JPH04366813A - 薄膜トランジスタ型液晶表示装置 - Google Patents

薄膜トランジスタ型液晶表示装置

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JPH04366813A
JPH04366813A JP3141632A JP14163291A JPH04366813A JP H04366813 A JPH04366813 A JP H04366813A JP 3141632 A JP3141632 A JP 3141632A JP 14163291 A JP14163291 A JP 14163291A JP H04366813 A JPH04366813 A JP H04366813A
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JP
Japan
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liquid crystal
film transistor
thin film
display device
type liquid
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JP3141632A
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Shigeki Ogura
小椋 茂樹
Tamahiko Nishiki
玲彦 西木
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜トランジスタ型液
晶表示装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図5は従来の薄膜トランジスタ型液晶表
示装置(以下、「TFT−LCD」という)の一部断面
図である。薄膜トランジスタ基板(以下、「TFT基板
」という)上には、ゲート電極41、ゲート絶縁膜とし
て機能する第1絶縁膜49が形成されている。その上に
、半導体層45が、オーミック接合層50が所定のパタ
ーンに形成され、さらに、その上にドレイン−ソース電
極42,43が形成されている。そして、その上に画素
電極44が形成され、その上に保護膜51が形成されて
いる。
【0003】また、対向電極基板上には配線部の光漏れ
を防ぐためにブラック層52と、カラーフィルタ層53
が形成されており、その上に保護膜54が形成されてい
る。そして、その上に対向電極55が形成されており、
この対向基板と先に示したTFT基板の両方に各々に配
向膜56が形成され、配向膜56間にセル間隔dが設け
られ、そこに液晶57が封入されている。
【0004】図6は従来のTFT−LCDにおいてセル
間隔をパラメータにしたときの印加電圧−透過率特性図
である。なお、ここで透過率T(%)は電圧を印加して
いない時を100としてある。また、電圧Vは最大5ボ
ルト程度である。 図6(A)は、正面方向から見たときの特性を示す。2
0が第1セル間隔、21が第2セル間隔の場合のものを
示しているが、第1,第2セル間隔ともほぼ同じ曲線と
なっている。これは、液晶材料が同じなので、わずかな
セル間隔の差(0.5〜0.8μm)ではNW(ノーマ
リホワイト)表示の場合、透過率の電圧依存性の差は無
視できるほど小さいことによる。
【0005】図6(B)は、偏光板の偏光軸と配向膜の
ラビング方向が垂直の場合の下方向(明視方向)か、も
しくは平行の場合の左右方向の30°視角から見たとき
の特性を示す。22が第1セル間隔、23が第2セル間
隔の場合のものを示している。わずかなセル間隔の差で
も、斜めから見たときの視野角特性はかなり異なるので
ある。先に示したように、第1セル間隔の方が薄いので
、最小透過率を示す電圧は、第2セル間隔の場合に比べ
、やや小さくなる。これは、液晶が同じ場合、セル厚は
薄いほうが階調反転を起こす視角方向において、より低
電圧で最小透過率を示すという現象によって起きるもの
である。
【0006】図6(C)は偏光板の偏光軸と配向膜のラ
ビング方向が垂直の場合の下方向(明視方向)か、もし
くは平行の場合の左右方向の60°視角から見たときの
透過率の電圧依存性を示す。24が第1セル間隔、25
