 4 and R 5 each represent a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms), and L 1 and L 2 each represent a single bond or a connecting atom having 1 to 4 atoms connecting —COO— and a benzene ring. Represents a linking group of
【請求項3】 上記非水溶媒系分散樹脂粒子が高次の網
目構造を形成していることを特徴とする請求項1又は2
記載の電子写真式平版印刷用原版。
3. The non-aqueous solvent-based dispersed resin particles form a high-order network structure.
The electrophotographic lithographic printing original plate described in the above.
【請求項4】 上記分散安定用樹脂が、高分子鎖中に、
下記一般式(II) で示される重合性二重結合基部分を少
なくとも1種含有していることを特徴とする請求項1記
載の電子写真式平版印刷用原版。 一般式(II) 【化6】 〔一般式(II) において、V0 は 【化7】 (但し、pは1〜4の整数を表わし、R6 は水素原子又
は炭素数1〜18の炭化水素基を表わす)、a3 ,a4
は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基、炭化水素基、−COO−R7 又は炭
化水素基を介した−COO−R7 (R7 は水素原子又は
置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わす〕
4. The method according to claim 1, wherein the dispersion stabilizing resin is
2. The electrophotographic lithographic printing plate precursor according to claim 1, which contains at least one polymerizable double bond group represented by the following general formula (II). General formula (II) [In the general formula (II), V 0 is (However, p represents an integer of 1 to 4, R 6 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms), a 3 , a 4
May be the same or different, a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -COO-R 7 (R 7 through -COO-R 7 or a hydrocarbon group is a hydrogen atom or a substituent Represents a good hydrocarbon group).
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