が第2セル間隔の場合のものを示している。視角が大き
い程斜めから見たときの視野角特性はさらに大きく異な
るのである。図6(B)において第1,第2セル間隔の
時の最小透過率を示す電圧のV4,V2とし、図6(C
)において第1セル,第2セル間隔の時の最小透過率を
V3,V1とすると、これらの大小関係はV1<V2〜
V3<V4となることがわかる。
【0007】図7は従来のTFT−LCDにおいて印加
電圧をパラメータにしたときの視角−透過率特性図であ
る。 図7(A)は、第1セル間隔の場合で、印加電圧が図6
のV3,V4の時の特性を示したものである。V3の時
60°で最も暗く、V4の時30°で最も暗い。また、
V3の曲線とV4の曲線が交差するため、ある角度以上
では低電圧であるV3の方が暗くなっている。これを階
調反転という。この交差する視角以上では画像が不自然
に見える。
【0008】図7(B)は、第2セル間隔の場合で、印
加電圧がV1,V2の時の特性を示したもので、第1セ
ル間隔の場合と同じように階調反転が起きていることが
分かる。そして、従来、このような階調反転、高遮光率
等の透過率の視角依存性の問題を解決するための技術と
しては、例えば、S.MIYAKE  etal.,’
European  Display’90,p352
−355に記載されるものがあった。
【0009】この文献では、この上記問題に対してNW
(ノーマリホワイト)でしかも上下視角方向において、
最も階調反転のない視野が広くとれる条件をΔn・dを
ふって求め、Δn・d=0.39が階調表示に最適であ
るとしている(なお、Δnは液晶の屈折率異方性、dは
液晶セルの厚みである)。ここで、偏光板の偏光軸は、
配向膜のラビング方向と入射側・出射側ともに垂直に配
置されている。
【0010】この配置の場合、図7に示したように、上
下視角方向において著しい階調反転が生じる。この階調
反転の現象は、高視角の方が正面方向に比べ、より低電
圧で高遮光率が得られるためである。ちなみに、下方向
を明視角方向とすれば、この階調反転はこの下方向にお
いて起きる。一方、この偏光板配置では、左右方向では
上下方向の著しい階調反転は生じないので、上記文献に
おいては上下方向についてのみ階調表示の場合の広視野
角化を図っている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記文
献に示されるような方法では、実質的な階調表示の高視
野角化は図られているが、所定電圧・所定視角における
異常な高遮光率の出現までは防ぐことができない。すな
わち、この上記文献においては、下方向においてある中
間調電圧では異常に高い遮光率が出現することは明らか
であり、階調表示画像が不自然な印象を与えてしまうと
いう問題点があった。
【0012】本発明は、前記問題点を解決して、階調表
示の広視野角化及びある視角・電圧での異常な高遮光率
の出現をなくし、自然な印象を与える高表示品質の液晶
表示装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
めに、本発明は、複数のゲート電極と、そのゲート電極
と交差する複数のドレイン電極と、その交差部に形成さ
れたTFTと、TFTのソース電極に接続された画素電
極とを有するTFT基板と、液晶を挟んでTFT基板と
対向する対向電極基板と、TFT基板及び対向電極基板
と液晶との間に形成された配向膜と、TFT基板及び対
向電極基板に対して液晶と反対側に設けた偏光板とを備
えたTFT−LCDにおいて、ドレイン−ソース電極と
画素電極を絶縁する絶縁膜が、画素電極上においてその
面積の一部が形成されないようにすることによって、第
1セル間隔と第2セル間隔とを有するものとし、かつ、
偏光板の偏光軸と前記配向膜のラビング方向がほぼ垂直
か、ほぼ平行に構成した。
【0014】
【作用】本発明によれば、以上のようにTFT−LCD
を構成したので、1画素内において2つのセル間隔d1
,d2を有する構成とすることにより、液晶層のΔn・
dを2レベルに設定した。したがって、LCDの視野角
特性はΔn・d1の液晶とΔn・d2の液晶の平均にな
るので、所定視角・電圧での異常な高遮光率の出現が回
避される。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら詳細に説明する。図1は本発明の実施例における
TFT基板上の薄膜パターンの構成を示す平面図である
。TFTの構成はゲート電極1とドレイン電極2の交差
部で半導体層5をチャネルとするトランジスタが設けら
れ、ソース電極3と画素電極4に所定の電圧が書き込ま
れるというもので、ごく一般的なものである。コンタク
トホール6及び第2セル間隔用ホール7は、後に述べる
絶縁膜のない部分を示している。コンタクトホール6は
ソース電極3と画素電極4を電気的に接続するものであ
り、第2セル間隔用ホール7は2番目のセル間隔として
規定するためのものである。図に示すように、画素のほ
ぼ半分はこの2番目のセル間隔となっている。本実施例
では、第1セル間隔と第2セル間隔とが画素のほぼ半分
ずつになるように構成しているが、これは左右方向又は
上下方向の輝度を等しくするためである。
【0016】図2は本発明の実施例におけるTFT基板
のTFTチャネル部(図1中のA−A′)の断面図であ
る。本実施例では、ゲート電極1の表面は陽極酸化され
、ゲート−ドレイン電極1,2間のショートを防ぐため
のゲート陽極酸化膜8が形成されている。そして、これ
らゲート電極1上にゲート絶縁膜として機能する第1絶
縁膜9が形成されている。さらに、第1絶縁膜9の上に
半導体層5が図1に示すようなパターンで形成されてい
る。そして、その上にオーミック接合層10が所定のパ
ターンに形成され、その上にドレイン−ソース電極2,
3が図1に示すようなパターンに形成されている。 さらに、その上に第2絶縁膜11がコンタクトホール6
以外の部分に形成され、その上に画素電極4が図1に示
すようなパターンに形成されている。
【0017】図3は本発明の実施例におけるTFT−L
CDの一部(図1中のB−B′)断面図である。従来と
同様、対向基板上には配線部の光漏れを防ぐためにブラ
ック層12が形成されており、その上にカラーフィルタ
層13が形成されており、その上に保護膜14が形成さ
れている。そして、その上に対向電極15が形成されて
おり、この対向基板と先に示したTFT基板の両方に各
々、配向膜16が形成され、液晶17が封入されている
。ここで、先に述べた第2セル間隔用ホール7は第2絶
縁膜11のない部分として得られるので、この図に示す
ように、画素電極4上は第1セル間隔18、第2セル間
隔19の2つのセル間隔を有することになる。すなわち
、第1,第2セル間隔差は、第2絶縁膜の厚みに相当す
る。この第1,第2セル間隔差は、液晶のΔn(屈折率
異方性)が大きいほうが小さくてよいという傾向がある
が、通常用いる第2絶縁膜の厚みは0.5〜0.8μm
であり、視野角特性を変え得るに十分な間隔である。 しかし、もしこの第2絶縁膜11の厚みで足りない場合
は、第1絶縁膜9に第2セル間隔用のホールを形成すれ
ばよい。つまり、第1,第2セル間隔差は、第1,第2
絶縁膜9,11のホールの深さによって、所望の値に制
御できるのである。ただし、第2絶縁膜11は、コンタ
クトホール部はすべてエッチングされねばならないので
、第2絶縁膜11の第2セル間隔用ホールはすべてエッ
チングされる方が好ましい。
【0018】図4は本発明の実施例において印加電圧を
パラメータにしたときの視角−透過率特性図で、図7に
おけるV1,V2〜V3,V4の時の特性を示している
。1画素内で2つのセル間隔を有しているので、図7(
A),(B)の平均となるような視角特性を表す。した
がって、一方のセル間隔で最小透過率を示しても、他方
のセル間隔では最小透過率を示すことはない。よって、
ある視角・電圧での異常な高遮光率の出現は回避される
。また、そのことにより、著しい階調反転も軽減される
ことになる。つまり、どの電圧でも、どの視角からみて
も自然な画像が得られるのである。
【0019】そして、この現象が得られるのは、Δn・
dがNB(ノーマリブラック)表示の場合の1st  
min条件程度の時のみではないが、一般的に1以上に
すると視野角自体が狭くなってしまうので、0.3〜0
.7程度の範囲内であれば、かなり良好な結果が得られ
た。また、第1セル間隔とΔnの積と、第2セル間隔と
Δnの積の差は、0.02〜0.1程度の範囲内にあれ
ば十分効果が現れた。
【0020】また、本発明の実施例によれば、従来文献
で見られるようなNW表示で偏光軸と配向膜のラビング
方向を垂直にした時の下方向の高視角化のみに有効な方
法ではなく、どの方向において発生する高遮光率現象も
回避することができるので、セル設計にも広がりをもた
せることができる。なお、本発明は上記実施例に限定さ
れるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形が
可能であり、それらを本発明の範囲から排除するもので
はない。
【0021】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、2種類のセル間隔で駆動されるようにしたので
、どの視角からみても、特異的に発生する高遮光現象を
回避でき、また、著しい階調反転現象を和らげることが
できる。したがって、広視野角の階調表示が得られるの
で、自然な画像表示が可能で、高品位なTFT−LCD
が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例におけるTFT基板上の薄膜パ
ターンの構成を示す平面図である。
【図2】本発明の実施例におけるTFT基板のTFTチ
ャネル部の断面図(図1中のA−A′)である。
【図3】本発明の実施例におけるTFT−LCDの一部
(図1中のB−B′)断面図である。
【図4】本発明の実施例において印加電圧をパラメータ
にしたときの視角−透過率特性図である。
【図5】従来のTFT−LCDの一部断面図である。
【図6】従来のTFT−LCDにおいてセル間隔をパラ
メータにしたときの印加電圧−透過率特性図である。
【図7】従来のTFT−LCDにおいて印加電圧をパラ
メータにしたときの視角−透過率特性図である。
【符号の説明】
1      ゲート電極 2      ドレイン電極 3      ソース電極 4      画素電極 5      半導体層 6      コンタクトホール 7      第2セル間隔用ホール 8      ゲート陽極酸化膜 9      第1絶縁膜 10    オーミック接合層 11    第2絶縁膜

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  複数のゲート電極と、該ゲート電極と
    交差する複数のドレイン電極と、その交差部に形成され
    た薄膜トランジスタと、該薄膜トランジスタのソース電
    極に接続された画素電極とを有する薄膜トランジスタ基
    板と、液晶を挟んで該薄膜トランジスタ基板と対向する
    対向電極基板と、前記薄膜トランジスタ基板及び対向電
    極基板と液晶との間に形成された配向膜と、前記薄膜ト
    ランジスタ基板及び対向電極基板に対して液晶と反対側
    に設けた偏光板とを備えた薄膜トランジスタ型液晶表示
    装置において、(a)前記ドレイン−ソース電極と前記
    画素電極を絶縁する絶縁膜が、前記画素電極上において
    その面積の一部が形成されないようにすることによって
    、第1セル間隔と第2セル間隔とを有するものとし、(
    b)前記偏光板の偏光軸と前記配向膜のラビング方向が
    ほぼ垂直か、ほぼ平行にしたことを特徴とする薄膜トラ
    ンジスタ型液晶表示装置。
  2. 【請求項2】  絶縁膜のほぼ半分が形成されないよう
    にした請求項1記載の薄膜トランジスタ型液晶表示装置
  3. 【請求項3】  ゲート絶縁膜もその面積の一部を形成
    されないようにするか、又は所定の深さまで取り除かれ
    ていることを特徴とする請求項1又は2記載の薄膜トラ
    ンジスタ型液晶表示装置。
  4. 【請求項4】  ゲート絶縁膜のほぼ半分を形成されな
    いようにするか、又は所定の深さまで取り除かれている
    請求項3記載の薄膜トランジスタ型液晶表示装置。
  5. 【請求項5】  第1セル間隔、第2セル間隔と液晶の
    屈折率異方性Δnの積が0.3以上0.7以下である請
    求項1〜4のいずれかに記載の薄膜トランジスタ型液晶
    表示装置。
  6. 【請求項6】  第1セル間隔と液晶の屈折率異方性Δ
    nの積と、第2セル間隔と液晶の屈折率異方性Δnの積
    の差が0.02以上0.1以下である請求項1〜5のい
    ずれかに記載の薄膜トランジスタ型液晶表示装置。
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